JP5668999B2 - 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
以下、本発明の第1の実施形態を図1〜図6(D)に基づいて説明する。
+K30Y3+K21Y2X1+K12Y1X2+K03X3+K40Y4+K50Y5+K60Y …(1)
ΔY(1)(X,Y)=H00+H10Y1+H01X1+H20Y2+H11Y1X1+H02X2
+H30Y3+H21Y2X1+H12Y1X2+H03X3
+H40Y4+H31Y3X1+H50Y5+H40Y4X1+H60Y6+H50Y5X1 …(2)
ここで、各係数Kmn,Hmnと駆動対象のレンズとの関係は、予め定められており、各係数Kmn,Hmnの値が決定した式(1)及び式(2)は、投影像の歪みを補正するための可動レンズ等の各調整対象の具体的な調整内容、すなわち投影像の歪みの調整内容を記述する。
εb=Σij(dRij−ΔR(1)(Xi,Yj))2wb(Xi/β) …(3b)
ここで、wa(Xi/β),wb(Xi/β)は、可変スリット装置40を用いてレチクルR上の照明領域IARに照射される照明光ILの強度分布(照度分布)であり、それぞれ、部分パターンPAa,PAbを照明する際の照度分布である(図2(C)参照)。最小自乗誤差εa,εbを用いることにより、それぞれ、ウエハW上の分割領域Sa,Sbに投影される部分パターンPAa,PAbの投影像の歪みを記述する2組の第1補正関数ΔR(1)(X,Y)(係数Kmn,Hmn)が得られる。なお、ここで求められる2組の係数Kmn,Hmnの値を用いて表される第1補正関数ΔR(1)(X,Y)を、それぞれ、ΔR(1a)(X,Y),ΔR(1b)(X,Y)と表記する。
次に、本発明の第2の実施形態を、図7及び図8に基づいて説明する。本第2の実施形態では、前述の第1の実施形態における露光装置100が使用される。ここで、前述した第1の実施形態と同一の構成部分については同一の符号を用いるとともに、その詳細説明を省略する。
ΔY(2)(X,Y)=h00+h10Y1+h01X1+h20Y2+h11Y1X1
+h30Y3+h21Y2X1+h40Y4+h31Y3X1+h50Y5+h40Y4X1 …(5)
ここで、各係数kmn,hmnとステージRST,WSTの同期駆動との関係は、予め定められており、各係数kmn,hmnの値が決定した式(4)及び式(5)は、投影像の歪みを補正するためのステージRST,WSTの同期駆動の具体的な調整内容、すなわち投影像の歪みの調整内容を記述する。
…(6a)
εb=Σij(dRij−ΔR(1)(Xi,Yj)−ΔR(2)(Xi,Yj))2wb(Xi/β)
…(6b)
最小自乗誤差εa,εbを用いることにより、それぞれ、ウエハW上の分割領域Sa,Sbに投影される部分パターンPAa,PAbの投影像の歪みを記述する2組の第1及び第2補正関数ΔR(1)(X,Y),ΔR(2)(X,Y)(係数Kmn,Hmn,kmn,hmn)が得られる。なお、ここで求められる2組の係数Kmn,Hmnの値を用いて表される第1補正関数ΔR(1)(X,Y)をそれぞれΔR(1a)(X,Y),ΔR(1b)(X,Y)、また2組の係数kmn,hmnの値を用いて表される第2補正関数ΔR(2)(X,Y)をそれぞれΔR(2a)(X,Y),ΔR(2b)(X,Y)と表記する。
Claims (19)
- エネルギビームを物体に照射し、所定のパターンの像を前記物体上に形成する露光方法であって、
所定の走査方向に直交する非走査方向に延びる照明領域を、該照明領域の一部を遮光する遮光装置を用いて前記非走査方向に関して複数に分割し、該分割された複数の照明領域それぞれを介して生成される複数の部分パターンの像のそれぞれに対して前記物体を前記走査方向に走査することを、前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整しながら少なくとも2回繰り返し、前記複数の部分パターンの像が繋ぎ合わされた前記パターンの像を物体上に形成する露光方法。 - 前記物体は、該物体を保持して少なくとも前記走査方向に移動する移動体に保持されたままの状態で、複数の部分パターンの像のそれぞれに対して走査される請求項1に記載の露光方法。
- 前記移動体は、前記部分像のそれぞれに対して前記物体を走査する度に前記走査方向に関する移動方向が反転される請求項2に記載の露光方法。
- 前記エネルギビームは、前記パターンが形成されたマスクを介して前記物体上に照射され、
前記マスクを保持して前記走査方向に移動する別の移動体と前記移動体との同期駆動を調整することにより、前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整する請求項2又は3に記載の露光方法。 - 前記エネルギビームは、光学系を介して前記物体上に照射され、
前記光学系の結像性能を調整することで前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整する請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光方法。 - 前記結像性能の調整は、前記光学系の一部を構成する光学部材を駆動すること又前記エネルギビームの波長を変化させることで行われる請求項5に記載の露光方法。
- 前記移動体を駆動することにより、前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整する請求項1〜6のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記遮光装置による前記照明領域内の前記非走査方向に関する遮光領域を、前記部分パターンの像それぞれに応じて変更する請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態の調整には、各部分パターンの像の歪み、波面収差、及びフォーカスのうちの少なくとも1つの調整が含まれる請求項1〜8のいずれか一項に記載の露光方法。
- 請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光方法により、物体上にパターンを形成することと;
前記パターンが形成された前記物体を現像することと;
を含むデバイス製造方法。 - エネルギビームを物体に照射し、所定のパターンの像を前記物体上に形成する露光装置であって、
物体を保持して少なくとも所定の走査方向に移動する移動体と;
照明領域の一部を遮光する遮光装置と;
前記物体が前記移動体に保持されたままの状態で、前記非走査方向に延びる前記照明領域を前記遮光装置を用いて前記非走査方向に関して複数に分割した複数の照明領域それぞれを介して生成される複数の部分パターンの像のそれぞれに対して前記物体を前記走査方向に前記移動体を介して走査することを、前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整しながら少なくとも2回繰り返し、前記複数の部分パターンの像が繋ぎ合わされた前記パターンの像を物体上に形成する制御系と;を備える露光装置。 - 前記制御系は、前記移動体を前記部分像のそれぞれに対して前記物体を走査する度に、前記走査方向に関する前記移動体の移動方向を反転させる請求項11に記載の露光装置。
- 前記パターンが形成されたマスクを保持して前記走査方向に移動する別の移動体をさらに備え、
前記エネルギビームは、前記マスクを介して前記物体上に照射され、
前記制御系は、前記マスクを保持して前記走査方向に移動する別の移動体と前記移動体との同期駆動を調整することにより、前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整する請求項11又は12に記載の露光装置。 - 前記エネルギビームを前記物体上に照射する光学系をさらに備え、
前記制御系は、前記光学系の結像性能を調整することで前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整する請求項11〜13のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記光学系の一部を構成する可動の光学部材を含み、前記結像性能を調整する結像特性調整装置をさらに備え、
前記制御系は、前記結像特性調整装置を介して前記光学系の結像性能を調整する請求項14に記載の露光装置。 - 前記制御系は、前記エネルギビームの波長を変化させることで、前記光学系の結像性能を調整する請求項14又は15に記載の露光装置。
- 前記制御系は、前記移動体を駆動することにより、前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態を調整する請求項11〜16のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記遮光装置は、前記照明領域内の前記非走査方向に関する遮光領域を、前記部分パターンの像それぞれに応じて変更する請求項11〜17のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記部分パターンの像それぞれの前記物体上での形成状態の調整には、各部分パターンの像の歪み、波面収差、及びフォーカスのうちの少なくとも1つの調整が含まれる請求項11〜18のいずれか一項に記載の露光装置。
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