JP2023013332A5 - - Google Patents
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Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021117423A JP7810528B2 (ja) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | 基板洗浄装置 |
| PCT/JP2022/026392 WO2023286635A1 (ja) | 2021-07-15 | 2022-06-30 | 基板洗浄装置 |
| KR1020247003898A KR102825486B1 (ko) | 2021-07-15 | 2022-06-30 | 기판 세정 장치 |
| CN202280049929.6A CN117642846A (zh) | 2021-07-15 | 2022-06-30 | 基板清洗装置 |
| US18/579,208 US12463063B2 (en) | 2021-07-15 | 2022-06-30 | Substrate cleaning device |
| TW113130596A TW202447827A (zh) | 2021-07-15 | 2022-07-04 | 基板洗淨裝置 |
| TW111124911A TWI850692B (zh) | 2021-07-15 | 2022-07-04 | 基板洗淨裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021117423A JP7810528B2 (ja) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | 基板洗浄装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023013332A JP2023013332A (ja) | 2023-01-26 |
| JP2023013332A5 true JP2023013332A5 (https=) | 2024-12-27 |
| JP7810528B2 JP7810528B2 (ja) | 2026-02-03 |
Family
ID=84920207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021117423A Active JP7810528B2 (ja) | 2021-07-15 | 2021-07-15 | 基板洗浄装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US12463063B2 (https=) |
| JP (1) | JP7810528B2 (https=) |
| KR (1) | KR102825486B1 (https=) |
| CN (1) | CN117642846A (https=) |
| TW (2) | TWI850692B (https=) |
| WO (1) | WO2023286635A1 (https=) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7810528B2 (ja) | 2021-07-15 | 2026-02-03 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置 |
| CN118268297B (zh) * | 2024-06-03 | 2024-08-30 | 沈阳和研科技股份有限公司 | 一种陶瓷吸盘清洁装置及划片机 |
| CN118635188B (zh) * | 2024-08-13 | 2024-11-05 | 河南新黄水电工程有限公司辉县百泉分公司 | 一种水利工程施工设备的刷洗机构 |
| CN118831879B (zh) * | 2024-09-24 | 2025-01-24 | 洛阳合兴工贸有限公司 | 一种汽车连杆加工用清洁装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2877216B2 (ja) * | 1992-10-02 | 1999-03-31 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄装置 |
| JP4033709B2 (ja) | 2002-05-17 | 2008-01-16 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板洗浄方法及びその装置 |
| JP5904169B2 (ja) | 2013-07-23 | 2016-04-13 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 |
| JP6740028B2 (ja) | 2015-07-29 | 2020-08-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法および記憶媒体 |
| JP6969434B2 (ja) | 2018-02-21 | 2021-11-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄具、基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
| JP7104580B2 (ja) | 2018-07-27 | 2022-07-21 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 |
| KR102935928B1 (ko) | 2019-09-17 | 2026-03-06 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 세정 장치 |
| JP7291068B2 (ja) | 2019-12-09 | 2023-06-14 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 |
| JP7810528B2 (ja) | 2021-07-15 | 2026-02-03 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板洗浄装置 |
-
2021
- 2021-07-15 JP JP2021117423A patent/JP7810528B2/ja active Active
-
2022
- 2022-06-30 US US18/579,208 patent/US12463063B2/en active Active
- 2022-06-30 KR KR1020247003898A patent/KR102825486B1/ko active Active
- 2022-06-30 CN CN202280049929.6A patent/CN117642846A/zh active Pending
- 2022-06-30 WO PCT/JP2022/026392 patent/WO2023286635A1/ja not_active Ceased
- 2022-07-04 TW TW111124911A patent/TWI850692B/zh active
- 2022-07-04 TW TW113130596A patent/TW202447827A/zh unknown
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