JP2023080087A - 組成物、膜および光センサ - Google Patents

Abstract

【課題】保存安定性が良好で、光散乱性に優れた膜を形成できる組成物を提供する。【解決手段】屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の粒子と、樹脂および重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分と、溶剤と、を含む組成物であって、膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、あるいは、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、上記組成物を用いて、２００℃で５分加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、上記膜の波長４００～１０００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であり、かつ、上記膜中には上記粒子を含む第１の相と、上記第１の相よりも粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されている組成物。【選択図】なし

Description

本発明は、屈折率の高い粒子を含む組成物、膜、および光センサに関する。

酸化チタンは屈折率が高い粒子である。このような屈折率の高い粒子を光散乱膜などに用いる試みが検討されている。

特許文献１には、互いに屈折率の異なる複数のポリマーを含み、かつ少なくとも一部の領域で共連続相構造を有する光散乱層を含む光散乱シートであって、入射光を等方的に透過して散乱し、かつ散乱光強度の極大値を示す散乱角が２～４０°であるとともに、全光線透過率が７０～１００％である光散乱シートに関する発明が記載されている。共連続相構造を形成するいずれかの連続相は、高屈折微粒子を含んでもよいとされている。

特開２０１６－１６１８５９号公報

近年では、可視光を適度に遮光し、かつ、光散乱性の高い膜についての需要が増えている。膜の光散乱性を高めるには、粒径が大きく、かつ、屈折率が高い粒子を用いる方法が知られている。しかしながら、屈折率の高い粒子（以下、高屈折粒子ともいう）は、一般的に比重が大きい傾向がある。このような比重の大きい粒子を、溶剤を含む組成物中に含有させて用いた場合、組成物の保管時に粒子が沈降することがある。このため、従来知られている組成物では、保存安定性と、得られる膜の光散乱性とを高い水準で両立させることは困難であった。

なお、特許文献１に記載された発明の光散乱シートは、全光線透過率が７０～１００％であるとされていることから、特許文献１に記載された発明の光散乱シートは可視光を適度に遮光するような部材ではなく、むしろ、可視光透過性の高いものである。

よって、本発明の目的は、保存安定性が良好で、光散乱性に優れた膜を形成できる組成物を提供することにある。また、膜、および光センサを提供することにある。

かかる状況のもと、本発明者が鋭意検討を行った結果、後述する組成物により上記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞ 屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の粒子と、樹脂および重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分と、溶剤と、を含む組成物であって、
上記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、あるいは、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
上記組成物を用いて、２００℃で５分加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、上記膜の波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であり、かつ、上記膜中には上記粒子を含む第１の相と、上記第１の相よりも上記粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されている、
組成物。
＜２＞ 上記膜形成成分は、上記粒子の分散剤としての樹脂と、バインダーとしての樹脂とを含む、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞ 上記膜形成成分は、ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１およびグラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２から選ばれる樹脂を２種以上含む、＜１＞または＜２＞に記載の組成物。
＜４＞ 上記膜形成成分は、
ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１－１と、上記樹脂Ａ１－１のポリマー鎖とは異なる構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１－２とを含むか、
グラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２－１と、上記樹脂Ａ２－１のグラフト鎖とは異なる構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２－２とを含むか、あるいは、
ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１－３と、上記樹脂Ａ１－３のポリマー鎖とは異なる構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２－３とを含む、
＜３＞に記載の組成物。
＜５＞ 上記膜形成成分は、ポリエステル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂およびポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂から選ばれる少なくとも１種を含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜６＞ 上記膜形成成分は、環構造を含む重合性モノマーを含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜７＞ 上記粒子の分散剤としての樹脂の１００質量部に対して、上記バインダーとしての樹脂を４０～２５０質量部含む、＜２＞に記載の組成物。
＜８＞ 上記粒子が無機粒子である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜９＞ 上記粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍ以下である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１０＞ 上記粒子を２種以上含む、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜１１＞ ＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の組成物を用いて得られる膜。
＜１２＞ ＜１１＞に記載の膜を含む光センサ。

本発明によれば、保存安定性が良好で、光散乱性に優れた膜を形成できる組成物を提供することができる。また、膜および光センサを提供することができる。

本発明の光センサの一実施形態を示す概略図である。 本発明の光センサの他の実施形態を示す概略図である。

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）を包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）を包含する。
本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリル及びメタクリルを表し、「（メタ）アリル」は、アリル及びメタリルを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ示す。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとして、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－ＨとＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００とＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ２０００とを連結したカラムを用い、展開溶媒としてテトラヒドロフランを用いることによって求めることができる。
本明細書において、屈折率の値は、特に断りがない限り、２３℃での波長５８９ｎｍの光に対する屈折率の値である。

＜組成物＞
本発明の組成物は、屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の粒子と、樹脂および重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分と、溶剤と、を含む組成物であって、
上記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、あるいは、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
上記組成物を用いて、２００℃で５分加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、上記膜の波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であり、かつ、上記膜中には上記粒子を含む第１の相と、第１の相よりも上記粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されていることを特徴とする。

本発明の組成物は、保存安定性が良好である。すなわち、屈折率が２．０以上の粒子は一般的に比重の大きいものが多いが、本発明の組成物は、屈折率が２．０以上の粒子として、平均一次粒子径が２００ｎｍ以下と、比較的小さい粒子径のものを用いているので、溶剤を含む組成物中での上記粒子の沈降を抑制でき、その結果優れた保存安定性が得られる。また、本発明の組成物は、２００℃で５分加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した際に、波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であり、かつ、上記膜中には上記粒子を含む第１の相と、第１の相よりも上記粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されているという特性を有している。膜中にこのような相分離構造が形成されていることにより、この組成物を用いて得られる膜に光が照射されると、上記粒子の含有量が相対的に多い第１の相と、上記粒子の含有量が相対的に少ない第２の相との間で散乱が生じて、膜に照射された光を効率よく散乱して透過させることができる。このため、本発明の組成物を用いることで光散乱性に優れた膜を形成することができる。更には、散乱光の角度依存性を低減することもできる。

なお、第１の相および第２の相の母材は、膜形成成分または膜形成成分由来の硬化物である。また、上記粒子の単なる凝集物は粒子の一形態であって、上記粒子の単なる凝集物そのものは第１の相ではない。膜形成成分または膜形成成分由来の硬化物中に、上記粒子が存在しているものが上記第１の相である。また、第２の相は、第１の相よりも上記粒子の含有量が少ないものであればよく、上記粒子を実質的に含んでいなくてもよい。より優れた光散乱性が得られやすいという理由から第２の相は、上記粒子を実質的に含んでいないことが好ましい。

膜中に第１の相と、第２の相との相分離構造が形成されていることは、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または光学顕微鏡を用いて観測することができる。例えば、組成物をガラス基板などの支持体上に塗布し、２００℃で５分加熱して厚さ４μｍの膜を製膜した後、得られた膜の厚み方向の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）または光学顕微鏡を用いて観察することで膜中に第１の相と、第２の相との相分離構造が形成されているかどうか調べることができる。

上記相分離構造を形成するためには、膜形成成分に用いられる樹脂や重合性モノマーの種類などを適宜変更することで達成できる。

一態様として、膜形成成分として第１の樹脂と、第１の樹脂との相溶性の低い第２の樹脂とを含むものを用いる方法が挙げられる。このような膜形成成分を用いた場合には、膜形成時に第１の樹脂を主成分として含む相と、第２の樹脂を主成分として含む相との相分離構造を形成することができる。例えば、第１の樹脂および第２の樹脂の一方が粒子の分散剤としての樹脂で、他方がバインダー樹脂であるものを用いた場合には、分散剤としての樹脂を主成分として含む相には粒子を多く偏在させることができる。

また、別の態様として、膜形成成分として第１の樹脂と、第１の樹脂との相溶性の低い重合性モノマーを含むものを用いる方法が挙げられる。このような膜形成成分を用いた場合には、膜形成時に第１の樹脂を主成分として含む相と、重合性モノマー由来の硬化物を主成分として含む相との相分離構造を形成することができる。

また、別の態様としては、膜形成成分に用いられる樹脂や重合性モノマーの種類などを適宜変更し、成膜時に膜形成成分をスピノーダル分解させて、第１の相と、第２の相との相分離構造を形成する方法が挙げられる。

上記膜における相分離構造は、膜中で相界面が等方的に存在することが好ましく、例えば海島構造または共連続相構造であることがより好ましい。これらの相分離構造が形成されていることにより、第１の相と第２の相との間で光を効果的に散乱することができ、特に優れた光散乱性が得られやすい。なお、海島構造とは、連続領域である海領域と、非連続領域である島領域により形成される構造のことである。海島構造においては、第２の相が海で、第１の相が島を形成していてもよく、第１の相が海で、第２の相が島を形成していてもよい。第一の相が海で、第二の相が島を形成している場合は、透過率の観点で好ましい。第１の相が島で、第２の相が海を形成して場合は、角度依存性の観点で好ましい。また、共連続相構造とは、第１の相と第２の相のそれぞれが相互貫入的に連続相構造を形成しているネットワーク構造のことである。

本発明の組成物を用いて２００℃で５分加熱して厚さ４μｍの膜を形成した際において、この膜の波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値は、光散乱の波長依存性低減の観点から７０％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましく、５０％以下であることが更に好ましい。上記の透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。
また、上記膜の４００～１０００ｎｍの光の透過率の最大値は、８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、５０％以下であることが特に好ましい。上記の透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。

上記膜中の相間屈折率差の平均値は、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましく、０．３以上であることがさらに好ましく、０．４以上であることが特に好ましい。

上記膜のＪＩＳ Ｋ ７１３６に基づくヘイズは、３０～１００％であることが好ましい。上限は９９％以下であることが好ましく、９５％以下であることがより好ましく、９０％以下であることが更に好ましい。下限は３５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることが更に好ましい。

このような分光特性を有する膜を形成するには、相分離構造の形状、粒子の屈折率、粒子の膜中の存在量や偏在具合などを適宜調整することで達成することができる。この際、粒子の屈折率、粒子の存在量、粒子の偏在具合は高いほどよい。

本発明の組成物の固形分濃度は、より優れた保存安定性が得られやすいという理由から５～８０質量％であることが好ましい。上限は、７５質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。下限は、１０質量％以上であることが好ましく、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましい。以下、本発明の組成物に用いられる各成分について説明する。

＜＜粒子Ｐ１（屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の粒子）＞＞
本発明の組成物は、屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の粒子（以下、粒子Ｐ１ともいう）を含む。

粒子Ｐ１の平均一次粒子径は、２００ｎｍ以下であり、組成物の保存安定性の観点から１００ｍｎ以下であることが好ましい。また、粒子Ｐ１の平均一次粒子径は、組成物の保存安定性および得られる膜の光散乱性の観点から５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に好ましく、３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることがより一層好ましく、４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが特に好ましい。

なお、本明細書において、粒子の平均一次粒子径は以下の方法で測定した値である。すなわち、粒子の一次粒子径は、粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、粒子が凝集していない部分（一次粒子）を観測することで求めることができる。粒子の粒度分布については、一次粒子を、透過型電子顕微鏡を用いて透過型電子顕微鏡写真を撮影した後、その写真を用いて画像処理装置で粒度分布を測定して求めることができる。本明細書において、粒子の平均一次粒子径は、粒度分布から算出された個数基準の算術平均径を平均一次粒子径とした。本明細書では、透過型電子顕微鏡として（株）日立製作所製電子顕微鏡（Ｈ－７０００）を用い、画像処理装置として（株）ニレコ製ルーゼックスＡＰを用いる。

粒子Ｐ１の屈折率は、２．０以上であり、２．２以上であることが好ましく、２．４以上であることが更に好ましい。粒子Ｐ１の屈折率の上限は特に限定はないが５以下とすることができ、４以下とすることもできる。

なお、本明細書において、粒子の屈折率は以下の方法で測定した値である。まず、粒子と、屈折率が既知である樹脂（分散剤）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとを用いて分散液を作製する。その後、作製した分散液と屈折率が既知の樹脂とを混合し、塗布液の全固形分中における粒子の濃度が１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％の塗布液を作製する。これらの塗布液をシリコンウエハ上に３００ｎｍの厚さで製膜した後、得られる膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ－３３００、（株）ＳＣＲＥＥＮホールディングス製）を用いて測定する。その後、粒子の濃度に対応する屈折率をグラフ上にプロットし、粒子の屈折率を導出する。

粒子Ｐ１の比重は、１～７ｇ／ｃｍ^３であることが好ましい。上限は６ｇ／ｃｍ^３以下であることが好ましく、５ｇ／ｃｍ^３以下であることがより好ましい。比重の下限は特に限定はないが、１．５ｇ／ｃｍ^３以上とすることができ、２ｇ／ｃｍ^３以上とすることもできる。

なお、本明細書において、粒子の比重は、以下の方法で測定した値である。まず、１００ｍＬメスフラスコ中に５０ｇの粒子を投入する。続いて別の１００ｍＬメスシリンダーを用いて水を１００ｍＬ量り取る。その後、まず粒子が浸る程度、量り取った水をメスフラスコに入れ、続いて、メスフラスコに超音波を加えて、粒子と水をなじませた。その後、メスフラスコの標線に到達するまで追加で水を入れ、５０ｇ／（メスフラスコに残った水の体積）＝比重として算出する。

粒子Ｐ１は、透明または白色の粒子であることが好ましい。また、粒子Ｐ１は無機粒子であることが好ましい。無機粒子の種類としては、酸化チタン粒子、チタン酸ストロンチウム粒子、チタン酸バリウム粒子、酸化亜鉛粒子、酸化マグネシウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子、硫酸バリウム粒子、硫化亜鉛粒子などが挙げられる。粒子Ｐ１として用いられる無機粒子は、チタン原子を有する粒子であることが好ましく、酸化チタン粒子であることがより好ましい。

酸化チタン粒子は、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）の含有量（純度）が７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、８５質量％以上であることが更に好ましい。酸化チタン粒子は、Ｔｉ_ｎＯ_２ｎ－１（ｎは２～４の数を表す。）で表される低次酸化チタン、酸窒化チタン等の含有量が３０質量％以下であることが好ましく、２０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以下であることが更に好ましい。

酸化チタンは、ルチル型酸化チタンであってもよく、アナターゼ型酸化チタンでもよい。着色性、分散液や組成物の経時安定性の観点から、ルチル型酸化チタンが好ましい。特にルチル型酸化チタンは加熱しても、色差の変化が少なく、良好な着色性を有している。また、酸化チタンのルチル化率は、９５％以上が好ましく、９９％以上がより好ましい。

ルチル型酸化チタンとしては、公知のものを使用することができる。ルチル型酸化チタンの製造方法には、硫酸法と塩素法の２種類あり、いずれの製造方法により製造された酸化チタンも好適に使用することができる。ここで、硫酸法は、イルメナイト鉱石やチタンスラグを原料とし、これを濃硫酸に溶解して鉄分を硫酸鉄として分離し、分離した溶液を加水分解して水酸化物の沈殿物を得て、これを高温で焼成してルチル型酸化チタンを取り出す製造方法をいう。また、塩素法は、合成ルチルや天然ルチルを原料とし、これを約１０００℃の高温で塩素ガスとカーボンを反応させて四塩化チタンを合成し、これを酸化してルチル型酸化チタンを取り出す製造方法をいう。ルチル型酸化チタンは、塩素法で得られるルチル型酸化チタンが好ましい。

酸化チタン粒子の比表面積は、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ，Ｅｍｍｅｔｔ，Ｔｅｌｌｅｒ）法にて測定した値が１０～４００ｍ^２／ｇであることが好ましく、１０～２００ｍ^２／ｇであることがより好ましく、１０～１５０ｍ^２／ｇであることが更に好ましく、１０～４０ｍ^２／ｇであることが特に好ましく、１０～２０ｍ^２／ｇであることが最も好ましい。酸化チタンのｐＨは、６～８が好ましい。酸化チタンの吸油量は、１０～６０（ｇ／１００ｇ）であることが好ましく、１０～４０（ｇ／１００ｇ）であることがより好ましい。

酸化チタン粒子は、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２、Ｎｂ_２Ｏ_５およびＮａ_２Ｏの合計量が、０．１質量％以下であることが好ましく、０．０５質量％以下であることがより好ましく、０．０２質量％以下であることがさらに好ましく、これらを実質的に含まないことが特に好ましい。

酸化チタン粒子の形状には特に制限はない。例えば、等方性形状（例えば、球状、多面体状等）、異方性形状（例えば、針状、棒状、板状等）、不定形状等の形状が挙げられる。酸化チタン粒子の硬度（モース硬度）は、５～８であることが好ましく、７～７．５であることがより好ましい。

酸化チタン粒子などの無機粒子は、有機化合物などの表面処理剤により表面処理されていてもよい。酸化チタンの表面処理に用いる表面処理剤としては、ポリオール、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、シリカ（酸化ケイ素）、含水シリカ、アルカノールアミン、ステアリン酸、オルガノシロキサン、酸化ジルコニウム、ハイドロゲンジメチコン、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤などが挙げられる。中でもシランカップリング剤が好ましい。表面処理は、１種類単独の表面処理剤を用いて実施してもよく、２種類以上の表面処理剤を組み合わせて実施してもよい。

酸化チタン粒子などの無機粒子は、塩基性金属酸化物又は塩基性金属水酸化物により被覆されていることも好ましい。塩基性金属酸化物又は塩基性金属水酸化物として、マグネシウム、ジルコニウム、セリウム、ストロンチウム、アンチモン、バリウム又はカルシウム等を含有する金属化合物が挙げられる。

また、酸化チタン粒子としては「酸化チタン 物性と応用技術 清野学著 １３～４５ページ １９９１年６月２５日発行、技報堂出版発行」に記載の酸化チタン粒子も好適に使用できる。

粒子Ｐ１は、市販されているものを好ましく用いることができる。市販品はそのまま使用してもよく、分級処理したものを用いてもよい。酸化チタン粒子の市販品としては、例えば、石原産業（株）製の商品名タイペークＲ－５５０、Ｒ－５８０、Ｒ－６３０、Ｒ－６７０、Ｒ－６８０、Ｒ－７８０、Ｒ－７８０－２、Ｒ－８２０、Ｒ－８３０、Ｒ－８５０、Ｒ－８５５、Ｒ－９３０、Ｒ－９８０、ＣＲ－５０、ＣＲ－５０－２、ＣＲ－５７、ＣＲ－５８、ＣＲ－５８－２、ＣＲ－６０、ＣＲ－６０－２、ＣＲ－６３、ＣＲ－６７、ＣＲ－Ｓｕｐｅｒ７０、ＣＲ－８０、ＣＲ－８５、ＣＲ－９０、ＣＲ－９０－２、ＣＲ－９３、ＣＲ－９５、ＣＲ－９５３、ＣＲ－９７、ＰＦ－７３６、ＰＦ－７３７、ＰＦ－７４２、ＰＦ－６９０、ＰＦ－６９１、ＰＦ－７１１、ＰＦ－７３９、ＰＦ－７４０、ＰＣ－３、Ｓ－３０５、ＣＲ－ＥＬ、ＰＴ－３０１、ＰＴ－４０１Ｍ、ＰＴ－４０１Ｌ、ＰＴ－５０１Ａ、ＰＴ－５０１Ｒ、ＵＴ７７１、ＴＴＯ－５１、ＴＴＯ－８０Ａ、ＴＴＯ－Ｓ－２、Ａ－２２０、ＭＰＴ－１３６、ＭＰＴ－１４０、ＭＰＴ－１４１；
堺化学工業（株）製の商品名Ｒ－３Ｌ、Ｒ－５Ｎ、Ｒ－７Ｅ、Ｒ－１１Ｐ、Ｒ－２１、Ｒ－２５、Ｒ－３２、Ｒ－４２、Ｒ－４４、Ｒ－４５Ｍ、Ｒ－６２Ｎ、Ｒ－３１０、Ｒ－６５０、ＳＲ－１、Ｄ－９１８、ＧＴＲ－１００、ＦＴＲ－７００、ＴＣＲ－５２、Ａ－１１０、Ａ－１９０、ＳＡ－１、ＳＡ－１Ｌ、ＳＴＲ－１００Ａ－ＬＰ、ＳＴＲ－１００Ｃ－ＬＰ、ＴＣＡ－１２３Ｅ；
テイカ（株）製の商品名ＪＲ、ＪＲＮＣ、ＪＲ－３０１、ＪＲ－４０３、ＪＲ－４０５、ＪＲ－６００Ａ、ＪＲ－６００Ｅ、ＪＲ－６０３、ＪＲ－６０５、ＪＲ－７０１、ＪＲ－８００、ＪＲ－８０５、ＪＲ－８０６、ＪＲ－１０００、ＭＴ－０１、ＭＴ－０５、ＭＴ－１０ＥＸ、ＭＴ－１００Ｓ、ＭＴ－１００ＴＶ、ＭＴ－１００Ｚ、ＭＴ－１００ＡＱ、ＭＴ－１００ＷＰ、ＭＴ－１００ＳＡ、ＭＴ－１００ＨＤ、ＭＴ－１５０ＥＸ、ＭＴ－１５０Ｗ、ＭＴ－３００ＨＤ、ＭＴ－５００Ｂ、ＭＴ－５００ＳＡ、ＭＴ－５００ＨＤ、ＭＴ－６００Ｂ、ＭＴ－６００ＳＡ、ＭＴ－７００Ｂ、ＭＴ－７００ＢＳ、ＭＴ－７００ＨＤ、ＭＴ－７００Ｚ；
チタン工業（株）製の商品名ＫＲ－３１０、ＫＲ－３８０、ＫＲ－３８０Ｎ、ＳＴ－４８５ＳＡ１５；
富士チタン工業（株）製の商品名ＴＲ－６００、ＴＲ－７００、ＴＲ－７５０、ＴＲ－８４０、ＴＲ－９００；
白石カルシウム（株）製の商品名Ｂｒｉｌｌｉａｎｔ１５００等が挙げられる。また、特開２０１５－０６７７９４号公報の段落番号００２５～００２７に記載の酸化チタン粒子を用いることもできる。

チタン酸ストロンチウム粒子の市販品としては、ＳＷ－１００（チタン工業（株）製）などが挙げられる。硫酸バリウム粒子の市販品としては、ＢＦ－１Ｌ（堺化学工業（株）製）などが挙げられる。酸化亜鉛粒子の市販品としては、Ｚｉｎｃｏｘ Ｓｕｐｅｒ Ｆ－１（ハクスイテック（株）製）などが挙げられる。酸化ジルコニウム粒子の市販品としては、Ｚ－ＮＸ（太陽鉱工（株）製）、Ｚｉｒｃｏｎｅｏ－Ｃｐ（（株）アイテック製）などが挙げられる。

粒子Ｐ１の含有量は、組成物の全固形分中５～９０質量％であることが好ましい。上限は、８５質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。下限は、６質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。

本発明の組成物は、粒子Ｐ１を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。粒子Ｐ１を１種類のみ含む場合はより優れた保存安定性が得られやすい。また、粒子Ｐ１を２種以上含む場合は、光散乱の角度依存性をより低減することができる。粒子Ｐ１を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜粒子Ｐ２＞＞
本発明の組成物は、屈折率が２．０未満で、平均一次粒子径が５００ｎｍ以上で、粒子Ｐ１よりも比重の小さい粒子（以下、粒子Ｐ２ともいう）を含有することができる。本発明の組成物がＰ１のほかにＰ２を含む場合は、粒子Ｐ１と粒子Ｐ２との間で散乱が生じて、膜に照射された光を効率よく散乱して透過させることができる。このため、このような組成物を用いることでより光散乱性に優れた膜を形成することができる。

粒子Ｐ２の平均一次粒子径は、５００ｎｍ以上であり、５００ｎｍ以上６０００ｎｍ以下であることが好ましく、５００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であることがより好ましく、５００ｎｍ以上３０００ｎｍ未満であることが更に好ましく、５００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下であることがより一層好ましく、５００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることが更に一層好ましく、５００ｎｍ以上１５００ｎｍ以下であることが特に好ましく、５００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが最も好ましい。

粒子Ｐ２の屈折率は、２．０未満であり、１．９以下であることが好ましく、１．８以下であることが更に好ましく、１．７以下であることが特に好ましい。粒子Ｐ２の屈折率の下限は特に限定はないが１．０以上とすることができ、１．１以上とすることもできる。

粒子Ｐ１の屈折率と粒子Ｐ２の屈折率の差は、光散乱性に優れた膜が得られやすいという理由から、０．５以上であることが好ましく、０．７以上であることがより好ましく、０．９以上であることが更に好ましい。なお、本発明の組成物が粒子Ｐ１を２種以上含む場合は、上記屈折率の差の算出にあたり、粒子Ｐ１の屈折率の値は、２種以上の粒子Ｐ１の屈折率の質量平均値を用いる。本発明の組成物が粒子Ｐ２を２種以上含む場合についても同様である。

粒子Ｐ２の比重は、２．５ｇ／ｃｍ^３以下であることが好ましく、２．４ｇ／ｃｍ^３以下であることがより好ましく、２．２ｇ／ｃｍ^３以下であることが更に好ましく、２．０ｇ／ｃｍ^３以下であることが特に好ましい。粒子Ｐ２の比重の下限は特に限定はないが、０．５ｇ／ｃｍ^３以上とすることができ、０．９ｇ／ｃｍ^３以上とすることもできる。

粒子Ｐ２は、透明または白色の粒子であることが好ましい。粒子Ｐ２としては、無機粒子および樹脂粒子などが挙げられる。無機粒子の種類としては、シリカ粒子、中空酸化チタン粒子、中空ジルコニア粒子などが挙げられ、シリカ粒子であることが好ましい。無機粒子の市販品としては、富士シリシア化学（株）製のサイリシアシリーズ（例えば、サイリシア３１０Ｐなど）、（株）日本触媒製のシーホスターシリーズ（例えば、シーホスターＫＥ－Ｓ２５０）などが挙げられる。

樹脂粒子としては、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリエステル樹脂、メラニン樹脂、シリコーン樹脂などの合成樹脂からなる粒子、及び、キチン、キトサン、セルロース、架橋澱粉、架橋セルロース等の天然高分子からなる粒子などが挙げられる。なかでも、合成樹脂粒子は、粒子サイズを制御しやすいなどの利点があり、好ましく用いられる。

樹脂粒子の製造方法としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のような比較的に硬い樹脂の場合では、破砕法による微粒子化も可能であるが、乳化懸濁重合法により樹脂粒子を製造する方法が、粒子径制御の容易性、精度から好ましい。樹脂粒子の製造方法については、「超微粒子と材料」日本材料科学会編、裳華房、１９９３年発刊、「微粒子・粉体の作製と応用」川口春馬監修、シーエムシー出版、２００５年発刊等に詳細に記載されている。

樹脂粒子は市販品としても入手可能であり、例えば、ＭＸ－４０Ｔ、ＭＸ－８０Ｈ３ｗＴ、ＭＸ－１５０、ＭＸ－１８０ＴＡ、ＭＸ－３００、ＭＸ－５００、ＭＸ－１０００、ＭＸ－１５００Ｈ、ＭＲ－２ＨＧ、ＭＲ－７ＨＧ，ＭＲ－１０ＨＧ、ＭＲ－３ＧＳＮ、ＭＲ－５ＧＳＮ、ＭＲ－７Ｇ、ＭＲ－１０Ｇ、ＭＲ－５Ｃ、ＭＲ－７ＧＣ（以上、綜研化学（株）製、アクリル樹脂粒子）、ＳＸ－１３０Ｈ、ＳＸ－３５０Ｈ、ＳＸ－５００Ｈ（以上、綜研化学（株）製、スチレン樹脂粒子）、ＭＢＸ－５、ＭＢＸ－８、ＭＢＸ－１２ＭＢＸ－１５、ＭＢＸ－２０、ＭＢ２０Ｘ－５、ＭＢ３０Ｘ－５、ＭＢ３０Ｘ－８、ＭＢ３０Ｘ－２０、ＳＢＸ－６、ＳＢＸ－８、ＳＢＸ－１２、ＳＢＸ－１７（以上、積水化成品工業（株）製、アクリル樹脂粒子）、ケミパールＷ１００、Ｗ２００、Ｗ３００、Ｗ３０８、Ｗ３１０、Ｗ４００、Ｗ４０１、Ｗ４０５、Ｗ４１０、Ｗ５００、ＷＦ６４０、Ｗ７００、Ｗ８００、Ｗ９００、Ｗ９５０、ＷＰ１００（以上、三井化学（株）製、ポリオレフィン樹脂粒子）、トスパール１２０（モメンティブ・パフォーマンス・テクノロジーズ社製、シリコーン樹脂粒子）、オプトビーズ２０００Ｍ（日産化学（株）製、メラニン樹脂粒子）などが挙げられる。

粒子Ｐ２は、中空粒子であることも好ましい。中空粒子とは、粒子表面より内部に粒子を構成する素材が存在しない空隙部分を持つ粒子のことを指す。空隙部分のサイズや形状、数は特に限定されない。中心部分に空隙部分を持つ外殻構造であってもよいし、粒子内部に微細な空隙部が複数分散した構造であってもよい。

中空粒子の空隙率は１～９０％であることが好ましい。空隙率の下限は５％以上であることが好ましく、１０％以上であることがより好ましい。空隙率の上限は８５％以下であることが好ましく、８０％以下であることがより好ましい。なお、中空粒子の空隙率とは、中空粒子の体積の総量に対する空隙が占める体積の割合を言う。中空粒子の空隙率は、透過型電子顕微鏡を用いて中空粒子を観察して外径と空隙径を測長し、下記の式によって「体積の総量に対する空隙が占める体積の割合」を算出することで測ることが出来る。
式：｛（空隙径）^３／（外径）^３｝×１００％

より具体的には、透過型電子顕微鏡によって観察された中空粒子を任意に１００個選定し、これらの中空粒子についてそれぞれ外側と空隙の円相当径を測長して外径、空隙径とし、上記式によって空隙率を算出してその平均値を空隙率とする方法が挙げられる。また、粒子のシェルの材料（その屈折率）と中空状であることがわかっている場合には、粒子屈折率の測定から知ることも出来る。

中空粒子の形状は、球形であることが好ましいが、不定形等の球形以外の形状であってもよい。

中空粒子は、無機材料で構成された中空粒子（以下、中空無機粒子ともいう）であってもよく、樹脂材料で構成された中空粒子（以下、中空樹脂粒子ともいう）であってもよい。

中空樹脂粒子を構成する材料としては、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂、メラニン樹脂などが挙げられ、（メタ）アクリル樹脂およびスチレン樹脂が好ましく、（メタ）アクリル樹脂がより好ましい。中空樹脂粒子の製造方法としては、例えば、樹脂粒子に発泡剤を含有させておき、後に発泡剤を発泡させる方法や、樹脂粒子中に揮発性物質を封入しておき、後に揮発性物質をガス化させて膨張させる方法や、樹脂粒子を溶融させ、これに空気等の気体を注入する方法や、重合性単量体と非重合性の溶剤を混合して重合し、溶剤を内包した樹脂粒子を得た後、溶剤を除去する方法（以下、溶剤除去法ともいう）等が挙げられる。

中空無機粒子としては、中空シリカ粒子であることが好ましい。すなわち、中空無機粒子は、中心部分に空隙部分を持つシリカ粒子であることが好ましい。中空シリカ粒子の具体例としては、特開２０１３－２３７５９３号公報、国際公開第２００７／０６０８８４号などに記載されている中空粒子が挙げられる。

粒子Ｐ２の含有量は、組成物の全固形分中１～９０質量％であることが好ましい。上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。下限は、２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。本発明の組成物は、粒子Ｐ２を１種類のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。粒子Ｐ２を１種類のみ含む場合はより優れた保存安定性が得られやすい。また、粒子Ｐ２を２種以上含む場合は、光散乱の角度依存性をより低減することができる。粒子Ｐ２を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

組成物の全固形分中における粒子Ｐ１と粒子Ｐ２との合計の含有量は、３０質量％以上であることが好ましく、３５質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８０質量％以下であることがより好ましく、７０質量％以下であることが更に好ましい。

組成物における粒子Ｐ１と粒子Ｐ２との割合については、粒子Ｐ２の１００質量部に対して粒子Ｐ１が２０～５００質量部であることが好ましい。上限は、４５０質量部以下であることが好ましく、４００質量部以下であることがより好ましく、３００質量部以下であることが更に好ましい。下限は、２５質量部以上であることが好ましく、３０質量部以上であることがより好ましく、３５質量部以上であることが更に好ましい。

＜＜膜形成成分＞＞
本発明の組成物は、樹脂および重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分を含む。本発明で用いられる膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、あるいは、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含むものである。

（樹脂）
樹脂は、例えば、粒子を組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で使用することもできる。

樹脂としては、公知の樹脂を任意に使用できる。例えば、（メタ）アクリル樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられる。

樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、３０００以上が好ましく、４０００以上がより好ましく、５０００以上が更に好ましい。

樹脂としては、酸基を有する樹脂を用いることができる。酸基を有する樹脂としては、酸基を有する繰り返し単位を有する樹脂などが挙げられる。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。また、カルボキシル基は、芳香族カルボキシル基であることが好ましい。ここで、芳香族カルボキシル基とは、芳香族環にカルボキシル基が１個以上結合した構造の基のことである。芳香族カルボキシル基において、芳香族環に結合したカルボキシル基の数は、１～４個であることが好ましく、１～２個であることがより好ましい。芳香族カルボキシル基を有する繰り返し単位としては、以下に示す構造の繰り返し単位などが挙げられる。

また、カルボキシル基を有する繰り返し単位において、樹脂の主鎖とカルボキシル基とをつなぐ鎖を構成する原子の数は４個以上であることが好ましく、８個以上であることがより好ましい。樹脂の主鎖とカルボキシル基とをつなぐ鎖を構成する原子の数の上限は特に限定されないが、４０個以下であることが好ましく、３０個以下であることがより好ましく、２０個以下であることがさらに好ましい。樹脂の主鎖とカルボキシル基とをつなぐ鎖を構成する原子の数が４個以上である繰り返し単位としては、以下に示す構造の繰り返し単位が挙げられる。なお、構造式に併記した数字は、主鎖とカルボキシル基とをつなぐ鎖を構成する原子の数である。

酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂や、分散剤として用いることもできる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

樹脂としては、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることができる。

式（ＥＤ１）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

樹脂としては、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含む樹脂を用いることができる。

式（Ｘ）において、Ｒ_１は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ_２は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ_３は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。

樹脂としては、グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂を用いることもできる。樹脂がグラフト鎖を有する繰り返し単位を含むことにより、グラフト鎖による立体障害により、組成物中での粒子の凝集などをより効果的に抑制でき、優れた保存安定性が得られる。また、成膜時に膜中に相分離構造を形成しやすくできる。グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂は、分散剤として用いてもよく、バインダーとして用いてもよい。

本発明において、グラフト鎖とは、繰り返し単位の主鎖から枝分かれして伸びるポリマー鎖のことを意味する。グラフト鎖の長さについては特に制限されないが、グラフト鎖が長くなると立体反発効果が高くなり、粒子の分散性を高めたり、相分離構造を形成しやすくできる。グラフト鎖としては、水素原子を除いた原子数が４０～１００００であることが好ましく、水素原子を除いた原子数が５０～２０００であることがより好ましく、水素原子を除いた原子数が６０～５００であることが更に好ましい。

グラフト鎖は、ポリエステル構造の繰り返し単位、ポリエーテル構造の繰り返し単位、ポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位、ポリウレタン構造の繰り返し単位、ポリウレア構造の繰り返し単位およびポリアミド構造の繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の構造の繰り返し単位を含むことが好ましく、ポリエステル構造の繰り返し単位、ポリエーテル構造の繰り返し単位およびポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の構造の繰り返し単位を含むことがより好ましく、ポリエステル構造の繰り返し単位を含むことが更に好ましい。ポリエステル構造の繰り返し単位としては、下記の式（Ｇ－１）、式（Ｇ－４）または式（Ｇ－５）で表される構造の繰り返し単位が挙げられる。また、ポリエーテル構造の繰り返し単位としては、下記の式（Ｇ－２）で表される構造の繰り返し単位が挙げられる。また、ポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位としては、下記の式（Ｇ－３）で表される構造の繰り返し単位が挙げられる。

上記式において、Ｒ^Ｇ１およびＲ^Ｇ２は、それぞれアルキレン基を表す。Ｒ^Ｇ１およびＲ^Ｇ２で表されるアルキレン基としては特に制限されないが、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が好ましく、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、炭素数３～１２の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が更に好ましい。
上記式において、Ｒ^Ｇ３は、水素原子またはメチル基を表す。
上記式において、Ｑ^Ｇ１は、－Ｏ－または－ＮＨ－を表し、Ｌ^Ｇ１は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アルキレンオキシ基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレンオキシ基）、オキシアルキレンカルボニル基（好ましくは炭素数１～１２のオキシアルキレンカルボニル基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。
Ｒ^Ｇ４は、水素原子または置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基等が挙げられる。

グラフト鎖の末端構造としては、特に限定されない。水素原子であってもよく、置換基であってもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基等が挙げられる。なかでも、粒子の分散性向上などの観点から、立体反発効果を有する基が好ましく、炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基が好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状または分岐状が好ましい。

グラフト鎖としては、下記式（Ｇ－１ａ）、式（Ｇ－２ａ）、式（Ｇ－３ａ）、式（Ｇ－４ａ）または式（Ｇ－５ａ）で表される構造であることが好ましい。

上記式において、Ｒ^Ｇ１およびＲ^Ｇ２は、それぞれアルキレン基を表し、Ｒ^Ｇ３は、水素原子またはメチル基を表し、Ｑ^Ｇ１は、－Ｏ－または－ＮＨ－を表し、Ｌ^Ｇ１は、単結合または２価の連結基を表し、Ｒ^Ｇ４は、水素原子または置換基を表し、Ｗ^１００は水素原子または置換基を表す。ｎ１～ｎ５は、それぞれ独立して２以上の整数を表す。Ｒ^Ｇ１～Ｒ^Ｇ４、Ｑ^Ｇ１、Ｌ^Ｇ１については、式（Ｇ－１）～（Ｇ－５）で説明したＲ^Ｇ１～Ｒ^Ｇ４、Ｑ^Ｇ１、Ｌ^Ｇ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。

式（Ｇ－１ａ）～（Ｇ－５ａ）において、Ｗ^１００は置換基であることが好ましい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基等が挙げられる。なかでも、顔料などの分散性向上の観点から、立体反発効果を有する基が好ましく、炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基が好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状または分岐状が好ましい。

式（Ｇ－１ａ）～（Ｇ－５ａ）において、ｎ１～ｎ５は、それぞれ２～１００の整数が好ましく、２～８０の整数がより好ましく、８～６０の整数が更に好ましい。

式（Ｇ－１ａ）において、ｎ１が２以上の場合における各繰り返し単位中のＲ^Ｇ１同士は、同一であってもよく、異なっていてもよい。また、Ｒ^Ｇ１が異なる繰り返し単位を２種以上含む場合においては、各繰り返し単位の配列は特に限定は無く、ランダム、交互、及び、ブロックのいずれであってもよい。式（Ｇ－２ａ）～式（Ｇ－５ａ）においても同様である。なかでも、得られる膜の光散乱性をより向上できるという理由から、グラフト鎖としては、式（Ｇ－１ａ）、式（Ｇ－４ａ）または式（Ｇ－５ａ）で表される構造であって、Ｒ^Ｇ１が異なる繰り返し単位を２種以上含む構造であることが好ましい。すなわち、式（Ｇ－１ａ）におけるｎ１個のＲ^Ｇ１、式（Ｇ－４ａ）におけるｎ４個のＲ^Ｇ１および、式（Ｇ－５ａ）におけるｎ５個のＲ^Ｇ１は、炭素数の異なるアルキレン基を２種以上含むことが好ましい。

グラフト鎖を有する繰り返し単位としては、下記式（Ａ－１－２）で表される繰り返し単位が挙げられる。

式（Ａ－１－２）において、Ｘ^２は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ^２は単結合または２価の連結基を表し、Ｗ^１はグラフト鎖を表す。

式（Ａ－１－２）におけるＸ^２が表す繰り返し単位の主鎖としては、式（Ａ－１－１）のＸ^１で説明した構造が挙げられ、好ましい範囲も同様である。式（Ａ－１－２）におけるＬ^２が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。式（Ａ－１－２）におけるＷ^１が表すグラフト鎖としては、上述したグラフト鎖が挙げられる。

式（Ａ－１－２）で表される繰り返し単位の具体例としては、下記式（Ａ－１－２ａ）で表される繰り返し単位、下記式（Ａ－１－２ｂ）で表される繰り返し単位などが挙げられる。

式（Ａ－１－２ａ）において、Ｒ^ｂ１～Ｒ^ｂ３は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、Ｑ^ｂ１は、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＨ－またはフェニレン基を表し、Ｌ^２は、単結合または２価の連結基を表し、Ｗ^１はグラフト鎖を表す。Ｒ^ｂ１～Ｒ^ｂ３が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～３がより好ましく、１が更に好ましい。Ｑ^ｂ１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－であることが好ましく、－ＣＯＯ－であることがより好ましい。

式（Ａ－１－２ｂ）において、Ｒ^ｂ１０およびＲ^ｂ１１は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、ｍ２は１～５の整数を表し、Ｌ^２は、単結合または２価の連結基を表し、Ｗ^１はグラフト鎖を表す。Ｒ^ｂ１０およびＲ^ｂ１１が表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～３がより好ましい。

グラフト鎖を有する繰り返し単位の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００以上であることが好ましく、１０００～１００００であることがより好ましく、１０００～７５００であることが更に好ましい。なお、本発明において、グラフト鎖を有する繰り返し単位の重量平均分子量は、同繰り返し単位の重合に用いた原料モノマーの重量平均分子量から算出した値である。例えば、グラフト鎖を有する繰り返し単位は、マクロモノマーを重合することで形成できる。ここで、マクロモノマーとは、ポリマー末端に重合性基が導入された高分子化合物を意味する。マクロモノマーを用いてグラフト鎖を有する繰り返し単位を形成した場合においては、マクロモノマーの重量平均分子量がグラフト鎖を有する繰り返し単位に該当する。

グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂は、更に（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位を含むことも好ましい。この態様によれば、得られる膜の光散乱性をより向上させることができる。

グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂は、更に、酸基を有する繰り返し単位と、グラフト鎖および酸基のいずれも有さない繰り返し単位とをそれぞれ有することも好ましい。この態様によれば、膜中で相分離サイズが過剰に大きくなるのを抑制でき、より光散乱性に優れた膜を形成することができる。酸基を有する繰り返し単位が有する酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基が好ましい。また、カルボキシル基は、芳香族カルボキシル基であることが好ましい。また、カルボキシル基を有する繰り返し単位において、樹脂の主鎖とカルボキシル基とをつなぐ鎖を構成する原子の数は、４個以上であることが好ましく、８個以上であることがより好ましい。樹脂の主鎖とカルボキシル基とをつなぐ鎖を構成する原子の数の上限は特に限定されないが、４０個以下であることが好ましく、３０個以下であることがより好ましく、２０個以下であることがさらに好ましい。

本発明の組成物では、樹脂として、ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂を用いることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、下記式（ＳＰ－１）で表される構造の樹脂（以下、樹脂（ＳＰ－１）ともいう）が挙げられる。樹脂（ＳＰ－１）は、分散剤として好ましく用いることができるが、バインダーとして用いてもよい。

式中、Ｚ^１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、
Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立して単結合または連結基を表し、
Ａ^１は、複素環基、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基およびヒドロキシ基から選ばれる置換基を含む基を表し、
Ｐ^１はポリマー鎖を表し、
ｎは１～２０を表し、ｍは１～２０を表し、ｍ＋ｎは３～２１であり、
ｎ個のＹ^１およびＡ^１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、
ｍ個のＹ^２およびＰ^１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。

式（ＳＰ－１）のＺ^１、Ａ^１およびＰ^１の少なくとも一つはエチレン性不飽和結合含有基を含んでいてもよい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニロキシ基、アリル基、メタリル基、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、シンナモイル基およびマレイミド基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、マレイミド基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。

樹脂（ＳＰ－１）がエチレン性不飽和結合含有基を含む場合、このような樹脂は後述する重合性樹脂に該当する。エチレン性不飽和結合含有基は、式（ＳＰ－１）中のＺ^１、Ａ^１およびＰ^１のいずれかに含まれていればよいが、Ｐ^１に含まれていることが好ましい。また、Ｐ^１がエチレン性不飽和結合含有基を含む場合、Ｐ^１は、側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰り返し単位を有するポリマー鎖であることが好ましい。

式（ＳＰ－１）において、Ａ^１は上述した置換基を含む基を表す。置換基としては、複素環基、酸基、塩基性窒素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基およびヒドロキシ基が好ましく、酸基がより好ましい。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。また、カルボキシル基は、芳香族カルボキシル基であることが好ましい。

上述した置換基は、１つのＡ^１中に、少なくとも１個含まれていればよく、２個以上を含んでいてもよい。Ａ^１は、上述した置換基を１～１０個含むことが好ましく、１～６個含むことがより好ましい。また、Ａ^１が表す上述した置換基を含む基としては、上述した置換基と、１～２００個の炭素原子、０～２０個の窒素原子、０～１００個の酸素原子、１～４００個の水素原子、および０～４０個の硫黄原子から成り立つ連結基とが結合して形成された基が挙げられる。例えば、炭素数１～１０の鎖状飽和炭化水素基、炭素数３～１０の環状飽和炭化水素基、または、炭素数５～１０の芳香族炭化水素基を介して１個以上の酸基が結合して形成された基等が挙げられる。上記の鎖状飽和炭化水素基、環状飽和炭化水素基および芳香族炭化水素基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～１６のアリール基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、炭素数１～６のアシルオキシ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数２～７のアルコキシカルボニル基、シアノ基、炭酸エステル基、およびエチレン性不飽和結合含有基等が挙げられる。また、上記置換基そのものがＡ^１であってもよい。

Ａ^１の化学式量としては、３０～２０００であることが好ましい。上限は、１０００以下であることが好ましく、８００以下であることがより好ましい。下限は、５０以上であることが好ましく、１００以上であることがより好ましい。

式（ＳＰ－１）において、Ｚ^１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表す。（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。（ｍ＋ｎ）価の連結基としては、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基（環構造を形成していてもよい）が挙げられる。

（ｍ＋ｎ）価の連結基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～１６のアリール基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、Ｎ－スルホニルアミド基、炭素数１～６のアシルオキシ基、炭素数１～２０のアルコキシ基、ハロゲン原子、炭素数２～７までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、炭酸エステル基、エチレン性不飽和結合含有基等が挙げられる。

Ｚ^１が表す（ｍ＋ｎ）価の連結基は、下記式のいずれかで表される基であることが好ましい。

Ｌ_３は３価の基を表す。Ｔ_３は単結合又は２価の連結基を表し、３個存在するＴ_３は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_４は４価の基を表す。Ｔ_４は単結合又は２価の連結基を表し、４個存在するＴ_４は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_５は５価の基を表す。Ｔ_５は単結合又は２価の連結基を表し、５個存在するＴ_５は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｌ_６は６価の基を表す。Ｔ_６は単結合又は２価の連結基を表し、６個存在するＴ_６は互いに同一であっても異なっていてもよい。

Ｔ_３～Ｔ_６が表す２価の連結基としては、－ＣＨ_２－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、脂肪族環基、芳香族炭化水素環基、ヘテロ環基およびこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。脂肪族環基、芳香族炭化水素環基およびヘテロ環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。２価の連結基は、上述した置換基をさらに有していてもよい。

Ｌ_３が表す３価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を１個除いた基が挙げられる。Ｌ_４が表す４価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を２個除いた基が挙げられる。Ｌ_５が表す５価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を３個除いた基が挙げられる。Ｌ_６が表す６価の基としては、上記の２価の連結基から水素原子を４個除いた基が挙げられる。Ｌ_３～Ｌ_６が表す３～６価の基は、上述した置換基をさらに有していてもよい。

Ｚ^１の化学式量としては、２０～３０００であることが好ましい。上限は、２０００以下であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましい。下限は、５０以上であることが好ましく、１００以上であることがより好ましい。Ｚ^１の化学式量が上記範囲であれば、組成物中での顔料の分散性を向上できる。なお、Ｚ^１の化学式量は、構造式から計算した値である。

（ｍ＋ｎ）価の連結基の具体例については、特開２０１４－１７７６１３号公報の段落番号００４３～００５５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

式（ＳＰ－１）において、Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立して単結合または連結基を表す。連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が挙げられる。上述の基は、上述した置換基を更に有していてもよい。Ｙ^１およびＹ^２が表す連結基としては、下記の構造単位または以下の構造単位が２以上組み合わさって構成される基を挙げることができる。

式（ＳＰ－１）において、Ｐ^１はポリマー鎖を表す。Ｐ^１が表すポリマー鎖としては、主鎖中に、ポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位、ポリエーテル構造の繰り返し単位、ポリエステル構造の繰り返し単位、ポリアミド構造の繰り返し単位、ポリイミド構造の繰り返し単位、ポリイミン構造の繰り返し単位およびポリウレタン構造の繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の構造の繰り返し単位を有するポリマー鎖であることが好ましい。また、Ｐ^１が表すポリマー鎖は、下記式（Ｐ１－１）～（Ｐ１－５）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖であることが好ましい。

上記式において、Ｒ^Ｇ１およびＲ^Ｇ２は、それぞれアルキレン基を表す。Ｒ^Ｇ１およびＲ^Ｇ２で表されるアルキレン基としては、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が好ましく、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、炭素数３～１２の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が更に好ましい。アルキレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、エチレン性不飽和結合含有基等が挙げられる。
上記式において、Ｒ^Ｇ３は、水素原子またはメチル基を表す。
上記式において、Ｑ^Ｇ１は、－Ｏ－または－ＮＨ－を表し、Ｌ^Ｇ１は、単結合またはアリーレン基を表し、Ｌ^Ｇ２は、単結合または２価の連結基を表す。Ｑ^Ｇ１は、－Ｏ－であることが好ましい。Ｌ^Ｇ１は、単結合であることが好ましい。Ｌ^Ｇ２が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。
Ｒ^Ｇ４は、水素原子または置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、エチレン性不飽和結合含有基、酸基等が挙げられる。

Ｐ^１における、前述の繰り返し単位の繰り返し数は、３～２０００であることが好ましい。上限は、１５００以下であることが好ましく、１０００以下であることがより好ましい。下限は、５以上であることが好ましく、７以上であることがより好ましい。また、Ｐ^１は、側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰り返し単位を有するポリマー鎖であることが好ましい。また、Ｐ^１を構成する全繰り返し単位中における、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に含む繰り返し単位の割合は、１モル％以上であることが好ましく、２モル％以上であることがより好ましく、３モル％以上であることが更に好ましい。上限は、１００モル％とすることができる。また、Ｐ^１が側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰り返し単位を有するポリマー鎖である場合において、Ｐ^１は側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰り返し単位の他に、他の繰り返し単位を含むことも好ましい。他の繰り返し単位としては、側鎖に酸基を含む繰り返し単位などが挙げられる。Ｐ^１が側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰り返し単位の他に、さらに側鎖に酸基を含む繰り返し単位を含むことで、フォトリソグラフィ法でパターン形成した際において、現像残渣の発生をより効果的に抑制できる。Ｐ^１が側鎖に酸基を含む繰り返し単位を含む場合、Ｐ^１を構成する全繰り返し単位中における、酸基を側鎖に含む繰り返し単位の割合は、５０モル％以下であることが好ましく、２～４８モル％であることがより好ましく、４～４６モル％であることが更に好ましい。

Ｐ^１が表すポリマー鎖の重量平均分子量は、１０００以上であることが好ましく、１０００～１００００であることがより好ましい。上限は、９０００以下であることが好ましく、６０００以下であることがより好ましく、３０００以下であることが更に好ましい。下限は、１２００以上であることが好ましく、１４００以上であることがより好ましい。なお、Ｐ^１の重量平均分子量は、同ポリマー鎖の導入に用いた原料の重量平均分子量から算出した値である。

樹脂（ＳＰ－１）の具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１、特開２０１４－１７７６１３号公報の段落番号０２５６～０２６９に記載された高分子化合物（Ｃ－１）～（Ｃ－６１）、国際公開第２０１８／１６３６６８号の段落番号００６１に記載された構造の樹脂が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

本発明の組成物では、樹脂として重合性基を有する樹脂（以下、重合性樹脂ともいう）を用いることができる。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基やエポキシ基、オキセタン基などの環状エーテル基が挙げられる。重合性樹脂を用いることで、硬化後の膜において、相分離が過剰に進行することを抑制できる。重合性樹脂の重合性基含有基量は、０．０１～５．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましい。上限は、４．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより好ましく、３．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが更に好ましく、２．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であることがより一層好ましく、１．５ｍｍｏｌ／ｇ以下であることが特に好ましい。下限は、０．１ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることがより好ましい。重合性樹脂の重合性基量とは、重合性樹脂の固形分１ｇあたりの重合性基のモル量を表した数値である。重合性樹脂の重合性基価は、重合性樹脂の合成に用いた原料から算出できるものについては仕込みの原料から算出した値を用いる。また、重合性樹脂の重合性基価について、重合性樹脂の合成に用いた原料から算出ができないものについては、例えばエチレン性不飽和含有基の場合、加水分解法を用いて測定した値を用いる。具体的には、アルカリ処理によって重合性樹脂から重合性基部位の低分子成分（ａ）を取り出し、その含有量を高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）により測定し、下記式から算出する。また、重合性樹脂から重合性基をアルカリ処理で抽出することができない場合においては、ＮＭＲ法（核磁気共鳴）にて測定した値を用いる。
重合性樹脂の重合性基価［ｍｍｏｌ／ｇ］＝（低分子成分（ａ）の含有量［ｐｐｍ］／低分子成分（ａ）の分子量［ｇ／ｍｏｌ］）／（重合性樹脂の秤量値［ｇ］×（重合性樹脂の固形分濃度［質量％］／１００）×１０）

重合性樹脂としては、重合性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂、上述した式（ＳＰ－１）で表される樹脂であって、Ｚ^１、Ａ^１およびＰ^１の少なくとも一つが重合性基を含む構造の樹脂などが挙げられる。

重合性基を側鎖に有する繰り返し単位としては、下記式（Ａ－１－１）で表される繰り返し単位が挙げられる。下記式（Ａ－１－１）で表される繰り返し単位を含む樹脂は、分散剤として用いてもよく、バインダーとして用いてもよい。重合性樹脂において、重合性基を有する繰り返し単位の含有量は、重合性樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。

式（Ａ－１－１）において、Ｘ^１は繰り返し単位の主鎖を表し、Ｌ^１は単結合または２価の連結基を表し、Ｙ^１は重合性基を表す。

式（Ａ－１－１）において、Ｘ^１が表す繰り返し単位の主鎖としては、特に限定はない。公知の重合可能なモノマーから形成される連結基であれば特に制限ない。例えば、ポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基、ポリエステル系連結基、ポリウレタン系連結基、ポリウレア系連結基、ポリアミド系連結基、ポリエーテル系連結基、ポリスチレン系連結基などが挙げられ、原料素材の入手性や製造適性の観点からポリ（メタ）アクリル系連結基、ポリアルキレンイミン系連結基が好ましく、ポリ（メタ）アクリル系連結基がより好ましい。

式（Ａ－１－１）において、Ｌ^１が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アルキレンオキシ基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレンオキシ基）、オキシアルキレンカルボニル基（好ましくは炭素数１～１２のオキシアルキレンカルボニル基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ_２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。アルキレン基、アルキレンオキシ基におけるアルキレン基、オキシアルキレンカルボニル基におけるアルキレン基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状または分岐状が好ましい。また、アルキレン基、アルキレンオキシ基におけるアルキレン基、オキシアルキレンカルボニル基におけるアルキレン基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基などが挙げられ、製造適性の観点からヒドロキシ基が好ましい。

式（Ａ－１－１）において、Ｙ^１が表す重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基が挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニロキシ基、アリル基、メタリル基、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、シンナモイル基およびマレイミド基が挙げられ、（メタ）アクリロイル基、スチレン基、マレイミド基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基が特に好ましい。

上記式（Ａ－１－１）で表される繰り返し単位を含む樹脂は、更にグラフト鎖を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。グラフト鎖を有する繰り返し単位としては、上述した式（Ａ－１－２）で表される繰り返し単位などが挙げられる。重合性樹脂において、グラフト鎖を有する繰り返し単位の含有量は、重合性樹脂の全繰り返し単位中１．０～６０モル％であることが好ましく、１．５～５０モル％であることがより好ましい。

上記式（Ａ－１－１）で表される繰り返し単位を含む樹脂は、更に酸基を有する繰り返し単位を含んでいてもよい。酸基を有する繰り返し単位の含有量は、重合性樹脂の全繰り返し単位中８０モル％以下であることが好ましく、１０～８０モル％がより好ましい。

膜形成成分には、粒子の分散剤としての樹脂と、バインダーとしての樹脂とをそれぞれ含むことが好ましい。また、バインダーとしての樹脂は、粒子の分散剤としての樹脂との相溶性が低いものが好ましい。このような樹脂を組み合わせて用いることで、組成物を用いて得られる膜中に、上述した第１の相と第２の相との相分離構造を形成しやすく、得られる膜の光散乱性をより向上させやすい。

分散剤としての樹脂およびバインダーとしての樹脂としては、上述した樹脂の中から適宜選択して用いることができる。分散剤として用いる樹脂は、酸基を有する樹脂であることが好ましい。分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋシリーズ（例えば、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、２００１など）、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパースシリーズ（例えば、ソルスパース２００００、７６５００など）、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。

また、膜形成成分は、ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１およびグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂Ａ２から選ばれる樹脂を２種以上含むことが好ましい。この場合において、２種以上の樹脂のうち、少なくとも１種は分散剤としての樹脂であり、残りはバインダーとしての樹脂であることが好ましい。すなわち、分散剤としての樹脂およびバインダーとしての樹脂には、ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１、および、グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂Ａ２が好ましく用いられる。

膜形成成分に含まれる樹脂の好ましい態様としては以下に示す態様が挙げられる。
（１） ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１－１と、樹脂Ａ１－１のポリマー鎖とは異なる構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１－２とを含む態様。
（２）グラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２－１と、樹脂Ａ２－１のグラフト鎖とは異なる構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２－２とを含む態様。
（３）ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１－３と、樹脂Ａ１－３のポリマー鎖とは異なる構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２－３とを含む態様。

なお、上記における構造が異なる繰り返し単位とは、繰り返し単位の主鎖の種類が異なるものを意味する。したがって、主鎖に結合した置換基などの種類が相違していても、繰り返し単位の主鎖の種類が同じもの同士（例えば、ポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位同士、ポリエステル構造の繰り返し単位同士など）は、同じ構造の繰り返し単位に該当する。

また、分散剤として用いられる上記樹脂Ａ１に含まれるポリマー鎖または上記樹脂Ａ２に含まれるグラフト鎖の主鎖構造と、バインダーとして用いられる上記樹脂Ａ１に含まれるポリマー鎖または上記樹脂Ａ２に含まれるグラフト鎖の繰り返し単位の構造は、互いに異なるものであることが好ましい。異なる構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖やグラフト鎖を有する樹脂同士は相溶性が低い傾向にあるため、このような組み合わせの分散剤とバインダーとを含む場合には、上述した第１の相と第２の相との相分離構造を形成しやすく、得られる膜の光散乱性をより向上させやすい。

相溶性の低い樹脂の組み合わせとしては以下が挙げられる。
・ポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖を有する樹脂Ａ１またはポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する樹脂Ａ２と、ポリエステル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖を有する樹脂Ａ１またはポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する樹脂Ａ２との組み合わせ。
・ポリアミド樹脂とフェノール樹脂との組み合わせ。

また、膜形成成分は、ポリエステル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂およびポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂から選ばれる少なくとも１種を含むものであることも好ましい。膜形成成分がこのような樹脂を含むことで、相分離効率の向上という効果が期待できる。

樹脂の含有量は、組成物の全固形分中０．１～６０質量％であることが好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、４５質量％以下がより好ましい。

また、組成物に用いられる樹脂は、重合性樹脂（好ましくはエチレン性不飽和結合含有基を含む樹脂）を１０質量％以上含むものであることが好ましく、２０質量％以上含むものであることがより好ましく、３０質量％以上含むものであることが更に好ましい。

また、組成物に用いられる樹脂は、分散剤としての樹脂を１０質量％以上含むものであることが好ましく、２０質量％以上含むものであることがより好ましく、３０質量％以上含むものであることが更に好ましい。

また、組成物に用いられる樹脂は、分散剤としての樹脂の１００質量部に対して、バインダーとしての樹脂を４０～２５０質量部含むものであることが好ましく５０～２２５質量部含むものであることがより好ましく、６０～２００質量部含むものであることが更に好ましい。

組成物中における分散剤の含有量は、上述した粒子１００質量部に対して５～１５０質量部であることが好ましい。上限は、１４０質量部以下であることが好ましく、１２５量部以下であることがより好ましく、１００質量部以下であることが更に好ましい。下限は、１０質量部以上であることが好ましく、１５質量部以上であることがより好ましく、２５質量部以上であることが更に好ましい。

また、本発明の組成物は、重合性基を有する樹脂と、重合性基を有さない樹脂とを含むことも好ましい。この態様によれば重合性相分離により相分離がより進行しやすくなる。この場合、重合性基を有する樹脂の含有量は、重合性基を有さない樹脂の１００質量部に対して５～９０質量部であることが好ましい。上限は、８５質量部以下であることが好ましく、８０質量部以下であることがより好ましく、７０質量部以下であることが更に好ましい。下限は、１０質量部以上であることが好ましく、１５質量部以上であることがより好ましく、２５質量部以上であることが更に好ましい。

また、本発明の組成物は、ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂と、グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂とを含むことも好ましい。この場合、ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂およびグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂のうち、一方の樹脂は分散剤であり、他方の樹脂はバインダーであることが好ましい。また、ポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂の含有量は、グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂の１００質量部に対して４０～２５０質量部であることが好ましい。上限は、２５０質量部以下であることが好ましく、２２５質量部以下であることがより好ましく、２００質量部以下であることが更に好ましい。下限は、４０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、６０質量部以上であることが更に好ましい。また、組成物に含まれる樹脂中におけるポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂と、グラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂との合計の含有量は、２０質量％以上含であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましい。

（重合性モノマー）
重合性モノマーとしては、ラジカル、酸あるいは熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。例えば、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。重合性モノマーは、ラジカル重合性モノマーまたはカチオン重合性モノマーが好ましく、ラジカル重合性モノマーがより好ましい。

また、本発明で用いられる重合性モノマーは環構造を含む重合性モノマーであってもよく、その場合、環構造を含むラジカル重合性モノマーであることがより好ましい。環構造を含む重合性モノマーとして環構造を含むものを用いた場合においては、樹脂との相分離を生じやすい傾向にある。特に、環構造を含むラジカル重合性モノマーを用いた場合においては上記の効果が顕著である。重合性モノマーに含まれる環構造は、上記効果がより顕著に得られやすいという理由から脂肪族環であることが好ましい。また、脂肪族環は、脂肪族架橋環であることが好ましい。脂肪族架橋環とは、１つの脂肪族環において、互いに隣接しない２個以上の原子が連結した構造の脂肪族環のことである。脂肪族架橋環の具体例としては、トリシクロデカン環、アダマンタン環などが挙げられ、トリシクロデカン環であることが好ましい。重合性モノマー中に含まれる環構造の数は、モノマーの運動性の観点から１～５個であることが好ましく、１～３個であることがより好ましく、１個であることがより好ましい。環構造を含むラジカル重合性モノマーの具体例としては、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート、１，３－アダマンタンジオールジアクリレートなどが挙げられる。

ラジカル重合性モノマーとしては、ラジカルの作用により重合可能な化合物であればよく、特に限定はない。ラジカル重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を２個以上有する化合物がより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和結合含有基の個数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、スチリル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。ラジカル重合性モノマーは、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。また、ラジカル重合性モノマーは環構造を含むものであることも好ましい。

ラジカル重合性モノマーの分子量は、２００～３０００であることが好ましい。分子量の上限は、２５００以下が好ましく、２０００以下が更に好ましい。分子量の下限は、２５０以上が好ましく、３００以上が更に好ましい。

ラジカル重合性モノマーは、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和結合含有基を持つ化合物であることも好ましい。その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の単官能のアクリレートやメタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート及びこれらの混合物を挙げることができ、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートであることが好ましい。

ラジカル重合性モノマーとしては、式（ＭＯ－１）～式（ＭＯ－５）で表される化合物も好適に用いることができる。なお、式中、Ｔがオキシアルキレン基の場合には、Ｔにおける炭素原子側の末端がＲに結合する。

上記式において、ｎは０～１４であり、ｍは１～８である。同一分子内に複数存在するＲ、Ｔ、は、各々同一であっても、異なっていてもよい。式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される化合物の各々において、複数存在するＲの少なくとも１つは、－ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ＝ＣＨ_２、又は、－ＯＣ（＝Ｏ）Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ_２で表される基を表す。式（ＭＯ－１）～（ＭＯ－５）で表される化合物の具体例としては、特開２００７－２６９７７９号公報の段落番号０２４８～０２５１に記載されている化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

ラジカル重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。

また、ラジカル重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。

ラジカル重合性モノマーは、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有するラジカル重合性モノマーとしては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルなどが挙げられる。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のアロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。酸基を有するラジカル重合性モノマーの酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

カチオン重合性モノマーとしては、カチオン重合性基を有する化合物が挙げられる。カチオン重合性基としては、エポキシ基、オキセタニル基などの環状エーテル基などが挙げる。カチオン重合性モノマーは、環状エーテル基を有する化合物であることが好ましく、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物ともいう）であることがより好ましい。

カチオン重合性モノマーの分子量は、２００～３０００であることが好ましい。分子量の上限は、２５００以下が好ましく、２０００以下が更に好ましい。分子量の下限は、２５０以上が好ましく、３００以上が更に好ましい。

エポキシ化合物としては、１分子内にエポキシ基を１個以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２個以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１～１００個有することが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。

エポキシ化合物としては、下記式（ＥＰ１）で表される化合物が挙げられる。

式（ＥＰ１）中、Ｒ^ＥＰ１～Ｒ^ＥＰ３は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子またはアルキル基を表す。アルキル基は、環状構造を有するものであってもよく、また、置換基を有していてもよい。Ｒ^ＥＰ１とＲ^ＥＰ２、Ｒ^ＥＰ２とＲ^ＥＰ３は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｑ^ＥＰは単結合またはｎ^ＥＰ価の有機基を表す。Ｒ^ＥＰ１～Ｒ^ＥＰ３は、Ｑ^ＥＰと結合して環構造を形成していても良い。ｎ^ＥＰは２以上の整数を表し、好ましくは２～１０であり、より好ましくは２～６である。但しＱ^ＥＰが単結合の場合、ｎ^ＥＰは２である。Ｒ^ＥＰ１～Ｒ^ＥＰ３、Ｑ^ＥＰの詳細について、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８７～００８８の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。式（ＥＰ１）で表される化合物の具体例としては、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００９０に記載の化合物、特開２０１０－０５４６３２号公報の段落番号０１５１に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

カチオン重合性モノマーとしては、市販品を用いることもできる。例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカグリシロールシリーズ（例えば、アデカグリシロールＥＤ－５０５など）、（株）ダイセル製のエポリードシリーズ（例えば、エポリードＧＴ４０１など）などが挙げられる。

重合性モノマーの含有量は、組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。重合性モノマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。重合性モノマーを２種以上併用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。また、重合性モノマーを２種併用する場合は、ラジカル重合性モノマーのみを２種以上用いてもよく、ラジカル重合性モノマーとカチオン重合性モノマーとを併用してもよい。

また、重合性モノマーと樹脂との合計の含有量は、組成物の全固形分中１０～９０質量％が好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましい。下限は、２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましい。

また、重合性モノマーと樹脂との比率は、樹脂１００質量部に対して重合性モノマーが１０～４００質量部であることが好ましい。下限は、１５質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましい。上限は、３８０質量部以下が好ましく、３５０質量部以下がより好ましい。

＜＜溶剤＞＞
本発明の組成物は、溶剤を含有する。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸シクロヘキシル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３－メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル、ブチルジグリコールアセテート、３－メトキシブチルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、単独にて、あるいは混合して使用することができる。

本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ ｐｅｒ ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。

有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

有機溶剤中の過酸化物の含有率は０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。

組成物中における溶剤の含有量は１０～９５質量％であることが好ましい。下限は、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、９０質量％以下であることが好ましく、８５質量％以下であることがより好ましく、８０質量％以下であることが更に好ましい。溶剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。溶剤を２種以上併用する場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。

＜＜光重合開始剤＞＞
本発明の組成物は、光重合開始剤を含有することができる。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤などが挙げられる。重合性モノマーの種類に応じて選択して用いることが好ましい。重合性モノマーとしてラジカル重合性モノマーを用いた場合においては、光重合開始剤として光ラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。また、重合性モノマーとしてカチオン重合性モノマーを用いた場合においては、光重合開始剤として光カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。

光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。本発明の組成物は、光重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

（光ラジカル重合開始剤）
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ ２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ １２７（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ １２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。

オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。

光重合開始剤として、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。

光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。

光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

光重合開始剤として、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されるＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。

本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチルを用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。

光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、着色組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）などが挙げられる。

光ラジカル重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。本発明の組成物は、光ラジカル重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光ラジカル重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

（光カチオン重合開始剤）
光カチオン重合開始剤としては、光酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤としては、光照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ－ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。

光カチオン重合開始剤としては、例えば、下記式（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）で表される化合物が挙げられる。

上記式において、Ｒ^２０１～Ｒ^２０７は、各々独立に有機基を表す。有機基の炭素数は、１～３０であることが好ましい。有機基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられる。式（ｂ１）において、Ｒ^２０１～Ｒ^２０３のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。上記式において、Ｘ^－は、非求核性アニオンを表す。非求核性アニオンとしては、例えばスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ_４ ^－、ＰＦ_６ ^－、ＳｂＦ_６ ^－などが挙げられる。式（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）で表される化合物の詳細については特開２００９－２５８６０３号公報の段落番号０１３９～０２１４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

光カチオン重合開始剤の具体例としては、例えば、下記構造の化合物などが挙げられる。

光カチオン重合開始剤は市販品を用いることもできる。光カチオン重合開始剤の市販品としては、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカアークルズ ＳＰシリーズ（例えば、アデカアークルズＳＰ－６０６など）、（株）ＢＡＳＦ製 ＩＲＧＡＣＵＲＥ２５０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２７０、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２９０などが挙げられる。

光カチオン重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。本発明の組成物は、光カチオン重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光カチオン重合開始剤を２種類以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜顔料誘導体＞＞
本発明の組成物は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、発色団の一部分を、酸性基、塩基性基またはフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられる。酸基としては、スルホ基、カルボキシル基及びその４級アンモニウム塩基などが挙げられる。塩基性基としては、アミノ基などが挙げられる。顔料誘導体の詳細は、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～３０質量部であることが好ましく、３～２０質量部であることがより好ましい。顔料誘導体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。顔料誘導体を２種以上併用する場合は、それらの合計が上記範囲であることが好ましい。

＜＜着色防止剤＞＞
本発明の組成物は、着色防止剤を含有してもよい。本明細書に記載の着色防止剤は重合禁止剤としても使用できる。着色防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられ、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。また、着色防止剤は、フェノール化合物が好ましく、分子量５００以上のフェノール化合物がより好ましい。

フェノール化合物としては、フェノール系着色防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。

フェノール性ヒドロキシ基含有化合物類としては、特に多置換フェノール系化合物が好適に用いられる。多置換フェノール系化合物には、安定なフェノキシラジカル生成に起因する捕捉するパーオキシラジカルへの反応性から、置換位置および構造の異なる３種類（下記式（Ａ）ヒンダードタイプ、式（Ｂ）セミヒンダードタイプおよび式（Ｃ）レスヒンダードタイプ）がある。

式（Ａ）～（Ｃ）において、Ｒは水素原子または置換基である。Ｒは、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基、置換基を有してもよいアルキルスルホニル基、置換基を有してもよいアリールスルホニル基が好ましく、置換基を有してもよいアミノ基、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアリールオキシ基、置換基を有してもよいアルキルアミノ基、置換基を有してもよいアリールアミノ基がより好ましい。

さらに好ましい形態は、上記式（Ａ）～（Ｃ）で表される着色防止機能を発現する構造が同一分子内に複数存在する複合系着色防止剤であり、具体的には上記式（Ａ）～（Ｃ）で表される着色防止機能を発現する構造が同一分子内に２～４個存在する化合物が好ましい。これらの中では、式（Ｂ）セミヒンダードタイプが着色性の観点からより好ましい。市販品として入手できる代表例としては、（Ａ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ ＢＨＴ（住友化学製）、Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０、１２２２（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ－２０、ＡＯ－５０、ＡＯ－６０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。（Ｂ）としてはＳｕｍｉｌｉｚｅｒ ＢＢＭ－Ｓ（住友化学（株）製）、Ｉｒｇａｎｏｘ ２４５（ＢＡＳＦ社製）、アデカスタブＡＯ－８０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。（Ｃ）としてはアデカスタブＡＯ－３０、ＡＯ－４０（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

亜リン酸エステル化合物としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。市販品として入手できる亜リン酸エステル化合物の代表例としては、アデカスタブ ＰＥＰ－３６Ａ（（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。

チオエーテル化合物としては、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類、および、ペンタエリスリトールテトラ（β－アルキルチオプロピオン酸）エステル類；ペンタエリスリチルテトラキス（３－ラウリルチオプロピオネート）等；テトラキス［メチレン－３－（ラウリルチオ）プロピオネート］メタン、ビス（メチル－４－［３－ｎ－アルキル（Ｃ１２／Ｃ１４）チオプロピオニルオキシ］５－ｔ－ブチルフェニル）スルファイド、ジトリデシル－３，３’－チオジプロピオネート、ジラウリル－３，３’－チオジプロピオネート、ジミリスチル－３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル－３，３’－チオジプロピオネート、ラウリル／ステアリルチオジプロピオネート、４，４’－チオビス（６－ｔ－ブチル－メタクレゾール）、２，２’－チオビス（６－ｔ－ブチル－パラクレゾール）、ジステアリル－ジサルファイドなどが挙げられる。市販品として入手できるチオエーテル化合物の代表例としては、アデカスタブ ＡＯ－４１２Ｓ（ＣＡＳ：２９５９８－７６－３、（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカスタブ ＡＯ－５０３（ＣＡＳ：１０５９５－７２－９、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＫＥＭＩＮＯＸ ＰＬＳ（ＣＡＳ：２９５９８－７６－３、ケミプロ化成（株）製）などが挙げられる。

着色防止剤の市販品としては、上述の代表例のほかに、アデカスタブ ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ ＡＯ－３３０（（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。

また、着色防止剤としては、
５，５－ジメチル－１－ピロリンＮ－オキシド、４－メチルモルホリンＮ－オキシド、ピリジンＮ－オキシド、４－ニトロピリジンＮ－オキシド、３－ヒドロキシピリジンＮ－オキシド、ピコリン酸Ｎ－オキシド、ニコチン酸Ｎ－オキシド、及びイソニコチン酸Ｎ－オキシドなどのＮ－オキシド化合物類；
ピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－オキソ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－ヒドロキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－アセトアミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、４－マレイミド－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカル、及び４－ホスホノオキシ－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシルフリーラジカルなどのピペリジン－１－オキシルフリーラジカル化合物類；
３－カルボキシプロキシルフリーラジカル、３－カルボキシ－２，２，５，５－テトラメチルピロリジン１－オキシルフリーラジカルなどのピロリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類；
Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩及びＮ－ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩などのＮ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン類；
４－ジアゾフェニルジメチルアミンの硫酸水素塩、４－ジアゾジフェニルアミンのテトラフルオロホウ酸塩、及び３－メトキシ－４－ジアゾジフェニルアミンのヘキサフルオロリン酸塩などのジアゾニウム化合物類；
カチオン染料；
ニトロ基含有化合物類；
ＦｅＣｌ_３、ＣｕＣｌ_２等の遷移金属化合物類を用いることもできる。これらの詳細については、特開２０１５－０３４９６１号公報の段落０２１１～０２２３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

着色防止剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～２０質量％であることが着色性および耐溶剤性の観点から好ましく、０．１～１５質量％がより好ましく、０．３～５質量％が特に好ましい。着色防止剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜紫外線吸収剤＞＞
本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノブタジエン化合物、メチルジベンゾイル化合物、クマリン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物などが挙げられる。紫外線吸収剤の詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。

紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～１０質量％であることがパターン形状および耐溶剤性の観点から好ましく、０．１～７質量％であることがより好ましく、０．１～５質量％であることが更に好ましく、０．１～３質量％であることが特に好ましい。紫外線吸収剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜密着剤＞＞
本発明の組成物は、密着剤を含有してもよい。密着剤としては特に制限は無く、公知の密着剤が使用できる。密着剤としては、例えば、シランカップリング剤を挙げることができる。

本明細書において、シランカップリング剤とは、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物のことを意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－６０２）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－６０３）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＥ－６０２）、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－９０３）、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＥ－９０３）、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－５０２）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名 ＫＢＭ－５０３）等がある。また、シランカップリング剤の具体例については、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

密着剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～１０質量％が好ましく、０．１～７質量％がより好ましく、１～５質量％が特に好ましい。密着剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜重合禁止剤＞＞
本発明の組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、１，４－ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０００１～５質量％が好ましい。

＜＜連鎖移動剤＞＞
本発明の組成物は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤としては、Ｎ，Ｎ－ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステルや、チオール化合物などが挙げられ、チオール化合物が好ましい。チオール化合物は、分子内に２個以上（好ましくは２～８個、より好ましくは３～６個）のメルカプト基を有する化合物が好ましい。チオール化合物の具体例としては、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、Ｎ－フェニルメルカプトベンゾイミダゾール、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンなどの複素環を有するチオール化合物、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、１，４－ビス（３－メルカプトブチリルオキシ）ブタンなどの脂肪族系のチオール化合物などが挙げられる。また、連鎖移動剤の市販品としては、ＰＥＭＰ（ＳＣ有機化学株式会社製、チオール化合物）、サンセラー Ｍ（三新化学工業（株）製、チオール化合物）、カレンズＭＴ ＢＤ１（昭和電工（株）製、チオール化合物）などが挙げられる。また、下記構造の化合物を用いることも好ましい。

連鎖移動剤の含有量は、組成物の全固形分中０．２～５．０質量％が好ましく、０．４～３．０質量％がより好ましい。また、連鎖移動剤の含有量は、重合性モノマーの１００質量部に対し、１～４０質量部が好ましく、２～２０質量部がより好ましい。連鎖移動剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜増感剤＞＞
本発明の組成物は、光重合開始剤のラジカル発生効率の向上、感光波長の長波長化の目的で、増感剤を含有していてもよい。増感剤としては、光重合開始剤に対し、電子移動機構又はエネルギー移動機構で増感させるものが好ましい。増感剤は、３００～４５０ｎｍの範囲に吸収を有する化合物が挙げられる。増感剤の詳細については、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落番号０２３１～０２５３（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の段落番号０２５６～０２７３）の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

増感剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～２０質量％が好ましく、０．５～１５質量％がより好ましい。増感剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜共増感剤＞＞
本発明の組成物は、更に共増感剤を含有することも好ましい。共増感剤は、光重合開始剤や増感剤の活性放射線に対する感度を一層向上させる、あるいは、酸素による重合性モノマーの重合阻害を抑制する等の作用を有する。共増感剤については、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落番号０２５４～０２５７（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の段落番号０２７７～０２７９）の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

共増感剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～３０質量％が好ましく、１～２５質量％がより好ましく、１．５～２０質量％が更に好ましい。共増感剤は１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞
本発明の組成物は、塗布適性をより向上させる観点から、各種類の界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種類の界面活性剤を使用できる。

本発明の組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。即ち、フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布適性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。

フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。

フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェントＦＴＸ２１８（ネオス社製）等が挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。

また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。

フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。

また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。

シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ３４１、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。

界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分中０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～１．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみを用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。２種類以上を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

＜＜その他の添加剤＞＞
更に、組成物に対しては、膜の物性を改良するために可塑剤や感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑剤としては、例えば、ジオクチルフタレート、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリアセチルグリセリン等が挙げられる。可塑剤の含有量は、上述した化合物（１）と、重合性モノマーと、樹脂との合計量に対し１０質量％以下が好ましい。

＜収容容器＞
本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、組成物の保存安定性を高めたり、成分変質を抑制するなどの目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。

＜組成物の調製方法＞
本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解および分散のうち少なくとも一方をした後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。
また、組成物の調製にあたり、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際 総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また、粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。

組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられるものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。

フィルタの孔径は、０．０１～１０．０μｍであることが好ましく、０．０５～３．０μｍであることがより好ましく、０．１～２．０μｍ程であることが更に好ましい。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。

フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、ポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。

フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。

＜膜＞
本発明の膜の第１の態様は、上述した本発明の組成物を用いて得られる膜である。第１の態様の膜は、波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、５０％以下であることが特に好ましい。上記透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。

また、本発明の膜の第２の態様は、屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が２００ｎｍ以下の粒子と、樹脂および重合性モノマーから選ばれる少なくとも１種を含む膜形成成分又は上記膜形成成分由来の硬化物とを含む膜であって、
波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であり、
上記膜形成成分は、樹脂を２種以上含むか、あるいは、１種以上の樹脂と１種以上の重合性モノマーとを含み、
上記膜中に上記粒子を含む第１の相と、第１の相よりも上記粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されている、膜である。第２の態様の膜に含まれる粒子及び膜形成成分については、上述した本発明の組成物の項で説明した素材が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

第２の態様の膜において、上記相分離構造は、海島構造または共連続相構造であることが好ましい。これらの相分離構造が形成されていることにより、第１の相と第２の相との間で光を効果的に散乱することができ、特に優れた光散乱性が得られやすい。海島構造においては、第２の相が海で、第１の相が島を形成していてもよく、第１の相が海で、第２の相が島を形成していてもよい。第一の相が海で、第二の相が島を形成している場合は、透過率の観点で好ましい。第１の相が島で、第２の相が海を形成して場合は、角度依存性の観点で好ましい。

第２の態様の膜は、波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が、８０％以下であることが好ましく、７０％以下であることがより好ましく、６０％以下であることが更に好ましく、５０％以下であることが特に好ましい。上記透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。

本発明の第１の態様および第２の態様の膜（以下、単に本発明の膜ともいう）の４００～１０００ｎｍの光の透過率の最大値は、８０％以下であることが好ましく、６０％以下であることがより好ましく、５０％以下であることが更に好ましい。上記の透過率の最大値の下限は１％以上であることが好ましく、５％以上であることがより好ましく、１０％以上であることが更に好ましい。

本発明の膜のＪＩＳ Ｋ ７１３６に基づくヘイズは、３０～１００％であることが好ましい。上限は９９％以下であることが好ましく、９５％以下であることがより好ましく、９０％以下であることが更に好ましい。下限は３５％以上であることが好ましく、４０％以上であることがより好ましく、５０％以上であることが更に好ましい。膜のヘイズは、後述する実施例に記載の方法で測定した値である。

本発明の膜のＣＩＥ１９７６のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるＬ＊の値は、３５～１００であることが好ましい。Ｌ＊の値は、４０以上であることが好ましく、５０以上であることがより好ましく、６０以上であることが更に好ましい。この態様によれば、白色度に優れた膜とすることができる。また、Ｌ＊の値は、９５以下であることが好ましく、９０以下であることがより好ましく、８５以下であることが更に好ましい。この態様によれば、適度な可視透明性を有する膜とすることができる。

また、ａ＊の値は、－１５以上が好ましく、－１０以上がより好ましく、－５以上が更に好ましい。また、ａ＊の値は、１０以下が好ましく、５以下がより好ましく、０以下が更に好ましい。この態様によれば、白色度に優れた膜とすることができる。

また、ｂ＊の値は、－３５以上が好ましく、－３０以上がより好ましく、－２５以上が更に好ましい。また、ｂ＊の値は、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましく、０以下が更に好ましい。この態様によれば、白色度に優れた膜とすることができる。

本発明の膜の厚さは、２～４０μｍであることが好ましい。膜厚の上限は、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下が更に好ましい。膜厚の下限は、３μｍ以上が好ましく、４μｍ以上がより好ましく、５μｍ以上が更に好ましい。膜厚が上記範囲であれば、センサの薄膜化、クロストーク抑制によるデバイス光学感度の向上という効果が期待できる。

本発明の膜は、発光素子用の散乱層、表示素子用の散乱層などに好適に使用できる。

＜膜の製造方法＞
本発明の膜は、本発明の組成物を支持体上に適用する工程を経て製造できる。支持体としては、例えば、シリコン、無アルカリガラス、ソーダガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、石英ガラスなどの材質で構成された基板が挙げられる。これらの基板には、有機膜や無機膜などが形成されていてもよい。有機膜の材料としては樹脂などが挙げられる。また、支持体としては、樹脂で構成された基板を用いることもできる。また、支持体には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、支持体には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、支持体には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。また、支持体としてガラス基板を用いる場合においては、ガラス基板上に無機膜を形成したり、ガラス基板を脱アルカリ処理して用いることが好ましい。

支持体への組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された特許公報に記載の方法（特に１１５～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。スピンコート法での塗布は、塗布適性の観点から、３００～６０００ｒｐｍの範囲でスピン塗布することが好ましく、４００～３０００ｒｐｍの範囲でスピン塗布することが更に好ましい。また、スピンコート時における支持体の温度は、１０～１００℃が好ましく、２０～７０℃がより好ましい。上記の範囲であれば、塗布均一性に優れた膜を製造しやすい。滴下法（ドロップキャスト）の場合、所定の膜厚で、均一な膜が得られるように、支持体上にフォトレジストを隔壁とする組成物の滴下領域を形成することが好ましい。組成物の滴下量および固形分濃度、滴下領域の面積を制御することで、所望の膜厚が得られる。

支持体上に形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベーク条件は、例えば、６０～１５０℃の温度で、３０秒間～１５分間が好ましい。

膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられる。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。

（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の組成物を適用して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を除去することにより現像してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。

＜＜露光工程＞＞
露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、組成物層をパターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。

また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。パルス露光の場合、パルス幅は、１００ナノ秒（ｎｓ）以下であることが好ましく、５０ナノ秒以下であることがより好ましく、３０ナノ秒以下であることが更に好ましい。パルス幅の下限は、特に限定はないが、１フェムト秒（ｆｓ）以上とすることができ、１０フェムト秒以上とすることもできる。周波数は、１ｋＨｚ以上であることが好ましく、２ｋＨｚ以上であることがより好ましく、４ｋＨｚ以上であることが更に好ましい。周波数の上限は５０ｋＨｚ以下であることが好ましく、２０ｋＨｚ以下であることがより好ましく、１０ｋＨｚ以下であることが更に好ましい。最大瞬間照度は、５０００００００Ｗ／ｍ^２以上であることが好ましく、１００００００００Ｗ／ｍ^２以上であることがより好ましく、２００００００００Ｗ／ｍ^２以上であることが更に好ましい。また、最大瞬間照度の上限は、１０００００００００Ｗ／ｍ^２以下であることが好ましく、８００００００００Ｗ／ｍ^２以下であることがより好ましく、５００００００００Ｗ／ｍ^２以下であることが更に好ましい。なお、パルス幅とは、パルス周期における光が照射されている時間のことである。また、周波数とは、１秒あたりのパルス周期の回数のことである。また、最大瞬間照度とは、パルス周期における光が照射されている時間内での平均照度のことである。また、パルス周期とは、パルス露光における光の照射と休止を１サイクルとする周期のことである。

また、照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ^２がより好ましく、０．０８～０．５Ｊ／ｃｍ^２が最も好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができる。例えば、大気下で露光してもよく、酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することができ、１０００～１０００００Ｗ／ｍ^２の範囲から選択することが好ましい。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ^２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ^２などとすることができる。

＜＜現像工程＞＞
次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上させるため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。

現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。なお、アルカリ性水溶液を現像液として使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。

現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２６０℃が好ましい。加熱温度の下限は１２０℃以上であることが好ましく、１６０℃以上であることがより好ましい。加熱温度の上限は２４０℃以下であることが好ましく、２２０℃以下であることがより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載の方法で行ってもよい。

（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
ドライエッチング法でのパターン形成は、本発明の組成物を支持体上に適用して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

＜光センサ＞
本発明の光センサは、本発明の膜を有する。光センサの種類としては、環境光センサ、照度センサなどが挙げられ、環境光センサとして好ましく用いられる。環境光センサとは、周囲の光（環境光）の色合いを検知するセンサのことである。

本発明の光センサは、本発明の膜の他に、着色画素および赤外線透過フィルタの画素から選ばれる少なくとも１種の画素を有する光学フィルタを有することも好ましい。着色画素としては、赤色画素、青色画素、緑色画素、黄色画素、シアン色画素、マゼンタ色画素などが挙げられる。また、本発明の膜は、上記光学フィルタよりも光入射側に設けられていることが好ましい。光学フィルタよりも光入射側に本発明の膜を設けることで、各画素に対して角度依存性をより低減することができる。

図面を用いて光センサの一実施形態を示す。図１に示す光センサ１は、光電変換素子１０１上に画素１１１～１１４を有する光学フィルタ１１０が設けられている。そして、光学フィルタ１１０上に本発明の膜１２１が形成されている。光学フィルタ１１０を構成する画素１１１～１１４の一例として、画素１１１が赤色画素、画素１１２が青色画素、画素１１３が緑色画素、画素１１４が赤外線透過フィルタの画素である組み合わせが挙げられる。なお、図１に示す光センサ１では、光学フィルタ１１０として、４種類の画素（画素１１１～１１４）を有するものを用いたが、画素の種類は１～３種類であってもよく、５種類以上であってもよい。用途に応じて適宜選択することができる。また、光電変換素子１０１と光学フィルタ１１０との間、あるいは、光学フィルタ１１０と本発明の膜１２１との間には平坦化層が介在していてもよい。

図２に光センサの他の実施形態を示す。図２に示す光センサ２においては、光電変換素子１０１上に画素１１１～１１４を有する光学フィルタ１１０が設けられている。光学フィルタ１１０は、上述した実施形態と同様の構成のものである。そして、光学フィルタ１１０上に、透明支持体１３０の表面に本発明の膜１２２が形成された部材が配置されている。透明支持体１３０としては、ガラス基板、樹脂基板などが挙げられる。なお、図２に示す光センサ２では、光学フィルタ１１０上に、所定の間隔をおいて透明支持体１３０の表面に本発明の膜１２２が形成された部材が配置されているが、光学フィルタ１１０と透明支持体１３０の表面に本発明の膜１２２が形成された部材とは接していてもよい。また、図２に示す光センサ２では、透明支持体１３０の片面のみに本発明の膜１２２が形成されているが、透明支持体１３０の両面に本発明の膜１２２が形成されていてもよい。また、図２に示す光センサ２では、透明支持体１３０の光学フィルタ１１０側の面に本発明の膜１２２が形成されているが、透明支持体１３０の光学フィルタ１１０側とは反対側の面に本発明の膜１２２が形成されていてもよい。また、光電変換素子１０１と光学フィルタ１１０との間、あるいは、本発明の膜１２２と透明支持体１３０との間には平坦化層が介在していてもよい。

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」及び「％」は質量基準である。

＜粒子の平均一次粒子径の測定＞
粒子の一次粒子径は、粒子を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、粒子が凝集していない部分（一次粒子）を観測して求めた。具体的には、一次粒子を透過型顕微鏡を用いて透過型電子顕微鏡写真を撮影した後、その写真を用いて画像処理装置で粒度分布を測定して求めた。粒子の平均一次粒子径は、粒度分布から算出された個数基準の算術平均径を平均一次粒子径とした。透過型電子顕微鏡として（株）日立製作所製電子顕微鏡（Ｈ－７０００）を用い、画像処理装置として（株）ニレコ製ルーゼックスＡＰを用いた。

＜粒子の屈折率の測定＞
粒子と、屈折率が既知である樹脂（分散剤）と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとを用いて分散液を作製した。その後、作製した分散液と屈折率が既知の樹脂とを混合し、塗布液の全固形分中における粒子の濃度が１０質量％、２０質量％、３０質量％、４０質量％の塗布液を作製した。これらの塗布液をシリコンウエハ上に３００ｎｍの厚さで製膜した後、得られた膜の屈折率をエリプソメトリー（ラムダエースＲＥ－３３００、（株）ＳＣＲＥＥＮホールディングス製）を用いて測定した。その後、粒子の濃度と屈折率をグラフ上にプロットし、粒子の屈折率を導出した。

＜粒子の比重の測定＞
１００ｍＬメスフラスコ中に５０ｇの粒子を投入した。続いて別の１００ｍＬメスシリンダーを用いて水を１００ｍＬ量り取った。その後、粒子が浸る程度、量り取った水をメスフラスコに入れ、続いて、メスフラスコに超音波を加えて、粒子と水をなじませた。その後、メスフラスコの標線に到達するまで追加で水を入れ、５０ｇ／（メスフラスコに残った水の体積）＝比重として算出した。

＜重量平均分子量の測定＞
分散剤および樹脂の重量平均分子量は、以下の条件に従って、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によって測定した。
カラムの種類：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ－Ｈと、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ４０００と、ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺ２０００とを連結したカラム
展開溶媒：テトラヒドロフラン
カラム温度：４０℃
流量（サンプル注入量）：１．０μＬ（サンプル濃度０．１質量％）
装置名：東ソー（株）製 ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
検量線ベース樹脂：ポリスチレン樹脂

＜重合性基価＞
樹脂の重合性基価については、樹脂の合成に用いた原料から算出した。

＜酸価の測定方法＞
酸価は、固形分１ｇあたりの酸性成分を中和するのに要する水酸化カリウムの質量を表したものである。測定サンプルをテトラヒドロフラン／水＝９／１混合溶媒に溶解し、電位差滴定装置（商品名：ＡＴ－５１０、京都電子工業製）を用いて、得られた溶液を、２５℃にて、０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液で中和滴定した。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点として、次式により酸価を算出した。
Ａ＝５６．１１×Ｖｓ×０．５×ｆ／ｗ
Ａ：酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Ｖｓ：滴定に要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の使用量（ｍＬ）
ｆ：０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液の力価
ｗ：測定サンプル質量（ｇ）（固形分換算）

＜分散液の製造＞
下記の表に記載の組成の混合液に対し、循環型分散装置（ビーズミル）として、寿工業（株）製ウルトラアペックスミルを用いて、以下の分散処理を行い、分散液を製造した。ビーズ径：直径０．２ｍｍ
ビーズ充填率：６５体積％
周速：６ｍ／秒
ポンプ供給量：１０．８ｋｇ／時
冷却水：水道水
ビーズミル環状通路内容積：０．１５Ｌ
分散処理する混合液量：０．６５ｋｇ

上記表に記載の原料は以下の通りである。
（粒子）

なお、上記表中の屈折率の値は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率である。

（樹脂（分散剤））
Ｂ－１：下記構造の樹脂（６価の連結基（基Ｚ）に置換基とポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖とが結合した構造の樹脂。重量平均分子量：１００００、酸価：８０．４ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－２：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：３４０００、酸価：５７．２ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－５：下記構造の樹脂（６価の連結基（基Ｚ）に置換基とポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖とが結合した構造の樹脂。重量平均分子量６０００、酸価３１ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価１ｍｍｏｌ／ｇ）

（溶剤）
Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
Ｓ－３：シクロヘキサノン

＜組成物の調製＞
下記表に記載の原料を混合して、組成物を製造した。

上記表に記載の原料は以下の通りである。
（分散液）
分散液１～１６：上述した分散液１～１６

（重合性モノマー）
Ｍ－１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート）
Ｍ－２：ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）
Ｍ－３：ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）製）
Ｍ－４：ライトアクリレートＤＣＰ－Ａ（共栄社化学（株）製、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート）

（樹脂（バインダー樹脂））
Ｂ－１、Ｂ－２、Ｂ－５：上述した樹脂Ｂ－１、Ｂ－２、Ｂ－５
Ｂ－３：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２００００、酸価：４９ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－４：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２００００、酸価：７５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－６：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表す。重量平均分子量：１１０００、酸価：６９ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：１．４ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－７：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２７５００、酸価：５８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－８：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２８６００、酸価：６１ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－９：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２３８００、酸価：５９ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１０：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２５３００、酸価：６２ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１１：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２７７００、酸価：５８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１２：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２７９００、酸価：５８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１３：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２９０００、酸価：５７ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１４：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：３０１００、酸価：６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１５：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２５３００、酸価：５７ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１６：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：２５９００、酸価６１ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１７：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：３０９００、酸価：５８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

Ｂ－１８：下記構造の樹脂（ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂である。主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比を表し、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量：３２５００、酸価：５９ｍｇＫＯＨ／ｇ、重合性基価：０ｍｍｏｌ／ｇ）

（光重合開始剤）
Ｉ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）
Ｉ－２：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）
Ｉ－３：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ（ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）

（添加剤）
Ａ－１：アデカスタブＡＯ－８０（（株）ＡＤＥＫＡ製、着色防止剤）
Ａ－２：Ｉｒｇａｎｏｘ １０１０（ＢＡＳＦ社製、着色防止剤）
Ａ－３：ＫＢＭ－５０２（信越化学工業（株）製、シランカップリング剤）

（界面活性剤）
Ｓｕ－１：下記化合物（繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。重量平均分子量：１４０００）

Ｓｕ－２：フタージェントＦＴＸ２１８（ネオス社製）

（重合禁止剤）
Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール
Ｉｎ－２：１，４－ベンゾキノン

（溶剤）
Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）
Ｓ－３：シクロヘキサノン

＜透過率の最大値＞
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＣＴ－４０００Ｌ、厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のガラスウエハ上に、ポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて３０分間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行って厚さ４μｍの膜を形成した。
得られた膜の波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率を分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ－４１００）を用いて測定し、前述の範囲における透過率の最大値を測定した。透過率の最大値を以下の基準で評価した。
５：透過率の最大値が５０％以下である。
４：透過率の最大値が５０％より大きく、６０％以下である。
３：透過率の最大値が６０％より大きく、７０％以下である。
２：透過率の最大値が７０％より大きく、８０％以下である。
１：透過率の最大値が８０％より大きい。

＜光散乱性＞
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＣＴ－４０００Ｌ、厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のガラスウエハ上に、ポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて３０分間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行い、膜を形成した。得られた膜のヘイズ値Ｈｚについて、ヘーズメータ（ＮＤＨ７０００、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。ヘイズ値Ｈｚが大きいほど光散乱性に優れていることを意味する。以下の基準で散乱性能を評価した。
５：ヘイズ値Ｈｚが６０％以上である。
４：ヘイズ値Ｈｚが４０％以上６０％未満である。
３：ヘイズ値Ｈｚが２０％以上６０％未満である。
２：ヘイズ値Ｈｚが１０％以上２０％未満である。
１：ヘイズ値Ｈｚが１０％未満である。

＜相分離状態＞
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製、ＣＴ－４０００Ｌ、厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のガラスウエハ上に、ポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて３０分間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行い、膜を形成した。
得られた膜の厚み方向の断面を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）（Ｓ－４８００Ｈ、（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて観察（倍率：１００００倍）し、粒子の偏在状態を確認して相分離状態が形成されているかどうか調べた。
Ａ：膜中に粒子を含む第１の相と、第１の相よりも粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されている。
Ｂ：相分離構造が形成されていない。

＜保存安定性＞
上記で得られた各組成物を液高さが２０ｃｍとなる容器に入れて１２ヶ月冷蔵庫（４±１℃）で静置した。静置後、上から１ｃｍの液と下から１ｃｍの液をサンプリングし、それぞれ下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製ＣＴ－４０００Ｌ；厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）ガラスウエハ上にポストベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長の光を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光し、その後、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行い、膜を形成した。
得られた膜の波長４００～７００ｎｍにおける透過率を分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製 Ｕ－４１００）を用いて測定した。
上から１ｃｍの液を用いて形成した膜の波長４００～７００ｎｍにおける透過率の最大値（Ｔ１）と、下から１ｃｍの液を用いて形成した膜の波長４００～７００ｎｍにおける透過率の最大値（Ｔ２）と、差（Ｔ１－Ｔ２）であるΔＴを求め、以下の基準で保存安定性を評価した。ΔＴが小さいほど保存安定性が優れていることを意味する。
５：ΔＴが３％以下である。
４：ΔＴが３％より大きく、５％以下である。
３：ΔＴが５％より大きく、１０％以下である。
２：ΔＴが１０％より大きく、２０％以下である。
１：ΔＴが２０％より大きく、１００％以下である。

＜密着性＞
各組成物を、下塗り層（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製ＣＴ－４０００Ｌ；厚さ０．１μｍ）付き８インチ（＝２０３．２ｍｍ）ガラスウエハ上にプリベーク後の厚さが４μｍになるようにスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。
次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長光を、幅１００μｍ×長さ１０００μｍのラインを２５本形成するパターンマスクを介して露光（露光量５０～１７００ｍＪ／ｃｍ^２）した。
次いで、露光後の組成物層に対し、現像装置（東京エレクトロン製Ａｃｔ８）を使用して現像を行った。現像液には水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間シャワー現像を行った。その後、純水を用いたスピンシャワーにてリンスを行い、次いで、スピン乾燥し、次いで、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行ってパターンを得た。
幅１００μｍ×長さ１０００μｍのパターンを形成するのに要する最小の露光量Ｅ１と、前述のパターンがすべて密着するのに要する最小の露光量Ｅ２との差ΔＥ（Ｅ２－Ｅ１）を求め、以下の基準で密着性を評価した。ΔＥが小さいほど密着性に優れることを意味する。パターンが密着していること、および、パターンのサイズについては、光学顕微鏡を用いて観察した（倍率２００倍）。
５：ΔＥが１００ｍＪ／ｃｍ^２を超える。
４：ΔＥが０ｍＪ／ｃｍ^２を超え１００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。
３：ΔＥが０ｍＪ／ｃｍ^２である。
２：５０～１７００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量にて、幅１００μｍ×長さ１０００μｍのラインのパターンを少なくとも１本形成できたが、２５本すべてのパターンは形成することはできなかった。
１：５０～１７００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量では、幅１００μｍ×長さ１０００μｍのパターンを形成できなかった。

上記表に示すように、実施例は、保存安定性及び光散乱性の評価が優れていた。
また、樹脂Ｂ－２を使用した実施例１、樹脂Ｂ－７～Ｂ－１２を使用した実施例４８～５３はいずれも光散乱性の評価は５であったが、このうち実施例４８～５３については実施例１よりもヘイズ値Ｈｚが高く、より光散乱性に優れていた。樹脂Ｂ－７～Ｂ－１２は２種類の繰り返し単位からなるポリエステル構造のグラフト鎖を有しているため、１種類の繰り返し単位からなるポリエステル構造のグラフト鎖を有している樹脂Ｂ－２と比較して、結晶性がやや低い。そのため、膜中で相分離サイズが過剰に大きくなるのを抑制でき、光散乱性に優れたものと推定している。
また、樹脂Ｂ－３、Ｂ－４を使用した実施例２３、実施例２４と比較して、樹脂Ｂ－１３～Ｂ－１８を使用した実施例５４～５９は光散乱性に優れていた。樹脂Ｂ－１３～Ｂ－１８はポリエステル構造のグラフト鎖と酸基のどちらも含まない繰り返し単位を有しているため、このような繰り返し単位を有していない樹脂Ｂ－３、Ｂ－４と比較して、分散樹脂との相溶性がやや高い。そのため、膜中で相分離サイズが過剰に大きくなるのを抑制でき、光散乱性に優れたものと推定している。

１、２：光センサ
１０１：光電変換素子
１１１～１１４：画素
１１０：光学フィルタ
１２１、１２２：膜
１３０：透明支持体

Claims (10)

1. 屈折率が２．０以上で平均一次粒子径が５ｎｍ以上１００ｎｍ以下の粒子と、樹脂および重合性モノマーを含む膜形成成分と、光重合開始剤と、界面活性剤と、溶剤と、を含む組成物であって、
   前記粒子は、透明または白色の粒子であり、
   前記粒子の含有量は、前記組成物の全固形分中１５～７０質量％であり、
   前記膜形成成分は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物である重合性モノマーと、２種以上の樹脂とを含み、
   前記膜形成成分に含まれる前記樹脂は、ポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖を有する樹脂またはポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する樹脂と、ポリエステル構造の繰り返し単位を含むポリマー鎖を有する樹脂またはポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する樹脂とを含み、
   前記重合性モノマーと前記樹脂との合計の含有量は前記組成物の全固形分中１０～７５質量％であり、前記重合性モノマーと前記樹脂との比率は前記樹脂１００質量部に対して前記重合性モノマーが１０～４００質量部であり、
   前記光重合開始剤は、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる少なくとも１種であり、
   前記組成物をガラスウエハ上にスピンコータを用いて塗布し、１１０℃のホットプレートを用いて３０分間加熱処理を行い、３６５ｎｍの波長の光を１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射して露光し、次いで、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理を行って厚さ４μｍの膜を製膜した際に、前記膜の波長４００～７００ｎｍの範囲の光の透過率の最大値が８０％以下であり、かつ、前記膜中には膜形成成分または膜形成成分由来の硬化物の相であって、前記粒子が存在している第１の相と、膜形成成分または膜形成成分由来の硬化物の相であって、前記第１の相よりも前記粒子の含有量が少ない第２の相との相分離構造が形成されている、
   組成物。
2. 前記膜形成成分に含まれる前記樹脂は、前記粒子の分散剤としての樹脂と、バインダーとしての樹脂とを含む、請求項１に記載の組成物。
3. 前記粒子の分散剤としての樹脂の１００質量部に対して、前記バインダーとしての樹脂を４０～２５０質量部含む、請求項２に記載の組成物。
4. 前記膜形成成分に含まれる前記樹脂は、ポリ（メタ）アクリル構造のポリマー鎖が３価以上の連結基に結合した構造の樹脂Ａ１と、ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂Ａ２とを含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
5. 前記膜形成成分に含まれる前記樹脂は、ポリエステル構造の繰り返し単位を含むグラフト鎖を有する繰り返し単位を含む樹脂と、式（ＳＰ－１）で表される構造の樹脂とを含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
   

   

   （式中、Ｚ^１は、（ｍ＋ｎ）価の連結基を表し、
   Ｙ^１およびＹ^２は、それぞれ独立して単結合または連結基を表し、
   Ａ^１は、複素環基、酸基、塩基性窒素原子を有する基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、炭素数４以上の炭化水素基、アルコキシシリル基、エポキシ基、イソシアネート基およびヒドロキシ基から選ばれる置換基を含む基を表し、
   Ｐ^１は主鎖中に、ポリ（メタ）アクリル構造の繰り返し単位を有するポリマー鎖を表し、
   ｎは１～２０を表し、ｍは１～２０を表し、ｍ＋ｎは３～２１であり、
   ｎ個のＹ^１およびＡ^１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよく、
   ｍ個のＹ^２およびＰ^１はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。）
6. 前記粒子が無機粒子である、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
7. 前記粒子を２種以上含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
8. 前記相分離構造は、海島構造または共連続相構造である、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
9. 請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物を用いて得られる膜。
10. 請求項９に記載の膜を含む光センサ。

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