KR20120138445A - 잉곳 제조 장치 - Google Patents

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ingot manufacturing
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손창현
신동근
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엘지이노텍 주식회사
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Abstract

실시예에 따른 잉곳 제조 장치는, 원료를 수용하는 내부 도가니; 및 상기 원료 상에 위치하는 종자정 홀더; 및 상기 내부 도가니를 둘러싸고, 상기 원료의 일부를 노출하는 오픈 영역을 포함하는 외부 도가니를 포함한다.

Description

잉곳 제조 장치{APPARATUS FOR FABRICATING INGOT}
본 기재는 잉곳 제조 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 전기, 전자 산업분야 및 기계부품 분야에 있어서의 소재의 중요도는 매우 높아 실제 최종 부품의 특성 및 성능지수를 결정하는 중요한 요인이 되고 있다.
SiC는 열적 안정성이 우수하고, 내산화성이 우수한 특징을 가지고 있다. 또한, SiC는 4.6W/Cm℃ 정도의 우수한 열 전도도를 가지고 있으며, 직경 2인치 이상의 대구경의 기판으로서 생산 가능하다는 장점이 있다. 특히, SiC 단결정 성장 기술이 현실적으로 가장 안정적으로 확보되어, 기판으로서 산업적 생산 기술이 가장 앞서있다.
SiC의 경우, 종자정을 사용하여 승화재결정법에 의해 탄화규소 단결정을 성장시키는 방법이 제시되어 있다. 원료가 되는 탄화규소 분말을 도가니 내에 수납하고 그 상부에 종자정이 되는 탄화규소 단결정을 배치한다. 상기 원료와 종자정 사이에 온도구배를 형성함으로써 도가니 내의 원료가 종자정 측으로 확산되고 재결정화되어 단결정이 성장된다.
이러한 도가니의 상부에 덮개가 위치하고, 상기 도가니 및 상기 덮개 사이에 실링(sealing)을 위해 그라파이트 포일(graphite foil)이 삽입된다. 상기 덮개의 하부에 종자정 홀더가 위치하게 되고, 상기 덮개의 외곽 부분에 흑연 볼트 등으로 고정한다. 이로 인해 상기 덮개의 중심 부분은 완전한 고정이 되지 않고, 단결정 성장 시 고온에 도달하게 되면 종자정 홀더와 덮개 사이에 틈이 발생할 수 있다. 이러한 틈은 저온의 온도 영역을 형성하여 성장 가스가 상기 틈으로 이동하고, 상기 틈에 다결정이 형성되는 문제가 있다. 이러한 다결정 층은 상기 덮개와 상기 종자정 홀더 사이에서 열 전달의 방해물로 작용하기 때문에 예기치 못한 온도 구배를 형성하게 된다. 이로써 성장하는 단결정에 결함이 발생할 수 있고, 단결정의 품질이 낮을 수 있다. 또한, 단결정 성장 중 종자정의 정확한 온도 측정이 불가능하여 단결정의 성장 거동을 제어하기 어렵다는 문제가 있다.
실시예는 고품질의 단결정을 성장시킬 수 있다.
실시예에 따른 잉곳 제조 장치는, 원료를 수용하는 내부 도가니; 및 상기 원료 상에 위치하는 종자정 홀더; 및 상기 내부 도가니를 둘러싸고, 상기 원료의 일부를 노출하는 오픈 영역을 포함하는 외부 도가니를 포함한다.
제1 실시예에 따른 잉곳 제조 장치는 내부 도가니 및 외부 도가니를 포함한다. 상기 외부 도가니는 안착부 및 덮개부를 포함하고, 상기 덮개부를 통해 상기 내부 도가니를 완전히 밀폐할 수 있다. 즉, 상기 덮개부는 오픈 영역을 포함하고, 상기 오픈 영역에 종자정 홀더가 위치할 수 있다.
따라서, 상기 덮개부는 상기 내부 도가니를 완전히 밀폐할 수 있다. 이를 통해, 단결정 성장 시 원료 및 성장 가스의 누출을 최소화할 수 있다.
상기 안착부 및 상기 덮개부는 서로 분리될 수 있다. 이를 통해 상기 내부 도가니를 쉽게 장입할 수 있다. 또한, 상기 덮개부에 상기 종자정 홀더를 쉽게 결합할 수 있다. 또한, 공정이 마무리된 후, 성장한 단결정을 쉽게 꺼낼 수 있다. 즉, 단결정 성장 후 종자정 홀더의 손쉬운 분리로 인한 도가니 재사용이 가능하다.
상기 종자정 홀더가 상기 외부 도가니보다 더 두껍게 형성됨으로써, 상기 종자정 중심 부분의 온도를 상승시킬 수 있다. 즉, 상기 종자정 홀더는 상기 종자정 중심 부분을 고온으로 유지할 수 있다.
이를 통해, 상기 종자정의 중심 부분과 상기 종자정의 가장자리 부분의 온도차를 감소시킬 수 있다. 즉, 상기 종자정의 온도를 균일하게 유지할 수 있다. 따라서, 종자정의 가장자리 부분의 결함을 최소화할 수 있다. 또한, 상기 종자정의 중심 부분과 상기 종자정의 가장자리 부분의 온도차에 의해 상기 종자정으로부터 성장한 단결정의 중심 부분이 볼록한 형상을 가지는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 상기 단결정을 더 효율적으로 이용할 수 있다.
또한, 상기 외부 도가니 상에 위치하는 단열재는 다양한 형상 및 구조로 변경될 수 있어, 상기 종자정의 온도를 보다 쉽게 균일하게 유지할 수 있다.
제2 실시예에 따른 잉곳 제조 장치는 필터부를 더 포함한다. 상기 필터부가 원료의 상부에 위치함으로써, 상기 원료의 표면을 평탄하게 유지할 수 있고, 상기 원료로 유입될 수 있는 이물질을 차단할 수 있다. 또한, 상기 필터부는 성장 초기 원료의 승화속도를 제어함으로써, 고품질의 단결정 성장이 가능하다.
도 1은 제1 실시예에 따른 잉곳 제조 장치의 단면도이다.
도 2는 실시예에 따른 잉곳 제조 장치에 포함되는 종자정 홀더, 종자정 홀더 결합부, 외부 도가니 및 내부 도가니의 분해 사시도이다.
도 3 내지 도 6은 실시예에 따른 잉곳 제조 장치의 장입 순서도이다.
도 7은 제2 실시예에 따른 잉곳 제조 장치의 단면도이다.
실시예들의 설명에 있어서, 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들이 기판, 각 층(막), 영역, 패드 또는 패턴들의 “상/위(on)”에 또는 “하/아래(under)”에 형성된다는 기재는, 직접(directly) 또는 다른 층을 개재하여 형성되는 것을 모두 포함한다. 각 층의 상/위 또는 하/아래에 대한 기준은 도면을 기준으로 설명한다.
도면에서 각 층(막), 영역, 패턴 또는 구조물들의 두께나 크기는 설명의 명확성 및 편의를 위하여 변형될 수 있으므로, 실제 크기를 전적으로 반영하는 것은 아니다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.
도 1 내지 도 6을 참조하여, 제1 실시예에 따른 잉곳 제조 장치를 상세하게 설명한다. 도 1은 제1 실시예에 따른 잉곳 제조 장치의 단면도이다. 도 2는 실시예에 따른 잉곳 제조 장치에 포함되는 종자정 홀더, 외부 도가니 및 내부 도가니의 분해 사시도이다. 도 3 내지 도 6은 실시예에 따른 잉곳 제조 장치의 장입 순서도이다.
도 1 및 도 6을 참조하면, 제1 실시예에 따른 잉곳 제조 장치(10)는, 내부 도가니(100), 외부 도가니(120), 종자정 홀더(162), 종자정 홀더 결합부(164), 포커싱 튜브(180), 제1 단열재(200), 제2 단열재(210), 석영관(400) 및 발열 유도부(500)를 포함한다.
상기 내부 도가니(100)는 원료(130)를 수용할 수 있다. 상기 원료(130)는 규소 및 탄소를 포함할 수 있다. 더 구체적으로는, 상기 원료(130)는 탄화규소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 내부 도가니(100)는 탄화규소 분말(SiC powder) 또는 폴리카보실란(polycarbosilane) 을 수용할 수 있다.
상기 내부 도가니(100)는 상기 원료(130)를 수용할 수 있도록 원통형의 형상을 가질 수 있다.
상기 내부 도가니(100)는 탄화규소의 승화 온도 이상의 융점을 갖는 물질을 포함할 수 있다.
일례로, 상기 내부 도가니(100)는 흑연으로 제작될 수 있다.
또한, 상기 내부 도가니(100)는 흑연에 탄화규소의 승화 온도 이상의 융점을 갖는 물질이 도포될 수도 있다. 여기서, 흑연 재질 상에 도포되는 상기 물질은, 탄화규소 단결정이 성장되는 온도에서 실리콘 및 수소에 대해 화학적으로 불활성인 물질을 사용하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 금속 탄화물 또는 금속 질화물을 이용할 수 있다. 특히, Ta, Hf, Nb, Zr, W 및 V 중 적어도 둘 이상을 포함하는 혼합물 및 탄소를 포함하는 탄화물이 도포될 수 있다. 또한, Ta, Hf, Nb, Zr, W 및 V 중 적어도 둘 이상을 포함하는 혼합물 및 질소를 포함하는 질화물이 도포될 수 있다.
이어서, 상기 외부 도가니(120)는 상기 내부 도가니(100)를 둘러싸면서 위치할 수 있다. 상기 외부 도가니(120)는 상기 내부 도가니(100)에 수용된 원료(130)가 단결정으로 성장할 수 있도록 상기 내부 도가니(100)를 밀폐시킬 수 있다.
상기 외부 도가니(120)는 상기 내부 도가니(100)가 안착되는 안착부(122) 및 상기 종자정 홀더(162)가 위치하는 덮개부(124)를 포함할 수 있다.
상기 안착부(122)는 상기 내부 도가니(100)의 하부에 위치할 수 있다. 상기 안착부(122)는 상기 내부 도가니(100)를 지지할 수 있다. 상기 안착부(122)는 상기 내부 도가니(100)의 하부를 수용할 수 있다. 따라서, 상기 안착부(122)는 일정한 깊이를 가질 수 있다.
상기 덮개부(124)는 상기 안착부(122) 상에 위치할 수 있다. 상기 덮개부(124)는 상기 내부 도가니를 둘러쌀 수 있다.
상기 덮개부(124)는 상기 원료(130)의 일부를 노출하는 오픈 영역(124a)을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 오픈 영역(124a)은 상기 원료(130) 표면의 일부를 노출할 수 있다. 상기 오픈 영역(124a)은 상기 덮개부(124)의 상단에 위치할 수 있다. 상기 오픈 영역(124a)에는 상기 종자정 홀더(162)가 위치할 수 있다.
따라서, 상기 덮개부(124)는 상기 내부 도가니(100)를 완전히 밀폐할 수 있다. 이를 통해, 단결정 성장 시 원료 및 성장 가스의 누출을 최소화할 수 있다.
상기 안착부(122) 및 상기 덮개부(124)는 서로 분리될 수 있다. 이를 통해 상기 내부 도가니(100)를 쉽게 장입할 수 있다. 또한, 상기 덮개부(124)에 상기 종자정 홀더(162)를 쉽게 결합할 수 있다. 또한, 공정이 마무리된 후, 성장된 단결정을 쉽게 꺼낼 수 있다. 즉, 단결정 성장 후 종자정 홀더(162)의 손쉬운 분리로 인한 도가니(100) 재사용이 가능하다.
상기 외부 도가니(120)는 앞서 설명한 상기 내부 도가니(100)와 같은 물질을 포함할 수 있다.
상기 종자정 홀더(162)는 상기 오픈 영역(124a)에 위치할 수 있다. 즉, 상기 종자정 홀더(162)는 상기 오픈 영역(124a)에 위치하여, 상기 내부 도가니(100)를 완전히 밀폐시킬 수 있다.
상기 종자정 홀더(162)의 두께(T)는 상기 외부 도가니(120)의 두께(t)보다 두꺼울 수 있다.
일반적으로, 외부 도가니(120) 외벽의 온도가 높고, 중심부로 갈수록 상대적으로 온도가 낮아진다. 따라서, 상기 종자정(170) 중심 부분의 온도가 상기 종자정(170) 가장자리 부분의 온도보다 낮다.
본 실시예에서는, 상기 종자정(170) 중심 부분에 대응하는 상기 종자정 홀더(162)의 두께(T)가 상기 외부 도가니(120)의 두께(t)보다 더 두껍게 형성됨으로써, 상기 종자정(170) 중심 부분의 온도를 상승시킬 수 있다. 즉, 상기 종자정(170) 중심 부분을 고온으로 유지할 수 있다.
이를 통해, 상기 종자정(170)의 중심 부분과 상기 종자정(170)의 가장자리 부분의 온도차를 감소시킬 수 있다. 즉, 상기 종자정(170)의 온도를 균일하게 유지할 수 있다. 따라서, 종자정(170)의 가장자리 부분의 결함을 최소화할 수 있다. 또한, 상기 종자정(170)의 중심 부분과 상기 종자정(170)의 가장자리 부분의 온도차에 의해 상기 종자정(170)으로부터 성장한 단결정의 중심 부분이 볼록한 형상을 가지는 것을 방지할 수 있다. 이로써, 상기 단결정을 더 효율적으로 이용할 수 있다.
상기 종자정 홀더(162)는 종자정이 부착되는 부착부(162a) 및 상기 종자정 홀더(162)를 고정시키는 고정부(162b)를 포함할 수 있다.
상기 부착부(162a)는 상기 외부 도가니(120) 내에 위치할 수 있다. 즉, 단결정 성장 공정이 진행되는 상기 외부 도가니(120)의 내부에 위치할 수 있다. 상기 부착부(162a)에 상기 종자정(170)이 부착된다. 상기 종자정(170)이 상기 종자정 홀더(162)의 부착부(162a)에 부착됨으로써, 성장된 단결정이 상기 외부 도가니(120)에까지 성장되는 것을 방지할 수 있다.
상기 고정부(162b)는 상기 외부 도가니(120)의 바깥쪽에 위치할 수 있다. 즉, 상기 고정부(162b)는 상기 외부 도가니(120) 바깥으로 노출될 수 있다.
상기 고정부(162b)는 상기 종자정 홀더(162)를 상기 외부 도가니(120)에 고정시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 고정부(162b)는 상기 종자정 홀더 결합부(164)와 결합하여 상기 종자정 홀더(162)를 상기 외부 도가니(120)에 고정시킬 수 있다.
상기 고정부(162b)가 상기 외부 도가니(120)의 바깥쪽에 위치하기 때문에 상기 종자정(170)의 온도를 보다 정확하게 측정할 수 있다. 따라서, 상기 종자정(170)으로부터 성장하는 단결정의 성장 거동을 쉽게 제어할 수 있다.
상기 종자정 홀더(162)는 고밀도의 흑연을 포함할 수 있다.
상기 종자정 홀더(162) 및 상기 외부 도가니(120)가 결합되기 때문에, 단결정 성장 시 원료(130) 및 가스의 누출을 방지할 수 있다. 또한, 상기 종자정 홀더(162) 및 상기 외부 도가니(120)의 결합을 위한 별도의 실링(sealing)과정을 생략할 수 있다.
종래에는 상기 내부 도가니의 상부에 덮개가 위치하였고, 상기 내부 도가니 및 상기 덮개 사이에 실링을 위해 그라파이트 포일(graphite foil)이 삽입되었다. 상기 덮개의 하부에 종자정 홀더(162)가 위치하게 되고, 상기 덮개의 외곽 부분에 흑연 볼트 등으로 고정하였다. 이로 인해 상기 덮개의 중심 부분은 완전한 고정이 되지 않고, 단결정 성장 시 고온에 도달하게 되면 종자정 홀더(162)와 덮개 사이에 틈이 발생할 수 있었다. 이러한 틈은 저온의 온도 영역을 형성하여 성장 가스가 상기 틈으로 이동하고, 상기 틈에 다결정이 형성되는 문제가 있었다. 이러한 다결정 층은 상기 덮개와 상기 종자정 홀더(162) 사이에서 열 전달의 방해물로 작용하기 때문에 예기치 못한 온도 구배를 형성하게 되었다. 이로써 성장하는 단결정에 결함이 발생할 수 있고, 단결정의 품질이 낮을 수 있었다. 또한, 단결정 성장 중 종자정의 정확한 온도 측정이 불가능하여 단결정의 성장 거동을 제어하기 어려웠다.
상기 종자정 홀더 결합부(164)는 상기 종자정 홀더(162)와 결합할 수 있다. 도 2에 도시한 바와 같이, 상기 종자정 홀더 결합부(164) 및 상기 종자정 홀더(162)는 나사 결합될 수 있다. 그러나 실시예가 이에 한정되는 것은 아니고, 상기 종자정 홀더 결합부(164) 및 상기 종자정 홀더(162)는 다양한 방법으로 결합될 수 있다.
상기 종자정 홀더 결합부(164)가 상기 종자정 홀더(162)와 결합함으로써, 상기 상기 종자정 홀더(162)가 상기 외부 도가니(120)에 밀착할 수 있다. 따라서, 상기 종자정 홀더(162) 및 상기 외부 도가니(120) 사이에 틈이 형성되지 않도록 할 수 있다.
상기 포커싱 튜브(180)는 상기 외부 도가니(120) 내부에 위치한다. 상기 포커싱 튜브(180)는 단결정이 성장하는 부분에 위치할 수 있다. 상기 포커싱 튜브(180)는 승화된 탄화규소 가스의 이동통로를 좁게 하여 승화된 탄화규소의 확산을 상기 종자정(170)으로 집속시킬 수 있다. 이를 통해 단결정의 성장률을 높일 수 있다.
이어서, 상기 제1 단열재(200)는 상기 도가니(100)를 둘러싼다. 상기 제1 단열재(200)는 상기 도가니(100)의 온도를 결정 성장 온도로 유지하도록 한다. 상기 제1 단열재(200)는 탄화규소의 결정 성장 온도가 매우 높기 때문에, 흑연 펠트를 이용할 수 있다. 구체적으로, 상기 제1 단열재(200)는 흑연 섬유를 압착시켜 일정 두께의 원통형으로 제작된 흑연 펠트를 사용할 수 있다. 또한, 상기 제1 단열재(200)는 복수의 층으로 형성되어 상기 도가니(100)를 둘러쌀 수 있다.
상기 제2 단열재(210)는 상기 외부 도가니(120) 상에 배치된다. 상기 제2 단열재(210)는 상기 외부 도가니(120)의 외곽 부분에 배치될 수 있다.
상기 제2 단열재(210)는 상기 외부 도가니(120)의 온도를 감소시킬 수 있다. 이로써, 상기 종자정(170)의 중심 부분과 상기 종자정(170)의 가장자리 부분의 온도차를 감소시킬 수 있다.
상기 제2 단열재(210)는 상기 외부 도가니(120) 길이 방향으로 연장되는 연장부(210a) 및 상기 연장부(210a)와 교차하는 방향으로 형성되는 교차부(210b)를 포함한다. 상기 연장부(210a) 및 상기 교차부(210b)가 다양한 형상을 가질 수 있다.
상기 제2 단열재(210)는 흑연을 포함할 수 있다.
상기 제2 단열재(210)는 상기 종자정 홀더(162) 주위에 위치할 수 있다. 구체적으로, 상기 제2 단열재(210)는 상기 외부 도가니(120) 밖으로 노출된 상기 고정부(162b)의 주위에 배치될 수 있다. 따라서, 상기 종자정 홀더(162)는 상기 제2 단열재(210)로부터 직접적인 영향을 받을 수 있다. 이로써, 상기 제2 단열재(210)의 구조 및 형상의 변경을 통해 최적의 온도 구배를 구현할 수 있다.
이어서, 상기 석영관(400)은 상기 도가니(100)의 외주면에 위치한다. 상기 석영관(400)은 상기 도가니(100)의 외주면에 끼워진다. 상기 석영관(400)은 상기 발열 유도부(500)에서 단결정 성장장치의 내부로 전달되는 열을 차단할 수 있다. 상기 석영관(400)은 내부가 빈 중공형의 관일 수 있다. 상기 석영관(400)의 내부 공간에 냉각수가 순환될 수 있다. 따라서, 상기 석영관(400)은 단결정의 성장 속도, 성장 크기 등을 보다 정확하게 제어할 수 있다.
상기 발열 유도부(500)는 상기 외부 도가니(120)의 외부에 위치한다. 상기 발열 유도부(500)는 일례로, 고주파 유도 코일일 수 있다. 고주파 유도 코일에 고주파 전류를 흐르게 함으로써 상기 내부 도가니(100) 및 상기 외부 도가니(120)를 가열할 수 있다. 즉, 상기 내부 도가니(100)에 수용되는 상기 원료(130)를 원하는 온도로 가열할 수 있다.
상기 발열 유도부(500)에서 유도 가열되는 중심 영역이 외부 도가니(120)의 중심부보다 낮은 위치에 형성된다. 따라서, 상기 외부 도가니(120)의 상부 및 하부에 서로 다른 가열온도 영역을 갖는 온도구배가 형성된다. 즉, 발열 유도부(500)의 중심부인 핫존(hot zone, HZ)이 상기 외부 도가니(120)의 중심에서 상대적으로 낮은 위치에 형성되어, 핫존(HZ)을 경계로 상기 외부 도가니(120)의 하부의 온도가 상기 외부 도가니(120) 상부의 온도보다 높게 형성된다. 상기 외부 도가니(120)의 하부에 원료(130)를 수용하고 있는 내부 도가니(100)가 위치하므로, 상기 내부 도가니(100)의 온도가 높게 형성된다. 또한, 상기 내부 도가니(100)의 내부 중심부에서 외곽 방향을 따라 온도가 높게 형성된다. 이러한 온도구배로 인하여 탄화규소 원료(130)의 승화가 일어나고, 승화된 탄화규소 가스가 상대적으로 온도가 낮은 종자정(170)의 표면으로 이동한다. 이로 인해, 상기 탄화규소 가스가 재결정되어 단결정으로 성장된다.
이하, 도 3 내지 도 6을 참조하여, 내부 도가니(100), 외부 도가니(120), 종자정 홀더(162) 및 종자정 홀더 결합부(164)의 장입 순서를 설명한다.
도 3을 참조하면, 상기 덮개부(124)의 오픈 영역에 상기 종자정 홀더(162)를 끼우고, 상기 종자종 홀더(162)와 상기 종자정 홀더 결합부(164)를 결합할 수 있다. 이때, 상기 종자정 홀더(162) 및 상기 덮개부(124) 사이에 틈이 발생하지 않도록 밀착하여 결합할 수 있다.
도 4를 참조하면, 내부 도가니(100)에 원료(130)를 수용할 수 있다.
도 5를 참조하면, 상기 내부 도가니(100)를 상기 덮개부(124)로 밀폐시킬 수 있다.
도 6을 참조하면, 상기 내부 도가니(100)의 하부에 상기 안착부(122)를 위치시켜, 상기 내부 도가니(100)를 완전히 밀폐시킬 수 있다.
이하, 도 7을 참조하여, 제2 실시예에 따른 잉곳 제조 장치에 대해 상세하게 설명한다. 명확하고 간략한 설명을 위하여 제1 실시예와 동일 또는 유사한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략한다.
도 7은 제2 실시예에 따른 잉곳 제조 장치의 단면도이다.
도 7을 참조하면, 제2 실시예에 따른 잉곳 제조 장치(20)는 필터부(182)를 더 포함한다.
구체적으로, 상기 필터부(182)는 상기 원료(130) 상에 위치할 수 있다. 또한, 도 7에 도시한 바와 같이, 상기 필터부(182)는 상기 외부 도가니(120)의 내부 벽을 따라 형성될 수 있다.
상기 필터부(182)는 멤브레인을 포함할 수 있다. 구체적으로, 상기 필터부(182)는 섬유상의 멤브레인일 수 있다.
상기 필터부(182)가 상기 원료(130) 상부에 위치함으로써, 상기 원료(130)의 표면을 평탄하게 유지할 수 있고, 상기 원료(130)로 유입될 수 있는 이물질을 차단할 수 있다. 또한, 상기 필터부(182)는 성장 초기 원료(130)의 승화속도를 제어함으로써, 고품질의 단결정 성장이 가능하다.
또한, 상기 필터부(182)는 특정 성분을 선택적으로 통과시킬 수 있다. 구체적으로, 상기 필터부(182)는 탄소 불순물 및 오염물질들을 흡착할 수 있다. 즉, 상기 원료(130)로부터 생성된 탄소 불순물이 상기 단결정 성장 과정에 참여하는 것을 방지할 수 있다. 상기 탄소 불순물이 상기 단결정으로 이동할 경우, 상기 단결정에 결함을 발생시킬 수 있다.
상술한 실시예에 설명된 특징, 구조, 효과 등은 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함되며, 반드시 하나의 실시예에만 한정되는 것은 아니다. 나아가, 각 실시예에서 예시된 특징, 구조, 효과 등은 실시예들이 속하는 분야의 통상의 지식을 가지는 자에 의하여 다른 실시예들에 대해서도 조합 또는 변형되어 실시 가능하다. 따라서 이러한 조합과 변형에 관계된 내용들은 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
또한, 이상에서 실시예들을 중심으로 설명하였으나 이는 단지 예시일 뿐 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명이 속하는 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 실시예의 본질적인 특성을 벗어나지 않는 범위에서 이상에 예시되지 않은 여러 가지의 변형과 응용이 가능함을 알 수 있을 것이다. 예를 들어, 실시예들에 구체적으로 나타난 각 구성 요소는 변형하여 실시할 수 있는 것이다. 그리고 이러한 변형과 응용에 관계된 차이점들은 첨부한 청구 범위에서 규정하는 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

Claims (14)

  1. 원료를 수용하는 내부 도가니;
    상기 원료 상에 위치하는 종자정 홀더; 및
    상기 내부 도가니를 둘러싸고, 상기 원료의 일부를 노출하는 오픈 영역을 포함하는 외부 도가니를 포함하는 잉곳 제조 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 오픈 영역이 상기 원료 상에 위치하는 잉곳 제조 장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 종자정 홀더는 상기 오픈 영역에 위치하는 잉곳 제조 장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 종자정 홀더의 두께는 상기 외부 도가니의 두께보다 더 두꺼운 잉곳 제조 장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 외부 도가니는 상기 내부 도가니가 안착되는 안착부; 및
    상기 종자정 홀더가 위치하는 덮개부를 포함하는 잉곳 제조 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 안착부 및 상기 덮개부가 서로 분리되는 잉곳 제조 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 덮개부에 상기 오픈 영역이 위치하는 잉곳 제조 장치.
  8. 제5항에 있어서,
    상기 덮개부의 상부에 상기 종자정 홀더를 고정하는 종자정 홀더 결합부를 포함하는 잉곳 제조 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 종자정 홀더 및 상기 종자정 홀더 결합부가 서로 결합되는 잉곳 제조 장치.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 종자정 홀더 및 상기 종자정 홀더 결합부는 나사 결합되는 잉곳 제조 장치.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 덮개부 상에 배치되는 단열재를 더 포함하는 잉곳 제조 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 단열재는 상기 외부 도가니의 외곽에 배치되는 잉곳 제조 장치.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 단열재는 흑연을 포함하는 잉곳 제조 장치.
  14. 제1항에 있어서,
    상기 원료 상에 필터부를 더 포함하는 잉곳 제조 장치.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101538556B1 (ko) * 2013-12-26 2015-07-22 주식회사 포스코 물리적 체결을 이용한 대구경 단결정 성장장치 및 방법

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015013762A (ja) 2013-07-03 2015-01-22 住友電気工業株式会社 炭化珪素単結晶の製造方法および炭化珪素単結晶基板
US10458014B2 (en) 2015-03-24 2019-10-29 Siva Power, Inc. Thin-film deposition methods with thermal management of evaporation sources
JP2017065934A (ja) * 2015-09-28 2017-04-06 住友電気工業株式会社 炭化珪素単結晶の製造方法
TW201807272A (zh) * 2016-08-26 2018-03-01 國家中山科學研究院 一種用於成長單晶晶體之裝置
CN106222739A (zh) * 2016-09-13 2016-12-14 山东省科学院能源研究所 一种改善物理气相传输法晶体生长炉温度场分布的装置
JP2018048053A (ja) 2016-09-23 2018-03-29 昭和電工株式会社 SiC単結晶成長用坩堝
CN115537929B (zh) * 2022-12-06 2023-03-10 浙江晶越半导体有限公司 一种用于气相升华法生长氮化铝的晶体生长装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3898278B2 (ja) * 1997-04-21 2007-03-28 昭和電工株式会社 炭化ケイ素単結晶の製造方法及びその製造装置
US6451112B1 (en) * 1999-10-15 2002-09-17 Denso Corporation Method and apparatus for fabricating high quality single crystal
US7601441B2 (en) * 2002-06-24 2009-10-13 Cree, Inc. One hundred millimeter high purity semi-insulating single crystal silicon carbide wafer
US7371281B2 (en) * 2002-09-19 2008-05-13 Showa Denko K.K. Silicon carbide single crystal and method and apparatus for producing the same
WO2006110512A1 (en) * 2005-04-07 2006-10-19 North Carolina State University Seeded growth process for preparing aluminum nitride single crystals
KR101003075B1 (ko) * 2008-04-15 2010-12-21 네오세미테크 주식회사 SiC 단결정 성장방법 및 장치
KR20110017110A (ko) * 2009-08-13 2011-02-21 네오세미테크 주식회사 다중 구조 도가니를 이용한 대구경 탄화규소 단결정 성장

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101538556B1 (ko) * 2013-12-26 2015-07-22 주식회사 포스코 물리적 체결을 이용한 대구경 단결정 성장장치 및 방법

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