JP2016141796A - ポリマー、レジスト材料及びパターン形成方法 - Google Patents
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Abstract
【効果】
前記方法でポリマーを重合することによって、重合中に酸発生剤が僅かに分解したとしても、あるいは酸発生剤中に微量の酸不純物が存在したとしても、ポジ型レジスト材料用ポリマーであればこれに伴う酸不安定基の脱保護反応、架橋型のネガ型レジスト材料用ポリマーであれば重合中の架橋反応を防ぐことが可能である。したがって、本発明のポリマーは、エッジラフネスが小さいレジスト材料を与えることができる。
【選択図】なし
Description
[1]主鎖に酸発生剤が結合している繰り返し単位と、酸不安定基で置換されていてもよいカルボキシル基を有する繰り返し単位及び/又は酸不安定基で置換されていてもよいヒドロキシ基を有する繰り返し単位とを含むポリマーであって、
少なくとも1つの酸不安定基が結合した窒素原子を少なくとも1つ有する非重合性化合物が添加された溶液中で、前記繰り返し単位を与えるモノマーを重合させて得られることを特徴とするポリマー。
[2]前記非重合性化合物が、下記式(A)又は(B)で表されるものである[1]のポリマー。
[3]波長400nm以下の光が0.05mW/cm2以下の光量の照明下で重合されたものである[1]又は[2]のポリマー。
[4]前記主鎖に酸発生剤が結合している繰り返し単位が、下記式(1)〜(3)で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1種である[1]〜[3]のいずれかのポリマー。
[5]前記酸不安定基で置換されていてもよいカルボキシル基を有する繰り返し単位及びヒドロキシ基を有する繰り返し単位が、それぞれ下記式(4)及び(5)で表されるものである[1]〜[4]のいずれかのポリマー。
[6][1]〜[5]のいずれかのポリマー及び有機溶媒を含む化学増幅型レジスト材料。
[7]更に、塩基性化合物及び/又は界面活性剤を含む[6]のレジスト材料。
[8][6]又は[7]のレジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後、高エネルギー線で露光する工程と、現像液を用いて現像する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
[9]露光する高エネルギー線が、i線、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、電子線、又は波長3〜15nmの範囲の軟X線であることを特徴とする[8]のパターン形成方法。
[実施例1]
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを8.2g、メタクリル酸4−ヒドロキシフェニルを3.6g、メタクリル酸3−オキソ−2,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−9−イルを9.0g、PAGモノマー1を5.6g、1−(t−アミロキシカルボニル)−4−モルホリンを0.1g、及び溶媒としてテトラヒドロフラン(THF)を40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー1)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:メタクリル酸4−ヒドロキシフェニル:メタクリル酸3−オキソ−2,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−9−イル:PAGモノマー1=0.30:0.20:0.40:0.10
Mw=7,600
分子量分布(Mw/Mn)=1.82
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−イソプロピル−3−シクロペンチルを9.8g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを9.9g、PAGモノマー2を3.7g、1−(t−ブトキシカルボニル)−4−ピペリジノンを0.1g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー2)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−イソプロピル−3−シクロペンチル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー2=0.48:0.47:0.05
Mw=7,900
Mw/Mn=1.73
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−t−ブチル−3−シクロペンチルを10.5g、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルを2.5g、メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イルを6.1g、PAGモノマー4を3.9g、1−(t−ブトキシカルボニル)−2−ピペリドンを0.5g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー3)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−t−ブチル−3−シクロペンチル:メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル:メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イル:PAGモノマー4=0.45:0.11:0.39:0.05
Mw=7,800
Mw/Mn=1.87
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸1−(アダマンタン−1−イル)−1−メチルエチルを5.2g、4−メチルシクロペンチルオキシスチレンを3.0g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−2,3,5トリメチルフェニルを6.6g、メタクリル酸3−オキソ−2,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−9−イルを4.5g、PAGモノマー5を11.0g、1−(t−ブトキシカルボニル)−1−アザシクロへプタン−2−オンを0.2g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー4)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸1−(アダマンタン−1−イル)−1−メチルエチル:4−メチルシクロペンチルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−2,3,5トリメチルフェニル:メタクリル酸3−オキソ−2,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−9−イル:PAGモノマー5=0.19:0.15:0.29:0.22:0.15
Mw=9,900
Mw/Mn=1.71
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−ビニル−3−シクロペンチルを9.0g、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルを2.4g、メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イルを5.1g、PAGモノマー6を7.3g、1−(t−ブトキシカルボニル)−2−ピロリジノンを1.0g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー5)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−ビニル−3−シクロペンチル:メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル:メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イル:PAGモノマー6=0.48:0.10:0.32:0.10
Mw=7,600
Mw/Mn=1.92
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、モノマー1を15.7g、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルを2.4g、メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イルを6.0g、PAGモノマー3を4.3g、N−(t−ブトキシカルボニルオキシ)スクシンイミドを0.4g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー6)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
モノマー1:メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル:メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イル:PAGモノマー3=0.50:0.10:0.35:0.05
Mw=7,800
Mw/Mn=1.77
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、モノマー2を8.1g、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルを2.4g、メタクリル酸4−ヒドロキシフェニルを5.3g、PAGモノマー1を5.6g、N−(t−ブトキシカルボニル)グリシンを0.3g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー7)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
モノマー2:メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル:メタクリル酸4−ヒドロキシフェニル:PAGモノマー1=0.48:0.10:0.32:0.10
Mw=6,900
Mw/Mn=1.55
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを5.4g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニルを4.1g、メタクリル酸3−オキソ−2,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−9−イルを4.5g、PAGモノマー5を11.0g、4−(t−ブトキシカルボニルアミノ)酪酸を0.2g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー8)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:メタクリル酸3−オキソ−2,7−ジオキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−9−イル:PAGモノマー5=0.11:0.24:0.20:0.30:0.15
Mw=9,200
Mw/Mn=1.68
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを6.1g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニルを4.1g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを5.0g、PAGモノマー5を11.0g、1−(t−ブトキシカルボニル)−4−メタンスルフォニロキシ)ピペリジンを0.2g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー9)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー5=0.11:0.29:0.20:0.25:0.15
Mw=9,600
Mw/Mn=1.61
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを6.1g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル4.1g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを5.0g、PAGモノマー5を11.0g、N−(t−ブトキシカルボニル)−DL−アラニンを0.1g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー10)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー5=0.11:0.29:0.20:0.25:0.15
Mw=9,800
Mw/Mn=1.60
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを6.1g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニルを4.1g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを5.0g、PAGモノマー5を11.0g、4−(t−ブトキシカルボニルアミノ)−1−ブタノールを0.2g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー11)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー5=0.12:0.28:0.20:0.25:0.15
Mw=9,300
Mw/Mn=1.59
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを6.1g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニルを4.1g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを5.0g、PAGモノマー5を11.0g、4−[(t−ブトキシカルボニルアミノ)メチル]ピリジンを0.2g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー12)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー5=0.11:0.29:0.20:0.25:0.15
Mw=9,300
Mw/Mn=1.59
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを6.1g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニルを4.1g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを5.0g、PAGモノマー5を11.0g、2−(t−ブトキシカルボニルアミノ)イソブチル酸を0.15g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー13)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー5=0.11:0.29:0.19:0.26:0.15
Mw=9,100
Mw/Mn=1.82
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを6.1g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニルを4.1g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを5.0g、PAGモノマー5を11.0g、N−(t−アミロキシカルボニル)カルバゾールを0.25g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー14)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー5=0.11:0.29:0.19:0.26:0.15
Mw=9,400
Mw/Mn=1.84
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニルを2.7g、4−メチルシクロヘキシルオキシスチレンを6.1g、メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニルを4.1g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを5.0g、PAGモノマー5を11.0g、N−(t−ブトキシカルボニル)−2,3−ジヒドロインドールを0.2g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(ポリマー15)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−エチル−3−エキソテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカニル:4−メチルシクロヘキシルオキシスチレン:メタクリル酸4−ヒドロキシ−3,5ジメチルフェニル:β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトン:PAGモノマー5=0.11:0.29:0.19:0.26:0.15
Mw=9,200
Mw/Mn=1.69
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−イソプロピル−3−シクロペンチルを9.8g、β−メタクリルオキシ−β,γ−ジメチル−γ−ブチロラクトンを9.9g、PAGモノマー2を3.7g、トリエチルアミンを1.0g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(比較ポリマー1)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−イソプロピル−3−シクロペンチル:メタクリル酸:PAGモノマー2=0.50:0.45:0.05
Mw=7,100
Mw/Mn=1.98
LED照明Tino4000NYの下、2Lのフラスコに、メタクリル酸3−t−ブチル−3−シクロペンチルを10.5g、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルを2.5g、メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イルを6.1g、PAGモノマー4を3.9g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。窒素雰囲気下、この反応容器を−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(比較ポリマー2)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
メタクリル酸3−t−ブチル−3−シクロペンチル:メタクリル酸:メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル:メタクリル酸テトラヒドロ−2−オキソフラン−3−イル:PAGモノマー4=0.41:0.05:0.11:0.39:0.04
Mw=7,100
Mw/Mn=1.98
白色蛍光灯の下、2Lのフラスコに、モノマー2を8.1g、メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチルを2.4g、メタクリル酸−4−ヒドロキシフェニルを5.3g、PAGモノマー1を5.6g、及び溶媒としてTHFを40g添加した。この反応容器を窒素雰囲気下、−70℃まで冷却し、減圧脱気、窒素ブローを3回繰り返した。室温まで昇温後、重合開始剤としてAIBNを1.2g加え、60℃まで昇温後、15時間反応させた。この反応溶液をイソプロピルアルコール1L溶液中に沈殿させ、得られた白色固体を濾過後、60℃で減圧乾燥し、白色重合体(比較ポリマー3)を得た。
得られた重合体を13C−NMR、1H−NMR及びGPCで測定したところ、以下の分析結果となった。
共重合組成比(モル比)
モノマー2:メタクリル酸3−ヒドロキシ−1−アダマンチル:メタクリル酸−4−ヒドロキシフェニル:PAGモノマー1:4−イソプロペニルスチレン=0.46:0.10:0.32:0.10:0.02
Mw=20,600
Mw/Mn=2.32
[実施例16〜33、比較例4〜6]
下記表1に示される組成で溶媒に溶解させた溶液に、スリーエム社製界面活性剤FC-4430を100ppm溶解させ、0.2μmサイズのフィルターで濾過してポジ型レジスト材料を調製した。
表1中の各成分は次のとおりである。
ポリマー1〜15:実施例1〜15で得られたポリマー
比較ポリマー1〜3:比較例1〜3で得られたポリマー
有機溶媒:PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
PGME(プロピレングリコールモノメチルエーテル)
CyH(シクロヘキサノン)
EL(乳酸エチル)
酸発生剤:PAG1〜3(下記式参照)
塩基性化合物:Amine1〜2(下記式参照)
露光後、直ちにホットプレート上で表1記載の温度で60秒間ポストエクスポージャーベーク(PEB)を行った。2.38質量%のTMAH水溶液で20秒間パドル現像を行い、実施例16、19、23〜30、比較例4では2.38質量%のTMAH水溶液で20秒間パドル現像を行いポジ型のパターンを得、実施例22、比較例6ではネガ型のパターンを得た。実施例17、18、20、21、31〜33、比較例5では酢酸n−ブチルで20秒間パドル現像を行い、ネガ型のパターンを得た。
得られたレジストパターンを次のように評価した。
20nmのラインアンドスペースを1:1で解像する露光量における、最小の寸法を解像力とし、20nmLSのエッジラフネス(LWR)をSEMで測定した。
レジスト組成とEUV露光における感度、解像力の結果を表1及び2に示す。
Claims (9)
- 主鎖に酸発生剤が結合している繰り返し単位と、酸不安定基で置換されていてもよいカルボキシル基を有する繰り返し単位及び/又は酸不安定基で置換されていてもよいヒドロキシ基を有する繰り返し単位とを含むポリマーであって、
少なくとも1つの酸不安定基が結合した窒素原子を少なくとも1つ有する非重合性化合物が添加された溶液中で、前記繰り返し単位を与えるモノマーを重合させて得られることを特徴とするポリマー。 - 前記非重合性化合物が、下記式(A)又は(B)で表されるものである請求項1記載のポリマー。
- 波長400nm以下の光が0.05mW/cm2以下の光量の照明下で重合されたものである請求項1又は2記載のポリマー。
- 前記主鎖に酸発生剤が結合している繰り返し単位が、下記式(1)〜(3)で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜3のいずれか1項記載のポリマー。
- 前記酸不安定基で置換されていてもよいカルボキシル基を有する繰り返し単位及びヒドロキシ基を有する繰り返し単位が、それぞれ下記式(4)及び(5)で表されるものである請求項1〜4のいずれか1項記載のポリマー。
- 請求項1〜5のいずれか1項記載のポリマー及び有機溶媒を含む化学増幅型レジスト材料。
- 更に、塩基性化合物及び/又は界面活性剤を含む請求項6記載のレジスト材料。
- 請求項6又は7記載のレジスト材料を基板上に塗布する工程と、加熱処理後、高エネルギー線で露光する工程と、現像液を用いて現像する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
- 露光する高エネルギー線が、i線、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、電子線、又は波長3〜15nmの範囲の軟X線であることを特徴とする請求項8記載のパターン形成方法。
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