JP7241762B2 - レンズ用組成物、レンズ、レンズの製造方法および表示装置 - Google Patents
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Description
<1> カラーフィルタを有する表示装置の、カラーフィルタを透過する光の光路上にレンズを形成するために用いられるレンズ用組成物であって、
レンズ用組成物は、重合性モノマーMと、光重合開始剤Aと、樹脂Bとを含み、
レンズ用組成物を用いて膜厚2μmの膜を製膜した際に、膜の波長400~700nmにおける吸光度の最大値が0.05以下で、波長550nmの光の屈折率が1.5以上である、レンズ用組成物。
<2> 樹脂Bは、下記式(I)で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂b1を含有する、<1>に記載のレンズ用組成物;
R1は水素原子またはメチル基を表し、
L1は2価の連結基を表し、
R10は置換基を表し、
mは0~2の整数を表し、
pは0以上の整数を表す。
<3> 樹脂b1は、更に、アルキル(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を含む、<2>に記載のレンズ用組成物。
<4> 光重合開始剤Aはオキシム化合物を含有する、<1>~<3>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物。
<5> 光重合開始剤Aは、
メタノール中での波長365nmの吸光係数が1.0×103mL/gcm以上の光重合開始剤A1と、
メタノール中での波長365nmの吸光係数が1.0×102mL/gcm以下で、かつ、波長254nmの吸光係数が1.0×103mL/gcm以上の光重合開始剤A2と、
を含む、<1>~<4>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物。
<6> 光重合開始剤A1がフッ素原子を含むオキシム化合物である、<5>に記載のレンズ用組成物。
<7> 光重合開始剤A2がヒドロキシアルキルフェノン化合物である、<5>または<6>に記載のレンズ用組成物。
<8> 光重合開始剤A1の100質量部に対して、光重合開始剤A2を50~200質量部含有する、<5>~<7>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物。
<9> レンズ用組成物の全固形分中における光重合開始剤A1と光重合開始剤A2の合計の含有量が5~15質量%である、<5>~<8>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物。
<10> 重合性モノマーMは、エチレン性不飽和基を3個以上含む化合物を含む、<1>~<9>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物。
<11> シランカップリング剤を含む、<1>~<10>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物。
<12> フリル基を含む化合物を含む、<1>~<11>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物。
<13> フリル基を含む化合物は、下記式(fur-1)で表される化合物、および、下記式(fur-1)で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂から選ばれる少なくとも1種である、<12>に記載のレンズ用組成物;
<14> <1>~<13>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物から得られるレンズ。
<15> 支持体上に<1>~<13>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物を塗布して組成物層を形成する工程と、
組成物層をレンズ形状に加工する工程と、
を含む、レンズの製造方法。
<16> 全工程を通じて150℃以下の温度で行う、<15>に記載のレンズの製造方法。
<17> レンズ形状に加工する工程は、組成物層に対して波長350nmを超え380nm以下の光を1J/cm2以上の露光量で照射する工程を含む、<15>または<16>に記載のレンズの製造方法。
<18> レンズ形状に加工する工程は、組成物層に対して波長350nmを超え380nm以下の光を照射して露光したのち、更に、波長254~350nmの光を照射して露光する工程を含む、<15>または<16>に記載のレンズの製造方法。
<19> レンズ形状に加工する工程は、組成物層を100~150℃の温度で10分以上加熱する工程を含む、<15>~<18>のいずれか1つに記載のレンズの製造方法。
<20> 加熱する工程は、不活性ガスの雰囲気下で行う、<19>に記載のレンズの製造方法。
<21> カラーフィルタと、カラーフィルタを透過する光の光路上に設けられた<1>~<13>のいずれか1つに記載のレンズ用組成物から得られるレンズと、を有する表示装置。
<22> 有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、<21>に記載の表示装置。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基(原子団)と共に置換基を有する基(原子団)をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
本明細書において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の合計質量をいう。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アリル」は、アリルおよびメタリルの双方、または、いずれかを表し、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書において、重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定したポリスチレン換算値として定義される。
本発明のレンズ用組成物は、カラーフィルタを有する表示装置の、カラーフィルタを透過する光の光路上にレンズを形成するために用いられるレンズ用組成物であって、
このレンズ用組成物は、重合性モノマーMと、光重合開始剤Aと、樹脂Bとを含み、
このレンズ用組成物を用いて膜厚2μmの膜を製膜した際に、前述の膜の波長400~700nmにおける吸光度の最大値が0.05以下で、波長550nmの光の屈折率が1.5以上であることを特徴とする。
本発明の組成物が上述した吸光度および屈折率の条件を満たすことにより、光量の損失が少なくでき、その結果より輝度をより向上させることができる。
また、本発明のレンズ用組成物は、表示装置に含まれるカラーフィルタが複数色の画素を有し、これらの画素の少なくとも一部の画素の光路上にレンズを形成するために用いられるものであることが好ましい。
本発明のレンズ用組成物は、重合性モノマーを含有する。重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和基を有する化合物などが挙げられる。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アリル基、(メタ)アクリロイル基などが挙げられる。重合性モノマーはラジカルにより重合可能な化合物(ラジカル重合性モノマー)であることが好ましい。
本発明のレンズ用組成物は光重合開始剤を含有する。光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体(例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など)、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル化合物、アミノアルキルフェノン化合物、ヒドロキシアルキルフェノン化合物、フェニルグリオキシレート化合物などが挙げられる。光重合開始剤の具体例としては、例えば、特開2013-029760号公報の段落番号0265~0268、特許第6301489号公報の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
式(V)
*-CHF2 (1)
*-CF3 (2)
(OX-1)
ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、フッ素原子が好ましい。置換基としてのアルキル基、ならびに、RX1およびRX2が表すアルキル基の炭素数は、1~30が好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。アルキル基は、水素原子の一部または全部がハロゲン原子(好ましくは、フッ素原子)で置換されていてもよい。また、アルキル基は、水素原子の一部または全部が、上記置換基で置換されていてもよい。置換基としてのアリール基、ならびに、RX1およびRX2が表すアリール基の炭素数は、6~20が好ましく、6~15がより好ましく、6~10が更に好ましい。アリール基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、アリール基は、水素原子の一部または全部が、上記置換基で置換されていてもよい。置換基としてのヘテロ環基、ならびに、RX1およびRX2が表すヘテロ環基は、5員環または6員環が好ましい。ヘテロ環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。ヘテロ環基を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。ヘテロ環基を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。ヘテロ環基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。また、ヘテロ環基は、水素原子の一部または全部が、上記置換基で置換されていてもよい。
条件1:光重合開始剤を1質量部と、下記構造の樹脂P1を47.5質量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)の51.5質量部とを混合して調製した組成物を、ガラス基板上にプリベーク後の膜厚が2.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行って形成した膜の波長400~700nmの範囲の吸光度を測定した際に、前述の範囲における吸光度の最大値が0.03以下である。
樹脂P1:ベンジルメタクリレート/メタアクリル酸(=70/30[モル比])共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液(固形分40質量%、重量平均分子量30000、藤倉化成(株)製、アクリベースFF-187)
また、光重合開始剤A1のメタノール中での波長254nmの光の吸光係数は、1.0×104~1.0×105mL/gcmであることが好ましく、1.5×104~9.5×104mL/gcmであることがより好ましく、3.0×104~8.0×104mL/gcmであることが更に好ましい。
本発明のレンズ用組成物は樹脂を含む。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に粒子等を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。
R1は水素原子またはメチル基を表す。
L1は2価の連結基を表す。2価の連結基としては、炭化水素基、複素環基、-NH-、-SO-、-SO2-、-CO-、-O-、-COO-、-OCO-、-S-およびこれらの2以上を組み合わせてなる基が挙げられる。炭化水素基としては、アルキル基、アリール基などが挙げられる。複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、5員環または6員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
R10は置換基を表す。R10が表す置換基としては、以下に示す置換基Tが挙げられ、炭化水素基であることが好ましく、アリール基を置換基として有していてもよいアルキル基であることがより好ましい。
mは0~2の整数を表し、0または1が好ましく、0がより好ましい。
pは0以上の整数を表し、0~4が好ましく、0~3がより好ましく、0~2が更に好ましく、0または1がより一層好ましく、1が特に好ましい。
置換基Tとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭化水素基、複素環基、-ORt1、-CORt1、-COORt1、-OCORt1、-NRt1Rt2、-NHCORt1、-CONRt1Rt2、-NHCONRt1Rt2、-NHCOORt1、-SRt1、-SO2Rt1、-SO2ORt1、-NHSO2Rt1または-SO2NRt1Rt2が挙げられる。Rt1およびRt2は、それぞれ独立して水素原子、炭化水素基または複素環基を表す。Rt1とRt2が結合して環を形成してもよい。
炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、1~30が好ましく、1~15がより好ましく、1~8が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、分岐がより好ましい。
アルケニル基の炭素数は、2~30が好ましく、2~12がより好ましく、2~8が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アルキニル基の炭素数は、2~30が好ましく、2~25がより好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
アリール基の炭素数は、6~30が好ましく、6~20がより好ましく、6~12が更に好ましい。
複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環または縮合数が2~4の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は1~3が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は3~30が好ましく、3~18がより好ましく、3~12がより好ましい。
炭化水素基および複素環基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Tで説明した置換基が挙げられる。
R1は水素原子またはメチル基を表す。
R2、R3およびR11はそれぞれ独立して炭化水素基を表す。
R2およびR3が表す炭化水素基は、アルキレン基またはアリーレン基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素数は1~10であることが好ましく、1~5であることがより好ましく、1~3であることが更に好ましく、2または3であることが特に好ましい。R11が表す炭化水素基は、アリール基を置換基として有していてもよいアルキル基であることが好ましく、アリール基を置換基として有するアルキル基であることがより好ましい。アルキル基の炭素数は、1~20が好ましく、1~10がより好ましく、1~5が更に好ましい。なお、アルキル基が置換基としてアリール基を有する場合におけるアルキル基の炭素数は、アルキル部位の炭素数のことを意味する。
R12は置換基を表す。R12が表す置換基としては、上述した置換基Tが挙げられる。
nは0~15の整数を表し、0~5の整数であることが好ましく0~4の整数であることがより好ましく、0~3の整数であることが更に好ましい。
mは0~2の整数を表し、0または1であることが好ましく、0であることがより好ましい。
p1は0以上の整数を表し、0~4が好ましく、0~3がより好ましく、0~2が更に好ましく、0~1がより一層好ましく、0が特に好ましい。
q1は1以上の整数を表し、1~4が好ましく、1~3がより好ましく、1~2が更に好ましく、1が特に好ましい。
また、樹脂の含有量は重合性モノマーの100質量部に対して25~200質量部であることが好ましい。上限は175質量部以下が好ましく、150質量部以下がより好ましい。下限は50質量部以上が好ましく、75質量部以上がより好ましい。
また、本発明のレンズ用組成物に含まれる樹脂の全量中における上述した樹脂b1(式(III)で表される化合物由来の繰り返し単位を含む)の含有量は、0.1~100質量%であることが好ましく、10~100質量%であることがより好ましい。上限は、90質量%以下とすることもでき、80質量%以下とすることもでき、70質量%以下とすることもできる。
また、上述した樹脂b1の含有量は、レンズ用組成物の全固形分中0.1~70質量%であることが好ましい。上限は、60質量%以下であることが好ましく、50質量%以下であることがより好ましい。下限は、1質量%以上であることが好ましく、5質量%以上であることがより好ましい。
本発明のレンズ用組成物は、フリル基を含む化合物(以下、フリル基含有化合物ともいう)を含有することが好ましい。この態様によれば、低温硬化性に優れたレンズ用組成物とすることができる。
フリル基を含む化合物については、特開2017-194662号公報の段落番号0049~0089に記載された化合物を用いることができる。また、特開2000-233581号公報、特開1994-271558号公報、特開1994-293830号公報、特開1996-239421号公報、特開1998-508655号公報、特開2000-001529号公報、特開2003-183348号公報、特開2006-193628号公報、特開2007-186684号公報、特開2010-265377号公報、特開2011-170069号公報などに記載されている化合物を用いることもできる。
また、フリル基含有化合物としてフリル基含有ポリマーを用いた場合、レンズ用組成物に含まれる樹脂中におけるフリル基含有ポリマーの含有量は、0.1~100質量%であることが好ましい。下限は、10質量%以上であることが好ましく、15質量%以上であることがより好ましい。上限は、90質量%以下であることが好ましく、80質量%以下であることがより好ましい。
また、本発明のレンズ用組成物に用いられる樹脂が上述した樹脂b1を含み、かつ、フリル基含有化合物としてフリル基含有ポリマーを用いた場合には、フリル基含有ポリマーの含有量は、樹脂b1の100質量部に対して10~200質量部であることが好ましい。上限は、175質量部以下であることが好ましく、150質量部以下であることが好ましい。下限は、25質量部以上であることが好ましく、50質量部以上であることが好ましい。樹脂b1とフリル基含有ポリマーとを併用することにより、低温硬化性と透明性に優れるという効果が期待できる。更に、両者の割合が上記範囲である場合には優れた耐久性を有するレンズが得られやすい。
本発明のレンズ用組成物は、更にエポキシ基を有する化合物を含有することが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、1分子内にエポキシ基を2つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、1分子内に2~100個有することが好ましい。上限は、例えば、10個以下とすることもでき、5個以下とすることもできる。エポキシ基を有する化合物のエポキシ当量(=エポキシ基を有する化合物の分子量/エポキシ基の数)は、500g/eq以下であることが好ましく、100~400g/eqであることがより好ましく、100~300g/eqであることがさらに好ましい。エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物(例えば、分子量1000未満)でもよいし、高分子化合物(macromolecule)(例えば、分子量1000以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が1000以上)のいずれでもよい。エポキシ基を有する化合物の分子量(ポリマーの場合は、重量平均分子量)は、200~100000が好ましく、500~50000がより好ましい。分子量(ポリマーの場合は、重量平均分子量)の上限は、3000以下が好ましく、2000以下がより好ましく、1500以下が更に好ましい。
本発明のレンズ用組成物は白色または無色の顔料(以下、白色系顔料ともいう)を含有することができる。本発明のレンズ用組成物が白色系顔料を含有する場合は、屈折率の高いレンズを形成しやすい。
また、本発明のレンズ用組成物は、白色系顔料を実質的に含有しないことも好ましい。この態様によれば、表面荒れの小さいレンズを形成しやすい。本発明のレンズ用組成物が白色系顔料を実質的に含有しない場合とは、白色系顔料の含有量がレンズ用組成物の全固形分中0.1質量%以下であることを意味し、0.05質量%以下であることが好ましく、0.01質量%以下であることが更に好ましく、含有しないことが特に好ましい。
本発明のレンズ用組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性やレンズ用組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第2015/166779号の段落番号0223を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤を好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、3-エトキシプロピオン酸メチル、3-エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、3-メトキシプロピオン酸メチル、2-ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3-メトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミド、3-ブトキシ-N,N-ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類(ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等)は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある(例えば、有機溶剤全量に対して、50質量ppm(parts per million)以下とすることもでき、10質量ppm以下とすることもでき、1質量ppm以下とすることもできる)。
本発明のレンズ用組成物は、重合性モノマーの反応を促進させたり、硬化温度を下げる目的で、硬化促進剤を添加してもよい。硬化促進剤としては、分子内に2個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合物などが挙げられる。多官能チオール化合物は安定性、臭気、解像性、現像性、密着性等の改良を目的として添加してもよい。多官能チオール化合物は、2級のアルカンチオール類であることが好ましく、式(T1)で表される化合物であることがより好ましい。
式(T1)
本発明のレンズ用組成物は、シランカップリング剤を含有することが好ましい。シランカップリング剤を含有することで、支持体との密着性に優れたレンズが得られやすい。シランカップリング剤としては、一分子中に少なくとも2種の反応性の異なる官能基を有するシラン化合物が好ましい。シランカップリング剤は、ビニル基、エポキシ基、スチレン基、メタクリル基、アミノ基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、および、イソシアネート基から選ばれる少なくとも1種の基と、アルコキシ基とを有するシラン化合物が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBM-602)、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBM-603)、3-アミノプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBM-903)、3-アミノプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBE-903)、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBM-503)、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製、KBM-403)等が挙げられる。シランカップリング剤の詳細については、特開2013-254047号公報の段落番号0155~0158の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。本発明のレンズ用組成物がシランカップリング剤を含有する場合、シランカップリング剤の含有量は、レンズ用組成物の全固形分中0.001~20質量%が好ましく、0.01~10質量%がより好ましく、0.1質量%~5質量%が特に好ましい。本発明のレンズ用組成物は、シランカップリング剤を、1種のみを含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明のレンズ用組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、p-メトキシフェノール、ジ-t-ブチル-p-クレゾール、ピロガロール、t-ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4'-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2'-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、N-ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩(アンモニウム塩、第一セリウム塩等)等が挙げられる。本発明のレンズ用組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、レンズ用組成物の全固形分中0.0001~5質量%が好ましい。本発明のレンズ用組成物は、重合禁止剤を、1種のみを含んでいてもよいし、2種以上含んでいてもよい。2種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明のレンズ用組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開2012-208374号公報の段落番号0052~0072、特開2013-068814号公報の段落番号0317~0334、特開2016-162946号公報の段落番号0061~0080の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、UV-503(大東化学(株)製)などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のMYUAシリーズ(化学工業日報、2016年2月1日)が挙げられる。また、紫外線吸収剤として特許第6268967号公報の段落番号0049~0059に記載の化合物も使用できる。本発明のレンズ用組成物が紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、レンズ用組成物の全固形分中0.1~10質量%が好ましく、0.1~5質量%がより好ましく、0.1~3質量%が特に好ましい。また、紫外線吸収剤は、1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
本発明のレンズ用組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開第2015/166779号の段落番号0238~0245を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
本発明のレンズ用組成物には、必要に応じて、各種添加剤、例えば、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、凝集防止剤等を配合することができる。これらの添加剤としては、特開2004-295116号公報の段落番号0155~0156に記載の添加剤を挙げることができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、酸化防止剤としては、例えばフェノール化合物、リン系化合物(例えば特開2011-090147号公報の段落番号0042に記載の化合物)、チオエーテル化合物などを用いることができる。市販品としては、例えば(株)ADEKA製のアデカスタブシリーズ(AO-20、AO-30、AO-40、AO-50、AO-50F、AO-60、AO-60G、AO-80、AO-330など)が挙げられる。また、酸化防止剤として、国際公開第2017/006600号に記載された多官能ヒンダードアミン酸化防止剤、国際公開第2017/164024号に記載された酸化防止剤、特許第6268967号公報の段落番号0023~0048に記載された酸化防止剤を用いることもできる。酸化防止剤は1種のみを用いてもよく、2種以上を用いてもよい。また、本発明のレンズ用組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、100~250℃で加熱するか、又は酸/塩基触媒存在下で80~200℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の具体例としては、国際公開WO2014/021023号公報、国際公開第2017/030005号、特開2017-008219号公報に記載された化合物が挙げられる。市販品としては、アデカアークルズGPA-5001((株)ADEKA製)等が挙げられる。また、本発明のレンズ用組成物は、特開2004-295116号公報の段落番号0078に記載の増感剤や光安定剤、同公報の段落番号0081に記載の熱重合防止剤を含有することができる。
本発明のレンズ用組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料やレンズ用組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を6種6層の樹脂で構成する多層ボトルや6種の樹脂を7層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開2015-123351号公報に記載の容器が挙げられる。
本発明のレンズ用組成物は、前述の成分を混合して製造できる。レンズ用組成物の製造に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解および/または分散してレンズ用組成物を製造してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜2つ以上の溶液または分散液としておいて、使用時(塗布時)にこれらを混合してレンズ用組成物を製造してもよい。
本発明のレンズは、上述した本発明のレンズ用組成物から得られるレンズである。本発明のレンズは、波長400~700nmにおける吸光度の最大値が0.05以下であることが好ましく、0.04以下であることがより好ましく、0.03以下であることが更に好ましい。また、本発明のレンズは、波長400~700nmの光の透過率が90%以上であることが好ましく、91.5%以上であることがより好ましく、93%以上であることが更に好ましい。また、本発明のレンズは、波長550nmの光の屈折率が1.5以上であることが好ましく、1.52以上であることがより好ましく、1.54以上であることが更に好ましい。上限は、2.0以下であることが好ましく、1.85以下であることがより好ましい。
次に、本発明のレンズの製造方法について説明する。本発明のレンズの製造方法は、支持体上に上述した本発明のレンズ用組成物を塗布して組成物層を形成する工程と、組成物層をレンズ形状に加工する工程と、を含む。
次に、各工程について説明する。組成物層を形成する工程では、本発明のレンズ用組成物を用いて、支持体上に組成物層を形成する。支持体としては、ガラス基板、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、芳香族ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板等が挙げられる。これらの基板上には有機発光層が形成されていてもよい。また、有機発光層上には更にカラーフィルタが形成されていてもよい。また、基板やカラーフィルタには、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
組成物層をレンズ形状に加工する方法としては、従来公知の加工方法を用いることができる。例えば、転写法、インプリント法、熱だれ法などを用いて製造できる。なかでも、レンズ形状の制御が行いやすいという理由から転写法が好ましい。
本発明の表示装置は、上述した本発明のレンズとカラーフィルタとを有する。そして、本発明の表示装置において、レンズは、カラーフィルタを透過する光の光路上に設けられている。カラーフィルタは、赤色画素、青色画素、緑色画素、シアン色画素、マゼンタ色画素、イエロー画素などの着色画素を1色以上有するフィルタが挙げられる。カラーフィルタの具体例としては、赤色画素、青色画素および緑色画素を少なくとも有するフィルタや、シアン色画素、マゼンタ色画素およびイエロー画素を少なくとも有するフィルタなどが挙げられる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。
本発明の表示装置は、表示装置に含まれるカラーフィルタが複数色の画素を有し、これらの画素の少なくとも一部の画素の光路上に本発明のレンズが形成されていることが好ましい。
カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。また、US2018/0040656号公報に記載の構成で隔壁を形成しても良い。
表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木昭夫著、(株)工業調査会、1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田龍男編集、(株)工業調査会、1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
(顔料分散液T1)
下記組成Aの混合液に対し、循環型分散装置(ビーズミル)として、寿工業株式会社製ウルトラアペックスミル(商品名)を用いて、以下のようにして分散処理を行い、顔料分散液T1を調製した。
・白色系顔料(二酸化チタンの粒子の表面を、水酸化アルミニウム(Al(OH)3)と非晶質シリカ(SiO2)とステアリン酸(C17H35COOH)を含む表面処理剤で表面処理した粒子(二酸化チタンを75質量%以上、水酸化アルミニウムを15質量%未満、非晶質シリカを5質量%未満、ステアリン酸を10質量%未満含有)、平均一次粒子径40nm)・・・22.8質量部
・分散剤(下記構造の樹脂、酸価=50mgKOH/g、重量平均分子量=10,000、主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である)・・・6.1質量部
・ビーズ径:直径0.05mm
・ビーズ充填率:75体積%
・周速:8m/sec
・ポンプ供給量:10Kg/hour
・冷却水:水道水
・ビーズミル環状通路内容積:0.15L
・分散処理する混合液量:0.44kg
(実施例1)
以下に示す原料を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過してレンズ用組成物を調製した。
・光重合開始剤A1(開始剤1)・・・1.75質量部
・光重合開始剤A2(開始剤4)・・・1.41質量部
・樹脂(樹脂1の40質量%PGMEA溶液)・・・39.54質量部
・重合性モノマーM1・・・28.84質量部
・重合禁止剤1(p-メトキシフェノール)・・・0.008質量部
・界面活性剤1(下記構造の化合物、Mw=14000、繰り返し単位の割合を示す%の数値はモル%である)・・・0.021質量部
・PGMEA・・・28.25質量部
光重合開始剤の種類および含有量、樹脂の種類、重合性モノマーの種類、溶剤の種類、レンズ用組成物の全固形分をそれぞれ下記表に記載の通り変更した以外は、実施例1と同様にしてレンズ用組成物を調製した。なお、レンズ用組成物の全固形分は溶剤の配合量を変えることで調整した。
以下に示す原料を混合し、撹拌した後、孔径0.45μmのナイロン製フィルタ(日本ポール(株)製)でろ過してレンズ用組成物を調製した。
・顔料分散液T1・・・69.29質量部
・光重合開始剤A1(開始剤1)・・・1.75質量部
・光重合開始剤A2(開始剤4)・・・1.41質量部
・樹脂(樹脂1の40質量%PGMEA溶液)・・・9.29質量部
・重合性モノマーM1・・・14.52質量部
・重合禁止剤1・・・0.008質量部
・界面活性剤1・・・0.021質量部
・シランカップリング剤1・・・17.5質量部
・PGMEA・・・3.57質量部
・開始剤1:IRGACURE-OXE01(BASF社製、下記構造の化合物、メタノール中での波長365nmにおける吸光係数が6969mL/gcmである。下記の方法で測定した開始剤塗布膜の吸光度の最大値は0.01である。)
・開始剤2:IRGACURE-OXE02(BASF社製、下記構造の化合物、メタノール中での波長365nmにおける吸光係数が7749mL/gcmである。下記の方法で測定した開始剤塗布膜の吸光度の最大値は0.01である。)
・開始剤3:下記構造の化合物(メタノール中での波長365nmの光の吸光係数が18900mL/gcmである。下記の方法で測定した開始剤塗布膜の吸光度の最大値は0.02である。)
・開始剤4:IRGACURE-2959(BASF社製、下記構造の化合物、メタノール中での波長365nmにおける吸光係数が48.93mL/gcmであり、波長254nmにおける吸光係数が3.0×104mL/gcmである。下記の方法で測定した開始剤塗布膜の吸光度の最大値は0.005である。)
・開始剤5:IRGACURE-184(BASF社製、下記構造の化合物、メタノール中での波長365nmにおける吸光係数が88.64mL/gcmであり、波長254nmにおける吸光係数が3.3×104mL/gcmである。下記の方法で測定した開始剤塗布膜の吸光度の最大値は0.004である。)
開始剤6:下記構造の化合物(メタノール中での波長365nmの光の吸光係数が13200mL/gcmである。下記の方法で測定した開始剤塗布膜の吸光度の最大値は0.13である。)
M1:下記構造の化合物
M3:アロニックスM-310(東亞合成(株)製、トリメチロールプロパンポリオキシプロピレン変性トリアクリレート)
M4:アロニックスM-350(東亞合成(株)製、トリメチロールプロパンポリオキシエチレン変性トリアクリレート)
M5:アロニックスM―408(東亞合成(株)製、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート)
温度計、冷却管、窒素ガス導入管、滴下管および撹拌装置を備えたセパラブル4口フラスコにシクロヘキサノン70.0質量部を仕込み、80℃に昇温し、フラスコ内を窒素置換した後、滴下管より、n-ブチルメタクリレート13.3質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート4.6質量部、メタクリル酸4.3質量部、パラクミルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレート(東亞合成(株)製、アロニックスM110)7.4質量部および2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.4質量部の混合物を2時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに3時間反応を継続して樹脂2(Mw=26000)の30質量%溶液を得た。
攪拌機、温度計、滴下装置、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90.0質量部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら60℃に加熱して、同温度でフルフリルメタクリレート50.0質量部、2-メタクリロイロキシエチルコハク酸26.7質量部、2-ヒドロキシエチルメタクリレート23.3質量部、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)2.5質量部の混合物を2時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに60℃で1時間反応させた後、2,2’-アゾビス(2,4-ジメチルバレロニトリル)0.5質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10.0質量部に溶解させたものを添加し、その後3時間、同じ温度で攪拌を続け共重合体を得た。室温に冷却後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈することにより、樹脂3(Mw=52000)の20質量%溶液を得た。
攪拌機、温度計、滴下装置、還流冷却器、ガス導入管を備えた反応容器にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート90.0質量部を入れ、容器に窒素ガスを注入しながら60℃に加熱して、同温度でグリシジルメタクリレート35.0質量部、メチルメタクリレート45.0質量部、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル2.5質量部の混合物を2時間かけて滴下して重合反応を行った。滴下終了後、さらに60℃で1時間反応させた後、2,2’-アゾビスイソブチロニトリル0.5質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート10.0質量部に溶解させたものを添加し、その後3時間、同じ温度で攪拌を続け共重合体を得た。続いて、反応容器に乾燥空気を注入し、アクリル酸10.0質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート30.2質量部、ジメチルベンジルアミン1.30質量部、メトキノン0.26質量部を入れ、100℃に加熱して、20時間撹拌を続け、酸価測定を行って目的物が生成していることを確認した。さらに続けて反応容器にテトラヒドロ無水フタル酸10.0質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート27.7質量部を入れ、60℃で3時間撹拌したのち室温に冷却後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈することにより、樹脂5(Mw=12000)の20質量%溶液を得た。
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
開始剤1の1質量部と、樹脂の47.5質量部と、PGMEAの51.5質量部とを混合して開始剤組成物1を調製した。
樹脂P1:ベンジルメタクリレート/メタアクリル酸(=70/30[モル比])共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液(固形分40質量%、重量平均分子量30000、藤倉化成(株)製、アクリベースFF-187)
(吸光度および屈折率)
ガラス基板上に、各レンズ用組成物をプリベーク後の膜厚が2.0μmになるようにスピンコーターを用いて塗布し、100℃のホットプレートを用いて120秒間加熱処理(プリベーク)を行った。次にi線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を用い、i線を100mJ/cm2の露光量で照射した。次いで、紫外線フォトレジスト硬化装置(UMA-802-HC-552;ウシオ電気株式会社製)を用いて、3000mJ/cm2の露光量で露光を行い硬化膜を作製した。
得られた硬化膜について、紫外可視近赤外分光光度計UV3600(島津製作所製)の分光光度計(レファレンス:ガラス基板)を用いて波長400~700nmの範囲の光の吸光度を測定した。吸光度が小さいほど、可視透明性に優れる。吸光度の評価基準は以下の通りである。
AA:波長400~700nmの全範囲での吸光度の最大値が0.03未満である。
A:波長400~700nmの全範囲での吸光度の最大値が0.03以上0.04未満である。
B:波長400~700nmの全範囲での吸光度の最大値が0.04以上0.05未満である。
C:波長400~700nmの全範囲での吸光度の最大値が0.05以上である。
また、得られた硬化膜について、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン社製エリプソメーターを用いて波長550nmの光の屈折率を測定した。
得られた上記の硬化膜について、N-メチルピロリドン(NMP)を滴下後、200秒放置し、流水にて10秒リンスして耐溶剤性試験を行った。耐溶剤性試験前後の膜の厚みを測定し、残膜率を測定して耐溶剤性を評価した。残膜率が1に近いほど耐溶剤性に優れる。
残膜率=耐溶剤性試験前後の硬化膜の厚さ/耐溶剤性試験前の硬化膜の厚さ
AA:残膜率が0.95以上1.0以下。
A:残膜率が0.90以上0.95未満。
B:残膜率が0.85以上0.90未満。
C:残膜率が0.85未満。
各レンズ用組成物をプリベーク後の膜厚が2.0μmになるようにガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて100℃、120秒の加熱処理を行い、組成物層を形成した。次にi線ステッパー露光装置を用い、10μm四方のアイランドパターンが形成されたマスクを介してi線を100mJ/cm2の露光量で露光した。その後、水酸化テトラメチルアンモニウム0.3質量%水溶液を用いて23℃60秒のパドル現像を行い、次いでリンス処理を行った。次いで、波長254~350nmの光を3000mJ/cm2の露光量で露光(後露光)してパターンを形成した。
ガラス基板の真上から、ガラス基板上に形成されたパターンの幅およびパターンの対角線の長さを、測長SEM(走査型電子顕微鏡)を用いて観察した。以下の基準で矩形性を評価した。パターンの対角線の長さ/(パターンの幅×20.5)の値が1.0に近いほど矩形性がよい。
AA:パターンの対角線の長さ/(パターンの幅×20.5)が0.95を超え1.0以下である。
A:パターンの対角線の長さ/(パターンの幅×20.5)が0.90を超え0.95以下である。
B:パターンの対角線の長さ/(パターンの幅×20.5)が0.80を超え0.90以下である。
C:パターンの対角線の長さ/(パターンの幅×20.5)が0.80以下である。
ヘキサメチルジシラザンを噴霧した8インチ(20.32cm)のシリコンウエハの上にレンズ用組成物をプリベーク後の膜厚が2.0μmになるようにガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて100℃、120秒の加熱処理を行い、組成物層を形成した。次いで、i線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を使用して、i線を100μm四方のアイランドパターンマスクを通して100mJ/cm2の露光量にて照射した。その後、露光された組成物層が形成されているシリコンウエハをスピン・シャワー現像機(DW-30型;(株)ケミトロニクス製)の水平回転テーブル上に載置し、CD-2000(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)の40%希釈液を用いて23℃で180秒間パドル現像を行なった。次いで、このシリコンウエハを真空チャック方式で水平回転テーブルに固定し、回転装置によってシリコンウエハを回転数50rpmで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行ない、その後スピン乾燥した。次いで、紫外線フォトレジスト硬化装置(UMA-802-HC-552;ウシオ電気株式会社製)を用いて、3000mJ/cm2の露光量で露光(後露光)してパターンを形成した。
次いで、得られたパターン上に、ポジ型レジスト液(HPR-204ESZ-9-5mPa・s、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を乾燥膜厚0.5μmとなるよう塗布し、90℃で1分間、ホットプレートで加熱した。ついで、各レンズの中心部の光透過率が0%であり、周辺部へ広がるにしたがって光透過率が増加するように透過率を調整したハーフトーンマスクを介してi線ステッパー露光装置FPA-3000i5+(Canon(株)製)を使用してi線を300mJ/cm2の露光量にて照射した。次いで、アルカリ現像液(HPRD-429E、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)を用いて、室温にて60秒間、パドル現像した後、さらに20秒間純水を用いたスピンシャワーにてリンスを行った。その後更に、純水にて水洗を行い、その後、高速回転にて基板を乾燥させ、さらに、100℃15分間の条件でホットプレートを用いて加熱し、レンズ形状のレジストパターンを形成した。
以上のようにして得られた基板を、ドライエッチング装置(日立ハイテクノロジーズ製:U-621)を使用し、下記条件にてドライエッチング処理を実施し、マイクロレンズ形状として使用できるように加工してレンズを製造した。
・RF(radio frequency)パワー:800W
・アンテナバイアス:100W
・ウエハバイアス:500W
・チャンバー内圧:0.5Pa
・基板温度:50℃
・混合ガス種および流量:CF4/C4F6/O2/Ar=175/25/50/200ml/分
・フォトレジストエッチングレート:140nm/分
AA:表面にしわが全く確認されなかった。
A:表面にしわがほぼ確認されなかった。
B:表面にしわがわずかに確認された。
C:明らかなしわが見られた。
実施例1~33のレンズをカラーフィルタを有する表示装置のカラーフィルタの表面に形成して表示装置に組み込んだところ、実施例1~33のレンズを有さない表示装置よりも輝度が良好であった。特に、実施例1~、19、20、22~33のレンズを組み込んだ表示装置については、輝度が特に良好であった。
一方、比較例1のレンズを組み込んだ表示装置は、レンズを有さない表示装置よりも輝度の低下がみられた。
Claims (20)
- カラーフィルタを有する表示装置の、前記カラーフィルタを透過する光の光路上にレンズを形成するために用いられるレンズ用組成物であって、
前記レンズ用組成物は、重合性モノマーMと、光重合開始剤Aと、樹脂Bとを含み、
前記光重合開始剤Aは、メタノール中での波長365nmの吸光係数が1.0×103mL/gcm以上の光重合開始剤A1と、メタノール中での波長365nmの吸光係数が1.0×102mL/gcm以下で、かつ、波長254nmの吸光係数が1.0×103mL/gcm以上の光重合開始剤A2と、を含み、かつ、前記光重合開始剤A1の100質量部に対して、前記光重合開始剤A2を50~200質量部含有し、
前記レンズ用組成物の全固形分中における前記光重合開始剤Aの含有量が5~15質量%であり、
前記レンズ用組成物の全固形分中における前記樹脂Bの含有量が25~75質量%であり、かつ、前記樹脂Bの含有量が前記重合性モノマーMの100質量部に対して25~200質量部であり、
前記レンズ用組成物の全固形分中における白色または無色の顔料の含有量が、0.1質量%以下であり、
前記レンズ用組成物の固形分濃度が25~40質量%であり、
前記レンズ用組成物を用いて膜厚2μmの膜を製膜した際に、前記膜の波長400~700nmにおける吸光度の最大値が0.05以下で、波長550nmの光の屈折率が1.5以上2.0以下である、レンズ用組成物。 - 前記樹脂b1は、更に、アルキル(メタ)アクリレート由来の繰り返し単位を含む、請求項2または3に記載のレンズ用組成物。
- 前記光重合開始剤A1がフッ素原子を含むオキシム化合物である、請求項1~4のいずれか1項に記載のレンズ用組成物。
- 前記光重合開始剤A2がヒドロキシアルキルフェノン化合物である、請求項1~5のいずれか1項に記載のレンズ用組成物。
- 前記レンズ用組成物の全固形分中における前記光重合開始剤A1と前記光重合開始剤A2の合計の含有量が5~15質量%である、請求項1~6のいずれか1項に記載のレンズ用組成物。
- 前記重合性モノマーMは、エチレン性不飽和基を3個以上含む化合物を含む、請求項1~7のいずれか1項に記載のレンズ用組成物。
- シランカップリング剤を含む、請求項1~8のいずれか1項に記載のレンズ用組成物。
- フリル基を含む化合物を含む、請求項1~9のいずれか1項に記載のレンズ用組成物。
- 請求項1~11のいずれか1項に記載のレンズ用組成物から得られるレンズ。
- 支持体上に請求項1~11のいずれか1項に記載のレンズ用組成物を塗布して組成物層を形成する工程と、
前記組成物層をレンズ形状に加工する工程と、
を含む、レンズの製造方法。 - 全工程を通じて150℃以下の温度で行う、請求項13に記載のレンズの製造方法。
- 前記レンズ形状に加工する工程は、前記組成物層に対して波長350nmを超え380nm以下の光を1J/cm2以上の露光量で照射する工程を含む、請求項13または14に記載のレンズの製造方法。
- 前記レンズ形状に加工する工程は、前記組成物層に対して波長350nmを超え380nm以下の光を照射して露光したのち、更に、波長254~350nmの光を照射して露光する工程を含む、請求項13または14に記載のレンズの製造方法。
- 前記レンズ形状に加工する工程は、前記組成物層を100~150℃の温度で10分以上加熱する工程を含む、請求項13~16のいずれか1項に記載のレンズの製造方法。
- 前記加熱する工程は、不活性ガスの雰囲気下で行う、請求項17に記載のレンズの製造方法。
- カラーフィルタと、カラーフィルタを透過する光の光路上に設けられた請求項1~11のいずれか1項に記載のレンズ用組成物から得られるレンズと、を有する表示装置。
- 有機エレクトロルミネッセンス表示装置である、請求項19に記載の表示装置。
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20070015847A1 (en) | 2005-07-15 | 2007-01-18 | Applied Materials, Inc. | Red printing ink for color filter applications |
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WO2018147049A1 (ja) | 2017-02-09 | 2018-08-16 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、硬化膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
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