JP2022171559A - ブランクマスク及びそれを用いたフォトマスク - Google Patents
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Abstract
Description
Mtr=|Rsk|×Rku
前記Dsは、前記遮光膜上にレジスト膜を1300Åの厚さで塗布及び乾燥した後、除去した後に測定したブランクマスクの重量である。
Mtr=|Rsk|×Rku
Mtr=|Rsk|×Rku
遮光膜20の表面の下記式1のMtr値が6以下である。
Mtr=|Rsk|×Rku
遮光膜20の下記式2のDw値が0.01%以下であってもよい。
遮光膜20は、遷移金属と、酸素及び窒素のうちの少なくともいずれか1つとを含むことができる。
遮光膜20は、波長193nmの光に対する光学密度が1.8以上であってもよい。遮光膜20は、波長193nmの光に対する光学密度が1.9以上であってもよい。
その他の薄膜として位相反転膜30、ハードマスク膜(図示せず)などが適用されてもよい。
図5は、本明細書の他の実施例に係るフォトマスクを説明する概念図である。図6は、フォトマスクにおいて遮光パターン膜の表面でのMtr値の測定方法を説明する概念図である。前記図5及び図6を参照して具現例を説明する。
Mtr=|Rsk|×Rku
本明細書の一実施例に係るブランクマスク100の製造方法は、スパッタリングチャンバ内に光透過性基板10及びスパッタリングターゲットを設置する準備ステップ;を含むことができる。
比較例1:DCスパッタリング装備のチャンバ内に、横6インチ、縦6インチ、厚さ0.25インチの石英素材の光透過性基板を配置した。T/S距離が255mm、基板とターゲットとの間の角度が25°をなすようにクロムターゲットをチャンバ内に配置した。
実施例1~4及び比較例1~3の遮光膜の表面のRsk値及びRku値をISO_4287に準拠して測定し、前記Rsk値及びRku値からMtr値を算出した。
実施例及び比較例別に、遮光膜上にレジスト膜を形成する前のブランクマスクの重量であるDo値を測定した。
10 光透過性基板
20 遮光膜
21 第1遮光層
22 第2遮光層
25 遮光パターン膜
30 位相反転膜
40 レジスト膜
200 フォトマスク
A フォトマスクの遮光膜パターンにおいてRsk値及びRku値の測定が可能な領域
Claims (11)
- 光透過性基板と、前記光透過性基板上に位置する遮光膜とを含み、
前記遮光膜は、遷移金属と、酸素及び窒素のうちの少なくともいずれか1つとを含み、
前記遮光膜の表面の下記式1のMtr値が6以下である、ブランクマスク。
[式1]
Mtr=|Rsk|×Rku
前記式1において、
前記|Rsk|は、Rsk値の絶対値である。 - 前記Rsk値は1以下である、請求項1に記載のブランクマスク。
- 前記Rku値は6以下である、請求項1に記載のブランクマスク。
- 前記遮光膜は、第1遮光層と、前記第1遮光層上に位置する第2遮光層とを含み、
前記第2遮光層の前記窒素含量と前記酸素含量を合わせた値は10~35原子%である、請求項1に記載のブランクマスク。 - 前記遷移金属は、Cr、Ta、Ti及びHfのうちの少なくともいずれか1つを含む、請求項1に記載のブランクマスク。
- 前記遮光膜は、冷却水を前記遮光膜の表面に直接噴射して冷却処理した、請求項1に記載のブランクマスク。
- 光透過性基板と、前記光透過性基板上に位置する遮光パターン膜とを含み、
前記遮光パターン膜は、遷移金属と、酸素及び窒素のうちの少なくともいずれか1つとを含み、
前記遮光パターン膜の上面の下記式1のMtr値が6以下である、フォトマスク。
[式1]
Mtr=|Rsk|×Rku
前記式1において、
前記|Rsk|は、Rsk値の絶対値である。 - スパッタリングチャンバ内に光透過性基板及びスパッタリングターゲットを設置する準備ステップと、
前記スパッタリングチャンバ内に雰囲気ガスを注入し、前記スパッタリングターゲットに電力を加えて、前記光透過性基板上に遮光膜が成膜された熱処理前の基板を形成する成膜ステップと、
前記熱処理前の基板に150~330℃で5~30分間熱処理を行って冷却処理前の基板を形成する熱処理ステップと、
前記冷却処理前の基板の前記光透過性基板側の表面及び前記遮光膜側の表面に冷却水を直接噴射冷却してブランクマスクを製造する冷却ステップとを含む、ブランクマスクの製造方法。 - 前記熱処理ステップを経た前記冷却処理前の基板を30~50℃で1~5分間安定化させる安定化ステップを含む、請求項9に記載のブランクマスクの製造方法。
- 前記冷却ステップにおいて、前記冷却水の温度は10~30℃であり、
前記冷却水を前記遮光膜側の表面に30~75°の角度で0.5~1.5L/minの流量で噴射する、請求項9に記載のブランクマスクの製造方法。
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