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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0633506B1 (en) * 1993-06-11 2004-10-20 Nikon Corporation Scanning exposure apparatus
JPH08211787A (ja) * 1995-02-08 1996-08-20 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
JP2000010013A (ja) * 1998-06-24 2000-01-14 Nikon Corp 位相差顕微鏡及び重ね合わせ測定装置
JP4392879B2 (ja) 1998-09-28 2010-01-06 キヤノン株式会社 投影露光装置及びデバイスの製造方法
JP3571945B2 (ja) * 1998-12-07 2004-09-29 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
JP2000223406A (ja) 1999-02-03 2000-08-11 Nikon Corp 露光装置および露光方法
FR2831765B1 (fr) * 2001-10-31 2004-02-13 Automa Tech Sa Dispositif pour insoler une face d'un panneau
JP2004319770A (ja) 2003-04-16 2004-11-11 Nikon Corp 露光方法及びデバイス製造方法
JP3718511B2 (ja) * 2003-10-07 2005-11-24 株式会社東芝 露光装置検査用マスク、露光装置検査方法及び露光装置
JP2009302354A (ja) 2008-06-16 2009-12-24 Canon Inc 露光装置、デバイス製造方法及び開口絞りの製造方法
JP2010073835A (ja) 2008-09-17 2010-04-02 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP5396885B2 (ja) 2009-01-29 2014-01-22 株式会社ニコン 遮光ユニット、照明光学系、露光装置及びデバイスの製造方法
WO2011010560A1 (ja) 2009-07-24 2011-01-27 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2011040716A (ja) 2009-08-06 2011-02-24 Nikon Corp 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法
JP5668999B2 (ja) 2010-01-26 2015-02-12 株式会社ニコン 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JP2011228556A (ja) * 2010-04-22 2011-11-10 Nikon Corp 可変スリット装置、照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2015079807A (ja) * 2013-10-16 2015-04-23 キヤノン株式会社 投影露光装置及び露光条件計算装置
JP6745647B2 (ja) 2016-06-01 2020-08-26 キヤノン株式会社 走査露光装置および物品製造方法

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