JP2023164351A - 誘電体用途向け複合材料 - Google Patents
誘電体用途向け複合材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2023164351A JP2023164351A JP2023071259A JP2023071259A JP2023164351A JP 2023164351 A JP2023164351 A JP 2023164351A JP 2023071259 A JP2023071259 A JP 2023071259A JP 2023071259 A JP2023071259 A JP 2023071259A JP 2023164351 A JP2023164351 A JP 2023164351A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituted
- unsubstituted
- formula
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 30
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 16
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims abstract description 11
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 69
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 61
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 44
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 44
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical group O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 41
- -1 acrylic silanes Chemical class 0.000 claims description 37
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 26
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 16
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical class CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 12
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 9
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 9
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 4
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 4
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000007970 thio esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 3
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 3
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000001504 aryl thiols Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 2
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 claims 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 claims 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 claims 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 claims 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-M propynoate Chemical compound [O-]C(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 claims 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 40
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 37
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 29
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 27
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 25
- 125000002837 carbocyclic group Chemical group 0.000 description 23
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 22
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 21
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 20
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 20
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 20
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 15
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 15
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 15
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 15
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 14
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 206010042674 Swelling Diseases 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000002444 silanisation Methods 0.000 description 9
- URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N diazonaphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=[N]=[N])C=CC2=C1 URQUNWYOBNUYJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 6
- UAHWPYUMFXYFJY-UHFFFAOYSA-N beta-myrcene Chemical compound CC(C)=CCCC(=C)C=C UAHWPYUMFXYFJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XPDGHGYGTJOTBC-UHFFFAOYSA-N methoxy(methyl)silicon Chemical compound CO[Si]C XPDGHGYGTJOTBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- 229920013731 Dowsil Polymers 0.000 description 5
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 5
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 125000004446 heteroarylalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 description 4
- DMKSVUSAATWOCU-HROMYWEYSA-N loteprednol etabonate Chemical compound C1CC2=CC(=O)C=C[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@@](C(=O)OCCl)(OC(=O)OCC)[C@@]1(C)C[C@@H]2O DMKSVUSAATWOCU-HROMYWEYSA-N 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical class [H]S* 0.000 description 4
- XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[[4-(2,5-dioxopyrrol-1-yl)phenyl]methyl]phenyl]pyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C(C=C1)=CC=C1CC1=CC=C(N2C(C=CC2=O)=O)C=C1 XQUPVDVFXZDTLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CNBHGHGLKDHWEA-BQYQJAHWSA-N CO[Si](C(CCOC(/C=C/C(O)=O)=O)[Si](OC)(OC)OC)(OC)OC Chemical compound CO[Si](C(CCOC(/C=C/C(O)=O)=O)[Si](OC)(OC)OC)(OC)OC CNBHGHGLKDHWEA-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920003192 poly(bis maleimide) Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- JSNRRGGBADWTMC-UHFFFAOYSA-N (6E)-7,11-dimethyl-3-methylene-1,6,10-dodecatriene Chemical compound CC(C)=CCCC(C)=CCCC(=C)C=C JSNRRGGBADWTMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-triazine Chemical compound C1=CN=NC=N1 FYADHXFMURLYQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=NC=C1 KFDVPJUYSDEJTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBWLHDCUXRRLCQ-UHFFFAOYSA-N 7-(4-ethenylphenoxy)bicyclo[4.2.0]octa-1,3,5-triene Chemical compound C=CC1=CC=C(OC2CC3=C2C=CC=C3)C=C1 WBWLHDCUXRRLCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GAYWTJPBIQKDRC-UHFFFAOYSA-N 8-trimethoxysilyloctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GAYWTJPBIQKDRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N benzocyclobutene Chemical compound C1=CC=C2CCC2=C1 UMIVXZPTRXBADB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N bis(prop-2-enyl) (z)-but-2-enedioate Chemical compound C=CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC=C ZPOLOEWJWXZUSP-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N cyclobutene Chemical compound C1CC=C1 CFBGXYDUODCMNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N dibenzothiophene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3SC2=C1 IYYZUPMFVPLQIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000001477 organic nitrogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEHSPMGZOJYXND-UHFFFAOYSA-N silyloxymethanethiol Chemical compound SCO[SiH3] GEHSPMGZOJYXND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000476 thermogenic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- APPOKADJQUIAHP-GGWOSOGESA-N (2e,4e)-hexa-2,4-diene Chemical compound C\C=C\C=C\C APPOKADJQUIAHP-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- XXEYMOUSTWPDDB-OJMIUMIFSA-N (2r)-5-[(5s,7r,8s,9r)-8,9-dihydroxy-2,4-dioxo-7-(phosphonooxymethyl)-6-oxa-1,3-diazaspiro[4.4]nonan-3-yl]-2-[formyl(hydroxy)amino]pentanoic acid Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](COP(O)(O)=O)O[C@]11C(=O)N(CCC[C@@H](N(O)C=O)C(O)=O)C(=O)N1 XXEYMOUSTWPDDB-OJMIUMIFSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CXENHBSYCFFKJS-UHFFFAOYSA-N (3E,6E)-3,7,11-Trimethyl-1,3,6,10-dodecatetraene Natural products CC(C)=CCCC(C)=CCC=C(C)C=C CXENHBSYCFFKJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006527 (C1-C5) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006654 (C3-C12) heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQUIHNRSFOIOFU-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-2-(2-methoxypropoxy)propane Chemical class COCC(C)OCC(C)OC OQUIHNRSFOIOFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003923 2,5-pyrrolediones Chemical class 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 2-(n-methyl-4-nitroanilino)acetonitrile Chemical compound N#CCN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 2-[(1s)-1-[4-amino-3-(3-fluoro-4-propan-2-yloxyphenyl)pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-1-yl]ethyl]-6-fluoro-3-(3-fluorophenyl)chromen-4-one Chemical compound C1=C(F)C(OC(C)C)=CC=C1C(C1=C(N)N=CN=C11)=NN1[C@@H](C)C1=C(C=2C=C(F)C=CC=2)C(=O)C2=CC(F)=CC=C2O1 IUVCFHHAEHNCFT-INIZCTEOSA-N 0.000 description 1
- ZWOWIAQFWNKRPF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,3,5-triazine Chemical compound C=CC1=NC=NC=N1 ZWOWIAQFWNKRPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXTKTISUMAJFHY-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-8-methoxybicyclo[4.2.0]octa-1(6),2,4-triene Chemical compound C(=C)C1=C2C(CC2OC)=CC=C1 IXTKTISUMAJFHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJSMYSDXQVCYKO-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-8-methylbicyclo[4.2.0]octa-1(6),2,4-triene Chemical compound C1=CC(C=C)=C2C(C)CC2=C1 CJSMYSDXQVCYKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRPRRMIBXGBKNT-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-8-phenoxybicyclo[4.2.0]octa-1(6),2,4-triene Chemical compound C(=C)C1=C2C(CC2OC2=CC=CC=C2)=CC=C1 CRPRRMIBXGBKNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYPTZZQGMHILPQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-6-trimethoxysilylhex-1-en-3-one Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCC(=O)C(C)=C XYPTZZQGMHILPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 2-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC(C=C)=CC=C21 KXYAVSFOJVUIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 3-amino-2-(4-chlorophenyl)-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(CN)C1=CC=C(Cl)C=C1 JYLNVJYYQQXNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMKWZZPKADNTRP-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylpyrimidine Chemical compound C=CC1=CC=NC=N1 UMKWZZPKADNTRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUAMMXIRDIIGDJ-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-4-methyl-1,3-thiazole Chemical compound CC=1N=CSC=1C=C QUAMMXIRDIIGDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOQRWGVTLXZUTC-UHFFFAOYSA-N 7-(4-ethenylphenyl)bicyclo[4.2.0]octa-1,3,5-triene Chemical compound C=CC1=CC=C(C=C1)C1CC2=CC=CC=C12 ZOQRWGVTLXZUTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100056187 Arabidopsis thaliana WIN1 gene Proteins 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDKWFIRJUBFJII-UHFFFAOYSA-N C(=C)C1=CC(=C(C2=CC=CC=C12)C1CC=2C1=CC=CC=2)O Chemical compound C(=C)C1=CC(=C(C2=CC=CC=C12)C1CC=2C1=CC=CC=2)O PDKWFIRJUBFJII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N Methyl-2-hydoxyisobutyric acid Chemical compound COC(=O)C(C)(C)O XYVQFUJDGOBPQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006845 Michael addition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004902 Softening Agent Substances 0.000 description 1
- 229920013802 TRITON CF-10 Polymers 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- JZFICWYCTCCINF-UHFFFAOYSA-N Thiadiazin Chemical compound S=C1SC(C)NC(C)N1CCN1C(=S)SC(C)NC1C JZFICWYCTCCINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N V-65 Substances CC(C)CC(C)(C#N)\N=N\C(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-ISLYRVAYSA-N 0.000 description 1
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021523 barium zirconate Inorganic materials 0.000 description 1
- DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N barium(2+);dioxido(oxo)zirconium Chemical compound [Ba+2].[O-][Zr]([O-])=O DQBAOWPVHRWLJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007630 basic procedure Methods 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005130 benzoxazines Chemical class 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002115 bismuth titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N boron;n-methylmethanamine Chemical compound [B].CNC RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 229910052570 clay Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009838 combustion analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011437 continuous method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L dichromic acid Chemical compound O[Cr](=O)(=O)O[Cr](O)(=O)=O CMMUKUYEPRGBFB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229930009668 farnesene Natural products 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000012949 free radical photoinitiator Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000004442 gravimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)phosphinimyl]-n-methylmethanamine Chemical class CN(C)P(=N)(N(C)C)N(C)C GKTNLYAAZKKMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000007823 ocimene derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N quinolin-2-ol Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)C=CC2=C1 LISFMEBWQUVKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009662 stress testing Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N sulfadiazine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)NC1=NC=CC=N1 SEEPANYCNGTZFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical class [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000012932 thermodynamic analysis Methods 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 239000004634 thermosetting polymer Substances 0.000 description 1
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJPBRODHZKDRCB-UHFFFAOYSA-N trans-alpha-ocimene Natural products CC(=C)CCC=C(C)C=C XJPBRODHZKDRCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSAJVUUALHWJEM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(8-triethoxysilyloctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC OSAJVUUALHWJEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAFQBSQRZKWGGE-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-[4-(2-trimethoxysilylethyl)phenyl]ethyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=C(CC[Si](OC)(OC)OC)C=C1 MAFQBSQRZKWGGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphane oxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=O)C1=CC=CC=C1 FIQMHBFVRAXMOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N vinyl radical Chemical compound C=[CH] ORGHESHFQPYLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/02—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of inorganic substances
- H01B3/025—Other inorganic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/18—Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/04—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing one ring
- C08F212/06—Hydrocarbons
- C08F212/12—Monomers containing a branched unsaturated aliphatic radical or a ring substituted by an alkyl radical
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F212/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring
- C08F212/02—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical
- C08F212/32—Monomers containing only one unsaturated aliphatic radical containing two or more rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L43/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium or a metal; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L43/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D125/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D125/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C09D125/04—Homopolymers or copolymers of styrene
- C09D125/08—Copolymers of styrene
- C09D125/14—Copolymers of styrene with unsaturated esters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B3/00—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties
- H01B3/18—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances
- H01B3/30—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes
- H01B3/44—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins
- H01B3/447—Insulators or insulating bodies characterised by the insulating materials; Selection of materials for their insulating or dielectric properties mainly consisting of organic substances plastics; resins; waxes vinyl resins; acrylic resins from acrylic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2201/00—Properties
- C08L2201/02—Flame or fire retardant/resistant
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2203/00—Applications
- C08L2203/20—Applications use in electrical or conductive gadgets
- C08L2203/206—Applications use in electrical or conductive gadgets use in coating or encapsulating of electronic parts
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2312/00—Crosslinking
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
Description
含む誘電体複合材料であって、
少なくとも1種の無機微粒子フィラーが、1種以上のアクリル系シランカップリング剤で表面改質されている、誘電体複合材料が提供される。
(式中、
Arは、置換若しくは無置換の炭素環式アリール又は置換若しくは無置換のヘテロアリール基であり;Qは、共有結合、O、S、又はNRaであり、Raは、水素、重水素、置換若しくは無置換の炭素環式アリール、及び置換若しくは無置換のヘテロアリールからなる群から選択され、R5~R7は同じであるか又は異なり、水素、重水素、アルキル、アルコキシ、置換若しくは無置換の炭素環式アリール基、及び置換若しくは無置換のヘテロアリール基からなる群から独立して選択され、R8は、アルキル、アルコキシ、置換若しくは無置換の炭素環式アリール基、及び置換若しくは無置換のヘテロアリール基からなる群から選択され;aは0~4の整数である)。
(式中、
Arは、置換若しくは無置換の炭素環式アリール又は置換若しくは無置換のヘテロアリール基であり;Qは、共有結合、O、S、又はNRaであり;Raは、水素、重水素、置換若しくは無置換の炭素環式アリール、及び置換若しくは無置換のヘテロアリールからなる群から選択され、R1~R7は同じであるか又は異なり、水素、重水素、アルキル、アルコキシ、アリールオキシ、置換若しくは無置換の炭素環式アリール基、及び置換若しくは無置換のヘテロアリール基からなる群から独立して選択され;R8は、アルキル、アルコキシ、置換若しくは無置換の炭素環式アリール基、及び置換若しくは無置換のヘテロアリール基からなる群から選択され;bは0~3の整数である)。
(式中、R12~R14は、同じであるか又は異なり、水素及びC1~5アルキルからなる群から独立して選択され;R15は、各存在において同じであるか又は異なり、水素及びC1~5アルキルからなる群から選択され、隣接するR15基は結合して縮合6員芳香環を形成することができる)。
(式中、R16は、各存在において同じであるか又は異なり、水素及びメチルからなる群から選択され;R17は、各存在において同じであるか又は異なり、水素、C1~5アルキル、C1~5アルコキシ、C1~5チオアルキル、及びC5~12アルケニルからなる群から選択される)。
(式中、Z1及びZ2は、同じであるか又は異なり、N又はCR22aであり;R19~R21及びR22aは、各存在において同じであるか又は異なり、水素及びC1~5アルキルからなる群から選択される)。
(式中、Ar1は、N、S、O、又はP原子を含むヘテロ環であり;R23は、H、CH3、エチル、又はt-ブチルであり;R24は、H、CH3、C1~C12アルキル、又はC1~C12アルキレンであり;R25は、シクロブテン、1-シクロブテン、1-オキシ-シクロブテン、又はα-メチルシクロブテンであり;lは0~10の整数であり;R26は1~12個の炭素原子のアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基であり;nは5~70の整数であり;mは5~50の整数であり;oは5~50の整数であり;pは5~50の整数であり;その結果l+n+m+o+p=100である)。
(式中、Rは、各存在において同じであるか又は異なり、アルキル、アリール、アセチル、ケチミノ、及びアルケニルからなる群から選択され;Xは、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、アリルオキシ、ビニル、マレイミド、フマル酸エステル、マレイン酸エステル、エチニル、フェニルエチニル、スチルベン、プロピオレート及びフェニルプロピオレートエステルからなる群から選択される不飽和基であり;nは1~10の整数である)。いくつかの非限定的な実施形態では、シランカップリング剤はアクリル系である。いくつかの非限定的な実施形態では、シランカップリング剤は単量体であり、いくつかの非限定的な実施形態では、シランカップリング剤はビニル基を介して重合される。
(式中、R27は、アルキル及びHからなる群から選択され;R28は、アルキル及びアリール、アセチル、ケチミノ、及びアルケニルからなる群から選択され;R29は、COOCH2CH=CH2、CH3及びHからなる群から選択され;R30は、4-アリルオキシフェニル、COOCH2CH=CH2、及び反応性ジエノフィルを含む任意の基からなる群から選択され;X及びYは同じであるか又は異なり、メチル及びHからなる群から選択され;m及びnは同じであるか又は異なり、10~1000の整数であり;oは0~1000の整数であり;pは0~10の整数である)。
モノマー及び他の成分は、以下の通りに入手/調製した:β-ミルセン(Vigon)、ビニルトルエン異性体混合物(Deltech Corporation)、Vazo65開始剤(Wako Chemical)、4-ビニルピリジン(Vertellus、入手したままの状態で使用)、ビスマレイミドBMI-689(Designer Molecules)、SPV-100(大塚化学株式会社、入手したままの状態で使用)、平均粒径0.5μmの球状非官能化シリカ(Admatechs Company Limitedの「SC2053-SQ」、入手したままの状態で使用)。ビニルフェノキシBCB[1-(4-ビニルフェノキシ)ベンゾシクロブテン)]は、(特許文献3)(その内容全体は参照により本明細書に組み込まれる)に従って調製した。シランKBM-5803、KR-513、X-40-9296、KR-519、及びX-12-1154は信越化学株式会社から購入した。全ての他の溶媒及び化学物質は、Fisher Scientificから受け取り、更なる精製なしに受け取ったままの状態で使用した。
ポリマーサンプルを、テトラヒドロフラン中の0.5重量%溶液として調製し、0.2ミクロンのTeflonフィルターを通して濾過した。移動相は、0.5%のトリエチルアミン、5%のメタノール、及び94.5%のテトラヒドロフランであった。使用したカラムは、Waters Styragel HR5E 7.8×300mmカラム ロット番号0051370931であった。注入量は、100マイクロリットルであり、ラン時間は、27分であった。分子量データは、ポリスチレン標準と比較して報告する。
配合物溶液を、6ミルのギャップを有するスチールバーを介してPET基材(NANYA NV38G、厚さ38μm)上にドローダウンコーティングした。膜を115℃で3分間ソフトベークした。膜を、0.95MPaの圧力で約2hPaで30秒間、90℃の温度のラバーコンタクトを使用する1段階目の真空と、1.5MPaの圧力、90℃の温度で1分間を使用して鋼板を用いる2段階目の真空とを用いて、Meiki(MVLP500/600)ラミネーターにより、適切な基板上にラミネーションした。自立膜サンプルについては、サンプルは、その後銅基板上で100ppm未満の酸素の窒素中で180℃のBlueMオーブンで1時間硬化した。得られた基板を適切なサイズに切断し、膜を水又は水浴中の5%硫酸アンモニウムの中で持ち上げ、すすぎ洗いし、乾燥することで、分析用の自立膜を得た。
(1)誘電特性:
それぞれ10GHzの空洞周波数を有するように機械加工された銅スプリット円筒共振器とKeysight N5224A PNAネットワークアナライザーとを使用し、IPC試験方法TM-650 2.5.5.13(rev.01/07)を使用して、自立膜の誘電特性を決定した。膜形状は、基板が2つの円筒空洞部の直径を超えて延びるようなものであった。誘電体基板の厚さは0.01mm~5.0mmまで変化し得るが、これらの検討では0.03mmの基板厚さを使用した。自立膜をスプリット円筒共振器の空洞に配置し、TE011共振モードの共振周波数及び品質係数を、ネットワークアナライザーを使用して測定した。膜の比誘電率(Dk)及び損失正接(Df)を、MATLABで作成されたカスタムソフトウェアを使用してTE011共振モードから計算した。
自立膜を10mm×25mmの形状に切断し、0.06%のひずみ速度、1ニュートンの予圧荷重、及び1ヘルツの周波数でTA Instruments動的機械分析計Q800装置に取り付けた。温度を50℃で平衡化し、その後毎分5℃の速度で200℃まで上昇させた。tanδの曲線の最大値をガラス転移温度値とした。吸水率は、60℃で相対湿度60%の質量増加の条件を使用して、熱重量分析TA Instruments Q5000SAから得た。熱機械分析は、TA Instruments Thermomechanical Analyzer Q400で引張モードで行った。サンプルを5℃から280℃まで一定の速度で加熱し、次いで-50℃まで下げ、その後同じ速度で250℃まで戻した。熱膨張係数は、最後のサイクルにおける-25℃から50℃までの寸法の線形変化であるとして決定した。
(1)粗面化処理
基板表面の粗面化は、3段階のデスミア手順によって行った。サンプルを、最初にDuPont de Nemoursから入手可能なCIRCUPOSIT(商標)Sweller7810に70℃で20分間浸漬した。次いで、次に強い水流で2分間すすぎ洗いし、過剰の膨潤剤溶液を除去した。これに続いて、Du Pont de Nemoursから入手可能なCIRCUPOSIT(商標)MLB Promoter3308過マンガン酸塩水溶液に、80℃で可変時間浸漬した。水で2分間すすぎ洗いした後、DuPont de Nemoursから入手可能なCIRCUPOSIT(商標)Neutralizer216中にサンプルを40℃で5分間浸漬することにより、残留促進剤析出物を除去した。強い水流で2分間最後にすすぎ洗いした後、サンプルを空気流中で乾燥した。テクスチャ化の程度は、サンプルの表面積によって正規化されたデスミア前後の基板の質量差を測定することによって決定した。
最初に基板をDuPont de Nemoursから入手可能なCIRCUPOSIT(商標)Conditioner8512に40℃で5分間浸漬し、続いて強い水流下で2分間すすぎ洗いすることによって、デスミア処理されたサンプルを無電解堆積用に準備した。次いで、サンプルを室温で30秒間、3%硝酸水溶液に浸漬した。その直後に、サンプルを、イオン性水性アルカリパラジウム触媒であるDuPont de Nemoursから入手可能なCIRCUPOSIT(商標)6530Catalystに40℃で5分間浸漬した。触媒は、9~9.5の触媒pHを達成するのに十分な量の炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、又は硝酸で緩衝される。次いで、サンプルを室温で2分間強い水流ですすぎ洗いした。その後、パネルを0.6g/Lのジメチルアミンボランと5g/Lホウ酸溶液に30℃で2分間浸漬してパラジウムイオンをパラジウム金属に還元し、続いて強い水流で2分間すすぎ洗いした。その後、活性化されたサンプルを、DuPont de Nemoursから入手可能な無電解銅めっき浴CIRCUPOSIT(商標)6550に35℃で5分間浸漬した。その結果、銅は0.4μmの目標銅厚さまでサンプル全体に渡ってコンフォーマルに堆積された。その後、メタライズされたサンプルを強い水流ですすぎ洗いし、すぐに空気の蒸気で乾燥した。無電解銅堆積物をアニール処理し、堆積物から残留水を除去するために、サンプルをN2雰囲気で120℃で30分間最終的にソフトベークした。
35℃で1.5分間、DuPont de Nemoursから入手可能なRONACLEAN(商標)LP-200に浸漬することによって、メタライズされたサンプルを電解めっき用に準備した。次いで、サンプルを水流で2分間すすぎ洗いし、室温で30秒間10%硫酸水溶液に浸漬することによって残留表面酸化物を除去した。その後、電解質としてのDuPont de Nemoursから入手可能な銅電気めっき浴MICROVIA(商標)EVF-IIと2つの不溶性アノードとが入っているHaringセルにサンプルを入れた。溶液の撹拌は、サンプルの両側にあるバブリング出口から行った。電界めっきは、20ASFで50分間行い、目標とする18μmめっき厚に到達させた。この電解めっき構成における消費速度の事前分析に基づいて、初期濃度を維持するために、めっき中に光沢剤であるめっき添加剤を定期的に補充した。電解めっきが完了した後、サンプルをHaringセルから取り出し、強い水流ですすぎ洗いした。その後、表面を酸化から保護するために、ベンゾトリアゾールを含む塩基性変色防止液にサンプルを浸漬した。サンプルを、最後にN2雰囲気で180℃で1時間ベークすることで、銅堆積物をアニール処理し、下にある層の誘電体膜の硬化を完了させた。
めっきした銅サンプルをアニール処理した後、適切なブレードを用いて試験片上で1センチメートル幅の剥離ストリップに切り込みを入れ、その後Intron引張試験機で50mm/分の速度で90度の角度で銅ストリップを剥がした。剥離力の値(キログラム力/センチメートル)を計算した。高加速応力試験(HAST)を受けるサンプルについて、切り込みを入れた試験片を130℃、相対湿度85%の雰囲気に50時間さらし、その時点で同じ剥離試験を行って値を記録した。0.2kgf/cm未満の値はよくない、0.2kgf/cmを超える値はよい、0.3kgf/cmを超える値は最適とみなした。剥離試験前に膨れが生じたサンプルは、ゼロの値を持つとみなした。
膜を配合し、誘電体膜(JX Nippon JTCSLC、Ra0.4~0.6、厚さ18ミクロン)の上に粗面化された銅箔の層を有する前述した適切な基板上にラミネーションした。試験片を硬化した後、めっきしたサンプルと同じ方法で切り込みを入れ、剥がした。この方法で得られた値は、化学浴によって膜が劣化していないため、一般的に高く、メッキ剥離値と相関すると考えられる。0.75kgf/cm未満のCZ剥離値はよいとはみなされず、0.75kgf/cmを超える値はよいとみなされ、0.8kgf/cmを超える値は最適であるとみなされた。
以下のモノマー及び溶媒を、オーバーヘッド撹拌しながら100Lのジャケット付き反応器に入れ、窒素ブランケット下で79℃まで加熱した:19695.8gの1-(4-ビニルフェノキシ)ベンゾシクロブテン、15090.5gのビニルトルエン、1517.7gのビニルピリジン、8445.6gのβ-ミルセン、及び19178.4gのシクロペンタノン。1401.1gのV65及び17131.5gのシクロペンタノンの開始剤フィードを一定速度で反応器に20時間供給し、温度をさらに3時間保持した後、40℃に戻した。この溶液を配合物実施例で直接使用した。GPC Mn7.4k、Mw33.5k
改質シリカの合成のためには、以下の一般化された手順を使用した:オーバーヘッドスターラーを取り付けた100mLのEasyMax反応器に、50gのシリカスラリー(シクロペンタノン中60重量%のAdmatechs SC2053-SQシリカ)、続いて0.5gのビス(トリメトキシシリル)プロピルフマレート(スラリーに対して1.0重量%)を添加した。混合物を窒素ブランケット下で撹拌し、30分間かけて昇温して110℃まで加熱し、110℃で16時間保持し、続いて室温まで冷却した。反応混合物を瓶に入れ、配合物のためにそのまま使用した。キャラクタリゼーションのために、少量のアリコートを取り出し、50mLの遠沈管に入れ、5000rcfで10分間遠心分離してシリカを沈降させた。上澄みをデカンテーションし、新しい溶媒と交換し、振とうしてシリカを再懸濁させた。このプロセスをさらに2回繰り返した後、シリカを対流式オーブン中で90℃で一晩乾燥した。シランのグラフト化効果は、水滴試験、TGA、燃焼分析、及び1H-NMRによって評価した。NMRの検討から、全てのシランがシリカ固体に対して約0.8%の量で消費されたことが示された。
シラン処理としてKBM-5803と「コポリマーA」との1:1混合物を使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
92:5:3のビニルトルエン:KBM-5803:マレイン酸ジアリルのモル比を含むコポリマー(「コポリマーB」)を合成してシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
75:5:20のビニルトルエン:KBM-5803:マレイン酸ジアリルのモル比を含むコポリマー(「コポリマーC」)を合成してシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
KBM-5803とコポリマーCの1:1混合物とコポリマーCをシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
KBM-5803とビス(トリエトキシシリル)オクタンとの1:1混合物をシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
N-トリエトキシシリル(プロピル)マレイミドをシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
N-トリエトキシシリル(プロピル)マレアミド酸(TPMA)をシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
ペンダントアクリルオキシ基を有するKR-513アルコキシシロキサン樹脂(信越化学工業株式会社)をシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
ペンダントメタクリルオキシ基を有するX-40-9296アルコキシシロキサン樹脂(信越化学工業株式会社)をシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
メルカプト官能基を有するKR-519アルコキシシロキサン樹脂(信越化学工業株式会社)をシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
メルカプト及びトリアルコキシシラン官能基を有するX-12-1154ポリマー状オルガノシラン(信越化学工業株式会社)をシラン処理として使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
シリカスラリーをゲル化させるシラン処理としてアミノプロピル(トリメトキシシラン)を使用したことを除いて、合成実施例B1と同一の手順を使用した。
(1)配合物及び膜実施例1
20mlのガラス製シンチレーションバイアルに、22.52部のベンゾシクロブテン樹脂A1、5.58部のアリル架橋剤F1、2.17部の大塚化学株式会社からの難燃剤C1 SPV-100、0.62部のDesigner Molecules Inc.からの柔軟化剤D1 BMI-689、0.11部のAllnexからの界面活性剤E1 Modaflow(登録商標)樹脂、69部のフマレート官能基含有球状シリカB1、及び揮発成分である29.5部の2-ブタノンG1と25.6部のシクロペンタノンG2を入れた。混合物を一晩揺らして混ぜ合わせ、その後得られた溶液を使用して、評価のために上述した通りに膜を製造した。
配合物及び膜実施例2~4は、表1に記載の組成を用いて、実施例1について記載したものと同様の手順を使用して調製した。対応する膜試験データは表2に示されている。
配合物並びに膜実施例3~9及び比較例3~9は、表3に記載の組成を用いて、実施例1について記載したものと同様の手順を使用して調製した。対応する膜試験データは表4に示されている。
Claims (13)
- (a)少なくとも1種の熱硬化性樹脂とその他の樹脂成分の総固形分を20~50重量%;及び
(b)少なくとも1種の無機微粒子フィラーの総固形分を50~72重量%;
含む誘電体複合材料であって、
前記少なくとも1種の無機微粒子フィラーが、1種以上のアクリル系シランカップリング剤で表面改質されている、誘電体複合材料。 - 前記熱硬化性樹脂がアリールシクロブテン樹脂である、請求項1に記載の誘電体複合材料。
- 前記1種以上のアクリル系シランカップリング剤が、1種以上のポリマー状シランと組み合わされる、請求項1に記載の誘電体複合材料。
- 前記少なくとも1種のアリールシクロブテン樹脂が、(a)10~50モル%の1種以上の付加重合性アリールシクロブテンモノマーと;
(b)15~60%の1種以上のジエノフィルモノマー、
(c)15~50モル%の1種以上のジエンモノマー、及び
(d)0~10モル%の1種以上のヘテロ環含有モノマー、
からなる群から選択される1種以上のモノマーと;を含有する混合物からの重合生成物を含む、請求項2に記載の誘電体複合材料。 - 前記1種以上の付加重合性アリールシクロブテンモノマーが、式(A-1)、式(A-2)、及び式(A-3)からなる群から選択される構造を有する、請求項4に記載の誘電体複合材料
(式中、
K1は、アルキル、アリール、炭素環式アリール、多環式アリール、ヘテロアリール、アリールオキシ、アリールアルキル、カルボニル、エステル、カルボキシル、エーテル、チオエステル、チオエーテル、第三級アミン、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される二価基であり;
K2は、単結合又はアルキル、アリール、炭素環式アリール、多環式アリール、ヘテロアリール、アリールオキシ、アリールアルキル、カルボニル、エステル、カルボキシル、及びエーテル、チオエステル、チオエーテル、第三級アミン、及びそれらの組み合わせからなる群から選択される二価基であり;
K3は重合性官能基であり;
L1は、共有結合又は多価連結基であり;
Mは、置換若しくは無置換の二価芳香族ラジカル基、又は置換若しくは無置換の二価ヘテロ芳香族ラジカル基であり;
R1~R4は、同じであるか又は異なり、独立に、置換又は無置換アルキル、置換又は無置換アルキルオキシ、置換又は無置換アリール、置換又は無置換アリールオキシ、アルキルチオ、アリールチオール、置換アルキルアミノ、及び置換アリールアミノからなる群から選択され;
R5~R7は、同じであるか又は異なり、独立に、水素、重水素、シアノ、ハロ、メチル、ビニル、アリル、及び1~100個の炭素原子を有する置換又は無置換のイソプレンからなる群から選択され;
x及びyは、同じものであるか若しくは異なり、1~5の整数であり、ここで、L1が共有結合の場合、y=1である)。 - 前記1種以上のジエノフィルモノマーが式(II)によって与えられる構造を有する、請求項4に記載の誘電体複合材料
(式中、
Bは、水素、置換若しくは無置換アルキル、置換若しくは無置換芳香族、置換若しくは無置換ヘテロ芳香族、置換若しくは無置換アルキルオキシ、又はヒドロキシであり;
R9~R11は、同じであるか又は異なり、水素、ビニル、アリル、1~100個の炭素原子を有する置換若しくは無置換のイソプレン、1~100個の炭素原子を有する置換若しくは無置換のアルキル基、ハロゲン、シアノ、6~100個の炭素原子を有する置換若しくは無置換のアリール基、6~100個の炭素原子を有する置換若しくは無置換のヘテロアリール基、及びそれらの組み合わせからなる群から独立して選択される)。 - 前記1種以上のジエンモノマーが式(IV)によって与えられる構造を有する、請求項4に記載の誘電体複合材料
(式中、
R16は、同じものであるか若しくは異なり、水素及びメチルからなる群から独立して選択され;
R17は、同じものであるか若しくは異なり、水素、C1~5アルキル、C1~5アルコキシ、C1~5チオアルキル、及びC5~12アルケニルからなる群から独立して選択される)。 - 前記1種以上のヘテロ環含有モノマーが、ビニル置換C3~12ヘテロ環及びビニル置換C3~5ヘテロ環からなる群から選択される、請求項4に記載の誘電体複合材料。
- 前記少なくとも1種の無機微粒子フィラーが、シリカ、アルミナ、窒化ホウ素、ガラス、及び石英からなる群から選択される、請求項1に記載の誘電体複合材料。
- 前記1種以上のアクリル系シランカップリング剤が、モノマー形態であるか、又はビニル基を介して重合されている、請求項1に記載の誘電体複合材料。
- 前記1種以上のアクリル系シランが、式(VII)によって与えられる構造を有する、請求項10に記載の誘電体複合材料
(式中、
Rは、各存在において同じであるか又は異なり、アルキル、アリール、アセチル、ケチミノ、及びアルケニルからなる群から選択され;
Xは、アクリルオキシ、メタクリルオキシ、アリルオキシ、ビニル、マレイミド、フマル酸エステル、マレイン酸エステル、エチニル、フェニルエチニル、スチルベン、プロピオレート、及びフェニルプロピオレートエステルからなる群から選択される不飽和基であり;
nは1~10の整数である)。 - 前記1種以上のポリマー状シランが、式(VIII)によって与えられる構造を有する、請求項3に記載の誘電体複合材料
(式中、
R27は、アルキル及びHからなる群から選択され;
R28は、アルキル及びアリール、アセチル、ケチミノ、及びアルケニルからなる群から選択され;
R29は、COOCH2CH=CH2、CH3、及びHからなる群から選択され;
R30は、4-アリルオキシフェニル、COOCH2CH=CH2、及び反応性ジエノフィルを含む任意の基からなる群から選択され;
X及びYは同じであるか又は異なり、メチル及びHからなる群から選択され;
m及びnは同じであるか又は異なり、10~1000の整数であり;
oは0~1000の整数であり;
pは0~10の整数である)。 - 請求項1に記載の誘電体複合材料と1種以上の溶媒とを含有する液体組成物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17/731,690 US11920023B2 (en) | 2022-04-28 | 2022-04-28 | Composite materials for dielectric applications |
US17/731,690 | 2022-04-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023164351A true JP2023164351A (ja) | 2023-11-10 |
Family
ID=88477332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023071259A Pending JP2023164351A (ja) | 2022-04-28 | 2023-04-25 | 誘電体用途向け複合材料 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11920023B2 (ja) |
JP (1) | JP2023164351A (ja) |
KR (1) | KR20230153275A (ja) |
CN (1) | CN116970245A (ja) |
TW (1) | TW202342563A (ja) |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1993013111A1 (en) | 1991-12-24 | 1993-07-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Dual stabilized microparticles |
JP4132751B2 (ja) | 2001-08-23 | 2008-08-13 | 住友ベークライト株式会社 | 樹脂組成物、樹脂付き銅箔及び多層プリント回路板 |
US7019093B2 (en) | 2002-10-18 | 2006-03-28 | Dow Global Technologies Inc. | Aqueous developable, photosensitive benzocyclobutene-based oligomers and polymers with high moisture resistance |
US20040191498A1 (en) | 2003-03-27 | 2004-09-30 | Daniela White | Polymerizable modified particles and methods of using the same |
US7164197B2 (en) | 2003-06-19 | 2007-01-16 | 3M Innovative Properties Company | Dielectric composite material |
DE602005020954D1 (de) | 2004-10-13 | 2010-06-10 | Dow Global Technologies Inc | Wässrige entwickelbare polymerzusammensetzung auf benzocyclobutenbasis und verwendungsverfahren für derartige zusammensetzungen |
JP4572661B2 (ja) | 2004-11-05 | 2010-11-04 | 日立化成工業株式会社 | 樹脂組成物、それを用いたプリプレグ、積層板および印刷配線板 |
JP2009235207A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Panasonic Electric Works Co Ltd | アクリル樹脂組成物とその製造方法 |
EP2107384A1 (en) | 2008-03-31 | 2009-10-07 | ABB Research Ltd. | Determining degraded insulating ability in an inductively operating element |
JP2009270001A (ja) | 2008-05-07 | 2009-11-19 | Nitto Denko Corp | 半導体封止用樹脂組成物およびそれを用いた半導体装置 |
CN102414033A (zh) | 2009-04-30 | 2012-04-11 | 道康宁公司 | 硅烷改性的弹性体组合物 |
WO2012165012A1 (ja) | 2011-05-27 | 2012-12-06 | 味の素株式会社 | 樹脂組成物 |
US8697810B2 (en) | 2012-02-10 | 2014-04-15 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Block copolymer and methods relating thereto |
US20190127505A1 (en) | 2017-11-02 | 2019-05-02 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Addition polymers from nitrogen heterocycle containing monomers and vinyl arylcyclobutene-containing monomers |
US20190127506A1 (en) * | 2017-11-02 | 2019-05-02 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Low temperature curable addition polymers from vinyl arylcyclobutene-containing monomers and methods for making the same |
US10513568B2 (en) | 2017-12-01 | 2019-12-24 | Rohm and Haas Electronic Materials | Methods of making stable and thermally polymerizable vinyl, amino or oligomeric phenoxy benzocyclobutene monomers with improved curing kinetics |
US11603422B2 (en) * | 2019-12-30 | 2023-03-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Polymeric resin for dielectric applications |
-
2022
- 2022-04-28 US US17/731,690 patent/US11920023B2/en active Active
-
2023
- 2023-04-19 CN CN202310423597.XA patent/CN116970245A/zh active Pending
- 2023-04-20 TW TW112114684A patent/TW202342563A/zh unknown
- 2023-04-21 KR KR1020230052487A patent/KR20230153275A/ko unknown
- 2023-04-25 JP JP2023071259A patent/JP2023164351A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202342563A (zh) | 2023-11-01 |
KR20230153275A (ko) | 2023-11-06 |
US20230348706A1 (en) | 2023-11-02 |
CN116970245A (zh) | 2023-10-31 |
US11920023B2 (en) | 2024-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI802787B (zh) | 樹脂組成物及其用途 | |
TWI548520B (zh) | Low dielectric composite materials and laminated boards and circuit boards | |
TWI589686B (zh) | Low-dielectric phosphorus-containing flame retardant resin composition and its preparation method and application | |
US8349460B2 (en) | Organosilicon copolymer composites, method of manufacture, and articles formed therefrom | |
TW201524989A (zh) | 乙烯苄基醚化-dopo化合物樹脂組合物及其製備和應用 | |
CN111285980B (zh) | 无卤素低介电树脂组合物,使用其所制得的预浸渍片、金属箔积层板及印刷电路板 | |
JP6809014B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、層間絶縁用樹脂フィルム、複合フィルム、プリント配線板及びその製造方法 | |
TW201802175A (zh) | 樹脂組合物以及多層基板 | |
TW202045606A (zh) | 樹脂組合物及其應用 | |
JP2009078209A (ja) | 樹脂付き金属箔とその製造方法、並びに金属張りフレキシブル積層板 | |
JP7410859B2 (ja) | 金属張積層板、プリント配線板およびその製造方法 | |
TWI740204B (zh) | 樹脂組成物、及使用該樹脂組成物所製得之預浸漬片、金屬箔積層板及印刷電路板 | |
JP2023164351A (ja) | 誘電体用途向け複合材料 | |
CN109971152B (zh) | 聚苯醚树脂组合物、预浸料、层压板及印刷线路板 | |
TWI803738B (zh) | 製造印刷線路板的方法 | |
JP2023164406A (ja) | 誘電体用途向けポリマー樹脂 | |
CN118139905A (zh) | 热固性树脂组合物、树脂片、具有树脂的金属箔、覆金属层压体和印刷线路板 | |
WO2013032211A2 (ko) | 고분자 수지 조성물, 폴리이미드 수지 필름, 폴리이미드 수지 필름의 제조 방법, 금속 적층체 및 회로 기판 | |
JP2004214597A (ja) | 電子機器配線板の製造方法 | |
JP2007091794A (ja) | 接着剤組成物及び半導体装置用接着シート | |
JP7330333B1 (ja) | ビスマレイミド樹脂組成物およびプリプレグ | |
WO2024075629A1 (ja) | 樹脂組成物、並びに、それを用いたプリプレグ、樹脂付きフィルム、樹脂付き金属箔、金属張積層板及び配線基板 | |
WO2024143273A1 (ja) | 樹脂フィルム、プリント配線板及び半導体パッケージ | |
WO2024143274A1 (ja) | 支持体付き樹脂フィルム、並びにプリント配線板の製造方法及び半導体パッケージの製造方法 | |
WO2024143279A1 (ja) | 樹脂組成物、樹脂フィルム、プリント配線板及び半導体パッケージ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230428 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20230627 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20230925 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240507 |