JP2020517804A - 重合可能基含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、製造方法およびその応用 - Google Patents
重合可能基含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、製造方法およびその応用 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2020517804A JP2020517804A JP2019558470A JP2019558470A JP2020517804A JP 2020517804 A JP2020517804 A JP 2020517804A JP 2019558470 A JP2019558470 A JP 2019558470A JP 2019558470 A JP2019558470 A JP 2019558470A JP 2020517804 A JP2020517804 A JP 2020517804A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- meth
- acrylate
- alkyl group
- oxime ester
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C13/00—Cyclic hydrocarbons containing rings other than, or in addition to, six-membered aromatic rings
- C07C13/28—Polycyclic hydrocarbons or acyclic hydrocarbon derivatives thereof
- C07C13/32—Polycyclic hydrocarbons or acyclic hydrocarbon derivatives thereof with condensed rings
- C07C13/54—Polycyclic hydrocarbons or acyclic hydrocarbon derivatives thereof with condensed rings with three condensed rings
- C07C13/547—Polycyclic hydrocarbons or acyclic hydrocarbon derivatives thereof with condensed rings with three condensed rings at least one ring not being six-membered, the other rings being at the most six-membered
- C07C13/567—Polycyclic hydrocarbons or acyclic hydrocarbon derivatives thereof with condensed rings with three condensed rings at least one ring not being six-membered, the other rings being at the most six-membered with a fluorene or hydrogenated fluorene ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Epoxy Compounds (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Description
nは、1〜4の整数を表す。
R1は、それぞれ独立にH、ニトロ基、ハロゲン、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C6−C20のアリール基、C7−C24のアラルキル基、O、N又はSという複素原子と二重結合とを含有するC3−C5の複素環基もしくは当該複素環基で封鎖されたC1−C12のアルキル基、又は−X−C(R3)=N−O−CO−R4を表し、これらの基における−CH2−は、−O−、−S−、−NH−、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよい。
R2は、重合可能基を表す。
Xは、単結合又はカルボニル基(即ち、−CO−)を表す。
R3は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C4−C20のシクロアルキルアルキル基、C4−C20のアルキルシクロアルキル基、C6−C20のアリール基、C4−C20のヘテロアリール基、O、N又はSという複素原子と二重結合とを含有するC3−C5の複素環基、もしくは当該複素環基で封鎖されたC1−C6のアルキル基を表す。
R4は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C4−C20のシクロアルキルアルキル基、C4−C20のアルキルシクロアルキル基、C6−C20のアリール基、C4−C20のヘテロアリール基、又はC2−C20のアルケニル基を表す。
原料aと原料bであるR2−Y(ただし、Yは、ハロゲンを表し、好ましくはF、Cl又はBrである)は、触媒存在下で反応して、中間体aを生成する。
中間体aと原料cであるR3’−CO−Cl(ただし、R3’は、R3またはR3−CH2−を表し、具体的に、Xは単結合である場合、R3’は、R3を表し、Xはカルボニル基である場合、R3’は、R3−CH2−を表す)は、三塩化アルミニウムまたは塩化亜鉛の触媒作用下で、有機溶媒中でフリーデル・クラフツアシル化反応して、中間体bを得る。
Xは単結合である場合、中間体bは、塩酸ヒドロキシルアミンと酢酸ナトリウムの作用下でオキシム化反応して、中間体cを生成すること;
Xはカルボニル基である場合、濃塩酸存在下で、中間体bは、亜硝酸エステルまたは亜硝酸塩と常温でオキシム化反応して、中間体cを生成する。
本願発明の光硬化性樹脂組成物は、一般式(I)で示された、重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤に加え、重合性化合物、アルカリ可溶性樹脂および任意の他の成分をさらに含んでも良い。
nは、1〜4の整数を表す;
R1は、H、ニトロ基、ハロゲン、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C14のアリール基で置換されたC1−C10のアルキル基、二重結合を含有するC3−C5の複素環基、当該二重結合を含有するC3−C5の複素環基で封鎖されたC1−C12のアルキル基、又は
2つのR2は、それぞれエチレン性二重結合を含有する置換基、3員エポキシ基を含有する置換基、または4員エポキシ基を含有する置換基から選択されるものであり、2つのR2は、同一又は異なっていてもよい;
R3は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基で置換されたC1−C10のアルキル基、C1−C20のアルキル基で置換されたC3−C8のシクロアルキル基、フェニル基、フェニル基における少なくとも一つの水素原子がC1−C4のアルキル基で置換されてなる基、C1−C4のアルコキシ基、C1−C4のアルコキシ基における少なくとも一つの水素原子がフッ素原子で置換されてなる基、チエニル基、又はチエニル基で封鎖されたC1−C4のアルキル基から選択されるものである;
R4は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基で置換されたC1−C10のアルキル基、C6−C20のアリール基、C1−C5のアルキル基で置換されたC6−C20のアリール基、C4−C20のヘテロアリール基、C2−C20のアルケニル基、又はC1−C5のアルキル基で置換されたC6−C20のヘテロアリール基から選択されるものである。
式(I)で示される構造を有する光開始剤の自身が大きな分子量を具備しているとともに、重合可能基をさらに持っているので、光硬化の過程中で、上記光開始剤と重合性モノマーにおけるエチレン性二重結合とは重合反応が起こり、大きな分子量を具備しているポリマーが形成される。これにより、光硬化は、比較的均一なレートで行われているとともに、光開始剤の開始活性が向上される。一方、硬化してなるポリマーは、分子量が比較的に大きいので、加熱状態で昇華物を生じることが困難であるから、硬化を経た後、上記光開始剤は、マイグレーション性が低い。つまり、上記構造を具備している光開始剤は、高い開始活性および低いマイグレーション率を有する。上記構造を具備している光開始剤は、高い開始活性および低いマイグレーション率を有する。光開始剤の総合性能をさらに向上するために、光開始剤における各基をさらに最適化してもよい。
一つの好ましい実施態様では、R2は、二重結合、エポキシ基又はこれらの組み合わせ構造を含有する重合可能基である。
R2は、C2−C12のアルケニル基である場合、R2における一つ又は複数の−CH2−は、それぞれ独立に−O−、−CO−、−COO−、−OCO−又は
原料aと原料bであるR2−Y(ただし、Yは、ハロゲンを表し、好ましくはF、Cl又はBrである)は、触媒存在下で反応して、中間体aを生成する。
中間体aと原料cであるR3’−CO−Cl(ただし、R3’は、R3またはR3−CH2−を表し、具体的に、Xは単結合である場合、R3’は、R3を表し、Xはカルボニル基である場合、R3’は、R3−CH2−を表す)は、三塩化アルミニウムまたは塩化亜鉛の触媒作用下で、有機溶媒中でフリーデル・クラフツアシル化反応して、中間体bを得る。
Xは単結合である場合、中間体bは、塩酸ヒドロキシルアミンと酢酸ナトリウムの作用下でオキシム化反応して、中間体cを生成する。
Xはカルボニル基である場合、濃塩酸存在下で、中間体bは、亜硝酸エステルまたは亜硝酸塩と常温でオキシム化反応して、中間体cを生成する。
1)ロールコーター又はコーターで光硬化性樹脂組成物を基板に塗布する。
2)塗布された光硬化性樹脂組成物を乾燥して、塗膜を形成する。
3)ネガ型のマスクを介して、紫外線又はエキシマレーザーなどの活性エネルギー線で当該塗膜を照射して、その一部を露光させる。
4)現像液で上記露光後の塗膜を現像して、所望の形状のパターンを形成する。
5)特定の温度(好ましくは200〜250℃)で現像後のパターンをポストベークする。
前述のように、本願発明の光硬化性樹脂組成物を用いるによって、現像後に形成されるパターンのアンダーカットを抑制できる。本願発明の光硬化性樹脂組成物を用いてカラーフィルターのイメージングパターンを形成する場合、気泡が各画素の境界部の近傍に入ることを抑制でき、上記カラーフィルターを含む液晶表示装置の画質を向上することに有利である。
1H−NMR(CDCl3,500MHz):2.7692(4H,s),4.5306−4.8667(4H,m),7.2851−7.9904(14H,m)。
MS(m/z):439(M+1)+ 。
化合物1の構造は、1H−NMRおよびMSより確認された。
1H−NMR(CDCl3,500MHz):0.9554−1.0973(6H,t),1.3298−1.3332(2H,m),1.4907−1.5163(2H,m),2.2631−2.2788(2H,m),2.6654−2.8225(6H,m),4.5665−4.8826(4H,d),7.2806−8. 0483 (13H,m)。
MS(m/z):594(M+1)+ 。
中間体2aの構造は、1H−NMRおよびMSより確認された。
1H−NMR(CDCl3,500MHz):1.3695−1.4231(4H,m),1.7906−1.8651(4H,t),2.4963−2.5678(6H,m),7.3853−7.8430(8H,m)。
MS(m/z):307(M+1)+ 。
1H−NMR(CDCl3,500MHz):0.9959−1.1005(3H,t),1.3067−1.4432(17H,m),1.8668−1.8772(4H,t),2.2590−2. 2713(8H,m),7.2832−8. 0122 (7H,m)。
MS(m/z):530(M+1)+ 。
1.代表的な光硬化性樹脂組成物を調製し、本願発明の式(I)で示される光開始剤の硬化速度、マイグレーション性および溶解性などのアプリケーション性能を評価した。具体的なステップは、以下の通りであった。
アクリレート共重合体 200重量部
[メタクリル酸ベンジル/メタクリル酸/メタクリル酸ヒドロキシエチル(モル比:70/10/20)共重合体(Mv:10000)]
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 100重量部
光開始剤 5重量部
ブタノン(溶剤) 900重量部
上記組成物を黄色光ランプの下で攪拌し、得られたものを取ってPETテンプレートの上にロールコーティングして成膜し、90℃で2分間乾燥し、乾燥膜厚が2μmである塗膜を得、その後、室温までに冷却し、高圧水銀灯(露光機型番:RW−UV70201、単回露光量50mJ/cm2)の照射で塗膜を露光し、硬化させて膜になった。
硬化膜を切り刻んで、硬化膜サンプルを0.5g量って、50mLのビーカーに置き、メタノールを4.5mL添加し、超音波で30分間超音波溶解し、得られたメタノール溶液を10mLのメスフラスコに移し、引き続きサンプルをメタノールで2回(2mL×2)洗浄し、メスフラスコに入れ、ピペットで内標準物質としてトルエンを0.1mL取って、メタノールを添加して定容し、均一に振り、静置した。
光開始剤の活性希釈剤およびオリゴマーへの溶解性能は、開始剤のアプリケーション性能を評価するための重要な指標である。光開始剤のPGMEAへの溶解度は、光開始剤の溶解性能およびアプリケーション性能を評価する指標・パラメータの一つである。
(1)感度
以下のステップに従って、実施例11乃至29および比較例4乃至9の感光性樹脂組成物の感度をそれぞれ評価した。まず、サンプルを取ってPETテンプレートに置き、ワイヤーバーで塗布し、90℃で5分間乾燥して溶剤を除去し、膜厚が約2μmである塗膜を形成した。塗膜が形成された基板を室温までに冷却し、マスク板を介して、高圧水銀灯1PCS光源で、FWHMフィルターによって長波長放射を実現した。マスク板のギャップによって、波長370〜420nmの紫外線で塗膜を露光し、その後、25℃で、2.5wt%の炭酸ナトリウム溶液に20秒浸漬して現像させ、さらに超純水で洗浄して、空気乾燥し、220℃で30分間ハードベークしてパターンを定着させ、得られたパターンを評価した。
以下のステップに従って、実施例11乃至29および対比例4乃至9の感光性樹脂組成物から形成したパターンの形状をそれぞれ評価した。まず、サンプルを取ってPETテンプレートに置き、ワイヤーバーで塗布し、90℃で5分間乾燥して溶剤を除去し、膜厚が約2μmである塗膜を形成した。塗膜が形成された基板を室温までに冷却し、マスク板を介して、高圧水銀灯1PCS光源で、FWHMフィルターによって長波長放射を実現した。マスク板のギャップによって、波長370〜420nmの紫外線で塗膜を十分に露光し(露光量100mJ/cm2)、その後、25℃で、2.5wt%の炭酸ナトリウム溶液に20秒浸漬して現像させ、さらに超純水で洗浄して、空気乾燥し、220℃で30分間ハードベークしてパターンを定着させ、走査型電子顕微鏡でパターンと基板との間の接合角度(コーン角)を測定した。当該コーン角が図1および図2における角θに相応的に対応した。コーン角が鋭角であれば、パターンにアンダーカットが存在していないことを示し、コーン角が鈍角であれば、パターンにアンダーカットが存在していることを示した。具体的な結果は、表5に示される。
露光後の組成物における、開始剤からの昇華生成物を検出し、100mJ/cm2の条件下で、上記実施例11、19、20、24および対比例4、9の処方について、それぞれ膜を80枚製造して露光させ、露光した後に同量のテトラヒドロフランを使用してマスクをよく洗浄し、島津液体クロマトグラフィー(LC−200)でマスクの付着物を定量分析し、開始剤のピーク位置のピーク面積およびピーク高さを記録した。ピーク面積およびピークの高さが高いほど、昇華が明らかであることを示した。結果は、表6に示される。
Claims (32)
- 一般式(I)で示される構造を有する、重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
前記nは、1〜4の整数を表す。
前記R1は、それぞれ独立にH、ニトロ基、ハロゲン、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C6−C20のアリール基、C7−C24のアラルキル基、O、N又はSという複素原子と二重結合とを含有するC3−C5の複素環基もしくは当該複素環基で封鎖されたC1−C12のアルキル基、又は−X−C(R3)=N−O−CO−R4を表し、これらの基における−CH2−は、−O−、−S−、−NH−、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよい。
前記R2は、重合可能基を表す。
前記Xは、単結合又はカルボニル基を表す。
前記R3は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C4−C20のシクロアルキルアルキル基、C4−C20のアルキルシクロアルキル基、C6−C20のアリール基、C4−C20のヘテロアリール基、O、N又はSという複素原子と二重結合とを含有するC3−C5の複素環基、もしくは当該複素環基で封鎖されたC1−C6のアルキル基を表す。
前記R4は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C4−C20のシクロアルキルアルキル基、C4−C20のアルキルシクロアルキル基、C6−C20のアリール基、C4−C20のヘテロアリール基、又はC2−C20のアルケニル基を表す。) - 前記R1は、H、ニトロ基、ハロゲン、C1−C10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C6−C12のアリール基、C7−C16のアラルキル基、チエニル基、ピロリル基、チエニル基又はピロリル基で封鎖されたC1−C4のアルキル基、又は−X−C(R3)=N−O−CO−R4であり、これらの基における−CH2−は、−O−、−S−、−NH−、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよいことを特徴とする、請求項1に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R2は、二重結合、エポキシ基又はこれらの組み合わせ構造を含有する重合可能基であることを特徴とする、請求項1に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R2は、
C3−C8のアルケニル基(前記アルケニル基における一つまたは複数の−CH2−は、それぞれ独立に−O−、−CO−、−COO−、−OCO−又は
エポキシエチル基又はエポキシプロピル基で封鎖されたC1−C8のアルキル基(前記C1−C8のアルキル基における一つまたは複数の−CH2−は、それぞれ独立に−O−、−CO−、−COO−、−OCO−又は−O−CH2−CH(OH)−CH2−O−で置換されてもよく、且つ、エポキシエチル基又はエポキシプロピル基におけるHは、C1−C4のアルキル基で置換されてもよい)
から選択されるものでることを特徴とする、請求項1又は4に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。 - 前記R3は、C1−C10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C10のシクロアルキル基、C4−C10のシクロアルキルアルキル基、C4−C10のアルキルシクロアルキル基、C6−C10のアリール基、O、N又はSという複素原子と二重結合とを含有するC3−C5の複素環基、もしくは当該複素環基で封鎖されたC1−C6のアルキル基を表すことを特徴とする、請求項1に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R3は、C2−C6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基、C4−C10のシクロアルキルアルキル基、C4−C10のアルキルシクロアルキル基、フェニル基(その中で、一つまたは複数のHは、C1−C4のアルキル基で置換されてもよい)、C7−C10のフェニルアルキル基(フェニルおける一つまたは複数のHは、C1−C4のアルキル基で置換されてもよい)、チエニル基、又はチエニル基で封鎖されたC1−C4のアルキル基から選択されるものであることを特徴とする、請求項1又は7に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R4は、C1−C6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C10のシクロアルキル基、C4−C14のシクロアルキルアルキル基、C4−C14のアルキルシクロアルキル基、又はC6−C12のアリール基であることを特徴とする、請求項1に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R4は、C1−C4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基、C4−C10のシクロアルキルアルキル基、又はフェニル基であることを特徴とする、請求項1又は9に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤であって、一般式(I)で示される構造を有することを特徴とする、重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
前記nは、1〜4の整数を表す。
前記R1は、H、ニトロ基、ハロゲン、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C6−C20のアリール基、C6−C14のアリール基で置換されたC1−C10のアルキル基、二重結合を含有するC3−C5の複素環基、当該二重結合を含有するC3−C5の複素環基で封鎖されたC1−C12のアルキル基、又は
2つの前記R2は、それぞれエチレン性二重結合を含有する置換基、3員エポキシ基を含有する置換基、または4員エポキシ基を含有する置換基から選択されるものであり、2つの前記R2は、同一又は異なっていてもよい。
前記R3は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基で置換されたC1−C10のアルキル基、C1−C20のアルキル基で置換されたC3−C8のシクロアルキル基、フェニル基、フェニル基における少なくとも一つの水素原子がC1−C4のアルキル基で置換されてなる基、C1−C4のアルコキシ基、C1−C4のアルコキシ基における少なくとも一つの水素原子がフッ素原子で置換されてなる基、チエニル基、又はチエニル基で封鎖されたC1−C4のアルキル基から選択されるものである。
前記R4は、C1−C20の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C20のシクロアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基で置換されたC1−C10のアルキル基、C6−C20のアリール基、C1−C5のアルキル基で置換されたC6−C20のアリール基、C4−C20のヘテロアリール基、C2−C20のアルケニル基、又はC1−C5のアルキル基で置換されたC6−C20のヘテロアリール基から選択されるものである。) - 前記R1は、H、ニトロ基、ハロゲン、C1−C10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C6−C12のアリール基、C7−C16のアラルキル基、チエニル基、ピロリル基、チエニル基又はピロリル基で封鎖されたC1−C4のアルキル基、又は−X−C(R3)=N−O−CO−R4であり、前記R1における−CH2−は、−O−、−S−、−NH−、−CO−、−COO−又は−OCO−で置換されてもよいことを特徴とする、請求項11に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R2は、二重結合、エポキシ基又はこれらの組み合わせ構造を含有する重合可能基であることを特徴とする、請求項11に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R2は、C2−C12のアルケニル基、及びエポキシエチルアルキル基又はエポキシプロピルアルキル基から選択されるものであって、
前記R2は、C2−C12のアルケニル基である場合、前記R2における一つ又は複数の−CH2−は、それぞれ独立に−O−、−CO−、−COO−、−OCO−又は
前記R2は、エポキシエチルアルキル基又はエポキシプロピルアルキル基である場合、 前記R2におけるエポキシ基とフルオレン構造との間のアルキル基における一つまたは複数の−CH2−は、それぞれ独立に−O−、−CO−、−COO−、−OCO−又は−O−CH2−CH(OH)−CH2−O−で置換されてもよいことを特徴とする、請求項11又は14に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。 - 前記R2は、C3−C8のアルケニル基、又はエポキシエチル基もしくはエポキシプロピル基で封鎖されたC1−C8のアルキル基から選択されるものであって、
前記R2は、C3−C8のアルケニル基である場合、前記R2における一つまたは複数の−CH2−は、それぞれ独立に−O−、−CO−、−COO−、−OCO−又は
前記R2は、エポキシエチル基又はエポキシプロピル基で封鎖されたC1−C8のアルキル基である場合、前記C1−C8のアルキル基における一つまたは複数の−CH2−は、それぞれ独立に−O−、−CO−、−COO−、−OCO−又は−O−CH2−CH(OH)−CH2−O−で置換されてもよく、且つ、前記エポキシエチル基又は前記エポキシプロピル基におけるHは、C1−C4のアルキル基で置換されてもよいことを特徴とする、請求項11又は14に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。 - 前記R3は、C1−C10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C10のシクロアルキル基、C4−C10のシクロアルキルアルキル基、C4−C10のアルキルシクロアルキル基、C6−C10のアリール基、O、N又はSという複素原子と二重結合とを含有するC3−C5の複素環基、もしくは前記C3−C5の複素環基で封鎖されたC1−C6のアルキル基を表すことを特徴とする、請求項11に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R3は、C2−C6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基、C4−C10のシクロアルキルアルキル基、C4−C10のアルキルシクロアルキル基、フェニル基、C7−C10のフェニルアルキル基(当該フェニルアルキル基のフェニルにおける一つまたは複数のHは、C1−C4のアルキル基で置換されてもよい)、チエニル基、又はチエニル基で封鎖されたC1−C4のアルキル基から選択されるものであり、
前記R3は、フェニル基である場合、前記フェニルにおける一つまたは複数のHは、C1−C4のアルキル基で置換されてもよく、
前記R3は、C7−C10のフェニルアルキル基である場合、前記C7−C10のフェニルアルキル基のフェニルにおける一つまたは複数のHは、C1−C4のアルキル基で置換されてもよいことを特徴とする、請求項11又は17に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。 - 前記R4は、C1−C6の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C10のシクロアルキル基、C4−C14のシクロアルキルアルキル基、C4−C14のアルキルシクロアルキル基、又はC6−C12のアリール基であることを特徴とする、請求項11に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 前記R4は、C1−C4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、C3−C8のシクロアルキル基、C4−C10のシクロアルキルアルキル基、又はフェニル基であることを特徴とする、請求項11又は19に記載のフルオレンオキシムエステル系光開始剤。
- 請求項1乃至請求項21のいずれかに記載の重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤の製造方法であって、
(1)中間体aの調製
原料aと原料bであるR2−Y(ただし、Yは、ハロゲンを表す)は、触媒存在下で反応して、中間体aを生成すること、
(2)中間体bの調製
中間体aと原料cであるR3’−CO−Cl(ただし、R3’は、R3またはR3−CH2−を表し、具体的に、Xは単結合である場合、R3’は、R3を表し、Xはカルボニル基である場合、R3’は、R3−CH2−を表す)は、三塩化アルミニウムまたは塩化亜鉛の触媒作用下で、有機溶媒中でフリーデル・クラフツアシル化反応して、中間体bを得ること、
(3)中間体cの調製
Xは単結合である場合、中間体bは、塩酸ヒドロキシルアミンと酢酸ナトリウムの作用下でオキシム化反応して、中間体cを生成すること、
Xはカルボニル基である場合、濃塩酸存在下で、中間体bは、亜硝酸エステルまたは亜硝酸塩と常温でオキシム化反応して、中間体cを生成すること、及び
(4)生成物の調製
中間体cは、酸無水物である(R4−CO)2Oまたは酸塩化物化合物であるR4−CO−Clとエステル化反応して、目的とする生成物を得ること;
というステップを含む重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤の製造方法。
反応式は、以下の通りである。
- 前記ステップ(1)において、原料aとR2−Yは、触媒存在下で求核反応し、前記触媒は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、カリウムt−ブトキシド、カリウムメトキシドから選択されるものであることを特徴とする、請求項22に記載の製造方法。
- 前記ステップ(3)において、前記亜硝酸エステルは、亜硝酸エチル、亜硝酸イソアミル、亜硝酸イソオクチルから選択されるものであり、前記亜硝酸塩は、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムから選択されるものであることを特徴とする、請求項22に記載の製造方法。
- 請求項1乃至請求項21のいずれかに記載の重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤の光硬化分野への使用。
- 光開始剤と重合性モノマーとを含む光硬化性樹脂組成物であって、
前記重合性モノマーが、エチレン性二重結合を含有し、
前記光開始剤が、フルオレンオキシムエステル含有光開始剤を含み、
前記フルオレンオキシムエステル含有光開始剤が、請求項1乃至請求項21のいずれかに記載の重合可能基を含有するフルオレンオキシムエステル系光開始剤であることを特徴とする、光硬化性樹脂組成物。 - 前記光硬化性樹脂組成物は、さらにアルカリ可溶性樹脂および添加剤を含むことを特徴とする、請求項26に記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記重合性モノマーは、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N-メチロール(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、t−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2-フェノキシ-2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2-(メタ)アクリロイルオキシ-2-ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2-トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3-テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体の(メタ)アクリル酸ハーフエステル、1,3-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9-ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10-デカンジオールジ(メタ)アクリレート、1,12-ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-(メタ)アクリロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレン−プロピレン)ジオールジ(メタ)アクリレート、ポリ1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロイルオキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2-ビス(4-(メタ)アクリロイルオキシポリエトキシフェニル)プロパン、2-ヒドロキシ-3-(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジグリシジルフタレートジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、カルバメート(メタ)アクリレート、トリメチル−1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、ポリオールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物、1,3,5−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリオキソヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン-1,3,5-トリエタノールトリアクリレートおよび2,4,6-トリオキソヘキサヒドロ-1,3,5-トリアジン-1,3,5−トリエタノールジアクリレートからなる群から選択される一つまたは複数のものであることを特徴とする、請求項27に記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記アルカリ可溶性樹脂は、(メタ)アクリレート系共重合体であることを特徴とする、請求項27に記載の光硬化性樹脂組成物。
- 前記添加剤は、溶剤、染料、顔料、充填剤、表面調整剤、消泡剤、レベリング剤、湿潤剤、分散剤、つや消し剤、硬化促進剤、連鎖移動剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤および密着促進剤からなる群から選択される一つまたは複数のものであることを特徴とする、請求項27に記載の光硬化性樹脂組成物。
- イメージングパターンを含むカラーフィルターであって、前記イメージングパターンは、請求項26乃至請求項30のいずれかに記載の光硬化性樹脂組成物を採用してなることを特徴とする、カラーフィルター。
- 請求項31に記載のカラーフィルターを含むことを特徴とする、表示装置。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201710274018.4 | 2017-04-25 | ||
CN201710274018.4A CN108727517B (zh) | 2017-04-25 | 2017-04-25 | 含有可聚合基团的芴肟酯类光引发剂、其制备方法及应用 |
CN201710796351.1A CN109459914B (zh) | 2017-09-06 | 2017-09-06 | 光固化树脂组合物及其应用 |
CN201710796351.1 | 2017-09-06 | ||
PCT/CN2018/082761 WO2018196619A1 (zh) | 2017-04-25 | 2018-04-12 | 含有可聚合基团的芴肟酯类光引发剂、制备方法及其应用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020517804A true JP2020517804A (ja) | 2020-06-18 |
JP7034175B2 JP7034175B2 (ja) | 2022-03-11 |
Family
ID=63919442
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019558470A Active JP7034175B2 (ja) | 2017-04-25 | 2018-04-12 | 重合可能基含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、製造方法およびその応用 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7034175B2 (ja) |
KR (1) | KR102362859B1 (ja) |
TW (1) | TWI680118B (ja) |
WO (1) | WO2018196619A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019048916A (ja) * | 2017-09-07 | 2019-03-28 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、及びそれに用いられる光重合開始剤 |
JP2021507058A (ja) * | 2017-12-22 | 2021-02-22 | 常州強力先端電子材料有限公司Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co.,Ltd. | フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用 |
JPWO2019188717A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2021-04-22 | 株式会社Adeka | 化合物、ラジカル重合開始剤、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 |
WO2023085056A1 (ja) * | 2021-11-09 | 2023-05-19 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化物の製造方法、膜、光学素子、イメージセンサ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111320714B (zh) * | 2018-12-13 | 2022-04-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 肟酯类光引发剂、其制备方法及应用 |
JP7345252B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2023-09-15 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 遮光膜用感光性樹脂組成物及びその硬化物、並びに当該硬化物を用いたカラーフィルター及びタッチパネルの製造方法 |
CN114149517B (zh) * | 2020-09-07 | 2022-12-30 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 含噻吩结构的肟酯光引发剂、制备方法及光敏树脂组合物 |
CN115368341B (zh) * | 2021-05-20 | 2024-01-26 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 肟磺酸酯化合物、含其的抗蚀剂组合物、电子器件及应用 |
CN115611782A (zh) * | 2022-10-15 | 2023-01-17 | 瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司 | 高产酸肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合物应用 |
CN115650886A (zh) * | 2022-10-15 | 2023-01-31 | 瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司 | 肟磺酸酯类光产酸剂及其抗蚀剂组合物应用 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017023067A2 (ko) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | (주)켐이 | 플루오렌 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20130055870A (ko) * | 2011-11-21 | 2013-05-29 | 동우 화인켐 주식회사 | 컬러필터 형성용 조성물 및 이로부터 제조되는 컬러필터 |
US9316906B2 (en) * | 2012-05-03 | 2016-04-19 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Fluorene oxime ester compound, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same |
JP6065596B2 (ja) | 2013-01-16 | 2017-01-25 | Jsr株式会社 | 感放射線性着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 |
EP3044208B1 (en) * | 2013-09-10 | 2021-12-22 | Basf Se | Oxime ester photoinitiators |
CN104076606B (zh) * | 2014-07-15 | 2019-12-03 | 常州强力电子新材料股份有限公司 | 一种含肟酯类光引发剂的感光性组合物及其应用 |
KR102190911B1 (ko) * | 2014-07-15 | 2020-12-14 | 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 | 감광성 조성물 및 화합물 |
-
2018
- 2018-04-12 JP JP2019558470A patent/JP7034175B2/ja active Active
- 2018-04-12 KR KR1020197032437A patent/KR102362859B1/ko active IP Right Grant
- 2018-04-12 WO PCT/CN2018/082761 patent/WO2018196619A1/zh active Application Filing
- 2018-04-19 TW TW107113343A patent/TWI680118B/zh active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017023067A2 (ko) * | 2015-07-31 | 2017-02-09 | (주)켐이 | 플루오렌 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019048916A (ja) * | 2017-09-07 | 2019-03-28 | 東京応化工業株式会社 | 感光性組成物、及びそれに用いられる光重合開始剤 |
JP2021507058A (ja) * | 2017-12-22 | 2021-02-22 | 常州強力先端電子材料有限公司Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co.,Ltd. | フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用 |
JP6999039B2 (ja) | 2017-12-22 | 2022-02-04 | 常州強力先端電子材料有限公司 | フッ素含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、それを含む光硬化組成物およびその適用 |
JPWO2019188717A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2021-04-22 | 株式会社Adeka | 化合物、ラジカル重合開始剤、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 |
JP7351830B2 (ja) | 2018-03-27 | 2023-09-27 | 株式会社Adeka | 化合物、ラジカル重合開始剤、組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 |
WO2023085056A1 (ja) * | 2021-11-09 | 2023-05-19 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化物の製造方法、膜、光学素子、イメージセンサ、固体撮像素子、画像表示装置、及び、ラジカル重合開始剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190131115A (ko) | 2019-11-25 |
TW201838968A (zh) | 2018-11-01 |
KR102362859B1 (ko) | 2022-02-14 |
TWI680118B (zh) | 2019-12-21 |
JP7034175B2 (ja) | 2022-03-11 |
WO2018196619A1 (zh) | 2018-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7034175B2 (ja) | 重合可能基含有フルオレンオキシムエステル系光開始剤、製造方法およびその応用 | |
JP6196363B2 (ja) | 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物 | |
JP6328642B2 (ja) | シクロペンタンジオンオキシムエステルとその応用 | |
JP4902608B2 (ja) | チオール化合物 | |
JP5868449B2 (ja) | 新規な高感度アルファケトオキシムエステル光重合開始剤及びそれを含有する光重合組成物 | |
TWI406847B (zh) | 肟酯化合物及使用其之感光性樹脂組成物 | |
JP5713477B2 (ja) | 光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 | |
CN108727517B (zh) | 含有可聚合基团的芴肟酯类光引发剂、其制备方法及应用 | |
JP6261778B2 (ja) | 非対称ジオキシムエステル化合物及びその製造方法と応用 | |
CN110066225B (zh) | 双肟酯类光引发剂、制备方法、感光性树脂组合物及应用 | |
JP4218828B2 (ja) | チオール化合物、光重合開始剤組成物および感光性組成物 | |
JP6550048B2 (ja) | 光開始剤及びその感光性組成物 | |
JP6722813B2 (ja) | 高感度オキシムエステル光重合開始剤及びこれを含有する光重合組成物 | |
JP5705371B2 (ja) | 染料を含む高分子化合物及びこれを含む硬化性樹脂組成物 | |
TW201808874A (zh) | 一種芴類多官能度光引發劑及其製備和應用、含芴類光引發劑的感光性樹脂組合物及其應用 | |
TWI665518B (zh) | 負型感光性樹脂組合物、使用該組合物的光固化圖案及圖像顯示裝置 | |
KR102061130B1 (ko) | 피라졸린계 증감제 및 그 제조방법과 응용 | |
CN110066352B (zh) | 肟酯类光引发剂、制备方法、感光性树脂组合物及应用 | |
KR101457172B1 (ko) | 광개시제 및 이를 포함한 감광성 조성물 | |
KR101558165B1 (ko) | 광개시제 및 이를 포함한 감광성 조성물 | |
KR101991838B1 (ko) | 신규 1,3-벤조디아졸 베타-옥심 에스테르 화합물 및 이를 포함하는 조성물 | |
WO2023136135A1 (ja) | 樹脂、硬化性樹脂組成物及び硬化膜 | |
KR20200136559A (ko) | 고감도 옥심 에스테르계 광개시제 및 이를 포함하는 감광성 조성물 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191025 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191025 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20201026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201102 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210614 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210806 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211213 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220131 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220301 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7034175 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |