JP2021027183A - チップの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
1a :溝
11 :基材(基板)
11a :表面
11b :裏面
13 :分割予定ライン(ストリート)
15 :デバイス
17 :膜
21 :テープ
23 :フレーム
31 :水
33 :原料
35 :保護膜
37 :マスク
41 :テープ
43 :フレーム
61 :レーザービーム
2 :切削装置
4 :チャックテーブル
6 :枠体
6a :流路
8 :保持板
8a :保持面
10 :クランプ
12 :切削ユニット
14 :スピンドル
16 :切削ブレード
22 :スピンコーター
24 :収容部
24a :空間
26 :スピンナテーブル
26a :保持面
28 :クランプ
30 :スピンドル
32 :回転駆動源
34 :第1ノズル
36 :回転駆動源
38 :第2ノズル
40 :回転駆動源
62 :レーザー加工装置
64 :チャックテーブル
66 :枠体
66a :流路
68 :保持板
68a :保持面
70 :クランプ
72 :レーザー照射ユニット
82 :エッチング装置
84 :真空チャンバ
84a :開口
84b :排気口
86 :カバー
88 :排気ユニット
90 :下部電極
92 :高周波電源
94 :上部電極
94a :ガス噴出孔
94b :ガス供給孔
96 :絶縁材
98 :ガス供給源
100 :高周波電源
102 :保護プレート
102a :開口
Claims (4)
- 金属を含む膜が裏面側に設けられた板状の被加工物を分割して複数のチップを製造する際に用いられるチップの製造方法であって、
該被加工物に設定された分割予定ラインと重なる溝を該被加工物の該裏面側に形成して該分割予定ラインで該膜を分断する膜分断ステップと、
該膜分断ステップを実施した後、該被加工物の該裏面側に向けて水を噴射して該膜分断ステップで該溝に生じたバリを除去するバリ除去ステップと、
該バリ除去ステップを実施した後、該被加工物をプラズマエッチングにより該分割予定ラインで分割して複数のチップを形成する分割ステップと、を含むことを特徴とするチップの製造方法。 - 該バリ除去ステップでは、該被加工物の該裏面側の全体に該水を供給して該膜分断ステップで該被加工物から発生した加工屑を該バリとともに除去することを特徴とする請求項1に記載のチップの製造方法。
- 該バリ除去ステップを実施した後、該分割ステップを実施する前に、該被加工物の該裏面とは反対の表面側を保護膜で覆う被覆ステップと、
該被覆ステップを実施した後、該分割ステップを実施する前に、該保護膜の該分割予定ラインと重なる部分を除去してマスクを形成するマスク形成ステップと、を更に含み、
該分割ステップでは、該マスクで覆われていない該被加工物の該分割予定ラインと重なる部分をプラズマに曝すことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のチップの製造方法。 - 該被加工物は、
基材と、
該基材の該分割予定ラインで区画された複数の領域にそれぞれ設けられたデバイスと、
該基材の表面が該分割予定ラインで露出するように該デバイスを含む該基材の該表面側を覆う保護層と、
該基材の該表面とは反対の裏面に設けられた該膜と、を含み、
該分割ステップでは、該保護層で覆われていない該基材の該分割予定ラインと重なる部分をプラズマに曝すことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のチップの製造方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007125667A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 基板の切断装置 |
JP2016134433A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | 株式会社東芝 | ダイシング装置 |
JP2016160577A (ja) * | 2015-02-26 | 2016-09-05 | 永大産業株式会社 | 窓枠取付構造 |
JP2018181904A (ja) * | 2017-04-04 | 2018-11-15 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP2018181903A (ja) * | 2017-04-04 | 2018-11-15 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP2019096759A (ja) * | 2017-11-24 | 2019-06-20 | 株式会社ディスコ | 洗浄方法、洗浄装置 |
JP2019102514A (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-24 | 株式会社ディスコ | 切削方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007125667A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 基板の切断装置 |
JP2016134433A (ja) * | 2015-01-16 | 2016-07-25 | 株式会社東芝 | ダイシング装置 |
JP2016160577A (ja) * | 2015-02-26 | 2016-09-05 | 永大産業株式会社 | 窓枠取付構造 |
JP2018181904A (ja) * | 2017-04-04 | 2018-11-15 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP2018181903A (ja) * | 2017-04-04 | 2018-11-15 | 株式会社ディスコ | 加工方法 |
JP2019096759A (ja) * | 2017-11-24 | 2019-06-20 | 株式会社ディスコ | 洗浄方法、洗浄装置 |
JP2019102514A (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-24 | 株式会社ディスコ | 切削方法 |
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