JP5713477B2 - 光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 - Google Patents

光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP5713477B2
JP5713477B2 JP2014505096A JP2014505096A JP5713477B2 JP 5713477 B2 JP5713477 B2 JP 5713477B2 JP 2014505096 A JP2014505096 A JP 2014505096A JP 2014505096 A JP2014505096 A JP 2014505096A JP 5713477 B2 JP5713477 B2 JP 5713477B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
resin composition
photosensitive resin
photoactive compound
photosensitive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014505096A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2014518549A (ja
Inventor
チョ、チャンホ
ジン チュン、ウォン
ジン チュン、ウォン
クハーバッシュ、ライザ
キム、スンヒュン
チョイ、ドンチャン
チュル リー、サン
チュル リー、サン
スー キム、ハン
スー キム、ハン
ヒー ヘオ、ユン
ヒー ヘオ、ユン
キム、スンファ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Publication of JP2014518549A publication Critical patent/JP2014518549A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5713477B2 publication Critical patent/JP5713477B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D209/00Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D209/56Ring systems containing three or more rings
    • C07D209/80[b, c]- or [b, d]-condensed
    • C07D209/82Carbazoles; Hydrogenated carbazoles
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0382Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable the macromolecular compound being present in a chemically amplified negative photoresist composition
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • G03F7/0388Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers

Description

本出願は、2011年8月4日付で韓国特許庁に提出された韓国特許出願第10−2011−0077775号の出願日の利益を主張し、その内容のすべては本明細書に組み込まれる。本発明は、新規な構造を有する光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物に関するものである。より具体的には、UV光源に対する吸収率が高く、感度および高温工程特性に優れ、感光性樹脂組成物における相溶性に優れた光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物に関するものである。
光活性化合物は、光を吸収し分解して化学的に活性を有する原子または分子を生成する物質であって、感光性樹脂組成物などに広く使用される。前記化学的に活性を有する物質の例としては、酸や塩基、そして、ラジカルなどがある。なかでも特に、ラジカルが生成される光活性化合物は、ラジカルと共に重合反応を起こすアクリル基と共に使用され、コーティングされた膜の強度を向上させる目的で使用できる。
一方、感光性樹脂組成物は、基板上に塗布されて塗膜を形成し、この塗膜の特定部分が、フォトマスクなどを用いて光照射による露光を実施した後、非露光部を現像処理して除去することによりパターンを形成するのに使用することができる。このような感光性樹脂組成物は、光を照射して重合し、硬化させることが可能なため、光硬化性インク、感光性印刷版、各種フォトレジスト、LCD用カラーフィルタフォトレジスト、樹脂ブラックマトリックス用フォトレジスト、または透明感光材などに用いられている。
また、感光性樹脂組成物は、LCDの用途が高級化、多様化されるに伴い、従来のノートパソコン、モバイルなどの用途のほか、テレビ、モニタなどの液晶表示素子を構成する用途に作製されており、生産性および耐久性向上のために光に速く反応し、機械的に優れた物性に対する要求が高まっている。特に、フォトリソグラフィ法によってパターンを形成したり、全面露光により絶縁保護膜を形成したりする場合、光に速く反応する特性、すなわち、光感度は非常に重要な要因となる。また、外部から加えた衝撃によって液晶表示素子が破損せずに本来の性能を発揮させるために、支持台の役割を果たすカラムスペーサまたは保護膜の役割を果たすオーバーコートとパッシベーション膜は機械的物性に優れていなければならない。
したがって、光感度に優れた光活性化合物を使用すると、これらの問題を解決することができる。光感度に優れた光活性化合物を使用する場合、少量でも十分な感度を実現することができ、液晶の汚染源が減少し、パターンの残膜率が上昇するだけでなく、組成物の製造時、他の原材料の使用可能な幅を広げることができるという利点を有する。
本発明が解決しようとする課題は、UV光源を効率的に吸収することができ、感度および高温工程特性に優れ、感光性樹脂組成物における相溶性が良い光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物を提供することである。
本発明の一実施形態は、下記化学式1で表される光活性化合物を提供する。
Figure 0005713477
前記化学式1において、Rは、C〜Cのアルキル基またはC〜C12のアリール基であり、Rは、C〜Cのアルキル基、またはR、OR、SRおよびCORからなる群より選択される1つ以上の置換基で置換されたC〜Cのアルキル基であり、RおよびRは、水素であるか、または互いに連結されて縮合環を形成し、Rは、C〜Cのアルキル基またはC〜C12のアリール基であり、Aは、C〜C15のアルキレン基、またはR、OR、SR、CORおよびOCORからなる群より選択される1つ以上の置換基で置換されたC〜C15のアルキレン基であり、ここで、前記Rはそれぞれ、C〜C10のアルキル基、C〜C10のハロアルキル基、C〜C13のアラルキル基から選択されるものである。
また、本発明の一実施形態は、a)前記化学式1で表される光活性化合物、b)アルカリ可溶性バインダー樹脂、c)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、およびd)溶媒を含む感光性樹脂組成物を提供する。本発明の一実施形態は、前記感光性樹脂組成物を用いて製造された感光材を提供する。本発明の一実施形態は、前記感光性樹脂組成物を用いて製造された電子素子を提供する。
本発明の一実施形態にかかる光活性化合物を含む感光性樹脂組成物は、UV光源に対する効率的吸収により感度に非常に優れ、前記光活性化合物とアルカリ可溶性バインダー樹脂との相溶性に優れ、感光性樹脂組成物の溶解度が改善され、現像マージンを改善する。したがって、本発明にかかる感光性樹脂組成物は、液晶表示素子のカラムスペーサ、カラーレジストおよびブラックマトリックス材料などの硬化に有利なだけでなく、高温工程特性にも有利である。
実施例5から7で生成されたパターンを示すものである。 比較例2および3で生成されたパターンを示すものである。
本発明の利点および特徴、そして、それらを達成する方法は、詳細に後述する実施形態を参照すれば明確になるはずである。しかし、本発明は、以下に開示される実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現され、単に、本実施形態は、本発明の開示が完全になるようにし、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は請求項の範疇によって定義されるだけである。
他の定義がなければ、本明細書で使われるすべての用語(技術および科学的用語を含む)は、本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者に共通に理解できる意味で使われる。また、一般に使われる、辞典に定義されている用語は、明確に特別に定義されていない限り、理想的または過度に解釈されない。以下、本発明をより詳細に説明する。
1.光活性化合物
本発明では、オキシムエステルを基本構造として含む光活性化合物において、ニトロ基とホスホネート基を置換基として必須に含むように光活性化合物の構造を変更することにより、UV光源に対する吸収率が高く、かかる光活性化合物が感光性樹脂組成物で光重合開始剤として使用される時、バインダー樹脂との相溶性に優れて溶解度が改善され、感度に優れ、高温での工程特性に優れていることを確認することができた。
本発明の一実施形態にかかる光活性化合物は、前記化学式1の構造を有する。前記化学式1において、アルキル基は、直鎖、分枝鎖または環鎖であり得る。前記アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、iso−ペンチル基、neo−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基またはシクロヘキシル基などとなり得るが、これらに限定されるものではない。
前記化学式1において、アルキレン基は、直鎖または分枝鎖であり得、置換もしくは非置換のものであり得る。前記アルキレン基の具体例としては、メチレン、エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ブチレンまたはt−ブチレンなどがあるが、これらにのみ限定されるものではない。前記化学式1において、アリール基は、単環式アリール基または多環式アリール基であり得る。前記アリール基が単環式アリール基の場合、炭素数は特に限定されないが、炭素数6〜20であることが好ましい。
具体的には、単環式アリール基としては、フェニル基またはビフェニル基などとなり得るが、これらに限定されるものではない。前記アリール基が多環式アリール基の場合、ナフチル基であり得る。前記化学式1において、Rは、露光時に活性種のラジカルが分解される部分で、特に構造上の制約は受けないが、メチル基またはフェニル基であることが好ましい。メチル基またはフェニル基は、構造が単純で、動きが良く、光開始効率を向上させることができるからである。
前記化学式1において、Rは、メチル基またはエチル基であることが好ましい。前記化学式1において、RおよびRは、水素であるか、互いに連結されて縮合環を形成することが好ましい。前記RおよびRが互いに連結されて縮合環を形成する場合、5員、6員または7員環を形成することができ、単環または多環の形態であり得、芳香族、脂肪族環、ヘテロ芳香族またはヘテロ脂肪族環となり得る。
前記化学式1において、Rは、メチル基またはエチル基であることが好ましく、エチル基であることがより好ましい。前記化学式1において、Aは、へキシレン基またはプロピレン基であることが、溶解度および相溶性の面で好ましく、プロピレン基であることがより好ましい。前記化学式1で表される本発明の光活性化合物は、その構造内に基本的にオキシムエステル基を含み、かつ、特定位置にニトロ基(−NO)とホスホネート基(−PO(OR)を含んでいることに特徴がある。
前記ニトロ基は、化学式1で表される化合物のUV最大吸収波長を長波長の370nm程度に移動させ、一般の水銀光源露光器の最大発光波長のi−line(λ=365nm)の光をより効率的に吸収させる役割を果たし、感度を高めるのに作用する。
また、前記ホスホネート基は、化学式1で表される化合物の溶解度を高め、感光性樹脂組成物においてアルカリ可溶性バインダー樹脂と水素結合などを形成することにより、バインダー樹脂との高い相溶性により感光性樹脂組成物の溶解度を改善させ、揮発性を低下させる役割を果たす。このような構造的な特徴により、本発明にかかる光活性化合物は、従来開示されたオキシムエステルを含む光活性化合物に比べて高感度特性を有し、溶解度に優れ、低揮発のような特性を有しており、これを感光性樹脂組成物において光重合開始剤として使用することにより、感度、耐化学性、耐現像性、硬化度および高温工程特性を向上させることができる。
一方、本発明の一実施形態にかかる、化学式1で表される光活性化合物の製造方法は特に限定されないが、以下の方法によって製造することができる。まず、カルバゾールとジブロモアルカンやブロモクロロアルカンのようなハロアルカンと反応させてハロアルキルカルバゾールを得、これをトリアルキルホスファイトと反応させてホスホネート化合物を得、このホスホネート化合物を硝酸銅と反応させてニトロカルバゾール化合物を得、このニトロカルバゾール化合物と酸塩化物を塩化アルミニウムの存在下で反応させてアシル化合物を得、このアシル化合物を塩酸ヒドロキシルアミンと反応させてオキシム化合物を得、これを再び酸無水物または酸塩化物と反応させて本発明の化学式1のオキシムエステル光活性化合物を得る。前記反応式を、次の反応式1で具体的に表した。
[反応式1]
Figure 0005713477
2.感光性樹脂組成物
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物は、前記化学式1で表される光活性化合物を光重合開始剤として使用し、これにアルカリ可溶性バインダー樹脂、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物、および溶媒を含む。
前記化学式1で表される光活性化合物の含有量は、全体感光性樹脂組成物中の0.1〜5重量%であり得るが、これにのみ限定されるものではない。前記含有量が0.1重量%未満の場合、十分な感度を発することができず、5重量%を超える場合、高いUV吸収によってUV光が底まで伝達されないことがある。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物は、バインダー樹脂を含むことにより、粘度を調整する効果があり、アルカリ現像液を用いたパターニングを可能にする効果がある。前記バインダーとしては、アルカリ可溶性高分子樹脂など、当業界で一般に使用されるものが使用可能である。具体的には、前記アルカリ可溶性樹脂バインダーは、酸基(acid functional group)を含むモノマー、これと共重合可能なモノマーとの共重合体、または前記共重合体とエポキシ基を含むエチレン性不飽和化合物の高分子反応を通じて製造される化合物であり得る。
前記酸基を含むモノマーの非制限的な例としては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、モノメチルマレイン酸、イソプレンスルホン酸、スチレンスルホン酸、5−ノルボルネン−2−カルボン酸、モノ−2−((メタ)アクリロイルオキシ)エチルフタレート、モノ−2−((メタ)アクリロイルオキシ)エチルスクシネート、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレートおよびこれらの混合物からなる群より選択されたものである。
前記酸基を含むモノマーと共重合可能なモノマーの非制限的な例としては、ベンジル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、アシルオクチルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ポリ(エチレングリコール)メチルエーテル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、p−ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、p−ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロイソプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、メチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、エチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、プロピルα−ヒドロキシメチルアクリレート、ブチルα−ヒドロキシメチルアクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、およびジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートからなる群より選択された不飽和カルボン酸エステル類;スチレン、α−メチルスチレン、(o,m,p)−ビニルトルエン、(o,m,p)−メトキシスチレン、および(o,m,p)−クロロスチレンからなる群より選択された芳香族ビニル類;ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、およびアリルグリシジルエーテルからなる群より選択された不飽和エーテル類;N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、およびN−ビニルモルホリンからなる群より選択されたN−ビニル3次アミン類;N−フェニルマレイミド、N−(4−クロロフェニル)マレイミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)マレイミド、N−シクロヘキシルマレイミドおよびN−ベンジルマレイミドからなる群より選択された不飽和イミド類;無水マレイン酸または無水メチルマレイン酸のような無水マレイン酸類;アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、および3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートからなる群より選択された不飽和グリシジル化合物類;およびこれらの混合物などがある。
本発明で使用されたアルカリ可溶性バインダー樹脂は、酸価が30〜300KOH mg/g程度であり得る。酸価が30KOH mg/g未満の場合、現像がきちんと行われずにきれいなパターンを得ることができず、また、300KOH mg/gを超える場合は、洗い流し特性が過度に向上してパターンが剥がれることがある。
また、前記アルカリ可溶性バインダー樹脂の重量平均分子量は1,000〜200,000の範囲であることが好ましく、より好ましくは5,000〜100,000の範囲である。アルカリ可溶性バインダー樹脂の重量平均分子量が1,000未満の場合、耐熱性および耐化学性が劣化し、また、200,000を超える場合、現像液に対する溶解度が低下して現像が行われず、溶液の粘度が過度に増加して均一な塗布が困難で好ましくない。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物において、前記バインダー樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として1〜30重量%であり得るが、これにのみ限定されるものではない。バインダー樹脂の含有量が1重量%以上であれば、アルカリ水溶液を用いたパターニングがきちんと行われる効果があり、現像液に対する可溶性が現れずにパターンの形成が困難になる問題を防止することができ、30重量%以下であれば、現像工程時のパターンの流失が発生するのを防止し、全体溶液の粘度が過度に高くなってコーティングに困難がある問題を防止することができる効果がある。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物は、架橋性化合物を含むことができ、具体的には、エチレン系不飽和基を含む架橋性化合物を使用することができる。より具体的には、2つ以上の不飽和アクリル基を含む架橋性化合物、3つ以上の不飽和アクリル基を含む架橋性化合物を使用することができる。
具体例として、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレン基の数が2〜14のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、2−トリスアクリロイルオキシメチルエチルフタル酸、プロピレン基の数が2〜14のプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートの酸性変形物とジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートの混合物の多価アルコールをα,β−不飽和カルボン酸でエステル化して得られる化合物;トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ビスフェノールAジグリシジルエーテルアクリル酸付加物などのグリシジル基を含む化合物に(メタ)アクリル酸を付加して得られる化合物;β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのフタル酸ジエステル、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートのトルエンジイソシアネート付加物などの水酸基またはエチレン性不飽和結合を有する化合物と多価カルボン酸とのエステル化合物、またはポリイソシアネートとの付加物であり、ここで、前記エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、アリルグリシジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、グリシジル5−ノルボルネン−2−メチル−2−カルボキシレート(エンド、エキソ混合物)、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、および1,2−エポキシ−9−デセンからなる群より選択された1種以上であり;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、および2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートからなる群より選択された(メタ)アクリル酸アルキルエステル;および9,9'−ビス[4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]フルオレンからなる群より選択される1種以上のものであるが、これらにのみ限定されず、当技術分野で知られている化合物を使用することができる。
また、場合によっては、これらの化合物にシリカ分散体を使用することができるが、例えば、Hanse Chemie社製のNanocryl XP series(0596、1045、21/1364)やNanopox XP series(0516、0525)などがある。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物において、前記架橋性化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として0.5〜30重量%であり得るが、これにのみ限定されるものではない。含有量が0.5重量%未満の場合、光による架橋反応が進行せず好ましくなく、30重量%を超えると、アルカリに対する可溶性が低下してパターンの形成が困難であるという欠点がある。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物において、前記溶媒の非制限的な例としては、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、2−エトキシプロパノール、2−メトキシプロパノール、3−メトキシブタノール、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、エチル3−エトキシプロピオネート、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ブチルアセテート、およびジプロピレングリコールモノメチルエーテルからなる群より選択された1種以上を含むことができる。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物において、前記溶媒の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として40〜95重量%であり得るが、これにのみ限定されるものではない。本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物は、透明感光性樹脂組成物であり、前記化学式1で表される光活性化合物0.1〜5重量%、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物0.5〜30重量%、アルカリ可溶性バインダー樹脂1〜30重量%、および溶媒40〜95重量%で含むことができる。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物は、着色剤をさらに含むことができる。本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物において、前記着色剤としては、1種以上の顔料、染料またはこれらの混合物を使用することができる。具体的に例示すると、黒色顔料としては、カーボンブラック、黒鉛、チタンブラックなどのような金属酸化物などを使用することができる。
カーボンブラックの例としては、シースト5HIISAF−HS、シーストKH、シースト3HHAF−HS、シーストNH、シースト3M、シースト300HAF−LS、シースト116HMMAF−HS、シースト116MAF、シーストFMFEF−HS、シーストSOFEF、シーストVGPF、シーストSVHSRF−HSおよびシーストSSRF(東海カーボン(株));ダイヤグラムブラックII、ダイヤグラムブラックN339、ダイヤグラムブラックSH、ダイヤグラムブラックH、ダイヤグラムLH、ダイヤグラムHA、ダイヤグラムSF、ダイヤグラムN550M、ダイヤグラムM、ダイヤグラムE、ダイヤグラムG、ダイヤグラムR、ダイヤグラムN760M、ダイヤグラムLR、#2700、#2600、#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#900、MCF88、#52、#50、#47、#45、#45L、#25、#CF9、#95、#3030、#3050、MA7、MA77、MA8、MA11、MA100、MA40、OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30BおよびOIL31B(三菱化学(株));PRINTEX−U、PRINTEX−V、PRINTEX−140U、PRINTEX−140V、PRINTEX−95、PRINTEX−85、PRINTEX−75、PRINTEX−55、PRINTEX−45、PRINTEX−300、PRINTEX−35、PRINTEX−25、PRINTEX−200、PRINTEX−40、PRINTEX−30、PRINTEX−3、PRINTEX−A、SPECIAL BLACK−550、SPECIAL BLACK−350、SPECIAL BLACK−250、SPECIAL BLACK−100、およびLAMP BLACK−101(デグサ(株));RAVEN−1100ULTRA、RAVEN−1080ULTRA、RAVEN−1060ULTRA、RAVEN−1040、RAVEN−1035、RAVEN−1020、RAVEN−1000、RAVEN−890H、RAVEN−890、RAVEN−880ULTRA、RAVEN−860ULTRA、RAVEN−850、RAVEN−820、RAVEN−790ULTRA、RAVEN−780ULTRA、RAVEN−760ULTRA、RAVEN−520、RAVEN−500、RAVEN−460、RAVEN−450、RAVEN−430ULTRA、RAVEN−420、RAVEN−410、RAVEN−2500ULTRA、RAVEN−2000、RAVEN−1500、RAVEN−1255、RAVEN−1250、RAVEN−1200、RAVEN−1190ULTRA、RAVEN−1170(コロンビアカーボン(株))またはこれらの混合物などがある。
また、色を呈する着色剤の例としては、カーミン6B(C.I.12490)、フタロシアニングリーン(C.I.74260)、フタロシアニンブルー(C.I.74160)、ペリレンブラック(BASF K0084.K0086)、シアニンブラック、リノールイエロー(C.I.21090)、リノールイエローGRO(C.I.21090)、ベンジジンイエロー4T−564D、ビクトリアピュアブルー(C.I.42595)、C.I.PIGMENT RED3、23、97、108、122、139、140、141、142、143、144、149、166、168、175、177、180、185、189、190、192、202、214、215、220、221、224、230、235、242、254、255、260、262、264、272;C.I.PIGMENT GREEN7、36、58;C.I.PIGMENT blue15:1、15:3、15:4、15:6、16、22、28、36、60、64;C.I.PIGMENT yellow13、14、35、53、83、93、95、110、120、138、139、150、151、154、175、180、181、185、194、213;C.I.PIGMENT VIOLET15、19、23、29、32、37などがあり、このほか、白色顔料、蛍光顔料なども用いることができる。顔料として使用されるフタロシアニン系錯化合物としては、銅のほか、亜鉛を中心金属とする物質も使用可能である。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物において、前記着色剤の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として1〜20重量%であり得るが、これにのみ限定されるものではない。本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物は、着色感光性樹脂組成物であり、前記化学式1で表される光活性化合物0.1〜5重量%、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物0.5〜30重量%、アルカリ可溶性バインダー樹脂1〜30重量%、着色剤1〜20重量%、および溶媒40〜95重量%で含むことができる。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物は、前記構成成分のほか、必要によって、第2の光活性化合物、硬化促進剤、熱重合抑制剤、分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、光増減剤、可塑剤、接着促進剤、充填剤または界面活性剤などの添加剤を1つまたは2つ以上追加的に含むことができる。
前記第2の光活性化合物は、具体的には、トリアジン系化合物、ビイミダゾール系化合物、アセトフェノン系化合物、O−アシルオキシム系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、ホスフィンオキシド系化合物およびクマリン系化合物からなる群より選択可能である。
前記第2の光活性化合物は、より具体的には、2,4−トリクロロメチル−(4'−メトキシフェニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(4'−メトキシスチリル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(フィプロニル)−6−トリアジン、2,4−トリクロロメチル−(3',4'−ジメトキシフェニル)−6−トリアジン、3−{4−[2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン−6−イル]フェニルチオ}プロパン酸、2,4−トリクロロメチル−(4'−エチルビフェニル)−6−トリアジン、および2,4−トリクロロメチル−(4'−メチルビフェニル)−6−トリアジンからなる群より選択されたトリアジン系化合物;2,2'−ビス(2−クロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾール、および2,2'−ビス(2,3−ジクロロフェニル)−4,4',5,5'−テトラフェニルビイミダゾールからなる群より選択されたビイミダゾール化合物;2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル(2−ヒドロキシ)プロピルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−メチル−(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−1−プロパン−1−オン(Irgacure−907)、および2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン(Irgacure−369)からなる群より選択されたアセトフェノン系化合物;BASF社のIrgacure OXE01、Irgacure OXE02、ADEKA社のN−1919、NCI−831、NCI−930のようなO−アシルオキシム系化合物;4,4'−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物;2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、およびジイソプロピルチオキサントンからなる群より選択されたチオキサントン系化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、およびビス(2,6−ジクロロベンゾイル)プロピルホスフィンオキシドからなる群より選択されたホスフィンオキシド系化合物;3,3'−カルボニルビニル−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−(2−ベンゾチアゾリル)−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−ベンゾイル−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−ベンゾイル−7−メトキシ−クマリン、および10,10'−カルボニルビス[1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H,11H−Cl]−ベンゾピラノ−[6,7,8−ij]−キノリジン−11−オンからなる群より選択されたクマリン系化合物などがある。
前記硬化促進剤の例としては、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−4,6−ジメチルアミノピリジン、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールトリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールトリス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパントリス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールエタントリス(2−メルカプトアセテート)、およびトリメチロールエタントリス(3−メルカプトプロピオネート)からなる群より選択された1種以上を含むことができるが、これらにのみ限定されるものではなく、当技術分野で知られているものを含むことができる。
前記熱重合抑制剤としては、p−アニソール、ヒドロキノン、ピロカテコール(pyrocatechol)、t−ブチルカテコール(t−butyl catechol)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアンモニウム塩、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミンアンモニウム塩およびフェノチアジン(phenothiazine)からなる群より選択された1種以上を含むことができるが、これらにのみ限定されるものではなく、当技術分野で知られているものを含むことができる。
本発明の一実施形態にかかる感光性樹脂組成物において、前記分散剤としては、高分子型、非イオン性、陰イオン性、または陽イオン性分散剤を使用することができる。このような分散剤の非制限的な例としては、ポリアルキレングリコールおよびそのエステル、ポリオキシアルキレン多価アルコール、エステルアルキレンオキシド付加物、アルコールアルキレンオキシド付加物、スルホン酸エステル、スルホン酸塩、カルボン酸エステル、カルボン酸塩、アルキルアミドアルキレンオキシド付加物、アルキルアミンなどを含むことができ、これらの中から選択された1種または2種以上の混合物を使用することができるが、これらにのみ限定するものではない。
前記酸化防止剤の非制限的な例としては、2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)および2,6−g,t−ブチルフェノールの中から選択された1種以上を含むことができるが、これらにのみ限定するものではない。前記紫外線吸収剤の非制限的な例としては、2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾールおよびアルコキシベンゾフェノンの中から選択された1種以上を含むことができるが、これらにのみ限定するものではない。
前記界面活性剤としては、MCF350SF、F−475、F−488、F−552(以下、DIC社)などを含むことができるが、これらにのみ限定するものではない。その他、レベリング剤、光増減剤、可塑剤、接着促進剤または充填剤なども、従来の感光性樹脂組成物に含まれ得るすべての化合物が使用可能である。本発明の感光性樹脂組成物に他の成分を添加する場合、第2の光活性化合物は0.1〜5重量%、その他の残りの添加剤はそれぞれ0.01〜5重量%で含まれることが好ましい。
本発明にかかる感光性樹脂組成物は、ロールコータ(roll coater)、カーテンコータ(curtain coater)、スピンコータ(spin coater)、スロットダイコータ、各種印刷または浸漬などに使用され、金属、紙またはガラスプラスチック基板などの支持体上に適用可能である。
また、フィルムなどの支持体上に塗布した後、その他の支持体上に転写するか、第1の支持体に塗布した後、ブランケットなどに転写、さらに第2の支持体に転写することも可能であり、その適用方法は特に限定されない。本発明の感光性樹脂組成物を硬化させるための光源としては、例えば、波長が250〜450nmの光を発散する水銀蒸気アーク(arc)、炭素アークまたはXeアークなどがある。
本発明の化合物を含む感光性樹脂組成物は、TFT LCDカラーフィルタ製造用顔料分散型感光材、TFT LCDまたは有機発光ダイオードのブラックマトリックス形成用感光材、オーバーコート層形成用感光材、カラムスペーサ感光材、印刷配線盤用感光材、その他の透明感光材に使用されることが好ましいが、光硬化性塗料、光硬化性インク、光硬化性接着剤、印刷版、およびPDPの製造などにも使用することができ、その用途に特に制限を設けない。
本発明の一実施形態は、前記感光性樹脂組成物を用いて製造された電子素子を提供する。以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示する。しかし、下記の実施例は本発明をより容易に理解するために提供されるものであって、これによって本発明の内容が限定されるものではない。また、以下の実施例では、本発明にかかる一部の例のみを示したものであるが、実質的には、これらの等価物を使用する場合にも、本発明と同様の効果を奏することができることは当業者にとって自明である。
合成例1:光活性化合物1の製造
(1)9−(3−クロロプロピル)−カルバゾール(9−(3−chloropropyl)−carbazole、1b)の製造
Figure 0005713477
前記化学式1aで表されるカルバゾール33.4g(200mmol)を100mLのテトラヒドロフランに溶かした溶液に、テトラブチルアンモニウムブロミド1.3g(4.0mmol)、1−ブロモ−3−クロロプロパン47.2g(300mmol)、50%水酸化ナトリウム水溶液300mLを、窒素気流下、徐々に加えた。前記混合物を40℃で5時間撹拌させた。エチルアセテート100gおよび水300gを添加して有機層を分離した後、無水マグネシウムスルフェートで水を除去し溶媒を真空下で除去し、化合物1b、47.8gを得た(収率:98%)。
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.07 (2H, d, ArH), 7.44 (2H, t, ArH), 7.43 (2H, d, ArH), 7.22 (2H, t, ArH), 4.44 (2H, t, CH2), 3.45 (2H, t, CH2), 2.30-2.25 (2H, m, CH2)。
(2)1cの製造
Figure 0005713477
前記(1)で得られた化合物1b12.2g(50mmol)をトリエチルホスファイト84g(500mmol)に溶かした後、150℃、窒素気流下、18時間撹拌させた。前記混合物を常温で冷やした後、真空で残留溶媒を除去した。残留物をエチルアセテート100mLに溶かした後、シリカゲルに通過させ溶媒を真空で除去し、前記化学式1cで表される化合物10.1gを得た(収率:58%)。
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm) : 8.09 (2H, d, ArH), 7.45 (2H, t, ArH), 7.44 (2H, d, ArH), 7.23 (2H, t, ArH), 4.42 (2H, t, CH2), 4.18-4.02 (4H, m, 2OCH2), 2.25-2.12 (2H, m, CH2), 1.80-1.67 (2H, m, CH2), 1.33-1.25 (6H, m, 2CH3)
(3)1dの製造
Figure 0005713477
酢酸20mLと無水酢酸40mLを混合した溶液に硝酸銅水和物2.4g(10mmol)を添加した後、常温で10分間撹拌させた。前記(2)で得られた化合物1c9.2g(20mmol)を酢酸20mLに溶かした後、前記溶液に徐々に分けて添加した。2時間さらに撹拌した後、反応物を氷水の入ったビーカーに注いでから、生成される固体沈殿物をフィルタで濾過した後、水で洗浄して乾燥し、化合物1d、5.0gを得た(収率:64%)。
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm) :9.00 (1H, s, ArH), 8.39 (1H, d, ArH), 8.14 (1H, d, ArH), 7.59-7.46 (3H, m, ArH), 7.37-7.26 (1H, m, ArH), 4.50 (2H, t, CH2), 4.16-4.04 (4H, m, 2OCH2), 2.27-2.15 (2H, m, CH2), 1.85-1.64 (2H, m, CH2), 1.35-1.25 (6H, m, 2CH3)。
(4)1eの製造
Figure 0005713477
前記(3)で得られた化合物1d、5.0g(12.8mmol)と2−メトキシベンゾイルクロリド2.8g(16.6mmol)をジクロロメタン50mLに溶かした後、塩化アルミニウム2.6g(19.2mmol)を0〜10℃で徐々に分けて添加した。この温度で2時間さらに撹拌した後、常温に上げて5時間さらに撹拌させた。反応物を氷水の入ったビーカーに注いでから、有機層を抽出し、飽和NaHCO水溶液で洗浄した後、無水マグネシウムスルフェートで水を除去し溶媒を真空下で除去し、カラム(エチルアセテート:メタノール=10:1)で精製し、アシル化物1e、4.1gを得た(収率:61%)。
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm) : 8.95 (1H, s, ArH), 8.54 (1H, s, ArH), 8.40 (1H, d, ArH), 8.19 (1H, d, ArH), 7.59-7.51 (3H, m, ArH), 7.41 (1H, d, ArH), 7.14-7.08 (2H, m, ArH), 4.53 (2H, t, CH2), 4.16-4.05 (4H, m, 2CH2), 3.76 (3H, s, CH3), 2.30-2.16 (2H, m, CH2), 1.85-1.68 (2H, m, CH2), 1.35-1.24 (6H, m, 2CH3)。
(5)1fの製造
Figure 0005713477
前記(4)で得られた化合物1e3.5g(6.7mmol)を10gのエタノールに溶かした溶液に、ヒドロキシアミンヒドロクロリド1.40g(20.1mmol)と酢酸ナトリウム2.20g(26.8mmol)を添加した。前記反応物を6時間還流撹拌させた後、常温で冷やし、ジクロロメタンで希釈した後、固体沈殿物をフィルタで濾過して乾燥する。再びジクロロメタンで希釈した後、飽和NaHCO水溶液で洗浄し、無水マグネシウムスルフェートで水を除去した後溶媒を真空下で除去し、エチルアセテートで再結晶して1f、2.15gを得た(収率:60%)。
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.80 (1H, d, ArH), 8.30 (1H, dd, ArH), 8.08 (1H, d, ArH), 7.84 (1H, dd, ArH), 7.20-7.42 (4H, m, ArH), 7.22 (1H, d, ArH), 7.16-7.04 (2H, m, ArH), 4.52 (2H, t, NCH2), 4.16-4.06 (4H, m, 2CH2), 3.76 (3H, s, CH3), 2.29-2.17 (2H, m, CH2), 1.76 (2H, dt, PCH2), 1.31 (6H, t, 2CH3)
(6)光活性化合物1の製造
Figure 0005713477
前記(5)で得られた化合物1f2.15g(4.0mmol)をn−ブチルアセテート10gに溶かした溶液に、無水酢酸0.61g(6.0mmol)を添加した。この反応物を90℃で2時間撹拌させた後、常温で冷やし、エチルアセテートで希釈してから、飽和NaHCO水溶液で洗浄した後、無水マグネシウムスルフェートで水を除去し溶媒を真空下で除去し、t−ブチルメチルエーテルで再結晶して化合物1、1.21gを得た(収率:52%)。前記化学式1で表される光活性化合物のH−NMRを用いた測定結果は、次のとおりである。
H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.91 (1H, d, ArH), 8.38 (1H, dd, ArH), 8.18 (1H, d, ArH), 8.07 (1H, dd, ArH), 7.54-7.49 (3H, m, ArH), 7.17 (1H, d, ArH), 7.13-7.08 (2H, m, ArH), 4.51 (2H, t, NCH2), 4.13-4.06 (4H, m, 2CH2), 3.78 (3H, s, CH3), 2.24-2.16 (2H, m, CH2), 2.10 (3H, s, COCH3), 1.80-1.73 (2H, m, CH2), 1.31 (6H, t, 2CH3)
合成例2:光活性化合物2の製造
合成例1の(4)ステップにおいて、2−メトキシベンゾイルクロリドの代わりに、4−メトキシベンゾイルクロリドgを使用したことを除いては、同様の方法で反応させて前記化学式2で表される光活性化合物を得た。下記化学式2で表される光活性化合物のH−NMRを用いた測定結果は、次のとおりである。
Figure 0005713477
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.93 (1H, s, ArH), 8.39 (1H, d, ArH), 8.20 (1H, s, ArH), 7.97 (1H, d, ArH), 7.53 (3H, t, ArH), 7.37 (2H, d, ArH), 7.03 (2H, d, ArH), 4.52 (2H, t, NCH2), 4.13-4.07 (4H, m, 2CH2), 3.93 (3H, s, OCH3), 2.25-2.19 (2H, m, CH2), 2.16 (3H, s, COCH3), 1.79-1.73 (2H, m, CH2), 1.31 (6H, t, 2CH3)。
合成例3:光活性化合物3の製造
合成例1の(4)ステップにおいて、2−メトキシベンゾイルクロリドの代わりに、2−エトキシベンゾイルクロリドgを使用したことを除いては、同様の方法で反応させて前記化学式3で表される光活性化合物を得た。下記化学式3で表される光活性化合物のH−NMRを用いた測定結果は、次のとおりである。
Figure 0005713477
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.91 (1H, s, ArH), 8.38 (1H, d, ArH), 8.20 (1H, s, ArH), 8.04 (1H, d, ArH), 7.52-7.48 (3H, m, ArH), 7.18 (1H, d, ArH), 7.10-7.05 (2H, m, ArH), 4.51 (2H, t, NCH2), 4.13-4.06 (4H, m, 2CH2), 4.05-4.01 (2H, q, CH2), 2.29-2.17 (2H, m, CH2), 2.10 (3H, s, COCH3), 1.80-1.73 (2H, m, PCH2), 1.31 (6H, t, 2CH3) , 1.18 (3H, t, CH3)。
合成例4:光活性化合物4の製造
合成例1の(4)ステップにおいて、2−メトキシベンゾイルクロリドの代わりに、2,4−ジメトキシベンゾイルクロリドgを使用したことを除いては、同様の方法で反応させて下記化学式4で表される光活性化合物を得た。下記化学式4で表される光活性化合物のH−NMRを用いた測定結果は、次のとおりである。
Figure 0005713477
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.93 (1H, d, ArH), 8.39 (1H, dd, ArH), 8.18 (1H, d, ArH), 8.08 (1H, dd, ArH), 7.53-7.49 (2H, m, ArH), 7.08 (1H, d, ArH), 6.64-6.62 (2H, m, ArH), 4.51 (2H, t, NCH2), 4.14-4.06 (4H, m, 2OCH2), 3.94 (3H, s, CH3), 3.75 (3H, s, CH3), 2.26-2.17 (2H, m, CH2), 2.12 (3H, s, COCH3), 1.76 (2H, dt, PCH2), 1.31 (6H, t, 2CH3)。
合成例5:光活性化合物5の製造
合成例1の(4)ステップにおいて、2−メトキシベンゾイルクロリドの代わりに、2,4−ジメトキシベンゾイルクロリドgを使用したことを除いては、同様の方法で反応させて下記化学式5で表される光活性化合物を得た。下記化学式5で表される光活性化合物のH−NMRを用いた測定結果は、次のとおりである。
Figure 0005713477
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.92 (1H, s, ArH), 8.39 (1H, d, ArH), 8.21 (1H, s, ArH), 8.03 (1H, d, ArH), 7.53-7.48 (3H, m, ArH), 7.18 (1H, d, ArH), 7.11 (2H, t, ArH), 4.51 (2H, t, NCH2), 4.13-4.07 (6H, m, 3CH2), 3.55 (2H, t, CH2), 3.34 (2H, q, CH2), 2.24-2.17 (2H, m, CH2), 2.09 (3H, s, COCH3), 1.80-1.73 (2H, m, PCH2), 1.31 (6H, t, 2CH3) , 0.98 (3H, t, CH3)。
合成例6:光活性化合物6の製造
合成例1の(4)ステップにおいて、2−メトキシベンゾイルクロリドの代わりに、2,4−ジメトキシベンゾイルクロリドgを使用したことを除いては、同様の方法で反応させて下記化学式6で表される光活性化合物を得た。下記化学式6で表される光活性化合物のH−NMRを用いた測定結果は、次のとおりである。
Figure 0005713477
1H NMR (500 MHz, CDCl3, ppm): 8.88 (1H, s, ArH), 8.37 (1H, d, ArH), 8.22 (1H, s, ArH), 8.12 (1H, d, ArH), 7.88 (1H, d, ArH), 7.81 (1H, d, ArH), 7.65 (1H, s, ArH), 7.56 (1H, t, ArH), 7.51 (2H, d, ArH), 7.44 (1H, t, ArH), 7.33 (1H, s, ArH), 4.51 (2H, t, NCH2), 4.13-4.06 (4H, m, 2CH2), 3.89 (3H, s, OCH2), 2.24-2.17 (2H, m, CH2), 2.05 (3H, s, COCH3), 1.79-1.72 (2H, m, PCH2), 1.31 (6H, t, 2CH3)。
実施例1:透明な感光性樹脂組成物の製造
ベンジルメタクリレート/メタアクリル酸(BzMA/MAA)(モル比:70/30、Mw:10,000、酸価115KOH mg/g)の共重合体のアルカリ可溶性バインダー樹脂10g、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート17g、接着助剤のKBM−503 0.3g、界面活性剤のBYK−331 0.06g、次の表1に示された、前記合成例1で製造された光活性化合物(1)0.6gと、有機溶媒のPGMEA72.04gを、シェーカーを用いて3時間混合させ、感光性樹脂組成物溶液を得た。
実施例2:透明な感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、次の表1の化合物(1)の代わりに、前記合成例4で得られた化合物(4)を0.6g使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物を製造した。
実施例3:透明な感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、次の表1の化合物(1)の代わりに、前記合成例5で得られた化合物(5)を0.6g使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物を製造した。
実施例4:透明な感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、次の表1の化合物(1)の代わりに、前記合成例6で得られた化合物(6)を0.6g使用したことを除いては、前記実施例7と同様の方法で感光性樹脂組成物を製造した。
Figure 0005713477
Figure 0005713477
Figure 0005713477
比較例1
光活性化合物として、前記表1の化合物(1)の代わりに、化合物(7)のIrgacure OXE−02(BASF社)0.6gを使用したことを除いては、前記実施例1と同様の方法で感光性樹脂組成物を製造した。
物性評価1
前記実施例1〜4と比較例で製造した透明な感光性樹脂組成物を、ガラスにスピンコーティングした後、約110℃に70秒間前熱処理し、厚さが約3.7μmの均等なフィルムを形成した。前記フィルムを、直径14μmの円形の独立パターン(Isolated Pattern)型フォトマスクを用い、高圧水銀ランプ下、40mJ/cmの露光量で露光させた後、パターンをpH11.3〜11.9のKOHアルカリ水溶液で現像し、脱イオン水で洗浄した。これを230℃で約20分間後熱処理した後、パターンの物性を下記のような方法で測定し、その結果を次の表2に示した。
1)下部CD(Critical−dimension)
実施例と比較例において、40mJ/cmの同一露光量で製造されたパターンを、パターンプロファイラで大きさを測定し、下部10%に相当する部分の直径を下部CDで表した。同一露光量で露光を進行したので、光開始効率の良い開始剤を使用した組成物の方で、露光時に架橋がより良く進行してより大きいパターンを形成するため、CD値が大きいほど感度に優れるといえる。
2)上部CD(Critical−dimension)
実施例と比較例において、40mJ/cmの同一露光量で製造されたパターンを、パターンプロファイラで大きさを測定し、上部5%に相当する部分の直径を上部CDで表した。同一露光量で露光を進行したので、光開始効率の良い開始剤を使用した組成物の方で、露光時に架橋がより良く進行してより大きいパターンを形成するため、CD値が大きいほど感度に優れるといえる。
Figure 0005713477
前記表2に示されているように、本発明にかかるニトロ基とホスホネート構造を含んでいる光活性化合物を感光性樹脂組成物の光重合開始剤として使用する場合、感度特性を向上させることができて好ましい。この結果は、実施例1〜4で生成されたパターンが、比較例1で製造したパターンに比べて、上部CDおよび下部CDが大きいことから確認することができる。
実施例5:着色感光性樹脂組成物の製造
カーボン分散液95g(カーボンの含有量が20重量%含まれる)、アルカリ可溶性カルド系バインダー{アクリル酸の付加されたビスフェノールフルオレンエポキシアクリレート/1,3−シクロヘキシルジイソシアネート(モル比65/35、Mw=5000、酸価80KOH mg/g)}5g、アルカリ可溶性アクリル系バインダー{ベンジルメタアクリレート/N−フェニルマレイミド/スチレン/メタアクリル酸(モル比60/10/12/18、Mw=15000、80KOH mg/g)}3g、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3g、光活性化合物として合成例1で合成した化合物(1)2.5g、接着助剤のKBM−503 0.5gおよび界面活性剤のF−475(DIC社)0.1g、溶媒としてPGMEA164.5gを、シェーカーを用いて5時間混合させ、着色感光性樹脂組成物溶液を得た。
実施例6:着色感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、合成例1で合成した化合物(1)の代わりに、前記合成例2で得られた化合物(2)を2.5g使用したことを除いては、前記実施例5と同様の方法で着色感光性樹脂組成物を製造した。
実施例7:着色感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、合成例1で合成した化合物(1)の代わりに、前記合成例3で得られた化合物(3)を2.5g使用したことを除いては、前記実施例5と同様の方法で着色感光性樹脂組成物を製造した。
比較例2:着色感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、前記表1の化合物(1)の代わりに、化合物(7)のIrgacure OXE−02(BASF社)2.5gを使用したことを除いては、前記実施例5と同様の方法で着色感光性樹脂組成物を製造した。
比較例3:着色感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、合成例1で合成した化合物(1)の代わりに、前記表1の化合物(8)2.5gを使用したことを除いては、前記実施例5と同様の方法で着色感光性樹脂組成物を製造した。
比較例4:着色感光性樹脂組成物の製造
光活性化合物として、合成例1で合成した化合物(1)の代わりに、前記表1の化合物(9)2.5gを使用したことを除いては、前記実施例5と同様の方法で着色感光性樹脂組成物を製造した。
物性評価2
前記実施例5〜7と比較例3、4で製造された着色感光性樹脂組成物を、ガラスにスピンコーティングした後、約100℃に100秒間前熱処理し、約1.3μm厚さの塗膜を形成した。その後、室温で冷却した後、線幅10μmの線状パターン(Line Pattern)型フォトマスクを用い、高圧水銀ランプ下、50mJ/cmの露光量で露光させた。前記露光した基板を、25℃の温度にて0.04%のKOH水溶液でスプレー方式によって50秒間現像した後、純水で洗浄して乾燥させ、230℃のコンベクションオーブンで30分間ポストベーク(post−bake)した。生成されたパターンの物性を下記のような方法で測定し、その結果を次の表3に示した。
1)現像性
現像後、パターンが良好に形成できた場合O、現像性が低下してパターンがきれいに生成されずに直進性が低下した場合をXで表した。
2)パターンCD(Critical−dimension)
実施例と比較例で50mJ/cmの同一露光量で製造されたパターンを、SEMで大きさを測定し、下部の線幅をパターンCDで表した。同一露光量で露光を進行したので、光開始効率の良い開始剤を使用した組成物の方で、露光時に架橋がより良く進行してより大きいパターンを形成するため、CD値が大きいほど感度に優れるといえる。
Figure 0005713477
前記表3に示されているように、本発明にかかるニトロ基とホスホネート構造を含んでいる光活性化合物を感光性樹脂組成物の光重合開始剤として使用する場合、現像性を改善し、感度特性を向上させることができて好ましい。この結果は、実施例5〜7で生成されたパターンは、図1に示されているように、現像性に優れて現像がきれいに行われており、パターンの直進性に優れていることが分かる。しかし、比較例2と比較例3で形成されたパターンは、現像性が低下し、図2のように現像がきちんと行われずに直進性が低下することを確認することができた。これは、実施例に適用された化合物1〜3に含まれたホスホネート基が溶媒および他の成分との相溶性を増加させて現像性を増加させるためと推定される。比較例4の場合、現像性は優れていたが、パターンCDが小さくて感度特性が十分でなかった。したがって、実施例の化合物を適用した着色感光性樹脂組成物の場合、現像性および直進性に優れ、感度に優れた特性を確認することができた。

Claims (20)

  1. 下記化学式1で表される光活性化合物。
    [化学式1]
    Figure 0005713477
    前記化学式1において、
    は、C〜Cのアルキル基またはC〜C12のアリール基であり、
    は、C〜Cのアルキル基またはR、OR、SRおよびCORからなる群より選択される1つ以上の置換基で置換されたC〜Cのアルキル基であり、
    およびRは、水素または互いに連結されて縮合環を形成し、
    は、C〜Cのアルキル基またはC〜C12のアリール基であり、
    Aは、C〜C15のアルキレン基またはR、OR、SR、CORおよびOCORからなる群より選択される1つ以上の置換基で置換されたC〜C15のアルキレン基であり、
    Rは、C〜C10のアルキル基、C〜C10のハロアルキル基またはC〜C13のアラルキル基から選択される。
  2. 前記化学式1において、前記Rは、メチル基またはフェニル基であり、前記Rは、エチル基またはメチル基であり、前記Rは、メチル基またはエチル基であり、前記Aは、へキシレン基またはプロピレン基であることを特徴とする、
    請求項1に記載の光活性化合物。
  3. a)下記化学式1で表される光活性化合物と、
    b)アルカリ可溶性バインダー樹脂と、
    c)エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と、
    d)溶媒と
    を含む感光性樹脂組成物。
    [化学式1]
    Figure 0005713477
    前記化学式1において、
    は、C〜Cのアルキル基またはC〜C12のアリール基であり、
    は、C〜Cのアルキル基またはR、OR、SRおよびCORからなる群より選択される1つ以上の置換基で置換されたC〜Cのアルキル基であり、
    およびRは、水素または互いに連結されて縮合環を形成し、
    は、C〜Cのアルキル基またはC〜C12のアリール基であり、
    Aは、C〜C15のアルキレン基またはR、OR、SR、CORおよびOCORからなる群より選択される1つ以上の置換基で置換されたC〜C15のアルキレン基であり、
    Rは、C〜C10のアルキル基C〜C10のハロアルキル基またはC〜C13のアラルキル基から選択される。
  4. 前記Rは、メチル基またはフェニル基であり、前記Rは、エチル基またはメチル基であり、前記Rは、メチル基またはエチル基であり、前記Aは、へキシレン基またはプロピレン基であることを特徴とする、
    請求項3に記載の感光性樹脂組成物。
  5. 前記アルカリ可溶性バインダー樹脂は、酸価30〜300KOH mg/gであることを特徴とする、
    請求項3または4に記載の感光性樹脂組成物。
  6. 前記アルカリ可溶性バインダー樹脂は、重量平均分子量が1,000〜200,000であることを特徴とする、
    請求項3から5のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  7. 前記化学式1において、光活性化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として0.1〜5重量%であることを特徴とする、
    請求項3から6のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  8. 前記アルカリ可溶性バインダー樹脂の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として1〜30重量%であることを特徴とする、
    請求項3から7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  9. 前記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として0.5〜30重量%であることを特徴とする、
    請求項3から8のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  10. 前記溶媒の含有量は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として40〜95重量%であることを特徴とする、
    請求項3から9のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  11. 前記感光性樹脂組成物は、着色剤をさらに含むことを特徴とする、
    請求項3から10のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  12. 前記着色剤は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として1〜20重量%で含まれることを特徴とする、
    請求項11記載の感光性樹脂組成物。
  13. 前記感光性樹脂組成物は、第2の光活性化合物をさらに含むことを特徴とする、
    請求項3から12のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  14. 前記第2の光活性化合物は、感光性樹脂組成物の総重量を基準として0.1〜5重量%で含まれることを特徴とする、
    請求項13に記載の感光性樹脂組成物。
  15. 前記感光性樹脂組成物は、硬化促進剤、熱重合抑制剤、分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤、光増減剤、可塑剤、接着促進剤、充填剤および界面活性剤からなる群より選択される1つまたは2つ以上の添加剤をさらに含むことを特徴とする、
    請求項3から14のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物。
  16. 前記添加剤は、感光性樹脂組成物の総重量を基準としてそれぞれ0.01〜5重量%含まれることを特徴とする、
    請求項15に記載の感光性樹脂組成物。
  17. 請求項3から16のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物を用いて製造された感光材。
  18. 請求項3から16のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物の硬化物を含む感光材。
  19. 前記感光材は、TFT LCDカラーフィルタ製造用顔料分散型感光材、TFT LCDまたは有機発光ダイオードのブラックマトリックス形成用感光材、オーバーコート層形成用感光材、カラムスペーサ感光材および印刷配線盤用感光材からなる群より選択されることを特徴とする、
    請求項17又は請求項18に記載の感光材。
  20. 請求項17から請求項19までの何れか一項に記載の感光材を含む電子素子。
JP2014505096A 2011-08-04 2012-05-14 光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物 Active JP5713477B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20110077775 2011-08-04
KR10-2011-0077775 2011-08-04
PCT/KR2012/003766 WO2013018978A1 (ko) 2011-08-04 2012-05-14 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014518549A JP2014518549A (ja) 2014-07-31
JP5713477B2 true JP5713477B2 (ja) 2015-05-07

Family

ID=47629470

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014505096A Active JP5713477B2 (ja) 2011-08-04 2012-05-14 光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8871430B2 (ja)
JP (1) JP5713477B2 (ja)
KR (1) KR101384431B1 (ja)
CN (1) CN103492948B (ja)
WO (1) WO2013018978A1 (ja)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013084283A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 タッチパネル用電極の保護膜の形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
WO2013084282A1 (ja) 2011-12-05 2013-06-13 日立化成株式会社 樹脂硬化膜パターンの形成方法、感光性樹脂組成物及び感光性エレメント
JP2013134263A (ja) * 2011-12-22 2013-07-08 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法
KR20140076320A (ko) 2012-12-12 2014-06-20 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서
CN104345563B (zh) 2013-08-09 2018-09-21 第一毛织株式会社 光敏树脂组合物和使用其的光阻挡层
JP2015069181A (ja) * 2013-09-30 2015-04-13 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、及び表示素子
TWI683185B (zh) * 2014-10-24 2020-01-21 美商飛利斯有限公司 可光圖案化組成物以及使用該可光圖案化組成物製造電晶體元件的方法
JP5916939B2 (ja) * 2015-12-24 2016-05-11 東京応化工業株式会社 ブラックカラムスペーサの形成方法
KR101768658B1 (ko) * 2016-01-27 2017-08-17 (주)켐이 카바졸 유도체, 이를 포함하는 광중합 개시제 및 포토레지스트 조성물
WO2017169819A1 (ja) * 2016-03-29 2017-10-05 株式会社Adeka 黒色感光性樹脂組成物
WO2018191237A1 (en) * 2017-04-12 2018-10-18 Sun Chemical Corporation Stable photoresist compositions comprising organosulphur compounds
CN107474068A (zh) * 2017-09-01 2017-12-15 南京法恩化学有限公司 一种光引发剂咔唑肟酯的制备方法
CN112111028A (zh) 2019-06-21 2020-12-22 江苏英力科技发展有限公司 一种含有酰基咔唑衍生物和咔唑基肟酯的光引发剂组合物及其在光固化组合物中的应用
JP2022528738A (ja) 2019-06-21 2022-06-15 艾▲堅▼蒙(安▲慶▼)科技▲発▼展有限公司 新規ジアロイルカルバゾール化合物、及び増感剤としてのその使用
CN110981995B (zh) * 2019-12-27 2021-12-07 阜阳欣奕华材料科技有限公司 一种低迁移型光引发剂及其制备方法和应用
CN112691558B (zh) * 2020-12-02 2023-03-28 江西省纳米技术研究院 膜材料的制备方法及系统

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1567518B1 (en) * 2002-12-03 2009-01-14 Ciba Holding Inc. Oxime ester photoinitiators with heteroaromatic groups
KR101007440B1 (ko) * 2007-07-18 2011-01-12 주식회사 엘지화학 옥심 에스테르를 포함하는 수지상 광활성 화합물 및 이의제조방법
CN101918397B (zh) * 2008-04-10 2013-11-06 株式会社Lg化学 光活性化合物以及含有该光活性化合物的感光性树脂组合物
KR101102248B1 (ko) * 2008-04-10 2012-01-03 주식회사 엘지화학 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
JP2010015025A (ja) * 2008-07-04 2010-01-21 Adeka Corp 特定の光重合開始剤を含有する感光性組成物
CN102317863B (zh) * 2009-02-13 2013-11-20 株式会社Lg化学 光活性化合物和含有该化合物的光敏树脂组合物
TWI520940B (zh) * 2010-10-05 2016-02-11 巴地斯顏料化工廠 肟酯

Also Published As

Publication number Publication date
CN103492948B (zh) 2016-06-08
KR101384431B1 (ko) 2014-04-14
CN103492948A (zh) 2014-01-01
WO2013018978A8 (ko) 2013-10-24
US8871430B2 (en) 2014-10-28
US20140220491A1 (en) 2014-08-07
JP2014518549A (ja) 2014-07-31
WO2013018978A1 (ko) 2013-02-07
KR20130016043A (ko) 2013-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5713477B2 (ja) 光活性化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物
JP6196363B2 (ja) 新規なβ‐オキシムエステルフルオレン化合物、それを含む光重合開始剤及びフォトレジスト組成物
JP5435596B2 (ja) 光活性化合物及びそれを含む感光性樹脂組成物
JP4615602B2 (ja) オキシムエステルを含むトリアジン系光活性化合物からなる感光性組成物
US8252507B2 (en) Photoactive compound and photosensitive resin composition comprising the same
JP5420527B2 (ja) 架橋性化合物及びそれを含む感光性組成物
JP5831776B2 (ja) 光活性化合物、感光性樹脂組成物および感光材
JP5479544B2 (ja) シラン系化合物およびこれを含む感光性樹脂組成物
JP5835600B2 (ja) 新規な化合物、これを含む感光性組成物および感光材
KR101384478B1 (ko) 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR101355152B1 (ko) 광중합 개시제 및 이를 이용한 감광성 수지 조성물
KR101403775B1 (ko) 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR101273140B1 (ko) 아크릴레이트계 화합물 및 이를 포함하는 감광성 조성물
KR100453921B1 (ko) 광활성 알독심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는감광성 조성물
KR101546103B1 (ko) 실릴기를 포함한 광활성 화합물 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR20070072828A (ko) 광활성 옥심 에스테르계 화합물 및 이를 포함하는 감광성조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141007

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150107

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150210

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150306

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5713477

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250