JP2021102531A - SiC単結晶製造装置およびSiC単結晶の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
なお、本明細書において、SiCウェハは、SiC単結晶インゴットをウェハ状にスライスしたものをいい、SiCエピタキシャルウェハは、SiCウェハにエピタキシャル膜を形成したものをいい、SiCデバイスは、SiCエピタキシャルウェハに対して素子形成したものをいう。
近年、市場の要求に伴い、SiCウェハの大口径化が求められている。そのためSiCインゴット自体の大口径化、長尺化の要望も高まっている。
本実施形態に係るSiC単結晶製造装置は、下部に原料を配置し、蓋部に種結晶を設置できる坩堝と、前記原料が充填される領域に配置され、前記蓋部へ近づくに従い先細り形状となるテーパー部を有するテーパー部材と、前記坩堝の外側に位置する加熱手段と、を有する。
坩堝3は円筒状であり、台座4はその中心軸が円筒状の坩堝3の中心軸に一致するような円柱状の形状で蓋部3aから下方に向かって突き出ている。台座4の下面に種結晶SDが固定されると、種結晶SDはその中心軸がほぼ円筒状の坩堝3の中心軸に一致することになる。原料Gは、坩堝3の下部3bに装填されるので、装填された原料Gの全体の中心軸が種結晶SDの中心軸にほぼ一致する。
坩堝3の内部には、テーパー部材1が配置される。テーパー部材1は、原料が充填される領域内に配置され、使用時には原料G内に挿入される。第1方向において、テーパー部材1の蓋部3aに近い側の端部を第1端部1aと称し、蓋部3aから離れた側の端部を第2端部1bと称する。テーパー部材1は蓋部3aへ近づくに従い先細るテーパー部を有する。図1に示すテーパー部材1は、第2端部1bから第1端部1aまで、蓋部3aへ近づくに従い連続的に先細る。すなわち、テーパー部材1は、部材全体がテーパー部である。
坩堝3の外側には、加熱手段2が位置する。加熱手段2は、公知のものを用いることができる。加熱手段2は、例えば高周波誘導加熱コイルである。コイルに高周波電流を流すことにより磁界が発生し、坩堝3に誘導電流が流れ、坩堝3が1900℃以上に発熱する。坩堝3内の原料Gが加熱されることで、原料Gから昇華ガスが発生し、発生した昇華ガスは成長空間Kを通って、種結晶SD上で再結晶化されて、SiC単結晶Cが成長する。
本実施形態に係るSiC単結晶製造装置100は、大口径のSiC単結晶を製造する際に特に有利である。本実施形態に係るSiC単結晶製造装置100は、例えば、8インチ以上のSiCウェハを作製する装置として好ましく用いることができる。
次いで、本実施形態に係るSiC単結晶の製造方法を説明する。本実施形態に係るSiC単結晶の製造方法は、上述のSiC単結晶製造装置を用いたものである。以下、図1に示すSiC単結晶製造装置100を用いた場合を例に説明する。
例えば、図5は、第2実施形態に係るSiC単結晶製造装置300の断面模式図である。第2実施形態に係るSiC単結晶製造装置300は、テーパー部材の形状が第1実施形態のSiC単結晶製造装置100と異なる。第2実施形態に係るSiC単結晶製造装置300のテーパー部材21は、蓋部3a側に円筒形状の円筒部21Aと蓋部3a側へ近づくに従い先細るテーパー部21Bとを有する。図5中には、原料Gから昇華するガスの流れの一例が模式的に示されている。第1実施形態に係るSiC単結晶製造装置100と同様の構成については、同様の符号を付し、説明を省略する。
図6は、第3実施形態に係るSiC単結晶製造装置400の断面模式図である。第3実施形態にかかるSiC単結晶製造装置400は、テーパー部材の数が第1実施形態と異なる。SiC単結晶製造装置400は、2つのテーパー部材1、51を有する。第1実施形態と同様の構成については、同様の符号を付し説明を省略する。
図8は、第4実施形態にかかるSiC単結晶製造装置500の断面模式図である。第4実施形態に係るSiC単結晶製造装置500は、テーパー部材1の外周方向に、円筒部材60をさらに備える点が第1実施形態に係るSiC単結晶製造装置100と異なる。第1実施形態に係るSiC単結晶製造装置100と同様の構成については同様の符号を付し、説明を省略する。
1a、11a、21a、31a、41a、51a:第1端部
1b、11b、21b、31b、41b、51b:第2端部
2、12:加熱手段
3:坩堝
3a:蓋部
3b:下部
4:台座
11A、21A、31A:円筒部
11B、21B、31B、41B:テーパー部
60:円筒部材
100、200、300、400、500:単結晶製造装置
SD:種結晶
W4:台座の径
Wa:第1端部の内径
WA:第1端部の外径
Wb:第2端部の内径
WB:第2端部の外径
K:成長空間
G:原料
C:単結晶
Claims (9)
- 下部に原料を配置し、蓋部に種結晶を設置できる坩堝と、
前記原料が充填される領域に配置され、前記蓋部へ近づくに従い先細り形状となるテーパー部を有するテーパー部材と、
前記坩堝の外側に位置する加熱手段と、を有するSiC単結晶製造装置。 - 前記テーパー部材は、前記蓋部側に、円筒形状の円筒部をさらに有する、請求項1に記載のSiC単結晶製造装置。
- 前記テーパー部材は、前記蓋部に近い第1端部を有し、
前記第1端部の平面視における内径は、前記種結晶が設置される台座の平面視における径の20%以上120%以下である、請求項1または2に記載のSiC単結晶製造装置。 - 前記テーパー部材は、前記蓋部から離れた第2端部を有し、
前記第2端部の平面視における内径は、前記坩堝の平面視における内径の50%以上100%以下である、請求項1〜3のいずれか一項に記載のSiC単結晶製造装置。 - 前記坩堝の平面視における内径は、200mm以上である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のSiC単結晶製造装置。
- 前記坩堝は、その軸方向における大きさよりも前記軸方向に垂直な方向における大きさの方が大きい、請求項1〜5のいずれか一項に記載のSiC単結晶製造装置。
- 前記テーパー部材の外側に、前記テーパー部材を囲む円筒部材をさらに有する、請求項1〜6のいずれか一項に記載のSiC単結晶製造装置。
- 前記テーパー部材を複数有し、
複数の前記テーパー部材は、それぞれ径が異なり、同心円状に配置されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載のSiC単結晶製造装置。 - 請求項1〜8のいずれか一項に記載のSiC単結晶製造装置を用いてSiC単結晶を製造するSiC単結晶の製造方法であって、
前記加熱手段は、前記坩堝の平面視中心の温度が最高温度とならないように加熱し、
前記テーパー部材は、昇華された原料ガスを前記坩堝の平面視中心に収束させる、SiC単結晶の製造方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002060297A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Agency Of Ind Science & Technol | 単結晶の成長装置および成長方法 |
JP2009274930A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Bridgestone Corp | 単結晶の製造装置及び製造方法 |
JP2012158520A (ja) * | 2012-05-30 | 2012-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | 単結晶成長装置 |
JP2017065969A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 新日鐵住金株式会社 | 炭化珪素単結晶インゴット製造用の黒鉛坩堝及び炭化珪素単結晶インゴットの製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002060297A (ja) * | 2000-08-21 | 2002-02-26 | Agency Of Ind Science & Technol | 単結晶の成長装置および成長方法 |
JP2009274930A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-11-26 | Bridgestone Corp | 単結晶の製造装置及び製造方法 |
JP2012158520A (ja) * | 2012-05-30 | 2012-08-23 | Mitsubishi Electric Corp | 単結晶成長装置 |
JP2017065969A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 新日鐵住金株式会社 | 炭化珪素単結晶インゴット製造用の黒鉛坩堝及び炭化珪素単結晶インゴットの製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114086247A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-02-25 | 江苏集芯半导体硅材料研究院有限公司 | 碳化硅单晶及其生长装置和制备方法 |
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