JP2022097508A - 封止用エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents
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Abstract
Description
例えば、上記課題を解決するための手段には、以下の実施態様が含まれる。
<2> 前記無機充填材は、アルミナと、窒化ケイ素、窒化ホウ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、炭化ケイ素及び窒化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一つの無機充填材と、を含む<1>に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
<3> 前記硬化剤がフェノール硬化剤である<1>又は<2>に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本開示において各成分は該当する物質を複数種含んでいてもよい。組成物中に各成分に該当する物質が複数種存在する場合、各成分の含有率は、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数種の物質の合計の含有率を意味する。
本開示の封止用エポキシ樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤及び(D)無機充填材を含み、前記無機充填材は、無機充填材全量に対し、アルミナを75質量%~98質量%含む。これにより、熱時硬度の低下を抑制しつつ高い放熱性を有する封止用エポキシ樹脂組成物が提供される。また、本開示の封止用エポキシ樹脂組成物は、例えば、電子部品装置を封止するために用いられる。
本開示の封止用エポキシ樹脂組成物(以下、「エポキシ樹脂組成物」とも称する。)は、(A)エポキシ樹脂を含む。(A)エポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を有するものであればその種類は特に制限されない。
本開示のエポキシ樹脂組成物は、(B)硬化剤を含む。硬化剤の種類は特に制限されず、(A)エポキシ樹脂の種類、エポキシ樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。
これらのフェノール硬化剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
本開示のエポキシ樹脂組成物は、(C)硬化促進剤を含む。硬化促進剤の種類は特に制限されず、(A)エポキシ樹脂の種類、エポキシ樹脂組成物の所望の特性等に応じて選択できる。また、(C)硬化促進剤としては、エポキシ樹脂組成物の電気的信頼性及び成形時の流動性の観点から、リン系の硬化促進剤が好ましい。
本開示のエポキシ樹脂組成物は、(D)無機充填材を含む。(D)無機充填材を含むことにより、硬化物とした際に吸湿性低減及び強度向上を図ることができる。
例えば、(D)無機充填材は、無機充填材全量に対し、炭化ケイ素を5質量%~25質量%含むことが好ましく、8質量%~25質量%含むことがより好ましく、10質量%~25質量%含むことが更に好ましく、15質量%~25質量%含むことが特に好ましい。
本開示のエポキシ樹脂組成物は、前述の(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤及び(D)無機充填材以外のその他の成分を含んでいてもよい。その他の成分としては、本発明の効果を奏する範囲において特に限定されず、離型剤;カップリング剤;臭素化エポキシ樹脂、リン化合物等の難燃剤;三酸化アンチモン、四酸化アンチモン等の難燃助剤;着色剤;応力緩和剤;酸化防止剤などの各種添加剤が挙げられる。
以下、その他の成分として、離型剤、カップリング剤、着色剤及び応力緩和剤の具体例について説明する。
エポキシ樹脂組成物は、成形時における金型との良好な離型性を得る観点から、離型剤を更に含んでいてもよい。離型剤は特に制限されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、パラフィン系ワックス、モンタン酸エステル等の脂肪酸エステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスなどが挙げられる。離型剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ樹脂組成物は、カップリング剤を更に含んでいてもよい。カップリング剤の種類は、特に制限されず、公知のカップリング剤を使用することができる。カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤及びチタンカップリング剤が挙げられる。カップリング剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ樹脂組成物は、着色剤を更に含んでもよい。着色剤としてはカーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化鉄、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を挙げることができる。着色剤の含有量は目的等に応じて適宜選択できる。着色剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ樹脂組成物は、シリコーンオイル、シリコーンゴム粒子、合成ゴム等の応力緩和剤を更に含んでもよい。応力緩和剤を含むことにより、パッケージの反り変形及びパッケージクラックの発生をより低減させることができる。応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の応力緩和剤(可とう剤)が挙げられる。具体的には、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー、NR(天然ゴム)、NBR(アクリロニトリル-ブタジエンゴム)、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子、メタクリル酸メチル-スチレン-ブタジエン共重合体(MBS)、メタクリル酸メチル-シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル-アクリル酸ブチル共重合体等のコア-シェル構造を有するゴム粒子などが挙げられる。応力緩和剤は、1種を単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ樹脂組成物の調製方法は、特に制限されない。一般的な手法としては、所定の配合量の成分をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。より具体的には、例えば、上述した成分の所定量を撹拌及び混合し、予め70℃~140℃に加熱してあるニーダー、ロール、エクストルーダー等で混練し、冷却し、粉砕する方法を挙げることができる。
本開示の電子部品装置は、素子と、前記素子を封止する上述の封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物とを備える。
電子部品装置としては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ、有機基板等の支持部材に、素子(半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子など)を搭載して得られた素子部をエポキシ樹脂組成物で封止したものが挙げられる。
より具体的には、リードフレーム上に素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部とをワイヤボンディング、バンプ等で接続した後、エポキシ樹脂組成物を用いてトランスファー成形等によって封止した構造を有するDIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Package)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Small Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Package)等の一般的な樹脂封止型IC(Integrated Circuit);テープキャリアにバンプで接続した素子をエポキシ樹脂組成物で封止した構造を有するTCP(Tape Carrier Package);支持部材上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した素子を、エポキシ樹脂組成物で封止した構造を有するCOB(Chip On Board)モジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール等;裏面に配線板接続用の端子を形成した支持部材の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と支持部材に形成された配線とを接続した後、エポキシ樹脂組成物で素子を封止した構造を有するBGA(Ball Grid Array)、CSP(Chip Size Package)、MCP(Multi Chip Package)などが挙げられる。また、プリント配線板においてもエポキシ樹脂組成物を好適に使用することができる。
下記に示す成分を表1に示す配合割合(質量部)で予備混合(ドライブレンド)した後、二軸ニーダーで混練し、冷却粉砕して実施例と比較例のエポキシ樹脂組成物を調製した。
・A1・・・ビスフェノール型エポキシ樹脂、新日鉄住金化学株式会社、品名「YSLV-80XY」
・A2・・・ビフェニル型エポキシ樹脂、三菱ケミカル株式会社、品名「YX-4000」
(B)硬化剤
・B1・・・トリフェニルメタン型フェノール樹脂、エア・ウォーター株式会社、品名「HE910」
(C)硬化促進剤
・C1・・・リン系硬化促進剤(トリブチルホスフィンとベンゾキノンの付加物)
(D)無機充填材
・DA-1・・・アルミナフィラー、デンカ株式会社、品名「DAB10FCAll」
・DA-2・・・アルミナフィラー、株式会社アドマテックス、品名「AE-2000SI」
・DB-1・・・アルミナフィラー/シリカフィラー=9/1(質量比)、デンカ株式会社、品名「DAB-10FC」
・DC-1・・・平均粒径(D50、小径側からの体積累積50%に対応する粒径)14.0μm及び比表面積0.3m2/gの炭化ケイ素
・DC-2・・・平均粒径(D50、小径側からの体積累積50%に対応する粒径)18.6μm及び比表面積0.3m2/gの炭化ケイ素
エポキシ樹脂組成物の熱時硬度の評価を以下のようにして行った。
上記のように調製したエポキシ樹脂組成物を、トランスファー成形機により、金型温度175℃~180℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で熱時硬度測定用の試験片(直径50mm×厚さ3mmの円板)を成形した。成形後直ちにショアD型硬度計を用いて試験片の熱時硬度を測定した。
結果を表2に示す。
エポキシ樹脂組成物の熱伝導率の評価を以下のようにして行った。
上記のように調製したエポキシ樹脂組成物を、真空ハンドプレス成形機により、金型温度175℃~180℃、成形圧力7.0MPa、硬化時間600秒の条件で熱伝導率評価用の試験片(1.1cm角、厚み1.1mm)を成形した。
成形した試験片について、厚さ方向の熱拡散率を測定した。熱拡散率の測定はレーザーフラッシュ法(装置:LFA447 nanoflash、NETZSCH社製)にて行った。パルス光照射は、パルス幅0.31(ms)、印加電圧247Vの条件で行った。測定は雰囲気温度25℃±1℃で行った。また上記試験片の密度は電子比重計(SD-200L、アルファーミラージュ株式会社製)を用いて測定した。
次いで、式(1)を用いて比熱、密度を熱拡散率に乗算することによって,熱伝導率の値を得た。
λ=α×Cp×ρ・・・式(1)
(式(1)中、λは熱伝導率(W/(m・K))、αは熱拡散率(m2/s)、Cpは比熱(J/(kg・K))、ρは密度(d:kg/m3)をそれぞれ示す。)
結果を表3に示す。
本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的且つ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
Claims (4)
- (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤及び(D)無機充填材を含み、前記無機充填材は、無機充填材全量に対し、アルミナを75質量%~98質量%含む封止用エポキシ樹脂組成物。
- 前記無機充填材は、アルミナと、窒化ケイ素、窒化ホウ素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、炭化ケイ素及び窒化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一つの無機充填材と、を含む請求項1に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
- 前記硬化剤がフェノール硬化剤である請求項1又は請求項2に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
- 素子と、前記素子を封止する請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の封止用エポキシ樹脂組成物の硬化物とを備える電子部品装置。
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