JP2020506783A - ネイルポリッシュ自動塗布装置 - Google Patents

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Abstract

カプセルコンパートメントを備えるマウント要素であって、アクチュエータにより、ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、アクチュエータによって長手方向軸周りで回転可能である、マウント要素と、カプセルコンパートメントに装着され、ネイルポリッシュ液を収容するカプセルの本体部に圧力を印加する圧力印加要素であって、本体部により、ネイルポリッシュ液を収容するリザーバが画定され、圧力によりリザーバの内圧が高まり、カプセルに一体化されたネイルポリッシュ塗布要素へとネイルポリッシュ液が押し出される、圧力印加要素と、センサデータを生成するように構成されたセンサと、センサデータの分析に従ってアクチュエータを作動させるように構成された制御ユニットとを備える、ネイルポリッシュ塗布装置。【選択図】 図１

Description

本発明は、そのいくつかの実施形態においてはネイルポリッシュ塗布装置に関し、限定はされないがより詳細には、一体化されたブラシを備えた、ネイルポリッシュ液を保管および供給する使い捨てのカプセルを利用する、ネイルポリッシュ塗布装置に関する。
手指の爪および／または足指の爪へのネイルポリッシュの塗布は、古代から実施されてきた。多くの人々、特に女性が、ネイルポリッシュを塗布して自身の手指の爪および／または足指の爪を装飾しているので、手指および／または足指の爪に装飾を施すのは、現代でも変わらない流行である。
ネイルポリッシュ、例えば、ベースコート、トップコート、ネイルポリッシュなどは、爪表面に塗布すると乾燥して爪表面に固体層を形成する流体である。
現在、手作業でネイルポリッシュを塗布することが最も一般的な方法である。手作業でネイルポリッシュを塗布するには、いくつかの専門技術、技能、および／または経験が必要とされる場合があり、また時間がかかることがある。加えて、ネイルポリッシュを手作業で自身の爪に塗布するのは、両方の手で技術を身につける必要があることにより身体的に難しい場合があり、足指の爪の場合、うまい具合に効果的に足指に手を伸ばすことも困難な場合がある。多くの人々が手作業で自身にネイルポリッシュを塗布する技術を身につけてきているが、ネイルポリッシュの塗布は、しばしばプロのマニキュアリストおよび／またはペディキュアリストによって実施される場合がある。
本発明の第１の態様によれば、
− ネイルポリッシュ液を収容する１つまたは複数のカプセルを受けるように構成されたカプセルコンパートメントを備えるマウント要素であって、マウント要素が、１つまたは複数のアクチュエータにより、ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、アクチュエータによって長手方向軸周りで回転可能である、マウント要素と、
− カプセルコンパートメントに装着されるカプセルの本体部に圧力を印加するように構成された圧力印加要素であって、本体部により、ネイルポリッシュ液を収容するリザーバが画定され、この圧力によりリザーバの内圧が高まり、それにより、カプセルに一体化されたネイルポリッシュ塗布要素へとネイルポリッシュ液が押し出される、圧力印加要素と、
− ネイルポリッシュ塗布空間を描写するセンサデータを生成するように構成された１つまたは複数のセンサと、
− センサデータの分析に従ってアクチュエータおよび圧力を作動させるように構成された制御ユニットとを備える、ネイルポリッシュ塗布装置が提供される。
本発明の第２の態様によれば、
− ネイルポリッシュ液を収容するリザーバを画定する本体部を有する１つまたは複数のカプセルを受けるように構成されたカプセルコンパートメントと、
− １つまたは複数の移送管によって本体部に連結されるネイルポリッシュ塗布要素を受けるように構成されたマウント要素であって、１つまたは複数のアクチュエータにより、ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、アクチュエータによって長手方向軸周りで回転可能である、マウント要素と、
− 本体部に圧力を印加するように構成された圧力印加要素であって、この圧力によりリザーバの中の圧力が高まり、それにより、ネイルポリッシュ液が移送管を通ってネイルポリッシュ塗布要素へと押し出される、圧力印加要素と、
− ネイルポリッシュ塗布空間を描写するセンサデータを生成するように構成された１つまたは複数のセンサと、
− センサデータの分析に従って、アクチュエータの運動および圧力を制御するように構成された制御ユニットとを備える、ネイルポリッシュ塗布装置が提供される。
本発明の第３の態様によれば、
− ネイルポリッシュ液を収容する容器を備える二部ネイルポリッシュカプセルから取外し可能であるネイルポリッシュ塗布要素を受けるように構成されたマウント要素であって、１つまたは複数のアクチュエータにより、ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸、および長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、アクチュエータによって長手方向軸周りで回転可能である、マウント要素と、
− ネイルポリッシュ塗布空間を描写するセンサデータを生成するように構成された１つまたは複数のセンサと、
− センサデータの分析に従ってアクチュエータの運動を制御するように構成された制御ユニットとを備え、
制御ユニットは、ネイルポリッシュ塗布要素が容器に浸されるようにマウント要素を動かすよう、アクチュエータを作動させる、ネイルポリッシュ塗布装置が提供される。
本発明の第４の態様によれば、ネイルポリッシュ塗布装置を制御する方法であって、ネイルポリッシュ塗布装置の制御ユニットの１つまたは複数のプロセッサを使用するステップを含み、プロセッサが、
− ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および長手方向軸に垂直な横方向軸においてマウント要素を運動させ、長手方向軸周りでマウント要素を回転させるように構成された１つまたは複数のアクチュエータを制御するためのコードであって、マウント要素が、ネイルポリッシュ液を供給するように構成された１つまたは複数のネイルポリッシュ塗布要素を受けるように構成されたコンパートメントを備える、コード、
− ネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドにおけるネイルポリッシュ液の飽和レベルを調節するためのコード、
− ネイルポリッシュ塗布空間を描写する、１つまたは複数のセンサから受け取ったセンサデータを分析するためのコード、
− 分析に従ってアクチュエータを制御することによって運動を調節し、分析に従って飽和レベルを調節するためのコード、を実行する、方法が提供される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、マウント要素は、アクチュエータにより、爪表面に垂直な軸において可動である。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布空間において、１つまたは複数の手指ソケットが利用可能である。手指ソケットは、人間の手指および／または人間の足指のうちの１本または複数本を受けて収めるように形状設定された表面を有する。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布空間は、ネイルポリッシュ塗布空間の外から入ってくる外部の照明を軽減するように構築される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、各手指のうちの１本または複数本の手指の１つまたは複数の爪表面を露出させながら、人間の手の１本または複数本の手指を受けて収めるように形状設定された、手保持要素を含む。手保持要素は、ネイルポリッシュ塗布要素に対して垂直な平面に位置合わせされるように、アクチュエータによって可動である。
第１の態様、第２の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、圧力印加要素は、アクチュエータによって可動なピストンを備える。ピストンは、リザーバを画定する本体部の第１の面を封止する摺動ガスケットを押し下げるように構成される。摺動ガスケットが、第１の面に対向する、本体部の第２の面に向かって下方に摺動すると、リザーバの容積は小さくなり、それによって内圧が高まる。制御ユニットは、分析に基づいて計算されたピストンの変位変化に従ってピストンを動かすようアクチュエータを作動させることにより、圧力を制御するように構成される。
第１の態様、第２の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、ピストンは、送りねじ、歯車、プランジャ、および／またはピニオンに連結されたラックのうちの１つまたは複数を介して、アクチュエータによって可動である。
第１の態様、第２の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、圧力印加要素は、アクチュエータによって可動なプランジャを備える。プランジャは、本体部の他の面の弾性係数よりも弾性係数が高い、本体部の１つまたは複数の面を変形させるように構成される。これらの面が変形すると、リザーバの容積は小さくなり、リザーバ内の内圧が高まる。制御ユニットは、分析に基づいて計算されたネイルポリッシュ液の流れに従ってプランジャに力を加えるよう１つまたは複数のアクチュエータを作動させることにより、圧力を制御するように構成される。
第１の態様、第２の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、圧力印加要素は、ペリスタルティックポンプを備える。ペリスタルティックポンプは、ネイルポリッシュ液を押し出すことにより、変位運動を引き起こしてリザーバの容積を小さくするように構成される。ペリスタルティックポンプは、本体部をネイルポリッシュ塗布要素に連結する１つまたは複数の移送トンネルにポンピングを施すことによって変位運動を引き起こすように構成される。移送トンネルの弾性係数は高い。制御ユニットは、分析に基づいて計算された、ネイル塗布要素を通るネイルポリッシュ液の流れに従って動作するよう、ペリスタルティックポンプを作動させることにより、圧力を制御するように構成される。
第１の態様、第２の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、圧力印加要素は、圧縮機を備える。圧縮機は、高い圧力で本体部に圧縮材料を注入し、それによってリザーバの内圧を高めるように構成される。制御ユニットは、分析に基づいて計算された、ネイル塗布要素を通るネイルポリッシュ液の流れ流量に従って動作するよう、圧縮機を作動させることにより、圧力を制御するように構成される。
第１の態様、第２の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、圧力印加要素は、磁場を発生させるように構成された１つまたは複数の磁場発生装置を備え、カプセルの摺動ガスケットの中に一体化された１つまたは複数の磁気要素は、この磁場に対して反応する。反応は、吸引および／または反発からなる群の構成要素（ｍｅｍｂｅｒ）である。摺動ガスケットは、リザーバを画定する本体部の第１の面を封止する。磁場によって生じる磁気力により、第１の面に対向する本体部の第２の面に向かって下方に摺動する摺動ガスケットが押し下げられると、リザーバの容積は小さくなる。制御ユニットは、分析に基づいて計算された、ネイル塗布要素を通るネイルポリッシュ液の流れに従って磁場の力および方向を制御することにより、圧力を制御するように構成される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、制御ユニットは、ネイルポリッシュ液を塗布する前に、マウント要素に関する１つまたは複数の準備作業を行うように構成され、準備作業は、カプセルからカバーを取り外すこと、カプセルを振り混ぜること、ネイルポリッシュ塗布要素の位置決めを較正すること、ネイルポリッシュ塗布要素の汚れを落とすこと、本体部からネイルポリッシュ塗布要素へとネイルポリッシュ液が流れることを可能にするために、カプセルに穿孔すること、ネイルポリッシュ塗布要素の飽和レベルを推定すること、および／または飽和レベルを調節することを含む群の構成要素である。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、準備作業のためにマウント要素を収めるように構築された準備空間を含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、準備空間は、ネイルポリッシュ塗布空間において利用される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、本体部からネイルポリッシュ塗布要素へとネイルポリッシュ液が流れることを可能にするために、カプセルに穿孔するための１つまたは複数の穿孔要素を含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、制御ユニットによって作動されて、爪表面に塗布される前、後、および／または塗布中のネイルポリッシュ液を乾燥させる１つまたは複数のネイルポリッシュ乾燥要素を含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ乾燥要素は、制御ユニットによって作動されるアクチュエータによって可動である。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ乾燥要素は、人間の手指および／または人間の足指のうちの１本または複数本を受けて収めるように形状設定された１つまたは複数の乾燥ソケットを備える乾燥空間において、ネイルポリッシュ液を乾燥させるように配置および構成される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、乾燥空間は、ネイルポリッシュ塗布空間において利用される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、ネイルポリッシュ残留分を爪表面から取り除くための１つまたは複数のネイルポリッシュ除去要素を含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ除去要素は、人間の手指および／または人間の足指のうちの１本または複数本を受けて収めるように形状設定された１つまたは複数のネイルポリッシュ除去ソケットを備えるネイルポリッシュ除去空間において、ネイルポリッシュ残留分を取り除くように配置および構成される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、ネイルポリッシュ除去空間は、ネイルポリッシュ塗布空間において利用される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、ネイルポリッシュ塗布要素へのネイルポリッシュ液の流量を制御するために、動的に調節可能なシャッタを含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、センサのうちの１つまたは複数は、制御ユニットによって作動されて、ネイルポリッシュ塗布セッション中にネイルポリッシュ塗布空間を描写する１つまたは複数の画像を取得する画像センサであり、ネイルポリッシュ塗布セッションでは、カプセルに一体化されたネイルポリッシュ塗布要素が、ネイルポリッシュ塗布空間において１本または複数本の手指の爪表面にネイルポリッシュ液を塗布し、分析のために使用されるセンサデータは、画像を含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、分析は、画像（または他のセンサデータ）を処理して、
− 爪表面の１つまたは複数の湾曲部を検出すること、
− 爪表面の１つまたは複数の境界を検出すること、
− 爪表面の３次元（３Ｄ）表面を検出すること、
− 爪表面への接触前および接触中のネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドの検出された幅に従って、爪表面からのネイルポリッシュ塗布要素の高さを推定すること、
− ネイルポリッシュ塗布空間における手指の動きを検出すること、
− ネイルポリッシュ塗布要素におけるネイルポリッシュ液の飽和レベルを検出すること、
− ネイルポリッシュ液がネイルポリッシュ塗布要素の先端に到達する時刻を検出すること、
− 爪表面へのネイルポリッシュ液塗布の品質を推定すること、
− ネイルポリッシュ液塗布における１つまたは複数の不備を検出すること、
− 爪表面に塗布されたネイルポリッシュ液の乾燥状態を推定すること、
− ネイルポリッシュ液の粘度に従ってネイルポリッシュ液の流れを較正するため、ネイルポリッシュ液の液滴の広がりを分析することによって粘度を推定すること、
のうちの１つまたは複数を特定することを含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、制御ユニットは、カプセルを描写する１つまたは複数の画像の分析に従って、カプセルの品質コンプライアンスを推定するように構成される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、制御ユニットは、手指がネイルポリッシュ塗布空間に存在している間、爪表面の１つまたは複数の画像の分析に従って、ネイルポリッシュ液の塗布のために爪表面のコンプライアンスを推定するように構成される。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、センサのうちの１つまたは複数は、制御ユニットによって作動されて、ネイルポリッシュ塗布空間に配置された１本または複数本の手指の爪表面に対するネイルポリッシュ塗布要素の近さを描写する近接データを生成する近接センサであり、分析のために使用されるセンサデータは、近接データを含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、制御ユニットによって作動されて爪表面を照らす１つまたは複数の光源を含む。光源は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザエミッタ装置、および／または赤外線（ＩＲ）エミッタからなる群の構成要素である。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、爪表面を処理するように形状設定および構成された１つまたは複数の爪成形要素を含む。処理には、爪表面の境界を成形すること、爪表面を埋めること、爪表面に光沢を出すこと、爪表面を平滑化すること、爪表面の甘皮を取り除くこと、および／または爪表面の甘皮を変位させることのうちの１つまたは複数が含まれる。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、制御ユニットによって作動されて、ネットワーク接続された１つまたは複数の装置と１つまたは複数のネットワークを介して通信する通信インターフェースを含む。ネットワーク接続された装置には、ネイルポリッシュ塗布装置を使用する使用者のクライアント端末、および／またはネットワーク接続されたリモートノードのうちの１つまたは複数が含まれる。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、制御ユニットによって作動されて１人または複数人の使用者との相互作用を可能にするユーザインターフェースを含み、ユーザインターフェースは、表示ライト、ディスプレイ、サウンドインジケーション、および／または制御スイッチからなる群の１つまたは複数の構成要素を含む。
第１の態様、第２の態様、第３の態様、および／または第４の態様の任意選択の一実装形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、ポリッシュ塗布空間の前にハンドレスト台を含み、ハンドレスト台は、使用者の手のひらを受けて収めるように形状設定された表面を有する。
第３の態様および／または第４の態様の別の実装形態では、ネイルポリッシュ塗布要素は、最初はカプセルに取り付けられており、ネイルポリッシュ塗布要素は、装置の使用者によって、および／または制御ユニットによって作動されるマウント要素によって自動で、少なくともカプセルから取り外され、マウント要素に設置される。
第１の態様、第２の態様、および／または第４の態様の別の実装形態では、飽和レベルは、コンパートメントに装着される１つまたは複数のカプセルの本体部に圧力を印加するように構成された圧力印加要素を制御することによって調節される。本体部は、ネイルポリッシュ液を収容するリザーバを画定する。圧力によりリザーバの中の圧力が高まり、それによってカプセルに一体化されたネイルポリッシュ塗布要素へとネイルポリッシュ液が押し出される。
第３の態様および／または第４の態様の別の実装形態では、飽和レベルは、ネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドを、ネイルポリッシュ液を収容する容器に浸すことによって調節される。
特に定義しない限り、本明細書で使用する全ての技術および／または科学用語は、本発明が属する技術分野の当業者により通常理解されるものと同じ意味を有する。本明細書に記載のものと同様のまたは等価な方法および材料を、本発明の実施形態の実践または試験に使用することができるが、例示的な方法および／または材料を下記に記載する。矛盾する場合、定義を含む特許明細書が優先する。加えて、材料、方法、および実施例は単なる例示であり、必ずしも限定を意図するものではない。
本発明の実施形態の方法および／またはシステムの実装は、選択された作業を手動、自動、またはその組合せで実施または完了することを含んでもよい。さらに、本発明の方法および／またはシステムの実施形態の実際の器具および装置においては、選択されたいくつかの作業は、オペレーティングシステムを使用して、ハードウェア、ソフトウェア、もしくはファームウェア、またはこれらの組合せによって実施されてもよい。
例えば、本発明の実施形態による、選択された作業を実施するためのハードウェアは、チップまたは回路として実施されてもよい。ソフトウェアのように、本発明の実施形態による選択された作業は、任意の適したオペレーティングシステムを使用してコンピュータによって実行される複数のソフトウェア命令として実施されてもよい。本発明の例示的な一実施形態では、本明細書に記載の方法および／またはシステムの例示的な実施形態による１つまたは複数の作業は、複数の命令を実行するためのコンピューティングプラットフォームなど、データ処理装置によって実施される。任意選択で、データ処理装置は、命令および／もしくはデータを記憶するための揮発性メモリ、ならびに／または命令および／もしくはデータを記憶するための不揮発性の記憶装置、例えば、磁気ハードディスクおよび／もしくはリムーバブルメディアを含む。任意選択で、ネットワーク接続も提供される。ディスプレイ、および／またはキーボードもしくはマウスなどのユーザ入力装置も、任意選択で提供される。
本発明のいくつかの実施形態について、その例示のみを目的として添付の図面を参照して本明細書に記載する。以下、特に図面を詳細に参照して示す細部は、例示を目的とし、また本発明の実施形態の詳細な説明を目的とすることを強調する。同様に、図面と共に説明を見ることで、本発明の実施形態をどのように実践し得るかが当業者には明らかとなる。
本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ液を収容するカプセルを利用してネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する例示的なネイルポリッシュ塗布装置の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指ソケットの概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指ソケットの概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指ソケットの概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指拘束要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指拘束要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指拘束要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指拘束要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な皮膚変位要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な皮膚変位要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、動的に可動な例示的な手保持要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、動的に可動な例示的な手保持要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、例示的なネイルポリッシュ除去要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、例示的なネイルポリッシュ除去要素の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、例示的なカプセルコンパートメントの縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、例示的なカプセルコンパートメントの縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、ピストンをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、ピストンをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ塗布装置によって使用されるネイルポリッシュカプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の、例示的な位置決め角度の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、送りねじピストンをベースとした例示的な変位印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、送りねじピストンをベースとした例示的な変位印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、プランジャをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、プランジャをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、プランジャをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、プランジャをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、ペリスタルティックポンプをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、ペリスタルティックポンプをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、ペリスタルティックポンプをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、圧縮機をベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、圧縮機をベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、圧縮機をベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、磁場をベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、磁場をベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な穿孔要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な穿孔要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な穿孔要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な乾燥要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な調節可能シャッタの縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な調節可能シャッタの縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ液を収容する二部カプセルを利用してネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する、例示的なネイルポリッシュ塗布装置の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態による二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の、例示的なマウント要素およびカプセルコンパートメントの縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用してネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する、例示的なネイルポリッシュ塗布装置の概略図である。 本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の例示的なマウント要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の例示的なマウント要素の斜視側面図および斜視正面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の例示的なマウント要素の斜視側面図および斜視正面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の例示的なマウント要素の斜視側面図および斜視正面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用してネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する、例示的なネイルポリッシュ塗布装置の斜視側面図である。 本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な爪成形要素の縦断面図である。 本発明のいくつかの実施形態による例示的なネイルポリッシュ塗布装置の斜視側面図および斜視上面図である。 本発明のいくつかの実施形態による例示的なネイルポリッシュ塗布装置の斜視側面図および斜視上面図である。 本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ液を自動で爪表面に塗布する例示的なプロセスのフローチャートである。
本発明は、そのいくつかの実施形態においてはネイルポリッシュ塗布装置に関し、限定はされないがより詳細には、一体化されたブラシを備えた、ネイルポリッシュ液を保管および供給する使い捨てのカプセルを利用する、ネイルポリッシュ塗布装置に関する。
本発明のいくつかの実施形態によれば、ネイルポリッシュ塗布装置およびネイルポリッシュ自動塗布方法が提供される。ネイルポリッシュ塗布装置は、使用者の１つまたは複数の爪表面の上にネイルポリッシュ液を１回塗布することを意図したネイルポリッシュ液を収容する、使い捨ての供給および保管カプセルを利用することができる。具体的には、供給および保管カプセルは、一体化されたネイルポリッシュ塗布要素、例えば、ブラシ、弾性の管、ワイパーなどを含む。ネイルポリッシュ液には、例えば、ポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、ジェルポリッシュ、乾燥材料、ポリッシュ除去液、ネイルアートポリッシュ液、医療用ネイルトリートメント液などが含まれ得る。
ネイルポリッシュ塗布装置は、ネイルポリッシュ塗布装置のネイルポリッシュ塗布空間においてマウント要素を動かす１つまたは複数のアクチュエータを制御する制御ユニットを備え、使用者は、ネイルポリッシュ液を塗布するために爪表面を露出させた状態で、このネイルポリッシュ塗布空間に自身の手指および／または足指を配置する。マウント要素は、ネイルポリッシュカプセルを受けて収めるように構成された１つまたは複数のカプセルコンパートメントを含むことができる。制御ユニットは、カプセルに一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を標的となる爪表面の上に配置および／または位置決めするように、ネイルポリッシュ塗布空間において長手方向軸、横方向軸、および長手方向軸周りの回転（傾斜）軸においてマウント要素を動かすよう、アクチュエータを作動させることができる。任意選択で、アクチュエータは、爪表面に対して実質的に垂直な軸においてマウント要素を動かすことができる。
制御ユニットは、カプセルの本体部を押圧して本体部から一体化されたネイルポリッシュ塗布要素へとネイルポリッシュ液を押し出すことができる、圧力印加要素も制御することができる。圧力印加要素は、カプセルの構造に適合し得る１つまたは複数の実装形態、例えば、ピストン、送りねじで駆動されるピストン、歯車、プランジャ、ペリスタルティックポンプ、圧縮機、磁場をベースとした機構などを利用することができる。
制御ユニットは、ネイルポリッシュ塗布空間を描写するように配備、位置決め、および／または配置された１つまたは複数のセンサ、例えば、画像センサ、近接センサなどから、センサデータを収集することができる。制御ユニットは、収集されたセンサデータ、例えば、画像、近接情報などを分析して、標的となる爪表面に対するネイルポリッシュ塗布要素の位置決めを検出する。制御ユニットは、分析に基づいて、ネイルポリッシュ塗布要素がネイルポリッシュ液を爪表面に適切に供給および塗布することを可能にするように、標的となる爪表面に沿ってマウント要素を動かすようアクチュエータを制御することができる。
さらに、制御ユニットは、センサデータを分析して、それに応じて圧力印加要素を作動させることにより、ネイルポリッシュ液の流量を制御、例えば、維持、増加、または減少させることができる。制御ユニットは、１つまたは複数の技法を使用して流量を推定することができ、その技法は圧力印加要素の実装形態に依存し得る。例えば、ピストンをベースとした実装形態では、制御ユニットは、ピストン、歯車、プランジャおよび／または送りねじの変位を検出し、既定の式に従って、変位と、本体部から押し出されたネイルポリッシュ液の量との比を計算することができる。別の例では、制御ユニットは、画像を分析して、ネイルポリッシュ塗布要素におけるネイルポリッシュ液の飽和レベルを推定することができる。別の例では、制御ユニットは、ネイルポリッシュ液を塗布した後に取得された画像を分析して、爪表面のネイルポリッシュの層（幅）を評価することができる。次いで、制御ユニットは、圧力印加要素を作動させて、推定された流量に従って圧力を維持、増加、または減少させることができる。
任意選択で、制御ユニットは、ネイルポリッシュ自動塗布処理を始める前に、１つまたは複数の準備作業、例えば、カプセルからカバーを取り外すこと、カプセルを振り混ぜてカプセルに収容されたネイルポリッシュ液の組成を均質にすること、１つまたは複数の基準点に対するネイルポリッシュ塗布要素の位置決めを較正すること、ネイルポリッシュ塗布要素の汚れを落とすこと、カプセルの本体部に穿孔すること、ネイルポリッシュ塗布要素の、ネイルポリッシュ液の飽和レベルを推定することなどの実行を開始することができる。準備作業のうちの１つまたは複数は、ネイルポリッシュ塗布空間において行われてもよい。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置は、準備作業のうちの１つまたは複数を行うことができる準備空間を含む。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置は、ネイルポリッシュ液を塗布した後の爪表面を乾燥させるように配備、位置決め、および／または構成された１つまたは複数の乾燥要素を含む。さらに、乾燥要素は、ジェルポリッシュを塗布した後の爪表面を硬化させるように配備、位置決め、および／または構成されてもよい。制御ユニットは、ネイルポリッシュ塗布空間において爪表面を乾燥および／または硬化させるように乾燥要素を制御することができる。しかし、ネイルポリッシュ塗布装置は、乾燥作業および／もしくは硬化作業、ならびに／またはこれらの一部を行うことができる、別個の乾燥空間を含んでもよい。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置は、爪表面に存在するネイルポリッシュ残留分および／または他の材料を取り除いて、新しいネイルポリッシュ液を塗布する前に爪表面の汚れを落とすように構成された、１つまたは複数のネイルポリッシュ除去要素を含む。ネイルポリッシュ塗布装置は、爪表面の汚れを落とすことができるネイルポリッシュ除去空間をさらに含んでもよい。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置は、使用者と相互に作用するための、例えば、使用者にステータスを提示し、かつ／または使用者から命令および／もしくは設定を受領するための、１つまたは複数のユーザインターフェース要素、例えば、表示ライト、ディスプレイ、制御スイッチなどを含む。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置は、１つまたは複数の通信プロトコルに対応して１つまたは複数のリモートデバイス、例えば、使用者のモバイルデバイス、リモートサーバおよび／またはクラウドサービスと通信する、ネットワークインターフェースを含む。
本発明のいくつかの実施形態では、ネイルポリッシュ塗布装置は、１つまたは複数の二部ネイルポリッシュカプセル、具体的には使い捨ての二部カプセルを受け、使用するように構成される。二部カプセルは、ネイルポリッシュ液を収容する本体部（容器）を含むことができ、この本体部は、通常はフラスコ形状の本体部であり、フラスコのカバーとして機能する取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素で蓋をされる。取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素は、供給ヘッド、例えば、ブラシ、塗布ヘッドなどを含み、これらは、供給ヘッドにネイルポリッシュ液を含ませるために、本体部（フラスコ）に浸すことができる。ネイルポリッシュ塗布装置のカプセルチャンバは、カプセルのフラスコ形状の容器を受けて収めるように形状設定される。ネイルポリッシュ塗布装置のマウント要素は、取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素を保持するように構成された固定具をさらに含む。制御ユニットは、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドがフラスコに浸され得るカプセルコンパートメントと、ネイルポリッシュ液が爪表面に塗布され得るネイルポリッシュ塗布空間との間を動くようにマウント要素、したがって取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素を移動させるよう、アクチュエータを作動させることができる。
一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を有する保管および供給カプセルに関連するネイルポリッシュ自動塗布装置は、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するための既存の装置、システムおよび／または方法と比較して、著しい利益を提供することができる。第１に、最も一般的な方法であり得る、従来の手作業でのネイルポリッシュ液の塗布とは対照的に、保管および供給カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置により、ネイルポリッシュ液を自動で塗布することが可能になる。手作業でネイルポリッシュ液を塗布するのは非常に時間がかかることがあり、技能、専門技術、および／または経験が必要とされる場合があるが、ネイルポリッシュ液が自動で塗布されることにより、関連する技能、知識、専門技術および／または経験のないいかなる使用者でも、ネイルポリッシュ液を簡単に塗布することが可能になり得る。ネイルポリッシュ液を自動で塗布することにより、塗布処理の時間を著しく短縮することもでき、使用者が自身の手指および／または足指の爪表面にネイルポリッシュ液を塗布しながら他の作業を行うことさえ可能になり得る。
ネイルポリッシュ液を自動で塗布するためのいくつかの装置および／またはシステムが存在する場合があるが、保管および供給カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置により、便利で使用者が使いやすい解決法が提供される。使用者は、既存の装置では必要とされる場合がある、ネイルポリッシュ液、ブラシなどを取り扱う必要性から解放され得る。加えて、ネイルポリッシュ塗布装置からネイルポリッシュ液を切り離すことにより、ネイルポリッシュ塗布装置のメンテナンスを著しく削減することができる。例えば、ネイルポリッシュ塗布装置の部品のうちの、ネイルポリッシュ液と接触する可能性のある部品、例えば、保管コンパートメント、移送管、供給管、ブラシなどを掃除および／または交換する必要性が回避および／または軽減される。ネイルポリッシュ塗布装置のハンドリングおよび／またはメンテナンスが軽減および／または単純化されることにより、初心者の使用者が知識、経験および／もしくは練習なしで、ならびに／または最小限の知識、経験および／もしくは練習でネイルポリッシュ塗布装置を効果的に使用することを可能にでき、それにより、ネイルポリッシュ塗布装置が家庭での使用に非常に適したものになる。さらに、ネイルポリッシュ塗布装置からネイルポリッシュ液を分離すると、ネイルポリッシュ塗布装置の部品のうちのいずれもネイルポリッシュ液と接触しないので、ネイルポリッシュ塗布装置の設計および／または動作の複雑さを著しく軽減することができる。これにより、ネイルポリッシュ塗布装置のコストが下がり、したがって、使い捨てカプセルと関連するネイルポリッシュ塗布装置を、プロでない一般の使用者にとって非常に手が届きやすく利用しやすいものにすることができる。
さらに、ネイルポリッシュ塗布装置が対応している、圧力印加要素を実施するための種々の機構を用いると、複数のカプセル設計およびカプセル構造にこの装置を簡単に適合させることが可能になり得る。加えて、圧力印加動作の単純明快であるという性質により、ネイルポリッシュ塗布装置の設計、動作および／またはメンテナンスをさらに単純化することができ、ネイルポリッシュ塗布装置のコストがさらに削減される。
さらに、カプセルを利用すると、複数回塗布する実装形態を採用している既存の装置において起こり得るように、現在の塗布に使用されるネイルポリッシュ液が前回の塗布から残っているネイルポリッシュ液残留分と混ざっておらず、かつ／またはそれによって質的低下が生じていないことを確実にすることができる。時が経つにつれて、および／またはネイルポリッシュを複数回塗布するにつれてこうした質的低下を経る場合がある既存の装置とは対照的に、カプセルによって利用される使い捨ての１回塗布用ネイルポリッシュ塗布要素を用いると、塗布の品質、効率および／または動作の質的低下を防ぐことができる。
別の主な利益は、爪表面に塗布した後、ネイルポリッシュ液を乾燥させ、かつ／またはジェルポリッシュを硬化させることに関する。既存の方法および／または装置を使用して塗布された後のネイルポリッシュの乾燥／硬化時間は、１つまたは複数の材料、例えば、空気に露出したとき時期尚早に乾燥することを避けるためにネイルポリッシュ液に添加される溶剤が入っていることにより、かなり長い場合がある。ネイルポリッシュ液は、１回の塗布を意図した封止されたネイルポリッシュカプセルの中に保管されるので、ネイルポリッシュ液に添加される乾燥防止材料を著しく少なくし、かつ／または完全に除去することができる。したがって、このネイルポリッシュ液は、ネイルポリッシュに塗布された後、既存の装置によって通常使用されるネイルポリッシュ液よりもかなり速く乾くことができ、したがってネイルポリッシュ塗布処理全体を著しく短縮することができる。
本発明の少なくとも１つの実施形態を詳細に説明する前に、本発明は、必ずしもその用途が、以下の記載に示す、および／または図面および／または実施例で例示する、構成の詳細および要素の配置および／または方法に限定されるものではないことを理解するべきである。本発明は、他の実施形態が可能であり、また、さまざまな手段で実施または実行することが可能である。
本発明は、システム、方法、および／またはコンピュータプログラム製品である場合がある。コンピュータプログラム製品は、プロセッサに本発明の態様を実施させるためのコンピュータ可読プログラム命令を有する、１つまたは複数のコンピュータ可読記憶媒体を含んでもよい。
コンピュータ可読記憶媒体は、命令実行装置が使用するための命令を保持および記憶することができる有形の装置でもよい。コンピュータ可読記憶媒体は、例えば、電子記憶装置、磁気記憶装置、光学記憶装置、電磁的記憶装置、半導体記憶装置、または前述のものの任意の適した組合せでもよいが、これらに限定はされない。コンピュータ可読記憶媒体のより具体的な例の非網羅的リストには、ポータブルコンピュータディスケット、ハードディスク、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）、読出し専用メモリ（ＲＯＭ）、消去可能プログラマブル読出し専用メモリ（ＥＰＲＯＭまたはフラッシュメモリ）、スタティックランダムアクセスメモリ（ＳＲＡＭ）、ポータブルコンパクトディスク読出し専用メモリ（ＣＤ−ＲＯＭ）、デジタル多用途ディスク（ＤＶＤ）、メモリースティック、フロッピーディスク、パンチカードまたは溝内の隆起構造体など、命令が記録された、機械的に符号化された装置、および前述のものの任意の適した組合せが含まれる。コンピュータ可読記憶媒体は、それ自体が、電波、もしくは自由に伝搬する他の電磁波、導波管を介して伝搬する電磁波もしくは他の送信媒体を介して伝搬する電磁波（例えば、光ファイバケーブルを通る光パルス）、または線を介して送信される電気信号などの、一時的な信号であると解釈されるべきではない。
本明細書に記載のコンピュータ可読プログラム命令は、コンピュータ可読記憶媒体から各コンピューティング装置／処理装置に、またはネットワーク、例えば、インターネット、ローカルエリアネットワーク、ワイドエリアネットワークおよび／もしくは無線ネットワークを介して外部のコンピュータもしくは外部の記憶装置にダウンロードすることができる。ネットワークは、銅の送信ケーブル、光学的送信ファイバ、無線送信、ルータ、ファイヤウォール、スイッチ、ゲートウェイコンピュータおよび／またはエッジサーバを含んでもよい。各コンピューティング装置／処理装置のネットワークアダプタカードまたはネットワークインターフェースが、ネットワークからコンピュータ可読プログラム命令を受領し、各コンピューティング装置／処理装置内のコンピュータ可読記憶媒体に記憶するためにこのコンピュータ可読プログラム命令を転送する。
本発明の動作を実施するためのコンピュータ可読プログラム命令は、アセンブラ命令、命令セットアーキテクチャ（ＩＳＡ）命令、機械語命令、機械語依存命令（ｍａｃｈｉｎｅ ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ ｉｎｓｔｒｕｃｔｉｏｎ）、マイクロコード、ファームウェア命令、状態設定データ、またはＳｍａｌｌｔａｌｋ、Ｃ＋＋などのオブジェクト指向プログラミング言語および「Ｃ」プログラミング言語もしくは同様のプログラミング言語などの従来の手続き型プログラミング言語を含む１つもしくは複数のプログラミング言語の任意の組合せで書かれたソースコードもしくはオブジェクトコードでもよい。
コンピュータ可読プログラム命令は、スタンドアローンのソフトウェアパッケージとして、完全に使用者のコンピュータにおいて実行されても、部分的に使用者のコンピュータにおいて実行されてもよく、部分的には使用者のコンピュータ、部分的にはリモートコンピュータで実行されてもよく、完全にリモートコンピュータまたはサーバにおいて実行されてもよい。後者の場合には、リモートコンピュータはローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）またはワイドエリアネットワーク（ＷＡＮ）を含む任意のタイプのネットワークを介して使用者のコンピュータに接続されてもよく、（例えば、インターネットサービスプロバイダを使用してインターネットを通じて）外部のコンピュータへの接続がなされてもよい。いくつかの実施形態では、例えば、プログラマブル論理回路、フィールドプログラマブルゲートアレイ（ＦＰＧＡ）、またはプログラマブルロジックアレイ（ＰＬＡ）を含む電子回路が、本発明の態様を実施するために、コンピュータ可読プログラム命令の状態情報を利用してその電子回路をパーソナライズ（ｐｅｒｓｏｎａｌｉｚｅ）することにより、コンピュータ可読プログラム命令を実行することができる。
本発明の実施形態による方法、装置（システム）、およびコンピュータプログラム製品のフローチャートおよび／またはブロック図を参照して、本発明の態様を本明細書において説明する。フローチャートおよび／またはブロック図の各ブロック、ならびにフローチャートおよび／またはブロック図のブロックの組合せは、コンピュータ可読プログラム命令によって実施されてもよいことが理解されよう。
各図のフローチャートおよびブロック図には、本発明の種々の実施形態によるシステム、方法、およびコンピュータプログラム製品の、考えられる実装形態のアーキテクチャ、機能性、および動作が示してある。この点に関連して、フローチャートまたはブロック図の各ブロックは、特定の論理的機能を実施するための１つまたは複数の実行可能な命令を含む命令のうちの、あるモジュール、あるセグメント、またはある部分を表すことができる。いくつかの代替実装形態では、各ブロックに示されている機能は、各図に示されている順序から外れて実施されてもよい。例えば、関係する機能性に応じて、連続して示されている２つのブロックが実際には実質的に同時に実行されてもよく、各ブロックが時として逆の順序で実行されてもよい。ブロック図および／またはフローチャートの各ブロック、ならびにブロック図および／またはフローチャートのブロックの組合せは、特定の機能を実施する、または専用ハードウェアとコンピュータ命令の組合せを実行もしくは実施する、専用ハードウェアをベースとしたシステムによって実施されてもよいことにも留意されたい。
ネイルポリッシュを塗布するために使用される装置のいくつかの実施形態を以下に記載する。しかし、提示される実施形態は、限定的なものと解釈されるべきではない。当業者は、本発明の全体を通して説明されるものと同じ概念を利用する複数の他の実装形態、構造、形状、生産方法などにより、ネイルポリッシュ塗布装置および／またはその部品を実施、構築、構成および／または生産してもよい。さらに、各実施形態のうちの１つまたは複数において装置の特徴のうちの１つまたは複数を以下に説明する場合があるが、明示的に述べられていないときでも、これら特徴のうちの１つまたは複数は、他の実施形態にも適用可能な場合がある。
さらに、ネイルポリッシュ塗布装置は、ネイルポリッシュ液を収容する１つまたは複数の使い捨てカプセルを利用することができる。カプセルは本発明の範囲外であるが、ネイルポリッシュ塗布用装置のいくつかの要素、特徴、および／または機構は、ネイルポリッシュ塗布装置によって保持されるカプセルの構造、実装形態、および／または特徴に従って適合、構成、および／または調節されてもよい。したがって、カプセルについては、ネイルポリッシュ塗布装置について記載、説明および提示するのに必要とされる範囲においてのみ説明される場合がある。
次に図面を参照すると、図１Ａは、本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ液カプセルを利用して爪表面にネイルポリッシュ液を塗布する、例示的な装置の概略図である。例示的なネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、ネイルポリッシュ液を収容する１つまたは複数の使い捨てカプセル、具体的には、一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を有するカプセルを利用して、使用者の１つまたは複数の爪表面、例えば、手指の爪および／または足指の爪に、ネイルポリッシュ液を塗布することができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、１つまたは複数のアクチュエータ１０４を制御する制御ユニット１０２を備え、この１つまたは複数のアクチュエータ１０４は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０においてマウント要素１０８を動かすように構成される。マウント要素１０８は、ネイルポリッシュ液を収容する１つまたは複数のカプセルを受けて収めるように構成された、１つまたは複数のカプセルコンパートメント１１０を含むことができる。
制御ユニット１０２は、１つまたは複数の処理装置、例えば、プロセッサ（ホモジニアスまたはヘテロジニアス）、制御装置などを含むことができる。制御ユニット１０２は、コード、データなどを記憶するための記憶装置をさらに含んでもよい。記憶装置には、１つまたは複数の永続性デバイスおよび／または揮発性デバイス、例えば、読出し専用メモリ（ＲＯＭ）デバイス、フラッシュデバイス、ハードドライブ、取付け可能記憶媒体、ランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）などが含まれ得る。処理装置は、１つまたは複数のソフトウェアモジュール、例えば、プロセス、アプリケーション、エージェント、ユーティリティ、サービスなどを実行することができ、ソフトウェアモジュールは、記憶装置などのプログラム記憶装置から処理装置などのプロセッサによって実行される複数のプログラム命令を指す。
ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するために、制御ユニット１０２は、アクチュエータ１０４を作動させてマウント要素１０８を動かし、それにより、カプセルに一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を爪表面の上で移動させることができる。アクチュエータ１０４は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０を横切る長手方向軸および長手方向軸に垂直な横方向軸において、マウント要素１０８を動かすことができる。加えて、アクチュエータ１３０は、長手方向軸周りでマウント要素１０８を回転させるように構成されてもよい。任意選択で、アクチュエータ１３０は、爪表面からのネイルポリッシュ塗布要素の高さを制御するために、ネイルポリッシュ表面に対して実質的に垂直な軸においてマウントを動かすように構成される。さらに、制御ユニット１０２は、マウント要素１０８を動かしてネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの開口のそばにカプセルコンパートメント１１０を位置決めするようにマウント要素１０８を位置決めするよう、アクチュエータ１０４を作動させることができ、それにより、使用者がカプセルコンパートメント１１０にカプセルを挿入することが可能になる。
マウント要素１０８を動かすアクチュエータ１０４の機械的構造は、制御ユニット１０２によって作動されるアクチュエータ１０４が、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの動作空間、例えば、ネイルポリッシュ塗布空間１３０、準備空間１３４、乾燥空間１３６、および／またはネイルポリッシュ除去空間１３８のうちの１つまたは複数においてマウント要素１０８、したがってネイルポリッシュ塗布要素を動かすことを可能にする、１つまたは複数の実装形態、機構、および／または概念を含んでもよい。例えば、アクチュエータ１０４は、マウント要素１０８が固定されている、３軸可動グリッドおよび／または４軸可動グリッドを動かしてもよい。別の例示的な実施形態では、アクチュエータ１０４は、マウント要素１０８が固定されている１つまたは複数の回転シャフトおよび／または伸縮式回転シャフトを動かしてもよい。
アクチュエータ１０４は、例えば、デカルト座標、円柱座標、球面座標、固定座標系に対するオイラー角など、１つまたは複数の座標系に従ってマウント要素１０８を動かすように作動されてもよい。当然、アクチュエータ１０４によって作動されてマウント要素１０８を動かす機械的要素は、選択された座標系の軸に沿って動くように構成され得る。例えば、アクチュエータ１０４は、デカルト座標系のＸ軸、Ｙ軸および／またはＺ軸に沿ってマウント要素１０８を動かすことができる３軸ライナー機構を作動させてもよい。別の例では、アクチュエータ１０４は、球面座標系のθ軸および／またはφ軸に沿って動くことができる伸縮式可動アームを作動させてもよい。別の例では、アクチュエータ１０４は、爪表面の平面に対してチルティング、ピッチングおよび／またはローリングするように作動され得る伸縮式可動アームを作動させてもよい。
カプセルの挿入部、開口、および／またはカプセルコンパートメント１１０は、通常は、カプセルコンパートメント１１０の中でカプセルを定位置にロックするためにさらに使用することができるカバーを含むことができる。制御ユニット１０２は、３次元空間においてマウント要素１０８の運動を制御するために、１つまたは複数の座標系、例えば、デカルト座標、極座標などを適用することができる。
任意選択で、特に、ネイルポリッシュ塗布セッション中に２つ以上のカプセルが使用される場合、固定されている場合がある、すなわち非可動性である場合があるカプセル保管空間に、複数のカプセルを配置することができる。保管空間は、現在のネイルポリッシュ塗布セッションに使用するためのカプセルを使用者が挿入することができる、１つまたは複数のチャンバ、スロット、引出しなどを含むことができる。制御ユニット１０２は、保管空間からカプセルコンパートメント１１０へとカプセルを配置および／または装填するよう、マウント要素１０８を移動させることができる。例えば、例示的なネイルポリッシュ塗布セッションにおいて使用される例示的なネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａにおいては、３つの使い捨てカプセルが保管空間に配置され、第１のカプセルがベースコート液を収容し、第２のカプセルがネイルポリッシュ液を収容し、第３のカプセルがトップコート液を収容してもよい。制御ユニット１０２は、ベースコート液を爪表面に塗布するために、保管空間から第１のカプセルを装填するようマウント要素１０８を移動させることができる。ベースコート液を爪表面に塗布した後、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布するために、第１のカプセルを処分し、保管空間から第２のカプセルを装填するよう、マウント要素１０８を移動させることができる。ネイルポリッシュ液を爪表面に塗布した後、制御ユニット１０２は、トップコート液を爪表面に塗布するために、第２のカプセルを処分し、保管空間から第３のカプセルを装填するよう、マウント要素１０８を移動させることができる。
カプセルのネイルポリッシュ塗布要素へとネイルポリッシュ液を押し出すために、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、ネイルポリッシュ液を収容するカプセルの本体部に圧力を印加するように構成された圧力印加要素１０６、例えば、ピストン、送りねじで駆動されるピストン、歯車、プランジャ、ペリスタルティックポンプ、圧縮機、磁場をベースとした機構などをさらに備える。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布要素へのネイルポリッシュ液の流れを制御するために、印加される圧力を制御するように圧力印加要素１０６を作動させることができる。任意選択で、いくつかの実施形態によれば、制御ユニット１０２は、アクチュエータ１０４のうちの１つまたは複数を介して圧力印加要素１０６を制御してもよい。
ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、ネイルポリッシュ塗布空間を描写する１つまたは複数のセンサ１１２、例えば、画像センサ、近接センサなどを含む。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理の前、後、および／またはネイルポリッシュ塗布処理中に、センサデータ、例えば、画像、近接情報などを受け取り、かつ／または収集することができる。制御ユニットは、センサデータをリアルタイムで分析して、ネイルポリッシュ塗布処理を制御することができる。例えば、制御ユニット１０２は、分析に基づき、それに応じてアクチュエータ１０４を作動させることにより、マウント要素１０８の運動を制御してもよい。制御ユニットは、センサデータの分析に従って、圧力印加要素１０６によって印加される圧力を制御することもできる。
ネイルポリッシュ塗布空間１３０は、ネイルポリッシュ塗布処理中に手指が動き、したがって爪表面が動く可能性を下げるために、使用者の手指および／または足指を受けて収めるようにそれぞれ構成された、１つまたは複数の手指ソケット１３２を含むことができる。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、ネイルポリッシュ塗布処理中、使用者の手および／または足に人間工学的な支持を与えるように構築することができるハンドレスト台１３３を含む。手指ソケット１３２は、複数の利用法、例えば、片手の手指、両手の手指、第１の手の５本の手指および第２の手の親指、片方の足の足指、両足の足指などのうちの１つまたは複数を受けて収めるように構築および形状設定されてもよい。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指ソケットの概略図である、図２Ａ、図２Ｂ、および図２Ｃを参照する。図２Ａに示すように、手指ソケット１３２は静的でもよく、また手指を受けて収めるように形状設定される複数の構造および／または材料のうちの１つまたは複数で構造化されてもよい。例えば、手指ソケット１３２は、手指の位置決めを示してネイルポリッシュを簡単かつ正確に塗布することを可能にし得る、細いスロット１３２Ａを有する平坦なプレートとして構造化されてもよい。別の例では、手指ソケット１３２は、手指を収めて手指の動きを抑え、それによってネイルポリッシュの塗布を改善するように形状設定された、指溝１３２Ｂとして構造化されてもよい。別の例では、手指ソケット１３２は、手指のそれぞれを隔離して手指の動きを制限し、それによってネイルポリッシュの塗布を改善するように形状設定された隔壁１３２Ｃとして構造化されてもよい。別の例では、手指ソケット１３２は、「メモリーフォーム」の手指ソケット１３２Ｄなど、手指の形状に動的に適合し、したがってネイルポリッシュの塗布中に手指の動きをさらに抑えてネイルポリッシュの塗布結果を改善することができる、柔らかい材料で構造化されてもよい。
図２Ｂに示すように、ネイルポリッシュ装置１０１Ａは、片方の手を収めるように構成されてもよく、したがって片方の手の手指を受けて収めるように構成および／または構造化された手指ソケット１３２を有してもよい。任意選択で、手指ソケット１３２は、手指のうちの４本、例えば、人差し指、中指、薬指、および／または小指を受けて収めるように構成および／または形状設定される。手指ソケット１３２は、親指を受けて収めるようにさらに構成および／または形状設定されてもよい。こうした構成では、ネイルポリッシュ塗布処理は、人差し指、中指、薬指および／または小指のうちの１本または複数本にネイルポリッシュ液を塗布するためのある段階と、親指にネイルポリッシュ液を塗布するための別の段階の２段階で行われてもよい。
図２Ｃに示すように、ネイルポリッシュ装置１０１Ａは、使用者の両手を収めるように構成されてもよく、したがって２本の手の手指を受けて収めるように構成および／または構造化された手指ソケット１３２を有してもよい。任意選択で、手指ソケット１３２は、各手指のうち４本、例えば、両手の人差し指、中指、薬指および／または小指を受けて収めるように構成および／または形状設定される。手指ソケット１３２は、両手の親指を受けて収めるようにさらに構成および／または形状設定されてもよい。片手の構成と同様に、ネイルポリッシュ塗布処理は、両手の人差し指、中指、薬指および／または小指のうちの１本または複数本にネイルポリッシュ液を塗布するためのある段階と、両手の親指にネイルポリッシュ液を塗布するための別の段階の２段階で行われてもよい。
本発明のいくつかの実施形態によれば、装置１０１Ａは、手指ソケット１３２に手指が配置されると、使用者の手指のうちの１本もしくは複数本、および／または手の一方もしくは両方の上に手動および／または自動で配置され得る、１つまたは複数の手拘束要素および／または手指拘束要素を含む。手拘束要素および／または手指拘束要素は、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面に正確に塗布し、したがってネイルポリッシュの塗布結果を改善するために、手および／または手指を拘束して手および／または手指の動きを著しく制限、抑制、および／または防止することができる。
ここで、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な手指拘束要素の概略図である、図２Ｄ、図２Ｅ、図２Ｆ、および図２Ｇを参照する。
図２Ｄに示すように、装置１０１Ａは、手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケットに手指が配置されると使用者の手指の上に手動および／または自動で配置され得る１つまたは複数の手指拘束要素１８０を含む。手指拘束要素１８０は、ネイルポリッシュの塗布結果を改善するために、手指を拘束して手指の動きを著しく抑えることができる。追加的に、および／または別法として、装置１０１Ａは、手指ソケット１３２に手指が配置されると使用者の手の片方または両方の上に配置され得る１つまたは複数の手拘束要素１８１を含む。任意選択で、手指拘束要素１８０および／または手拘束要素１８１は静的であり、一方、手指ソケット１３２は可動であって、手拘束要素１８０および／または１８１に手指を押し付けて、それぞれ手指および／または手の動きを制限する。手指拘束要素１８０の位置決め（場所）は、爪表面にかなり近い場所において手指を押し下げるよう動的に調節可能でもよく、それにより、手指の動きの制限、抑制、および／または防止が改善される。
図２Ｅには、装置１０１Ａに使用することができる手指拘束要素１８０の別の例示的な実施形態である手指拘束要素１８０Ａが示してある。
２００Ａに示すように、手指拘束要素１８０Ａは、手指ソケット１３２などの手指ソケット１３２Ｆに配置された使用者の手指のそれぞれと接触するように、例えば、少なくとも部分的に湾曲した形状などに形状設定することができる。任意選択で、ネイルポリッシュの塗布セッション中、使用者の手に人間工学的な支持を与えるように構築することができる、ハンドレスト台１３３などのハンドレスト台１３３Ａ。
２００Ｂに示すように、手指拘束要素１８０Ａは、その開状態では持ち上げられて、使用者が自身の手指を手指ソケット１３２Ｆに配置することを可能にする。手指がその指定された手指ソケット１３２Ｆに配置された後、手指拘束要素１８０Ａは、使用者によって手動で、および／または装置１０１Ａによって自動で、使用者の手指を手指ソケット１３２Ｆへと押し下げることができる閉状態へと降ろされ得る。手指拘束要素１８０Ａは、使用者に痛みおよび／または不快感を与えることなく各手指の形状に適合するように、手指と接触するその下面では、少なくとも部分的に弾性の材料を含んでもよい。手指拘束要素１８０Ａが手指ソケット１３２Ｆに向かって手指を押し下げることにより手指に圧力が加えられている間、使用者の不快感を防止するために、手指ソケット１３２Ｆは、その上面では、少なくとも部分的に弾性の材料で覆われていてもよい。手指拘束要素１８０Ａは、複数の位置に持ち上げられ、かつ／または降ろされて、手指ソケット１３２Ｆに対する手指への圧力を調整することができる。手指拘束要素１８０Ａの上向き／下向きの動きは、連続的でもよく、かつ／または複数の調節点を含んでもよい。手指拘束要素１８０Ａは、手指拘束要素１８０Ａを閉状態にロックするためのロック機構をさらに含んでもよい。装置１０１Ａは、例えば、手指拘束要素１８０Ａが閉状態にある間に装置１０１Ａが「電源オフ」した場合、手指拘束要素１８０Ａを自動でロック解除する、非常用機構をさらに含んでもよい。
手指ソケット１３２Ｄおよび手指拘束要素１８０Ａの上面図である２００Ｃに示すように、手指拘束要素１８０Ａは、その形状が部分的に湾曲していることにより、その閉状態では、手指ソケット１３２Ｆに向かって下向きに手指を押圧するために、使用者の手１９０のすべての手指と接触することができる。手指拘束要素１８０Ａの位置決め（場所）は、爪表面にかなり近い場所で手指を押し下げるよう動的に調節可能でもよく、それにより、手指のサイズ、手の形状、または所与の手における手指の比率にかかわらず、手指の動きの制限、抑制、および／または防止が改善される。
手指ソケット１３２Ｆおよび手指拘束要素１８０Ａの正面図である２００Ｄに示すように、装置１０１Ａは、手拘束要素１８１Ａを含んでもよい。手拘束要素１８１Ａは、その開状態（左の図面）では、持ち上げられて、使用者が自身の手指を手指ソケット１３２Ｆに配置することを可能にする。手拘束要素１８１Ａは、その閉状態（右の図面）では、降ろされて使用者の手を押し下げ、手を定位置にしっかりと留める。手拘束要素１８１Ａは、使用者に痛みおよび／または不快感を与えることを避けながら手の形状に適合するために、手と接触するその下面では、少なくとも部分的に弾性の材料を含んでもよい。
図２Ｆには、各手指を拘束するようにそれぞれ構成された１つまたは複数の個々の拘束要素を備える、装置１０１Ａの手指拘束要素１８０Ｂが示してある。
２００Ｅに示すように、手指拘束要素１８０Ｂは、手指ソケット１３２などの複数の手指ソケット１３２Ｇに対して使用者の各手指に圧力を印加するようにそれぞれ構成された、例えば、個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４、および／または１８０Ｂ５などの、１つまたは複数の個々の拘束要素を用いて構築されてもよい。
２００Ｅに示すように、また手指ソケット１３２Ｇに配置された使用者の手と一緒に２００Ｅと同じ組立体を示す２００Ｆにさらに示すように、個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５のそれぞれは、その開状態では、持ち上げられて、使用者が自身の手指を手指ソケット１３２Ｇに配置することを可能にする。
２００Ｇに示すように、また手指ソケット１３２Ｇに配置された使用者の手と一緒に２００Ｇと同じ組立体を示す２００Ｈにさらに示すように、使用者の手指がその指定された手指ソケット１３２Ｇに配置されると、個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５は、使用者によって手動で、および／または装置１０１Ａによって自動で、閉状態へと降ろされ得る。個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５のそれぞれは、閉状態では、手指ソケット１３２Ｇに対して各手指を押し下げることができる。個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５のうちの１つまたは複数は、使用者に痛みおよび／または不快感を与えることなく各手指の形状に適合するように、各手指と接触するその下面では、少なくとも部分的に弾性の材料を含んでもよい。手指拘束要素１８０Ｂが手指ソケット１３２Ｇに向かって手指を押し下げることにより手指に圧力が加えられている間、使用者の不快感を防止するために、手指ソケット１３２Ｇは、その上面では、少なくとも部分的に弾性材料で覆われていてもよい。
個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５は、それぞれの個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５をその閉状態にロックするためのロック機構をさらに含んでもよい。装置１０１Ａは、例えば、手指拘束要素１８０Ｂが閉状態にある間に装置１０１Ａが「電源オフ」した場合、手指拘束要素１８０Ｂを自動でロック解除する、非常用機構をさらに含んでもよい。
２００Ｇおよび２００Ｈに示すように、個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５のうちの１つまたは複数は、その各手指ソケット１３２Ｇに沿って動くことができる。したがって、各手指に対する個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５のそれぞれの位置決めは、各手指の長さに応じて調節することができる。したがって、個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５の４それぞれの位置決め（場所）は、爪表面にかなり近い場所で各手指を押し下げるよう動的に調節可能になり得、それにより、手指のサイズ、手の形状、または所与の手における手指の比率にかかわらず、手指の動きの制限、抑制、および／または防止が改善される。
２００Ｉに示すように、手指ソケット１３２Ｇのうちの１つまたは複数は、個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５のそれぞれに圧力を印加するように構成することができる、１つまたは複数の張力要素１８３をさらに含んでもよい。張力要素１８３によって印加される圧力により、各手指ソケット１３２Ｇに配置された各手指がそれぞれの個々の拘束要素１８０Ｂによって押し下げられ、それにより、ネイルポリッシュの塗布処理中、手指の動きを制限、抑制、および／または防止することができる。それぞれの個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５と機械的に連結された手指制限要素１８５により、各手指ソケット１３２Ｇに沿ってそれぞれの個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５を動かすのを容易にすることができる。手指制限要素１８５は、ネイルポリッシュ塗布セッションのために使用者が自身の手を指定された場所に配置したとき、各手指ソケット１３２Ｇに配置された各指先の少なくとも一部と接触するように形状設定することができる。個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５のそれぞれは、それぞれの個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５を使用者に向かって動かすことができる張力要素１８４、例えば、ばね、弾性バンドなどをさらに含んでもよい。使用者は、指定された場所に自身の手を適切に配置するまで、張力要素１８４によって印加される圧力に逆らって、自身の手指を前に押し進めることができる。したがって、それぞれの個々の拘束要素１８０Ｂ１、１８０Ｂ２、１８０Ｂ３、１８０Ｂ４および／または１８０Ｂ５は、その各手指の上で、（爪表面にかなり近い）所望の場所に適切に配置され得る。任意選択で、張力要素は、制御ユニット１０２によって自動で作動される１つまたは複数のアクチュエータによって自動で縮められ、かつ／または解放される。
図２Ｇには、各手指を拘束するようにそれぞれ構成された１つまたは複数の個々の拘束要素を備える、装置１０１Ａの手指拘束要素１８０Ｃの別の例示的な実装形態が示してある。
２００Ｊに示すように、手指拘束要素１８０Ｃは、手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケット１３２Ｈの上に配置される。手指拘束要素１８０Ｃの正面斜視図である２００Ｋに示すように、手指拘束要素１８０Ｃは、手指ソケット１３２Ｈに対して使用者の各手指へと圧力を加えるようにそれぞれ構成された、例えば、個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４などの１つまたは複数の個々の拘束要素を用いて構築されてもよい。個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のそれぞれは、その開状態では、持ち上げられて、使用者が自身の手指を手指ソケット１３２Ｈに配置することを可能にする。２００Ｊから分かるように、手指拘束要素１８０Ｃは、各手指に対する個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のそれぞれの位置決めを各手指の長さに応じて調節することができるよう、人間の手および手指の解剖学的構造に適合するように構築され得る。したがって、個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のそれぞれの位置決め（場所）は、爪表面にかなり近い場所で各手指を押し下げるよう動的に調節可能になり得、それにより、手指の動きの制限、抑制、および／または防止が改善される。
２００Ｌに示すように、また手指拘束要素１８０Ｃの正面斜視図である２００Ｍにさらに示すように、手指がその指定された手指ソケット１３２Ｈに配置された後、個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のうちの１つまたは複数は、閉状態に降ろされて、手指ソケット１３２Ｈに対してその各手指を押し下げることができる。個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のうちの１つまたは複数は、使用者に痛みおよび／または不快感を与えることなく各手指の形状に適合するように、各手指と接触するその下面では、少なくとも部分的に弾性の材料を含んでもよい。手指拘束要素１８０Ｃが手指ソケット１３２Ｈに向かって手指を押し下げることにより手指に圧力が加えられている間、使用者の不快感を防止するために、手指ソケット１３２Ｈは、その上面では、少なくとも部分的に弾性の材料で覆われていてもよい。個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４は、それぞれの個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４をその閉状態にロックするためのロック機構をさらに含んでもよい。装置１０１Ａは、例えば、手指拘束要素１８０Ｃが閉状態にある間に装置１０１Ａが「電源オフ」した場合、手指拘束要素１８０Ｃを自動でロック解除する、非常用機構をさらに含んでもよい。手指拘束要素１８０Ｃの位置決め（場所）は、個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のそれぞれが爪表面にかなり近い場所で各手指を押し下げるように設定することができ、それにより、手指のサイズ、手の形状、または所与の手における手指の比率にかかわらず、手指の動きの制限、抑制、および／または防止が改善される。
２００Ｎに示すように、個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のうちの１つまたは複数は、手指ソケット１３２Ｈへと各手指を押し下げる圧力を印加するための張力要素、例えば、ばね、コイル、弾性バンドなどを含んでもよい。張力要素への圧力の印加は、使用者によって手動で行われてもよく、装置１０１Ａによって自動で行われてもよい。例えば、制御ユニット１０２などの制御ユニットは、張力要素への圧力を印加／解除して個々の拘束要素のうちの１つまたは複数を上下に動かすように、１つまたは複数のアクチュエータを作動させてもよい。
２００Ｏに示すように、個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のうちの１つまたは複数は、各手指ソケット１３２Ｈに配置された各手指と接触する調節可能押圧表面１８２を含んでもよい。調節可能押圧表面は、個々の拘束要素１８０Ｃが１つまたは複数の軸において運動および／または回転して各手指の形状に適合することを可能にし得るジョイントを含んでもよい。
２００Ｐに示すように、個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４のうちの１つまたは複数は、手指ソケット１３２Ｈへと各手指を押し下げる圧力を印加するための制限押圧要素、例えば、ラックおよびピニオンなどを含んでもよい。制御ユニット１０２は、１つまたは複数のアクチュエータを作動させて、制限押圧要素を作動させ上下に動かし、それによってそれぞれの個々の拘束要素１８０Ｃを制御することができる。こうした制限押圧要素により、それぞれの個々の拘束要素１８０Ｃが各手指ソケット１３２Ｈに配置された各手指に加える圧力の精度を著しく改善することができる。別の例では、制御ユニット１０２は、１つまたは複数のアクチュエータを作動させて、複数の個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４を合わせて制御する制限押圧要素を上下に動かしてもよい。別の例では、制御ユニット１０２は、１つまたは複数のアクチュエータを作動させて、複数の個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４を備えたハウジングおよび／またはラック全体を上下に動かし、それによって個々の拘束要素１８０Ｃ１、１８０Ｃ２、１８０Ｃ３および／または１８０Ｃ４を合わせて上下に動かしてもよい。
本発明のいくつかの実施形態によれば、装置１０１Ａは、爪表面から皮膚を少なくとも部分的に離すために、少なくとも１本の手指の爪表面の下の皮膚を後ろに変位させ、かつ／または少なくとも１本の手指の爪表面の周りの皮膚を横に変位させる、１つまたは複数の皮膚変位要素を含む。これにより、ネイルポリッシュ３１０が皮膚に塗布されることを避けながら、ネイルポリッシュ液３１０の爪表面への塗布を著しく改善することができ、したがってネイルポリッシュの塗布結果が著しく改善する。爪表面の下に皮膚を変位させることは、爪表面が指先の長さまで延びていない場合、および／または爪表面が指先で終端している場合に、特に利点となることがある。爪表面の周りの皮膚を横に変位させると、爪表面の境界線の露出が著しく改善して、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面の周りの皮膚に塗布するのを避けることができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な皮膚変位要素の概略図を示す、図２Ｈおよび図２Ｉを参照する。
図２Ｈに示すように、装置１０１Ａなどの装置の、手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケット１３２Ｉおよび／または１３２Ｊは、使用者の少なくとも１本の手指の皮膚、具体的には爪表面の下の皮膚を後ろに変位させ、爪表面から皮膚を少なくとも部分的に離すための、１つまたは複数の皮膚変位要素１８６を含むように構築することができる。
２００Ｑに示すように、皮膚変位要素１８６は、例えば、手指ソケット１３２Ｉの少なくとも一部、具体的には手指ソケット１３２Ｉの、手指の指先と接触する部分を覆う、著しく粗い表面によって利用されてもよい。例えば、手指ソケット１３２Ｉは、こうした粗面仕上げになるように製作されてもよい。別の例では、粗い表面が手指ソケット１３２Ｉに取り付けられ、貼り付けられ、かつ／または連結されてもよい。使用者が自身の手指を各手指ソケット１３２Ｉに挿入し、前に押し進めると、粗い表面が引きずられることによって爪表面の下の皮膚が大きく引き戻され、それにより、爪表面の下の皮膚、および任意選択で指先の側部の皮膚を爪表面から部分的に離すことができる。
２００Ｒに示すように、別の例では、手指ソケット１３２Ｊは、手指ソケット１３２Ｉに手指が配置されたとき、使用者の手指の少なくとも一部、具体的には手指の指先に接触する、可動部分１８６Ａを含むことができる。手指ソケット１３２Ｉと同様に、可動部分１８６Ａは、手指ソケット１３２Ｊに手指が配置されると少なくとも手指の指先と接触する部分を覆う、粗い表面を含んでもよい。手指ソケット１３２Ｊに手指が配置された後、可動部分１８６Ａは、後ろに（使用者に向かって）動くことができる。可動部分１８６Ａの粗い表面が引きずられることにより、爪表面の下の皮膚が後ろに変位され、それによって爪表面から皮膚を少なくとも部分的に離すことができる。可動部分１８６Ａは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動される１つまたは複数のアクチュエータによって動かすことができる１つまたは複数の要素、例えば、ラックおよびピニオン、ばねなどを使用して、前後に動かされてもよい。
２００Ｓに示すように、別の例では、手指ソケット１３２Ｊは、手指ソケット１３２Ｉに手指が配置されると使用者の手指の指先の少なくとも一部に接触する回転可能部分１８６Ｂを含んでもよい。可動部分１８６Ａに関して述べたように、回転可能部分１８６Ｂは、通常は手指ソケット１３２Ｊに手指が配置されると手指の指先に接触する部分である少なくとも一部分を覆う、粗い表面を含んでもよい。手指ソケット１３２Ｊに手指が配置された後、回転可能部分１８６Ｂは、例えば、反時計回りに回転することができる。回転可能部分１８６Ｂの粗い表面が引きずられることにより、爪表面の下の皮膚が後ろに変位され、それによって爪表面から皮膚を少なくとも部分的に離すことができる。可動部分１８６Ｂは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動される１つまたは複数のアクチュエータによって動かすことができる１つまたは複数の要素、例えば、シャフト、ラックおよびピニオン、ばねなどを使用して回転されてもよい。
図２Ｉに示すように、装置１０１Ａの、手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケット１３２Ｋおよび／または１３２Ｌは、使用者の少なくとも１本の手指の爪表面の少なくとも一方の側の周りの皮膚を横に変位させ爪表面から皮膚を少なくとも部分的に離し、爪表面の境界の露出を改善するための、１つまたは複数の皮膚変位要素１８７を含むように構築されてもよい。
２００Ｔに示すように、１つまたは複数の例示的な皮膚変位要素１８７Ａ、例えば、１８７Ａ１、１８７Ａ２、１８７Ａ３および／または１８７Ａ４は、爪表面自体への接触および／または圧迫を避けながら、使用者の各手指の爪表面の周りの指先の皮膚を少なくとも部分的に押し下げるように構成された形状、例えば、Ｕ字形状、Ｖ字形状などで構築することができる。皮膚変位要素１８７Ａは、爪表面の周りの皮膚にあてがわれると、爪表面を（遮るのではなく）露出させて、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面に塗布することを可能にするように構築することができる。
２００Ｕに示すように、皮膚変位要素１８７Ａは、皮膚変位要素１８７Ａを持ち上げて使用者が自身の手指を手指ソケット１３２Ｋに配置することを可能にするように構成された、位置決め機構を備えることができる。手指がその各手指ソケット１３２Ｋに配置されると、位置決め機構は、使用者によって手動で、および／または制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動される１つまたは複数のアクチュエータによって自動で降ろされて、爪表面の周りの皮膚を押し下げ、横に動かし、それにより、爪表面の周りの皮膚を少なくとも部分的に爪表面から離すことができる。
２００Ｖおよび２００Ｘに示すように、別の例示的な皮膚変位要素１８７Ｂ、例えば、１８７Ｂ１、１８７Ｂ２および／または１８７Ｂ３は、横に動くように構成された可動アームとして構築されてもよい。２００Ｖに示すように、例示的な皮膚変位要素１８７Ｂは、その開状態では、そのアームを大きく開いて、使用者が自身の手指を手指ソケット１３２Ｌに配置することを可能にする。２００Ｘに示すように、手指がその各手指ソケット１３２Ｌに配置されると、皮膚変位要素１８７Ｂの可動アームは、各手指ソケット１３２Ｌに配置された各手指の指先に向かって内向きに動くように作動され得る。具体的には、皮膚変位要素１８７Ｂは、指先の下方側と接触するように構築、位置決め、および／または動作することができ、したがって、指先の皮膚に内向きの圧力を印加したとき、爪表面の周りの皮膚は横に、場合によっては下向きに変位されて、爪表面の境界を露出させる。皮膚変位要素１８７Ｂは、使用者によって手動で、および／または制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動される１つまたは複数のアクチュエータによって自動で作動されてもよい。
手指の動きを拘束、制限、抑制、および／または防止することができる手指拘束要素１８０Ｂおよび／または１８０Ｃなどの手指拘束要素を押し下げ、その間に、可動部分１８６Ａおよび／または回転可能部分１８６Ｂを作動させて指先の皮膚を後ろに変位させ、それによって爪表面から皮膚を離すことにより、皮膚変位要素、例えば、皮膚変位要素１８６および／または１８７によってなされる皮膚の変位の効果をさらに改善することができる。
任意選択で、皮膚変位要素のうちの１つまたは複数、例えば、皮膚変位要素１８６および／または１８７は、手指拘束要素１８０のうちの１つまたは複数、例えば、手指拘束要素１８０Ｂと組み合わせられてもよい。例えば、手指拘束要素１８０の、手指制限要素１８５などの手指制限要素が、指先の下方部分と接触するように形状設定、構築、および／または構成されてもよい。したがって、手指制限要素１８５が手指の長さに適合するように手動および／または自動で動かされるとき、手指制限要素１８５は手指の爪の下の皮膚を後ろに変位させ、それにより、手指の爪から皮膚を少なくとも部分的に離すことができる。別の例では、手指制限要素１８５は、爪表面の周りの皮膚を横に変位させるように構成された皮膚変位要素１８７、例えば、皮膚変位要素１８７Ａおよび／または１８７Ｂを含むように形状設定、構築、および／または構成されてもよい。
本発明のいくつかの実施形態によれば、手指ソケット１３２は、ネイルポリッシュ液を塗布するために使用者の手指の爪表面のうちの１つまたは複数を完全に露出させながら、人間の手の１つまたは複数の手指を受けて収めるように形状設定された、動的に可動な手保持要素の一部として構築される。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、動的に可動な例示的な手保持要素の概略図である図２Ｊおよび図２Ｋを参照する。手保持要素１３７は動的に可動でもよく、具体的には、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって回転可能であり、かつ／または傾けられ得る。図２Ｊに示すように、手保持要素１３７などの、例示的な傾斜式の手保持要素１３７Ａは、人間の手を受けて収めるように形状設定された実質的に平坦な表面として形状設定することができる。傾斜式の手保持要素１３７Ａは、手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケットを含んでもよい。傾斜式の手保持要素１３７Ａは、時計回りおよび／または反時計回りに傾けられて、ネイルポリッシュ塗布要素に各爪表面を位置決めおよび／または位置合わせすることができる。図２Ｋに示すように、手保持要素１３７などの、例示的な回転式の手保持要素１３７Ｂは、ビデオゲームコントローラの把持表面と同様に使用者が自身の手で把持することができる、回転「把持」表面として形状設定することができる。傾斜式の手保持要素１３７Ａは、手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケット、具体的には人間の手を受けて収めるように形状設定された人間工学的に湾曲した表面として形状設定される、湾曲した手指ソケット１３２Ｅを含んでもよい。任意選択で、湾曲した手指ソケット１３２Ｅは、手指と湾曲した手指ソケット１３２Ｅとの間のトラクションを高めるために、高摩擦材料、例えば、シリコンで構築される。いくつかの実施形態では、湾曲した手指ソケット１３２Ｅは、手指を受けて収めるように形状設定された、例えば、へこみ、凹部、空隙、チャンバなどを含むように設計される。回転式の手保持要素１３７Ｂは、時計回りおよび／または反時計回りに回転して、ネイルポリッシュ塗布要素に各爪表面を位置決めおよび／または位置合わせすることができる。当然、手保持要素１３７は、裏返しにされ、かつ／または反転されて、人間の右手および／または左手のそれぞれを受けることができる。任意選択で、手保持要素１３７は、各爪表面にネイルポリッシュを順に塗布している間、所望の角度、位置および／または場所に手保持要素１３２Ｅをロックすることを可能にするロック機構を含む。
本発明のいくつかの実施形態によれば、手保持要素１３７は、手全体ではなく、手指のうちの数本だけ、例えば、人差し指、中指、薬指、小指、および／または親指を受けて収めるように形状設定および／または構成される。
制御ユニット１０２は、１つまたは複数の軸において手保持要素１３７を運動、回転、および／または傾斜させるように各アクチュエータ１０４を作動させることができ、それにより、例えば、ネイルポリッシュ液を各爪表面に塗布するように構成されたネイルポリッシュ塗布要素に対して垂直な平面に、爪表面の面のうちの１つまたは複数が位置合わせされる。例えば、制御ユニット１０２は、各アクチュエータ１０４を作動させて、時計回りおよび／または反時計回りに手保持要素１３７を回転および／または傾斜させ、それによってネイルポリッシュ塗布要素に各爪表面を位置合わせすることができる。制御ユニット１０２は、手指表面のうちの１つへのネイルポリッシュ液の塗布中、爪表面のうちの２つへのネイルポリッシュ液の塗布と塗布との間、ならびに／または人差し指、中指、薬指、および／もしくは小指のうちの１つもしくは複数へのネイルポリッシュ液の塗布と親指へのネイルポリッシュ液の塗布との間に、各アクチュエータ１０４を作動させて、手保持要素１３７を運動、回転、および／または傾斜させることができる。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、カプセルの本体部、および／またはカプセルの本体部をネイルポリッシュ塗布要素に連結する移送トンネルに１つまたは複数の開口を開いてネイルポリッシュが本体部からネイルポリッシュ塗布要素へと流れることを可能にする、１つまたは複数の穿孔要素１１４を含む。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、例えば、送風機、温風送風機、加熱要素、光をベースとした加熱要素（例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）など）、乾燥材料アプリケータなど、制御ユニット１０２によって作動されて爪表面に塗布された後のネイルポリッシュ液を乾燥させることができる、１つまたは複数の乾燥要素１１６を含む。さらに、乾燥要素１１６は、爪表面に塗布された後のジェルポリッシュタイプのネイルポリッシュ液を硬化させるように構成、分散、および／または位置決めされてもよい。乾燥要素１１６は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０において爪表面に塗布されたネイルポリッシュ液を乾燥させるように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａに分散されてもよい。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは別個の乾燥空間１３６を備え、乾燥要素１１６のうちの１つまたは複数は、爪表面に塗布されたネイルポリッシュ液を乾燥させるように乾燥空間１３６に分散されてもよい。したがって、爪表面に塗布されたネイルポリッシュ液の乾燥は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０および／または乾燥空間１３６において実施することができる。
制御ユニット１０２は、１つまたは複数の準備作業、例えば、保管空間からカプセルコンパートメント１１０にカプセルを装填すること、カプセルからカバーを取り外すこと、カプセルを振り混ぜてカプセルに収容されたネイルポリッシュ液の組成を均質にすること、１つまたは複数の基準点に対するネイルポリッシュ塗布要素の位置決めを較正すること、ネイルポリッシュ塗布要素の汚れを落とすこと、カプセルの本体部に穿孔すること、カプセルのカバーに穿孔すること、ネイルポリッシュ塗布要素の、ネイルポリッシュ液の飽和レベルを推定することなどの実行を命令することができる。準備作業のうちの１つまたは複数は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０において、すなわちマウント要素１０８をネイルポリッシュ塗布空間１３０へと動かした後に行われてもよい。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、準備作業のうちの１つまたは複数を行うことができる準備空間１３４を含む。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、爪表面からネイルポリッシュ残留分を取り除くための１つまたは複数のネイルポリッシュ除去要素１１８を含む。ネイルポリッシュ除去要素１１８のうちの１つまたは複数は、使用者がネイルポリッシュ塗布空間１３０に手指および／または足指を配置した後、ネイルポリッシュ塗布空間１３０において、（前のネイルポリッシュ塗布セッションからの）ネイルポリッシュ残留分を取り除くように構成、配置、および適合されてもよい。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、ネイルポリッシュ除去空間１３８を含む。ネイルポリッシュ除去要素１１８のうちの１つまたは複数は、使用者がネイルポリッシュ除去空間１３８に手指および／または足指を配置した後、ネイルポリッシュ除去空間１３８においてネイルポリッシュ残留分を取り除くように分散、配置、構成、および／または適合されてもよい。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的なネイルポリッシュ除去要素の概略図である図３Ａおよび図３Ｂを参照する。ネイルポリッシュ除去要素１１８などのネイルポリッシュ除去要素は、１つまたは複数のネイルポリッシュ除去溶剤、例えば、アセトンなどを染み込ませることができる１つまたは複数の材料、例えば、スポンジ材料を使用して製作されてもよい。ネイルポリッシュ除去要素１１８は、１つまたは複数の構造、機構および／または実装形態を使用して構築されてもよい。図３Ａに示すように、ネイルポリッシュ除去要素１１８は、少なくとも使用者の指先、具体的には爪表面を含む手指部分を受けて収める例えば、中空円筒形状のスポンジを受け入れるように形状設定されたハウジングを含むように構築することができる。使用者は、自身の手指のうちの１本、具体的には爪表面を含む自身の指先を、ネイルポリッシュ除去溶剤を染み込ませることができる中空円筒形状のスポンジの中に配置することができる。任意選択で、制御ユニット１０２などの制御ユニットは、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータを作動させてネイルポリッシュ除去要素１１８をスピンさせることができ、それにより、円筒形状のスポンジが指先周りでスピンし、爪表面の汚れを落とし、かつ／または爪表面からネイルポリッシュ液の残留分を取り除く。
図３Ｂに示すように、ネイルポリッシュ除去要素１１８は、例えば、円筒形状のスポンジを配置することができるスピン要素を含むように構築されてもよい。制御ユニット１０２は、アクチュエータ１０４を作動させてネイルポリッシュ除去要素１１８のスピン要素をスピンさせることができ、それにより、円筒形状のスポンジがスピン要素の軸を中心にスピンする。使用者は、爪表面からネイルポリッシュ液の残留分を落とし、かつ／または取り除くことができる、スピンしている円筒形状のスポンジに、自身の指先、具体的には爪表面を当てることができる。任意選択で、中空円筒スポンジは使い捨てであり、１回または複数回のネイルポリッシュ除去セッション後に交換されてもよい。使い捨ての中空円筒スポンジは、ネイルポリッシュ除去要素１１８のハウジングから取り外され、使い捨ての新しい中空円筒スポンジと交換され得る。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、制御ユニット１０２によって作動されてネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａを使用する１人または複数人の使用者と相互に作用するユーザインターフェース１２０を含む。ユーザインターフェース１２０は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１および／またはネイルポリッシュ塗布セッションプロセスに関係する状態、ステータス、および／または表示を示すことができる表示を含んでもよい。ステータス表示は、例えば、オン／オフ表示、動作不良表示、カプセルの適切／不適切な位置決めの表示、ネイルポリッシュ液のタイプ（例えば、ベース、トップ、ポリッシュなど）、ネイルポリッシュ液の色、ネイルポリッシュ塗布セッションの進捗ステータスなどを含むことができる。ユーザインターフェース１２０は、１つまたは複数の表示ライト、例えば、オン／オフ表示ライト、動作不良表示ライト、ステータス表示ライトなどを含んでもよい。ユーザインターフェース１２０は、例えば、ボタン、スイッチ、レバーなど、１つまたは複数の制御スイッチ、例えば、オン／オフボタン、リセットボタン、モード選択ダイヤルなども含んでもよい。さらに、ユーザインターフェース１２０は、制御ユニット１０２が使用者に情報、例えば、ステータス情報、ネイルポリッシュ塗布セッションの進捗などを提示することを可能にするディスプレイ、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）などを含んでもよい。さらに、この画面は、使用者が制御ユニット１０２と相互に作用することを可能にするタッチスクリーンでもよい。ユーザインターフェース１２０は、１つまたは複数のサウンドインジケーション、例えば、準備完了のサウンドインジケーション、故障のサウンドインジケーションなどを発生させるためのサウンドインターフェース、例えば、スピーカ、ブザー、圧電装置なども含んでもよい。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、制御ユニット１０２によって作動されて１つまたは複数のネットワーク１５０を介して１つまたは複数のリモートデバイスと通信するネットワークインターフェース１２２を含む。ネットワークインターフェース１２２は、１つまたは複数の通信プロトコル、通信規格、通信実装および／または通信デプロイメントに対応することができる。ネットワークインターフェース１２２は、例えば、無線ローカルエリアネットワーク（ＷＬＡＮ）、ブルートゥース（登録商標）、近距離無線通信（ＮＦＣ）、セルラー通信などに対応することができる。ネットワークインターフェース１２２は、１つまたは複数のインフラストラクチャデバイス、例えば、アクセスポイント、ルータ、スイッチなどを介して、インフラストラクチャ接続、例えば、ＷＬＡＮ（例えば、Ｗｉ−Ｆｉ）に対応することができる。ネットワークインターフェース１２２は、アドホック接続および／またはポイントツーポイント接続、たとえばＷＬＡＮ（たとえばアドホックＷｉ−Ｆｉ）、ブルートゥースなどにもさらに対応することができる。制御ユニット１０２は、ネットワークインターフェース１２２を介して、リモートデバイス、例えば、使用者のモバイルデバイス、ローカルネットワークノードなどと通信することができる。こうした実装形態では、制御ユニット１０２は使用者のモバイルデバイスと通信し、モバイルデバイスのディスプレイを介して、例えば、ステータス情報、ネイルポリッシュ塗布セッションの進捗など、情報を使用者に提示することができる。インターネットへのアクセスを提供するインフラストラクチャネットワークにネットワークインターフェース１２２が接続されている場合、制御ユニット１０２は、さらに、１つまたは複数のリモートサーバ、クラウドサービスなどと通信することができる。
ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの動作ユニットのうちの１つまたは複数、例えば、制御ユニット１０２、アクチュエータ１４０、圧力印加要素１０６などに給電するための電源１４０を含む。電源１４０は、例えば、１１０Ｖａｃ／６０Ｈｚ、２２０Ｖａｃ／５０Ｈｚなどの電力網から電力を受け取るように構成された電力回路を含むことができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、電源１４０を電源コンセントに接続する電源コードを含んでもよい。別の例では、電源１４０は、例えば、３Ｖｄｃ、５Ｖｄｃ、１２Ｖｄｃ、２４Ｖｄｃなどを供給するＤＣ電源からその電力を受け取るように構成されてもよい。任意選択で、電源１４０は、１つまたは複数のバッテリを利用してネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの動作ユニットのための電力を生成するように構成された電力回路を含む。電源１４０は、電力網からバッテリを再充電するための充電回路をさらに含んでもよい。電源１４０がバッテリを利用できる場合、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、１つまたは複数のバッテリを受けて収めるように構成されたバッテリコンパートメントを含んでもよい。バッテリコンパートメントには、バッテリの電極を電源１４０の電力回路に接続する接点が装着され得る。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的なカプセルコンパートメントの縦断面図である図４Ａおよび図４Ｂを参照する。図４Ａに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置の、カプセルコンパートメント１１０などの例示的なカプセルコンパートメントは、ネイルポリッシュカプセル３００、具体的には一体化されたネイルポリッシュ塗布要素を有するネイルポリッシュカプセルを受けて収めるように構成することができる。カプセルコンパートメント１１０は、通常、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって動かされるマウント要素１０８などのマウント要素の一部でもよい。
カプセル３００は使い捨てでもよく、使用者の手指および／または足指の爪表面にネイルポリッシュ液３１０を１回塗布することを意図したものでもよい。カプセル３００は、通常は、本体部３０２と、一体化されたネイルポリッシュ塗布要素３０４と、本体部３０２をネイルポリッシュ塗布要素３０４に連結する吐出ノズル３０６とで構築され得る。本体部３０２により、ネイルポリッシュ液３１０、例えば、ポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、ジェルポリッシュ、乾燥材料、ポリッシュ除去液、ネイルアートポリッシュ液、医療用ネイルトリートメント液などを収容するように構成されたリザーバが画定される。吐出ノズル３０６は、１つまたは複数の移送トンネルを含んで、本体部３０２からネイルポリッシュ塗布要素３０４へとネイル液３１０を移送することができる。本体部３０２は、例えば、円筒、円錐、角錐、箱形など、複数の形状のうちの１つで構築されてもよい。さらに、本体部３０２は、例えば、逆さになったカップ形状の本体、円錐状の形状の本体などとして、吐出ノズル３０６に向かってネイルポリッシュ液３１０を注ぎ込むように形状設定されてもよい。本体部１０３に収容されるネイルポリッシュ液３０２の量は、１つまたは複数の爪表面、例えば、単一の爪表面、片手の爪表面、両手の爪表面、両足の爪表面などにネイルポリッシュ液３１０を１回塗布するのに足りるように、事前に定めることができる。したがって、カプセルコンパートメント１１０の形状は、カプセル３００の形状に適合するように機械的に構築されてもよい。
カプセル３００に一体化されたネイルポリッシュ塗布要素３０４は、毛束を備えた供給ヘッドを含むことができ、したがって、ネイルポリッシュ液３１０は、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面へと供給する毛束を流れる。追加的に、かつ／または別法として、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドは、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面に供給する１つまたは複数の弾性の管および／または固いパイプ（例えば、シリンジニードルなど）含んでもよい。ネイルポリッシュ塗布要素１１０の供給ヘッドは、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面に塗布するために、スポンジ、ワイパーなどを備えることもできる。ネイルポリッシュ塗布要素１１０は、毛束、弾性の管、固いパイプ、スポンジ、および／またはワイパーのうちの２つ以上の組合せをさらに含んでもよい。ネイルポリッシュ塗布要素３０４は、吐出ノズル３０６と一直線になるように、または吐出ノズル３０６に対して傾斜するように、吐出ノズル３０６にマウントおよび／または連結することができる。
例えば、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドは、内部中空トンネル（空洞）を有するシリンジニードルとして構築されて吐出ノズル３０６からこのニードルのネイルポリッシュ塗布先端へとネイルポリッシュ液３１０を移送する、単一の固いパイプを含んでもよい。マウント要素１０８は、ニードルのネイルポリッシュ塗布先端が爪表面に接触し、かつ／または爪表面の上に浮かんでネイルポリッシュ液３１０を爪表面に塗布することができるように、カプセル３００を移動させることができる。ニードルの内部トンネルの直径は、１つまたは複数のネイルポリッシュ塗布パラメータ、例えば、ニードルの外径、ネイルポリッシュ液３１０の粘度、ネイルポリッシュ塗布先端と爪表面の間の間隙、マウント要素１０８の線速度、圧力印加要素１０６によって印加される圧力などに応じて適合され得る。
いくつかの実施形態では、カプセル３００は、本体部３０２および／または吐出ノズル３０６に位置付けられる、１つまたは複数の封止開口３０７を含む。ネイルポリッシュ液３１０が本体部３０２からネイルポリッシュ塗布要素３０４に流れないようにするためのデフォルトである第１の動作状態に設定されているとき、開口３０７は閉じられ得る。第２の動作状態では、開口３０７は開き、それによってネイルポリッシュ液３１０を本体部３０２から放出することができる。圧力印加要素１０６によって印加される圧力の結果、本体部３０２によって画定されるリザーバにおいて内圧が高まると、開口３０７は、第１の状態から第２の状態へと自動で移行することができる。任意選択で、開口３０７は一方向性であり、ネイルポリッシュ液３１０が本体部３０２に再び入るのを防止しながら、ネイルポリッシュ液３１０が本体部３０２から流れ出ることを可能にする。開口３０７は、１つまたは複数の実装形態、例えば、本体部３０２が画定するリザーバにおいて高まった内圧下ではひとりでに破断し得る、封止面および／または封止隔壁を形成する弱い表面領域を利用してもよい。別の例示的な実装形態では、開口３０７は、圧力がないデフォルトの状態においては機械的弁が閉じているような、２つの動作状態を有する機械的弁によって利用されてもよい。しかし、内圧が高まると、機械的弁は、ネイルポリッシュ液３０１を放出することができる第２の状態へと自動で移行することができる。カプセル３００は、内圧が高まるとネイルポリッシュ液３１０を放出して本体部３０２から流す１つまたは複数の追加の機構、例えば、開口３０７を開くための内部穿孔機構などをさらに含んでもよい。
いくつかの実施形態によれば、カプセル３００は、本体部３０２の上端の外辺部を画定するフランジ状リム３０１を含むことができる。フランジ状リム１１４ ３０１は、カプセルコンパートメント１１０にカプセル３００を案内、位置決め、および／またはロックするのに役立つ。カプセルコンパートメント１１０にカプセルの本体部を留めるために、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、カプセルコンパートメント１１０にカプセル３００が配置された後、カプセルコンパートメント１１０にフランジ状リム３０１を押圧することができる、ロック機構２０２を設けてもよい。ロック機構２０２、例えば、外辺部のリングは、カプセル３００がカプセルコンパートメント１１０に配置された後、フランジ状リム３０１を覆うように固定することができる。ロック機構２０２は、例えば、カプセル３００がカプセルコンパートメント１１０に挿入されると閉じられる、カプセルコンパートメント１１０のカバーによって利用されてもよい。
本体部３０２によって画定されるリザーバの内圧を高めて本体部３０２からネイルポリッシュ塗布要素３０４へとネイルポリッシュ液を押し出すために、圧力印加要素１０６などの圧力印加要素が、本体部３０２に圧力を印加することができる。以下に記載するいくつかの実施形態では、圧力印加要素１０６は、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって制御することができる。
図４Ｂに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、複数のカプセル３００の同時受入れに対応するように構成されてもよい。マウント要素１０８は、カプセル３００などのカプセルを受けて収めるようにそれぞれ構成された、カプセルコンパートメント１１０などの複数のカプセルコンパートメント１１０＿１〜１００＿ｎを含みかつ／または取り付けるように構成されてもよい。マウント要素１０８は、互いに隣接してもよく互いに間隔を空けて配置されるなどでもよい、複数のカプセルコンパートメント１１０を含むように構築されてもよい。カプセルコンパートメント１１０のそれぞれは、圧力印加要素１０６などの、独立した圧力印加要素１０６＿１〜１０６＿ｍに関連付けられてもよい。追加的に、かつ／または別法として、カプセルコンパートメント１１０＿１〜１１０＿ｎのうちのいくつか、かつ／またはそのすべてに配置されたカプセル３００に、単一の圧力印加要素１０６Ａが使用されてもよい。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、ピストンをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である、図５Ａおよび図５Ｂを参照する。図５Ａに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置の、カプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントには、本体部３０２の例示的な実施形態である本体部３０２Ａと、吐出ノズル３０６などの吐出ノズルと、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素とを有するカプセル３００などのカプセルの、例示的なカプセルの実施形態３００Ａが配置されてもよい。カプセル３００Ａでは、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するリザーバを画定する本体部３０２Ａの上面が摺動ガスケット３０８で封止された、シリンジ状構造が利用されている。本体部３０２Ａは、カプセルコンパートメント１１０のロック機構２０２などのロック機構によるロックに対応するように構成された、フランジ状リム３０１などのフランジ状リムを含んでもよい。圧力印加要素１０６の例示的な実施形態である圧力印加要素１０６Ａはピストンを含むことができ、このピストンは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって制御することができる。
図５Ｂに示すように、圧力印加要素１０６Ａのピストンは、本体部３０２Ａの下側に向かって摺動する摺動ガスケット３０８を押し下げるように構成される。摺動ガスケット３０８が本体部３０２Ａの下側に向かって動く結果、本体部３０２によって画定されるリザーバの容積は小さくなり、したがってリザーバの内圧が高まる。カプセル３００Ａが封止開口を含む場合、封止開口は内圧下で裂けてその第１の状態から第２の状態へと移行することができ、したがって、ネイルポリッシュ液３１０がネイルポリッシュ塗布要素３０４へと流れることが可能になり得る。内圧により、ネイルポリッシュ液３１０は本体部３０２Ａから吐出ノズル３０６を通ってネイルポリッシュ塗布要素３０４へと押し流される。
ネイルポリッシュの塗布処理中、具体的には、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間においてネイルポリッシュ液３１０を爪表面に塗布するとき、制御ユニット１０２は、圧力印加要素１０６Ａのピストンの運動を制御することができる。制御ユニット１０２は、ピストンを制御するアクチュエータ１０４を作動させることにより、ピストンの運動を制御することができる。
いくつかの実施形態によれば、カプセル３００Ａは、ネイルポリッシュ液３１０を収容するリザーバを画定する内側容器を用いて構築されてもよい。内側容器は本体部３０２Ａに配置されてもよく、この場合、本体部３０２は容器のハウジングとして機能する。容器の上面は、摺動ガスケット３０８と同様の摺動ガスケットで封止された開口を有することができる。圧力印加要素１０６Ａのピストンは、内側容器の下側に向かって摺動する摺動ガスケット３０８を押し下げることができる。摺動ガスケット３０８が内側容器の下側に向かって動く結果、内側容器によって画定されるリザーバの容積は小さくなり、したがってリザーバ内の内圧が高まる。内圧により、内側容器から本体部３０２Ａへ、また吐出ノズル３０６を通ってネイルポリッシュ塗布要素３０４へと、ネイルポリッシュ液３１０を押し流すことができる。こうした場合、圧力印加要素１０６Ａのピストンは、まず内側容器が本体部３０２の中で定位置に留められるまで内側容器全体を押し下げ、その後、内側容器の摺動ガスケット３０８を押し下げるように構成されてもよい。これは、例えば、第１の直径、および第１の直径より小さい第２の直径の２つの外径をもつようにピストンを構成することによって実現することができる。内側容器の直径に一致する第１の直径に調節されたピストンを使用して、内側容器全体を押し下げ、本体部３０２Ａの中の定位置にロックさせることができる。次いで、内側容器の直径より小さい第２の直径に調節されたピストンを使用して、摺動ガスケット３０８を押し下げることができる。これは、直径の異なるピストンをそれぞれ有する、圧力印加要素１０６Ａなどの複数の圧力印加要素を使用することによって実現することができる。これは、２つの別個のピストンを有する、圧力印加要素１０６Ａなどの圧力印加要素を用いて実現することもできる。別の構造では、圧力印加要素１０６Ａのピストンは、例えば、内側ピストンと、内側ピストンを囲む外側ピストン部分とを使用して、第１の直径および／または第２の直径に対応するように動的に調節され得る。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０を描写するためにネイルポリッシュ塗布装置１０１に配備される、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサから受け取るセンサデータの分析に基づいて、マウント要素１０８および／または圧力印加要素１０６Ａを動かすアクチュエータ１０４を作動させることができる。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０に配置された使用者の爪表面の上でネイルポリッシュ塗布要素３０４を動かすために、カプセルコンパートメント１１０を備えるマウント要素１０８などのマウント要素の動きを、センサデータの分析に基づいて制御することができる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０において長手方向および横方向にマウント要素１０８を動かすよう、マウント要素１０８の動きを制御するアクチュエータ１０４を作動させることができる。さらに、制御ユニット１０２は、爪表面に対して実質的に垂直な位置にネイルポリッシュ塗布要素３０４を正確に位置決めするために、マウント要素１０８を傾斜させ、かつ／または爪表面に対して垂直な方向においてマウント要素１０８を動かすように、アクチュエータ１０４を作動させることができる。人間の爪表面は湾曲部を含み得るので、ネイルポリッシュ塗布要素３０４を爪表面に対して垂直に位置決めすることにより、爪表面へのネイルポリッシュの塗布の質を著しく改善することができる。
本明細書において上に記載したように、本発明のいくつかの実施形態によれば、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドは、中空内部トンネル（空洞）を有するシリンジニードルとして構築された単一の固いパイプを備えて、吐出ノズル３０６からニードルのネイルポリッシュ塗布先端へとネイルポリッシュ液３１０を移送することができる。
制御ユニット１０２は、手指ソケット１３２などの手指ソケットに手指が配置されると、ネイルポリッシュ塗布要素３０４、具体的にはニードルのネイルポリッシュ塗布先端を使用者の１つまたは複数の手指の爪表面の上の最適な位置に正確に移動および位置決めするように、１つまたは複数の軸においてマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。ネイルポリッシュの塗布結果を改善するために、ネイルポリッシュ塗布先端は、例えば、０ｍｍ〜２．５ｍｍの範囲、最適な間隙は０ｍｍ〜０．７ｍｍの範囲である、爪表面からの一定の高さ（間隙）に位置決めすることができる。間隙の調節により、爪表面へのネイルポリッシュの塗布に直接的な影響が及ぼされる場合がある。例えば、垂直軸（Ｚ軸）において、爪表面から０．２ｍｍの高さから爪表面から０．４ｍｍの高さへとネイルポリッシュ塗布先端を持ち上げることによって０．２ｍｍだけ間隙を大きくすると、ネイルポリッシュ塗布先端によって塗布される線の幅を約０．５ｍｍだけ小さくすることができる。ネイルポリッシュ塗布先端と爪表面との間に必要とされる間隙の精度は、１つまたは複数のネイルポリッシュ塗布パラメータ、例えば、ニードルの内部トンネルの直径などのネイルポリッシュ塗布要素３０４の特質、ネイルポリッシュ液３１０の粘度、ネイルポリッシュ塗布先端と爪表面の間の間隙、マウント要素１０８の線速度、圧力印加要素１０６によって印加される圧力などに依存する場合がある。例えば、ニードルの内部トンネルの直径が小さい場合、ネイルポリッシュ塗布先端と爪表面の間の間隙を保持する精度はあまり重要でなく、またこの逆も同様である場合があり、ニードルの内部トンネルの直径がより大きい場合、間隙の精度はかなり高くなければならない。
さらに、制御ユニット１０２は、手指ソケット１３２に手指が配置されると、ネイルポリッシュ塗布要素３０４、具体的にはニードルのネイルポリッシュ塗布先端を使用者の１つまたは複数の手指の爪表面に対して最適な角度に正確に移動および位置決めするように、１つまたは複数の軸においてマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ塗布装置によって使用されるネイルポリッシュカプセルの例示的なネイルポリッシュ塗布要素の例示的な位置決め角度の概略図である、図５Ｃを参照する。図５Ｃに示すように、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素は、例えば、中空内部トンネルを有するシリンジニードルとして構築された単一の固いパイプなどの供給ヘッドを含むことができる。制御ユニット１０２などの制御ユニットは、手指ソケット１３２に手指が配置されると、ネイルポリッシュ塗布要素３０４、具体的にはニードルのネイルポリッシュ塗布先端を使用者の１つまたは複数の手指の爪表面に対して最適な角度に移動および位置決めするように、マウント要素１０８などのマウント要素を動かすよう、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータを作動させることができる。ネイルポリッシュの塗布結果を改善するために、ネイルポリッシュ塗布先端は、爪表面に対する垂直軸において一定の角度、例えば、２０度〜１６０度の範囲に位置決めすることができる。ネイルポリッシュの最適な塗布結果は、爪表面に対する垂直軸において２０度〜９０度の範囲の角度である場合に得ることができ、最も良好な結果は、９０度、すなわち爪表面に対して完全に垂直である場合に観察される。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ液３１０の塗布を改善するために、アクチュエータ１０４を作動させてマウント要素１０８を移動させ、それにより、ネイルポリッシュ液３１０が塗布される爪の表面領域の湾曲部に応じて、爪表面に対するネイルポリッシュ塗布要素３０４の角度を動的に調節することができる。
制御ユニット１０２は、圧力印加要素１０６Ａを制御するアクチュエータ１０４を作動させて、摺動ガスケット３０８に印加される圧力を維持、増加および／または減少させることにより、本体部３０２Ａの内圧を制御することができる。制御ユニット１０２は、センサデータを分析して、圧力印加要素１０６Ａのピストンの変位、および／または摺動ガスケット３０８の変位を検出することができる。制御ユニット１０２は、既定の変位／流れ関係を適用して、検出された変位に応じてピストンを制御することにより、ネイルポリッシュ液３１０の流れを調節することができる。追加的に、かつ／または別法として、制御ユニット１０２は、Ｘ−Ｙ方向におけるアクチュエータ１０４の速さに応じて、ネイルポリッシュ液３１０の流量を決定することもできる。任意選択で、制御ユニット１０２は、センサデータを分析し、爪表面に塗布されている間および／または塗布した後のネイルポリッシュ液３１０の分析に従って、ネイルポリッシュ塗布要素３０４を通るネイルポリッシュ液３１０の流れを検出してもよい。例えば、制御ユニット１０２は、分析に基づいて、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドにおけるネイルポリッシュ液３１０の飽和レベルを検出し、それに応じて流量を決定することができる。別の例では、制御ユニット１０２は、分析に基づいて、爪表面でのネイルポリッシュ３１０の層の幅を検出し、それに応じて流量を決定することができる。制御ユニット１０２は、検出された流量に基づき、検出された流量に従ってピストンを制御することにより、ネイルポリッシュ液３１０の流れを調節することができる。
さらに、制御ユニットは、例えば、ネイルポリッシュ塗布要素３０４のニードルタイプの供給ヘッドの内部トンネルの直径などの、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の特質、ネイルポリッシュ液３１０の粘度、ニードルのネイルポリッシュ塗布先端と爪表面との間の間隙、マウント要素１０８の線速度など、ネイルポリッシュ塗布パラメータのうちの１つまたは複数に従ってピストンを作動させることによって圧力を制御することにより、ネイルポリッシュ液３１０の流れを調整することができる。
センサ１１２のうちの１つまたは複数は、制御ユニット１０２によって作動されて、ネイルポリッシュ塗布セッションの前、後、および／またはネイルポリッシュ塗布セッション中に、ネイルポリッシュ塗布空間１３０を描写する１つまたは複数の画像を取得する画像センサ、例えば、カメラ、ビデオカメラ、深度カメラなどでもよい。
制御ユニット１０２は、取得された画像を分析して、ネイルポリッシュ塗布セッション中にネイルポリッシュを塗布する標的となる爪表面を特定することができる。制御ユニット１０２は、分析に基づいて、例えば、爪表面の１つまたは複数の湾曲部、爪表面の１つまたは複数の境界、爪表面からのネイルポリッシュ塗布要素の高さなどを特定することができる。さらに、制御ユニット１０２は、画像センサから受け取った画像に基づいて、爪表面の３Ｄ表面を構築することもできる。制御ユニット１０２は、画像を分析して、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の場所および／または位置決めを特定することができる。制御ユニット１０２は、分析に基づいて、爪表面に対するネイルポリッシュ塗布要素３０４の位置決めを決定することができる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュの最良の塗布結果を得るのに最適な位置にネイルポリッシュ塗布要素３０４を正確に位置決めするように、１つまたは複数の軸においてマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。
制御ユニット１０２は、取得された画像の分析に基づいて、爪表面からのネイルポリッシュ塗布要素３０４の高さ（間隙）をさらに推定することができる。制御ユニット１０２は、画像を分析して、供給ヘッド幅ネイルポリッシュ塗布要素３０４の幅を検出することができる。例えば、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドが、例えば、毛束、弾性の管、ワイパーなど、１つまたは複数の弾性のパーツを含む場合、ネイルポリッシュ塗布要素３０４が下げられるほど、より高い圧力が供給ヘッドに印加され、したがって供給ヘッドが広がる。別の例では、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドが１つまたは複数の固いパーツ、例えば、固いパイプ、具体的にはシリンジニードルを含む場合、ニードルの先端は、最適な結果にするために、爪表面から一定の間隙（高さ）で浮くことができる。したがって、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布要素３０４が爪表面に触れ（接触し）、かつ／または爪表面の上で（直接接触せずに）浮かんでいるときでも、爪表面からのネイルポリッシュ塗布要素３０４の高さを正確に決定することができる。制御ユニット１０２は、爪表面に対するマウント要素１０８の位置決めを（アクチュエータ１０４を介して）調節することができる。
さらに、制御ユニット１０２は、画像分析に基づいて、ネイルポリッシュ塗布空間１３０での手指の動きを検出することができる。次いで、制御ユニット１０２は、検出された手指の場所に応じて、爪表面に対するマウント要素１０８の位置決めを（アクチュエータ１０４）を介して補正、固定、および／または調節することができる。
制御ユニット１０２は、画像分析に基づいて、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドにおけるネイルポリッシュ液の飽和レベルを決定することができる。制御ユニット１０２は、圧力印加要素１０６Ａを制御して、本体部３０２Ａに印加される圧力を検出された飽和レベルに応じて調節することができる。例えば、所望の最適な飽和よりも飽和レベルが低いと制御ユニット１０２が判定したとすると、制御ユニット１０２は、より大きい圧力が本体部３０２Ａに印加されるように圧力印加要素１０６Ａを調節することができ、それにより、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へと押し流されるネイルポリッシュ液３１０は多くなる。別の例では、最適な飽和レベルよりも飽和レベルが高いと制御ユニット１０２が判定したとすると、制御ユニット１０２は、より小さい圧力が本体部３０２Ａに印加されるように圧力印加要素１０６Ａを調節することができ、それにより、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へと押し流されるネイルポリッシュ液３１０は少なくなる。
制御ユニット１０２は、爪表面にネイルポリッシュを塗布し始める前に、画像センサによって取得された１つまたは複数の画像を分析することもできる。制御ユニット１０２は、画像分析に基づいて、例えば、ネイルポリッシュ液３１０がネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドの先端に到達する時刻を検出することにより、例えば、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドの飽和レベルを決定することができる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布要素３０４が適切に浸されたと判定した後、ネイルポリッシュ塗布処理を開始することができる。さらに、制御ユニット１０２は、取得された画像に描写されたネイルポリッシュ液３１０の液滴の広がりを分析することにより、ネイルポリッシュ液３１０の粘度を推定することができる。制御ユニット１０２は、推定された粘度に基づいて、圧力印加要素１０６Ａを制御するための設定値を較正し、それにより、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の安定した流れを保つことができる。したがって、粘度の測定および較正は、ネイルポリッシュ塗布処理を始める前に制御ユニット１０２によって行われる準備作業の一部として実施されてもよい。任意選択で、制御ユニットは、外部装置、例えば、モバイルデバイス（例えば、スマートフォン）、リモート処理プラットフォーム（例えば、リモートサーバ、クラウドサービスなど）に、センサデータのうちの少なくともいくつかを転送する。外部装置は、分析のうちの少なくとも一部を実施し、分析に従って１つまたは複数の動作、例えば、飽和レベルの決定、粘度の推定などを行うよう制御ユニットに命令してもよい。
さらに、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理前にカプセル３００Ａの１つまたは複数の画像を取得するよう画像センサに命令することができる。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａが、準備作業のうちの１つまたは複数が行われる準備空間１３４などの準備空間を含む場合、画像センサのうちの１つまたは複数は、準備空間１３４の少なくとも一部を描写するように分散されてもよい。制御ユニット１０２は、取得された画像に基づいて、１つまたは複数の品質尺度を用いてカプセルのコンプライアンスを推定することができる。例えば、本体部３０２Ａが透明であるとすると、制御ユニット１０２は、本体部３０２Ａに収容されたネイルポリッシュ液３１０のタイプ、色、濃淡、および／または色調を決定することができる。制御ユニット１０２は、例えば、本体部のへこみおよび／または割れの検出、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の欠陥の検出など、カプセル３００Ａの機械的コンプライアンスをさらに推定することができる。別の例では、例えば、バーコード、ＱＲコード（登録商標）など、コードがカプセルに貼られているとすると、制御ユニット１０２は、画像を分析してコードを識別し、現在のネイルポリッシュ塗布セッション中の指定された使用法に対してコードが正しいかどうかを検証することができる。別の例では、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａが、複数のカプセル３００を装填することができる保管空間に、複数のカプセルコンパートメント１１０および／または複数のチャンバを含むと仮定する。制御ユニット１０２は画像を分析して、カプセル３００のそれぞれがその指定された適切なカプセルコンパートメント１１０および／またはチャンバに位置付けられているかどうかを検証することができる。制御ユニット１０２は、推定されたコンプライアンスに基づいて、ネイルポリッシュ塗布処理を進め、かつ／または中止することができる。任意選択で、制御ユニット１０２は、ユーザインターフェース１２０などのユーザインターフェース、例えば、表示ライト、ＬＣＤなどにより、検出されたコンプライアンスを使用者に知らせる。追加的に、および／または別法として、制御ユニットは、ネットワークインターフェース１２２などのネットワークインターフェースを介して、検出されたコンプライアンスを記載したメッセージを１つまたは複数のリモートロケーションに送信してもよい。
加えて、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理前に爪表面の１つまたは複数の画像を取得するよう画像センサに命令することができる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュを塗布するために爪表面のコンプライアンスを推定するため、取得された画像に基づいて爪表面の状態を検出することができる。例えば、制御ユニット１０２は、新しいネイルポリッシュ液３１０を塗布する前に除去する必要がある場合がある、前に塗布したネイルポリッシュで爪表面が覆われていることを検出することができる。別の例では、制御ユニット１０２は、爪表面のうちの１つまたは複数が割れており、ネイルポリッシュ液３１０を塗布する前に何らかの処理が必要になる可能性があることを検出することができる。別の例では、制御ユニットはベイル表面において何らかの疾患を検出することができ、それにより、感染している爪表面にネイルポリッシュ液３１０を塗布することが禁じられる場合がある。制御ユニット１０２は、検出された爪表面の状態に基づいてネイルポリッシュ塗布処理を進め、かつ／または中止することができる。任意選択で、制御ユニット１０２は、ユーザインターフェース１２０などのユーザインターフェース、例えば、表示ライト、ＬＣＤなどを介して、検出されたコンプライアンスを使用者に知らせる。追加的に、および／または別法として、制御ユニット１０２は、ネットワークインターフェース１２２などのネットワークインターフェースを介して、検出されたコンプライアンスを記載したメッセージを１つまたは複数のリモートロケーションに送信してもよい。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面に塗布し終えた後に、画像センサによって取得された１つまたは複数の画像をさらに分析することができる。制御ユニット１０２は、画像分析に基づき、爪表面のうちの１つまたは複数について、ネイルポリッシュ塗布処理の結果を判定することができる。例えば、制御ユニット１０２は、爪表面に塗布されたネイルポリッシュ液３１０の均一性および／または画一性を推定することにより、ネイルポリッシュの塗布が適切および／または正確であるかどうかを判定することができる。制御ユニット１０２は、爪表面へのネイルポリッシュの塗布における１つまたは複数の不備、例えば、爪表面のうち、ネイルポリッシュ液３１０が塗布されなかった１つまたは複数の領域、爪表面のうち、爪表面の他の領域と比べてネイルポリッシュ液３１０が不均一に塗布された１つまたは複数の領域などを検出することもできる。さらに、制御ユニット１０２は、爪表面に塗布されたネイルポリッシュ液３１０の乾燥状態を推定することができる。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、制御ユニット１０２によって作動されて爪表面を照らす１つまたは複数の光源を含む。爪表面を照らすことにより、画像センサによって取得される画像の品質を著しく改善することができる。光源は、例えば、視野（ＦＯＶ）、爪表面からの距離、スペクトル範囲など、画像センサおよび／または光源の１つまたは複数の動作パラメータに従って選択、構成、および／または作動され得る。光源には、例えば、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザエミッタ装置、赤外線（ＩＲ）エミッタなどが含まれ得る。レーザエミッタ装置は、運動システム（すなわち制御ユニット１０２によって作動されるアクチュエータ１０４）を較正し、爪表面を分析し、爪表面の３Ｄモデルを取得および／または作成し、爪表面の境界を検出するなどのために、制御ユニット１０２によってさらに使用されてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、１つまたは複数の標的表示、例えば、印、機械的な印（例えば、隆起部、凹部、彫られた模様など）などをさらに含んでもよく、これらは、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの１つまたは複数の要素を較正するために、レーザ放射装置とともに制御ユニット１０２によって使用されてもよい。例えば、標的表示のうちの１つまたは複数はマウント要素１０８に配置されてもよく、制御ユニット１０２は、レーザエミッタ装置を使用して標的表示の正確な場所を特定し、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの運動システム、具体的にはアクチュエータ１０４、マウント要素１０８、および／または画像センサ１１２を較正することができる。
さらに、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの１つまたは複数の空間、例えば、ネイルポリッシュ塗布空間１３０、準備空間１３４などは、（外部の）環境から入ってくる照明（光）のレベルを制限および／または制御するように機械的に構成される。これは、空間の外から入ってくる外部の光を実質的に遮ることができる囲繞壁部および／または囲繞面を有するように空間を構築することによって実施することができる。外部の照明を制限および／または制御することにより、光源を使用して空間内の照明を調節することが可能になり、したがって空間内の照明条件を改善し、したがって画像センサによって取得される画像の品質および／または有用性を改善することができる。制御ユニット１０２は制御された照明空間で取得された画像を効率的に分析することができ、制御ユニット１０２が必要とする計算資源、例えば、演算処理能力、メモリ資源、演算処理時間などが少なくなる可能性がある。
センサ１１２のうちの１つまたは複数は、制御ユニット１０２によって作動されてネイルポリッシュ塗布セッション前、後、および／またはネイルポリッシュ塗布セッション中のネイルポリッシュ塗布空間１３０におけるネイルポリッシュ塗布要素３０４、爪表面などの位置決めを表すことができる近接情報を収集する、近接センサでもよい。制御ユニット１０２は、近接センサから受け取ったセンサデータを分析して、例えば、空間のＸ軸、Ｙ軸、および／またはＺ軸における、標的となる爪表面に対するネイルポリッシュ塗布要素３０４の相対的な場所および／または位置決めを推定することができる。標的となる爪表面の上にネイルポリッシュ塗布要素３０４を正確に位置決めし、それによってネイルポリッシュの塗布結果を改善するために、制御ユニット１０２は、推定された相対的な場所および／または位置決めに基づき、それに応じてアクチュエータ１０４を作動させて、マウント要素１０８を動かすことができる。
任意選択で、制御ユニット１０２は、近接センサから得られたセンサデータを分析して、爪表面からのネイルポリッシュ塗布要素３０４の高さ、すなわちネイルポリッシュ塗布要素３０４と爪表面の間の間隙を正確に推定することができる。制御ユニット１０２は、推定された高さに基づいて、マウント要素１０８、したがってネイルポリッシュ塗布要素３０４を爪表面の上の最適な場所および／または爪表面からの最適な高さへと動かすようにアクチュエータ１０４を作動させ、それによってネイルポリッシュ塗布結果の改善を実現することができる。加えて、制御ユニットは、近接センサから得られたセンサデータの分析に基づいて、爪表面に対するネイルポリッシュ塗布ヘッド３０４の場所および／または位置決めを推定することができる。
例えば、ネイルポリッシュ塗布要素３０４がシリンジニードル状の供給ヘッドを備え、このシリンジニードル状の供給ヘッドは、ネイルポリッシュ液３１０が塗布される爪表面から一定の高さ（例えば、０〜２．５ｍｍ）に保持される必要があると仮定する。こうした場合、制御ユニット１０２は、必要とされる高さで爪表面の上にニードル状供給ヘッドが位置決めされるようにマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。爪表面は湾曲している場合があるので、制御ユニット１０２は、近接センサのデータの分析に基づいて、湾曲した爪表面に対し、必要とされる高さでネイルポリッシュ塗布要素３０４のニードル状供給ヘッドの位置決めを保つように、アクチュエータ１０４の動作を調節することができる。別の例では、ネイルポリッシュ塗布要素３０４がニードル状の供給ヘッドを備え、このニードル状の供給ヘッドは、ネイルポリッシュ液３１０が塗布される爪表面に対する垂直軸において一定の角度（例えば、９０度、４５度、３０度など）に、かつ爪表面から一定の高さ（例えば、０〜２．５ｍｍ）に保持される必要があると仮定する。前の例と同様に、制御ユニット１０２は、近接センサのデータの分析に基づいて、ニードル状の供給ヘッドが爪表面に対して必要な角度および高さになるようにマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。
任意選択で、画像センサの実装形態と同様に、運動システムを較正し、爪表面を分析し、爪表面の３Ｄモデルを取得および／または作成し、爪表面の境界を検出するなどするために、レーザエミッタ装置が、近接センサに結合した制御ユニット１０２によって使用されてもよい。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、送りねじピストンをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である、図６Ａおよび図６Ｂを参照する。図６Ａに示すように、カプセル３００Ａなどの例示的なカプセル実施形態が、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置の、カプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントに配置されてもよい。圧力印加要素１０６Ａに類似した圧力印加要素１０６Ｂは、本体部３０２Ａの下側に向かって摺動する摺動ガスケット３０８を押し下げるように構成されたピストンを含むことができる。圧力印加要素１０６Ｂのピストンの運動は、送りねじ４０２によって制御することができる。例えば、圧力印加要素１０６Ｂのピストンには、複数のねじ山を有する送りねじに付けられたナットが装着されてもよい。制御ユニット１０２は、時計回りおよび／または反時計回りに送りねじを回して本体部３０２Ａから上向きに、および／または本体部３０２Ａへと下向きにピストンを動かすよう、アクチュエータ１０４を制御することができる。任意選択で、圧力印加要素１０６はラックおよびピニオンを含んでもよい。例えば、圧力印加要素１０６Ｂのピストンには、複数のはめ歯および／または歯を有するラックおよび／またはレールが装着されてもよい。制御ユニット１０２は、ラックおよび／またはレールのはめ歯および／または歯と組み合わさるはめ歯および／または歯を有するピニオンを回転させて本体部３０２Ａから上向きに、および／または本体部３０２Ａへと下向きにピストンを動かすよう、アクチュエータ１０４を制御することができる。送りねじ、ならびに／またはラックおよびピニオンの実装形態を使用することにより、ピストン運動の精度、したがってネイルポリッシュ塗布要素３０４に向かうネイルポリッシュ液３１０の流れの精度を著しく向上させることができる。さらに、送りねじ、ならびに／またはラックおよびピニオンの実装形態を使用すると、高い圧力を与えながらもより低出力のアクチュエータ１０４を使用することが可能になり得る。
図６Ｂに示すように、制御ユニット１０２は、圧力印加要素１０６Ｂのピストンの変位を制御し、したがってカプセル３００Ａの本体部３０２Ａなどの本体部に収容されるネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液の流量を制御するために、時計回りおよび／または反時計回りに変動的なペースで送りねじを回すよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。送りねじを使用してピストンの変位を制御すると、圧力印加要素１０６Ｂのピストンの運動の精密度を著しく向上させることができる。さらに、送りねじを使用すると、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサから受け取ったセンサデータの分析に基づいて制御ユニット１０２によって行われる変位推定の信頼性も著しく向上させることができる。
図７Ａ、図７Ｂ、図７Ｃおよび図７Ｄは、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、プランジャをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である。図７Ａに示すように、カプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントには、本体部３０２の例示的な実施形態である本体部３０２Ｂと、吐出ノズル３０６などの吐出ノズルと、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素とを有するカプセル３００などのカプセルの、例示的なカプセルの実施形態３００Ｂが配置されてもよい。本体部３０２Ｂにより、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するように構成されたリザーバが画定される。本体部３０２Ｂは、本体部３０２Ｂの中心軸を中心として設けられた１つまたは複数の環状のひだ５０２とともに構築された円周方向側壁部を有する、管状の本体として構築することができる。本体部３０２Ｂは、カプセルコンパートメント１１０のロック機構２０２などのロック機構によるロックに対応するように構成された、フランジ状リム３０１などのフランジ状リムを含んでもよい。
圧力印加要素１０６の例示的な実施形態である圧力印加要素１０６Ｃはプランジャを含むことができ、このプランジャは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって制御することができる。
図７Ｂに示すように、制御ユニット１０２は、本体部３０２の面のうちの１つまたは複数、例えば、上面を押圧することができる圧力印加要素１０６Ｂのプランジャを動かすように、アクチュエータ１０４を作動させることができる。プランジャが本体部３０２Ｂの上面を押し下げるとき、環状のひだ５０２は折り重なる（つぶれる）ことができ、したがって本体部３０２Ｂによって画定されるリザーバの容積が小さくなる。容積が小さくなることにより、リザーバの内圧を高めることができ、それによって吐出ノズル３０６からネイルポリッシュ塗布要素３０４にネイルポリッシュ液３１０を押し流すことができる。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理中、圧力印加要素１０６Ａのピストンの運動を制御して、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の流れを制御することができる。具体的には、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間においてネイルポリッシュ液３１０が爪表面に塗布されている間、プランジャの運動を制御することができる。制御ユニット１０２は、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサから収集されたセンサデータの分析に基づいて決定したネイルポリッシュ液３１０の流量に従って、ピストンを制御するアクチュエータ１０４を作動させることにより、プランジャの運動を制御することができる。
図７Ｃに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの、カプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントには、本体部３０２の例示的な実施形態である本体部３０２Ｃと、吐出ノズル３０６などの吐出ノズルと、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素とを有するカプセル３００などのカプセルの、例示的なカプセルの実施形態３００Ｃが配置されてもよい。本体部３０２Ｃにより、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するように構成されたリザーバが画定される。本体部３０２Ｃは、本体部３０２Ｃの１つまたは複数の高弾性面５０６の弾性係数が、本体部３０２Ｃの他の面５０４の弾性係数よりも大きくなるように構築され得る。
圧力印加要素１０６の例示的な実施形態である圧力印加要素１０６Ｄはプランジャを含むことができ、このプランジャは、制御ユニット１０２によって作動されるアクチュエータ１０４によって制御することができる。
図７Ｄに示すように、制御ユニット１０２は、アクチュエータ１０４を作動させて、本体部３０２の面のうちの１つまたは複数、例えば、弾性が低い方の面５０４を押圧することができる圧力印加要素１０６Ｂのプランジャを動かすことができる。圧力印加要素１０６Ｄのプランジャが印加する圧力によって高弾性面５０６が折り重なり、それによって本体部３０２Ｃを変形させ、本体部３０２Ｃによって画定されるリザーバの容積を小さくすることができる。容積が小さくなることにより、リザーバの内圧を高めることができ、それによって吐出ノズル３０６からネイルポリッシュ塗布要素３０４にネイルポリッシュ液３１０を押し流すことができる。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理中、圧力印加要素１０６Ａのプランジャの運動を制御して、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の流れを制御することができる。具体的には、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０においてネイルポリッシュ液３１０が爪表面に塗布されている間、プランジャの運動を制御することができる。制御ユニット１０２は、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサから収集されたセンサデータの分析に基づいて決定したネイルポリッシュ液３１０の流量に従って、ピストンを制御するアクチュエータ１０４を作動させることにより、プランジャの運動を制御することができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、ペリスタルティックポンプをベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である、図８Ａ、図８Ｂ、および図８Ｃを参照する。図８Ａに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置の、カプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントには、本体部３０２の例示的な実施形態である本体部３０２Ｄと、吐出ノズル３０６などの吐出ノズル３０６Ａと、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素とを有するカプセル３００などのカプセルの、例示的なカプセルの実施形態３００Ｄが配置されてもよい。本体部３０２Ｄにより、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するように構成されたリザーバが画定される。吐出ノズル３０６Ａの１つまたは複数の長手方向面、および／またはその一部は、弾性係数の高い１つまたは複数の材料、例えば、ポリマーなどから構築することができる。吐出ノズル３０６Ａの高弾性長手方向面は、そこに圧力が印加されると、屈曲し、かつ／または折れ曲がることができる。本体部３０２Ｄは、カプセルコンパートメント１１０のロック機構２０２などのロック機構によるロックに対応するように構成された、フランジ状リム３０１などのフランジ状リムを含んでもよい。
圧力印加要素１０６の例示的な実施形態である圧力印加要素１０６Ｅはペリスタルティックポンプを含むことができ、このペリスタルティックポンプは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動される、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって制御することができる。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、１つまたは複数の場所、例えば、本体部３０２Ｄの上面において本体部３０２Ｄに１つまたは複数の空気開口６０４を開くために、穿孔要素６０２を含む。穿孔要素６０２をあてがって本体部３０２Ｄに穿孔することは、ネイルポリッシュ塗布処理を開始する前に、例えば、準備作業の一部として行われてもよい。したがって、本体部３０２Ｄの穿孔は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間、および／または準備空間１３４などの準備空間において行うことができる。
図７Ｂに示すように、制御ユニット１０２は、圧力印加要素１０６Ｅのペリスタルティックポンプを吐出ノズル３０６Ａの高弾性長手方向面にあてがうよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。ペリスタルティックポンプは、吐出ノズル３０６Ａでの変位運動を引き起こすことができ、この変位運動により、本体部３０２Ｄからネイルポリッシュ塗布要素３０４に向かってネイルポリッシュ液３１０を引き込む（吸い出す）ことができる。空気開口６０４により、本体部３０２Ｄに入って引き込まれたネイルポリッシュ液３１０と空気が置き換わることが可能になり、それによって本体部３０２Ｄの真空状態を防ぎ、変位運動によってネイルポリッシュ液３１０を本体部３０２Ｄから引き込むのを可能にすることができる。任意選択で、空気開口６０４は、本体部３０２Ｄの封止面を形成する弱い表面であり、この表面は、ペリスタルティックポンプによって引き起こされる変位運動によって本体部３０２Ｄにおいて高まった内圧化ではひとりでに破断し得る。
任意選択で、図８Ｃに示すように、カプセル３００などの例示的なカプセル３００Ｅの本体部３０２Ｅの１つまたは複数の面は、弾性係数が高い１つまたは複数の材料から構築される高弾性面である。例えば、本体部３０２Ｅの上方部、例えば、本体部１０３Ｊ１の上面（またはその一部）、および／または側面の上方部分は、例えば、ナイロンなどで構築される。本体部３０２Ｅによって画定されるリザーバに低い圧力が存在するとき、高弾性面は折れ曲がることができる。移送トンネル吐出ノズル３０６Ａにおいて変位運動を引き起こすペリスタルティックポンプにより、ネイルポリッシュ液３１０を本体部３０２Ｅから引き込むことができる。ネイルポリッシュ液３１０が本体部３０２Ｅから引き込まれるにつれて本体部３０２Ｅの内圧は下がり、また本体部３０２Ｅの高弾性面は折れ曲がり、それによって本体部３０２Ｅの真空状態を防ぎ、変位運動によってネイルポリッシュ液３１０を引き込むのを可能にすることができる。本体部３０２Ｅは、カプセルコンパートメント１１０のロック機構２０２などのロック機構によるロックに対応するように構成された、フランジ状リム３０１などのフランジ状リムを含んでもよい。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理中、圧力印加要素１０６Ｅのペリスタルティックポンプの運動を制御して、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の流れを制御することができる。具体的には、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間においてネイルポリッシュ液３１０が爪表面に塗布されている間、ペリスタルティックポンプの運動を制御することができる。制御ユニット１０２は、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサから収集されたセンサデータの分析に基づいて決定したネイルポリッシュ液３１０の流量に従って、ペリスタルティックポンプを制御するアクチュエータ１０４を作動させることにより、ペリスタルティックポンプの変位運動を制御することができる。
図９Ａ、図９Ｂ、および図９Ｃは、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、圧縮機をベースとしたの例示的な圧力印加要素の縦断面図である。図９Ａに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置の、カプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントには、本体部３０２の例示的な実施形態である本体部３０２Ｆと、吐出ノズル３０６などの吐出ノズルと、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素とを有するカプセル３００などのカプセルの、例示的なカプセル実施形態３００Ｆが配置されてもよい。本体部３０２Ｆにより、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するように構成されたリザーバが画定される。本体部３０２Ｆは、カプセルコンパートメント１１０のロック機構２０２などのロック機構によるロックに対応するように構成された、フランジ状リム３０１などのフランジ状リムを含んでもよい。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、１つまたは複数の場所において、通常は本体部３０２Ｆの上面において本体部３０２Ｆに１つまたは複数の注入開口７０２を開くために、穿孔要素６０２などの穿孔要素を含む。穿孔要素６０２をあてがって本体部３０２Ｆに穿孔することは、ネイルポリッシュ塗布処理を開始する前に、例えば、準備作業の一部として行われてもよい。したがって、本体部３０２Ｆの穿孔は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間、および／または準備空間１３４などの準備空間において行うことができる。任意選択で、本体部３０２Ｆが穿孔されたとき、本体部３０２Ｆに収容されたネイルポリッシュ液３１０の液面よりも注入開口７０２が上になるように、本体部３０２Ｆによって画定されるリザーバは、何らかの気体、例えば、空気などを収容する。
図９Ｂに示すように、圧力印加要素１０６の例示的な実施形態である圧力印加要素１０６Ｆは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動される圧縮機を含むことができる。圧縮機の注入出口は、本体部３０２Ｆに穿孔された注入開口７０２に連結され得る。穿孔作業と同様に、圧縮機の注入出口を注入開口７０２に連結するのは準備作業の一部でもよく、したがってネイルポリッシュ塗布空間１３０および／または準備空間１３４において実施することができる。
図９Ｃに示すように、圧力印加要素１０６Ｆの圧縮機は、１つまたは複数の圧縮材料７１０、例えば、気体（例えば、空気など）、液体（例えば、水、油など）などを、注入開口７０２を介して高い圧力で本体部３０２Ｆに注入することができる。注入された圧縮材料７１０により、本体部３０２によって画定されるリザーバの内圧を高めることができ、それによってネイルポリッシュ液３１０を吐出ノズル３０６からネイルポリッシュ塗布要素３０４へと押し流すことができる。
制御ユニット１０２は、圧縮機の圧縮レベル、すなわちネイルポリッシュ塗布処理中に本体部３０２Ｆに圧縮材料７１０を注入する速度を制御して、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の流れを制御することができる。具体的には、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間においてネイルポリッシュ液３１０が爪表面に塗布されている間、圧縮機の圧縮レベルを制御することができる。制御ユニット１０２は、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサから収集されたセンサデータの分析に基づいて決定したネイルポリッシュ液３１０の流量に従って、圧縮機の圧縮レベルを制御することができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の、磁場をベースとした例示的な圧力印加要素の縦断面図である図１０Ａおよび図１０Ｂを参照する。図１０Ａに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置の、カプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントには、本体部３０２の例示的な実施形態である本体部３０２Ｇと、吐出ノズル３０６などの吐出ノズルと、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素とを有するカプセル３００などのカプセルの、例示的なカプセルの実施形態３００Ｇが配置されてもよい。本体部３０２Ｇの上面の開口は、摺動ガスケット３０８の例示的な実施形態である摺動ガスケット３０８Ａによって封止されている。本体部３０２Ｇにより、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するように構成されたリザーバが画定される。本体部３０２Ｇは、カプセルコンパートメント１１０のロック機構２０２などのロック機構によるロックに対応するように構成された、フランジ状リム３０１などのフランジ状リムを含んでもよい。カプセル３００Ｇは、摺動ガスケット３０８Ａの上、および／または摺動ガスケット３０８Ａの内部に、１つまたは複数の磁気要素８０４をさらに含むことができる。磁気要素８０４は、そこに印加される磁場に応じて、吸引され、かつ／または反発することができる。任意選択で、磁気要素８０４はネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの一部であり、したがって、磁気要素８０４は、カプセルコンパートメント１１０にカプセル３００Ｇを挿入した後、例えば、本体部３０２Ｇの上面の上に、具体的には摺動ガスケット３０８Ａの上に配置される。
ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、１つまたは複数の磁場発生装置８０２、例えば、ソレノイドなどを介して、圧力印加要素１０６などの圧力印加要素１０６Ｇを利用することができ、１つまたは複数の磁場発生装置８０２は、例えば、カプセルコンパートメント１１０に一体化されてもよい。
図１０Ｂに示すように、制御ユニット１０２などの制御ユニットは、例えば、磁場発生装置８０２を流れて磁場を発生させる電流を調節することにより、圧力印加要素１０６Ｇの磁場発生装置８０２を制御することができる。制御ユニット１０２は、流される電流を調節して、磁場発生装置８０２によって生じる磁場、例えば、方向、大きさ、および／または他の磁場パラメータを制御することができる。制御ユニット１０２は、磁場発生装置８０２への電流の発生を命令することができ、それにより、磁場を生じさせて磁気要素８０４を吸引し、かつ／または反発させ、摺動ガスケット３０８Ａを押し下げることができる。磁場発生装置８０２はカプセルコンパートメント１１０の下方部分に配置されてもよく、したがって制御ユニット１０２は、磁気要素８０４を吸引する磁場を発生させるように、磁場発生装置８０２への電流を調節することができる。追加的に、および／または別法として、磁場発生装置８０２はカプセル３００Ｇより上に配置されてもよく、したがって制御ユニット１０２は、磁気要素８０４を反発させる磁場を発生させるように、磁場発生装置８０２への電流を調節することができる。摺動ガスケット１０５Ｋが本体部３０２Ｇの下側に向かって動くことにより、本体部３０２Ｇの内圧を高めることができ、それによって本体部３０２Ｇから吐出ノズル３０６を通ってネイルポリッシュ塗布要素３０４へと、ネイルポリッシュ液３１０を押し出すことができる。
本発明のいくつかの実施形態によれば、ネイルポリッシュ装置１０１Ａは、本体部３０２に１つまたは複数の開口を開くために、穿孔要素１１４などの１つまたは複数の穿孔要素を含む。本体部３００から吐出ノズル３０６へと、また吐出ノズル３０６を通してネイルポリッシュ塗布要素３０４へとネイルポリッシュ液３１０を放出するために、開口を開くことができる。穿孔要素１１４には、例えば、鋭い中央部、貫通ポールなどが含まれ得る。穿孔要素１１４を使用して本体部３０２に開口を開くことは、追加的に、および／または別法として、本明細書において上に記載したカプセル３００によって利用される場合がある、封止開口３０７などのひとりでに開く封止開口に対して実施されてもよい。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な穿孔要素の縦断面図である、図１１Ａ、図１１Ｂ、および図１１Ｃを参照する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置は、カプセル３００などのカプセルの本体部３０２などの本体部に穿孔するために、穿孔要素１１４などの１つまたは複数の穿孔要素を含むことができる。本体部３０２の穿孔は、本体部３０２に収容されたネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を、吐出ノズル３０６などの吐出ノズルへと、またそこからネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素へと放出するために実施される。本体部３０２の穿孔は、例えば、ネイルポリッシュ塗布処理を開始する前に制御ユニット１０２などの制御ユニットが行う準備作業の一部として実施されてもよい。したがって、本体部３０２の穿孔は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間、および／または準備空間１３４などの準備空間において行うことができる。
図１１Ａに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、穿孔要素１１４などの１つまたは複数の穿孔要素１１４Ａを含んでもよい。穿孔要素１１４Ａは、本体部３０２の下面に穿孔する（穴をあける）ように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａに配備および／または配置することができる。具体的には、カプセル３００は、通常は吐出ノズル３０６に配置されかつ／または吐出ノズル３０６の近位端部の場所の近傍で本体部３０２に配置される、１つまたは複数の封止表面９２０Ａを含むことができる。したがって、穿孔要素は、封止開口９２０Ａを破るように構成、適合、配置および／または配備することができる。穿孔要素１１４Ａは、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって動かすことができ、したがって、制御ユニット１０２は、通常はネイルポリッシュ塗布要素３０４の下である、ある場所に穿孔要素１１４Ａを動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布要素３０４から吐出ノズル３０６へと移動して封止表面９２０Ａを破るよう、穿孔要素１１４Ａの運動をさらに制御することができる。追加的に、および／または別法として、穿孔要素１１４Ａは静的でもよく、マウント要素１０８などのマウント要素に一体化されたカプセルコンパートメント１１０などのカプセルコンパートメントに配置されたカプセル３００が、穿孔要素１１４Ａへと動かされる。制御ユニット１０２は、穿孔要素１１４Ａが封止表面９２０Ａに適切に位置合わせされるように、カプセルコンパートメント１１０に挿入されたカプセル３００を移動および／または位置決めするよう、マウント要素１０８の運動を制御するアクチュエータ１０４を作動させることができる。適切に位置決めされると、制御ユニット１０２は、封止表面９２０Ａが穿孔要素１１４Ａを加熱し、穿孔されてネイルポリッシュ液３１０を放出するまでネイルポリッシュ塗布要素３０４を穿孔要素１１４Ａの上で動かすようにマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。
別の実施形態では、使用者は、穿孔要素１１４、例えば、穿孔要素１１４Ａが配置されたネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの穿孔空間に、カプセル３００を挿入することができる。使用者は、例えば、指定されたスロットにカプセル３００を押圧すること、カプセル３００をチャンバに挿入して、チャンバのカバーを閉じることなどにより、カプセル３００に力を加えることができる。印加された圧力により、穿孔要素１１４Ａは、例えば、封止表面９２０Ａなどの封止表面を突き刺すことができる。任意選択で、穿孔空間は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの動作空間のうちの１つまたは複数、例えば、保管空間、準備空間１３４などにおいて利用されてもよい。
図１１Ｂに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、穿孔要素１１４などの１つまたは複数の穿孔要素１１４Ｂを含んでもよい。穿孔要素１１４Ｂは、カプセル３００の内部、例えば、吐出ノズル３０６などの吐出ノズル３０６Ｂに設けられた封止表面９２０Ｂ、例えば、弱い表面を破るように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａの中に配備および／または配置され得る。吐出ノズル３０６Ｂは、弾性係数が高く、したがって吐出ノズル３０６Ｂが少なくとも部分的に変形することを可能にする、１つまたは複数の長手方向面をさらに含むことができる。制御ユニット１０２は、吐出ノズル３０６Ｂの長手方向面のうちの１つまたは複数に圧力を印加するように、穿孔要素１１４Ｂおよび／またはマウント要素１０８の運動を制御することができる。穿孔要素１１４Ｂによって印加される圧力により、吐出ノズル３０６Ｂを変形（例えば、屈曲させ、折り曲げるなど）させることができ、それによって封止表面９２０Ｂが破れる。いくつかの実施形態では、使用者は、手動で移送トンネル１１２Ｎを変形させて封止開口１４０２を破ってもよい。使用者は、カプセル３００をカプセルコンパートメント１１０に挿入する前に、および／またはカプセルコンパートメント１１０にカプセル３００が配置されている間に、吐出ノズル３０６Ｂを変形させてもよい。任意選択で、図１１Ｃに示すように、カプセルコンパートメント１１０に挿入されるカプセル３００が、摺動ガスケット３０８などの摺動ガスケット３０８Ａを有する、カプセル３００Ａなどのカプセルである場合、穿孔要素１１４などの穿孔要素１１４Ｃのうちの１つまたは複数は、封止表面９２０Ａを上から破ってもよい。これは、摺動ガスケット３０８Ａが高弾性を特徴とする材料で作られており、それにより、本体部３０２Ａなどの本体部の封止を損なうことなく穿孔要素１１４Ｃが摺動ガスケット３０８Ａに出入りすることが可能になると想定すると、実施可能である。制御ユニット１０２は、穿孔要素１１４Ｃを適切に封止表面９２０Ａに位置決めするように、カプセルコンパートメント１１０に挿入されたカプセル３００Ａを移動および／または位置決めするよう、マウント要素１０８の運動を制御するアクチュエータ１０４を作動させることができる。適切に位置決めされると、制御ユニット１０２は、穿孔要素１１４Ｃが摺動ガスケット３０８Ａを貫通し、本体部３０２Ａを貫通し、封止表面９２０Ａを破断するように、マウント要素１０８および／または穿孔要素１１４Ｃを動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。次いで、穿孔要素１１４Ｃをカプセル３００Ａから取り外すことができ、摺動ガスケット３０８Ａは、広がって、穿孔要素１１４Ｃの挿入によって生じた開口を封止することができる。
本発明のいくつかの実施形態によれば、ネイルポリッシュ装置１０１Ａは、制御ユニット１０２によって作動されて爪表面に塗布された後のネイルポリッシュ液を乾燥させることができる、乾燥要素１１６などの１つまたは複数の乾燥要素を含む。さらに、乾燥要素１１６は、爪表面に塗布された後のジェルポリッシュを硬化させるように配備、位置決め、および／または構成されてもよい。
乾燥要素１１６、例えば、送風機、温風送風機、加熱要素、光をベースとした加熱要素、乾燥材料アプリケータなどは、ネイルポリッシュ塗布空間１３０および／または（利用可能な場合は）乾燥空間１３６に配備されて、ネイルポリッシュ液３１０を局所的および／または全体的に乾燥させることができる。
全体的乾燥は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間および／または乾燥空間１３６などの乾燥空間に設けられて、各空間に配置された１つまたは複数の爪表面を乾燥および／または硬化させることができる、１つまたは複数の乾燥要素１１６に関する。こうした構成では、乾燥要素１１６は、通常は、静的な位置決めで設置され得る。例えば、制御ユニット１０２によって作動される１つまたは複数の加熱空気送風乾燥要素１１６が、ネイルポリッシュ塗布処理中、ネイルポリッシュ液３１０が塗布された爪表面の乾燥処理を速めるように分散、配置、位置決めなどされてもよい。加熱空気送風乾燥要素１１６は、標的となる爪表面に加熱空気が方向付けられるように位置決めされてもよい。さらに、各爪表面に塗布された後のネイルポリッシュ液３１０を乾燥させるために、１つまたは複数の通風要素、例えば、パイプ（例えば、シリンジニードルなど）、管などが空気送風乾燥要素１１６に連結されて、各爪表面に加熱空気を送り出してもよい。こうした構成では、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュの塗布が完了した、使用者の一方の手の爪表面を乾燥させ、その間、他方の手にネイルポリッシュ液３１０が塗布されるように、乾燥要素１１６を作動させることができる。
局所的乾燥は、標的となる爪表面にごく近接して乾燥要素１１６を位置決めすることにより、特定の爪表面を局所的に乾燥させ、他の爪表面には影響を与えないということに関する。これは、他の爪表面にネイルポリッシュ液３１０を塗布しながら、標的となる爪表面を乾燥できるということを意味する。
任意選択で、カプセルコンパートメント１１０に挿入されるカプセル３００のうちの１つまたは複数は、爪表面に塗布された後のネイルポリッシュ液３１０を乾燥させるために使用することができる乾燥材料を収容する。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な乾燥要素の縦断面図である図１２を参照する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどのネイルポリッシュ塗布装置は、局所的乾燥要素１１６などの１つまたは複数の局所的乾燥要素１１６Ａを含んでもよい。他の爪表面に影響を与えることなく１つまたは複数の標的となる爪表面に乾燥処理を局所化するために、局所的乾燥要素１１６Ａは、標的となる爪表面にごく近接して位置決めすることができる。ごく近接させることにより、爪表面の小さい領域に乾燥のエネルギーを集中させることができ、したがって、全体的乾燥において行われることがあるように、大きい領域を乾燥させるためにエネルギーを浪費することが避けられるので、乾燥を改善および／または促進することが可能になり得る。これにより、局所的乾燥要素１１６Ａのエネルギー消費を著しく削減することができる。さらに、ごく近接させることにより、標的となる爪表面に塗布された、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液の乾燥処理の制御を著しく改善することが可能になり得る。乾燥処理は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間、および／または乾燥空間１３６などの専用の乾燥空間において行うことができる。例示的な一実施形態では、１つまたは複数の局所的乾燥要素１１６Ａが、マウント要素１０８などのマウント要素に取り付けられてもよい。マウント要素１０８は、局所的乾燥要素１１６Ａを受けて収めるように構成された１つまたは複数の固定具１２０２を含むことができる。ネイルポリッシュ塗布処理中、特定の爪表面にネイルポリッシュ液３１０を塗布し終えた後、制御ユニット１０２などの制御ユニットは、局所的乾燥要素１１６Ａ、例えば、温風送風機、光をベースとした加熱要素、乾燥材料アプリケータなどを、その特定の爪表面の上に位置決めするようにマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータを作動させることができる。適切に位置決めされた後、制御ユニット１０２は、その特定の爪表面を乾燥させるように、局所的乾燥要素１１６Ａをさらに作動させることができる。別の例では、局所的乾燥要素１１６Ａのうちの１つまたは複数は、制御ユニット１０２によって作動されるアクチュエータ１０４のうちの１つまたは複数によって動かすことができる、マウント要素１０８などの別個のマウント要素にマウントされる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０、および／またはネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａによって利用可能な場合は乾燥空間１３６において、乾燥要素１１６を携えたマウント要素１０８を移動させるよう、アクチュエータ１０４を制御することができる。いくつかの実施形態では、制御ユニット１０２は、局所的乾燥要素１１６Ａのうちの１つまたは複数を作動させてネイルポリッシュ液３１０が塗布された第１の爪表面を乾燥させ、その間に、ネイルポリッシュ液３１０を第２の爪表面に塗布することを命令することができる。こうした動作は、通常はネイルポリッシュ塗布空間１３０において行われ得る。これにより、ネイルポリッシュの塗布と乾燥処理を実質的に同時に行うことができるので、ネイル塗布処理をさらに早く進めることができる。
任意選択で、乾燥要素１１６は静的位置に固定されてもよく、乾燥要素１１６に取り付けられた１つまたは複数の動的通風要素、例えば、パイプ（例えば、シリンジニードルなど）、管などが可動性である。例えば、動的通風要素は、マウント要素１０８に連結されてもよい。こうした実装形態では、制御ユニット１０２は、動的通風要素を携えたマウント要素１０８をネイルポリッシュ塗布空間１３０および／または乾燥空間１３６において移動させて、ネイルポリッシュ液３１０が塗布された爪表面の上に動的通風要素の端部を位置決めするよう、アクチュエータ１０４を制御することができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な調節可能シャッタの縦断面図である、図１３Ａおよび図１３Ｂを参照する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａなどの例示的なネイルポリッシュ塗布装置は、調節可能シャッタ１１００を含んでもよく、この調節可能シャッタ１１００は、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されて、カプセル３００などのカプセルに収容されたネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液の流量を制御する。制御ユニット１０２は、カプセル３００の本体部３０２などの本体部からネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素へのネイルポリッシュ液３１０の流量を調節するために、シャッタ１１００を動的に調節することができる。
図１３Ａに示すように、例示的なカプセル３００は吐出ノズル３０６Ｃを含み、この吐出ノズル３０６Ｃは、弾性係数が高く吐出ノズル３０６Ｃが少なくとも部分的に変形することを可能にする、１つまたは複数の長手方向面を用いて構築される。制御ユニット１０２は、調節可能シャッタ１１００Ａの運動を制御することができ、この調節可能シャッタ１１００Ａは、吐出ノズル３０６Ｃの長手方向面のうちの少なくとも１つを変形させて、吐出ノズル３０６Ｃを通るネイルポリッシュ液３１０の流量、したがってネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の流れを維持、減少および／または増加させるように構成され得る。例えば、調節可能シャッタ１１００Ａは、吐出ノズル３０６Ｃの長手方向面の第１の側部を定位置に留める固定部分１１００Ａ１と、アクチュエータ１０４のうちの１つまたは複数によって第１の部分１１００Ａ１に対して動かされ得る第２の部分１１００Ａ２とを含むことができる。制御ユニット１０２は、アクチュエータ１０４を作動させて、第１の部分１１００Ａ１に近づけるかまたは遠ざけるように第２の部分１１００Ａ２を押し進め、それによって吐出ノズル３０６Ｃの移送トンネルの幅を制御して吐出ノズル３０６Ｃを通るネイルポリッシュ液３１０の流量を制御することができる。さらに、調節可能シャッタ１００Ａは、吐出ノズル３０６Ｃの長手方向面の外部形状、例えば、円筒形状などに嵌合する形状で構成することができる。別の例では、調節可能シャッタ１１００Ａは、ペリスタルティックポンプによって利用される。制御ユニット１０２は、ペリスタルティックポンプの変位運動を制御して、吐出ノズル３０６Ｃを通るネイルポリッシュ液３１０の流れを制御してもよい。
図１３Ｂに示すように、カプセル３００は、吐出ノズル３０６などの吐出ノズル３０６Ｄに装着された、動的に調節可能な一体化されたシャッタ１１００Ｂを含んでもよい。シャッタ１１００Ｂを使用して、吐出ノズル３０６Ｄからネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の流量を制御することができる。シャッタ１１００Ｂは、２つ以上の動作状態に設定することができる遮断要素、例えば、ねじ、機械的弁、電磁弁、押しレバーなどを含むことができる。第１の状態では、シャッタ１１００Ｂは吐出ノズル３０６Ｄを通るネイルポリッシュ液３１０の流れを遮ることができる。１つまたは複数の他の状態では、シャッタ１１００Ｂは動的に調節されて、ネイルポリッシュ液３１０の少なくとも一部が吐出ノズル３０６Ｄを通って流れるのを可能にすることができる。シャッタ１１００は、ねじ、押しレバーなどとして利用されるときは特に、ネイルポリッシュ塗布装置の使用者によって操作されてもよい。追加的に、および／または別法として、例えば、ねじ、押しレバー、機械的弁、電磁弁などとして利用されるとき、シャッタ１１００Ｂは、制御ユニット１０２によって作動されてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａは、制御ユニット１０２によって作動されるシャッタ１１００Ｂと相互に作用することができるシャッタ制御要素１１０２を含んでもよい。例えば、シャッタ制御要素１１０２は１つまたは複数の磁場発生装置を含んでもよく、この１つまたは複数の磁場発生装置は、制御ユニット１０２によって作動されて、磁場の大きさに対して各動作状態の間を移行するよう電磁弁シャッタ１１００Ｂに磁場を印加する。別の例では、シャッタ制御要素１１０２は、レバーシャッタ１１００Ｂを押すことができる機械的要素を含んでもよい。制御ユニットは、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータを作動させて、シャッタ制御要素１１０２の機械的要素を移動（例えば、偏移、運動および／または回転）させ、押しレバーシャッタ１１００Ｂの変位に対して各動作状態の間で動くよう押しレバーシャッタ１１００Ｂを開き、かつ／または閉じることができる。
本発明のいくつかの実施形態では、ネイルポリッシュ塗布装置１０１は、カプセルコンパートメント１１０がマウント要素１０８の一部でなくてもよいように構築されてもよい。むしろ、マウント要素はネイルポリッシュ塗布要素３０４を受けるように構成されてもよく、ネイルポリッシュ塗布要素３０４は、１つまたは複数の移送管を介して、カプセルコンパートメント１１０に挿入されたカプセル３００に連結されてもよく、カプセルコンパートメント１１０は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１の中で分離されており、任意選択で静的でもよい。
次に、本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ液を収容する二部カプセルを利用してネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する例示的なネイルポリッシュ塗布装置の概略図である図１４を参照する。例示的なネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂは、大半の態様、特徴、実装形態、および機能において、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａに類似している。したがって、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂは、制御ユニット１０２などの制御ユニット、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータ、圧力印加要素１０６などの圧力印加要素、マウント要素１０８などのマウント要素、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサ、（任意選択で手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケットを有する）ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間、および電源１４０などの電源を含む。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂは、穿孔要素１１４などの１つまたは複数の穿孔要素、乾燥要素１１６などの１つまたは複数の乾燥要素、ネイルポリッシュ除去要素１１８などの１つまたは複数のネイルポリッシュ除去要素、ユーザインターフェース１２０などのユーザインターフェース、ネットワークインターフェース１２２などのネットワークインターフェース、ハンドレスト台１３３などのハンドレスト台、準備空間１３４などの準備空間、乾燥空間１３６などの乾燥空間、および／またはネイルポリッシュ除去空間１３８などのネイルポリッシュ除去空間を含む。
しかし、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂは、カプセル３００の変形形態として構築される１つまたは複数の二部カプセルを受けて収めるように構成され、このカプセル３００の変形形態では、本体部３０２などの本体部が、移送管１６４を介して吐出ノズル３０６の変形形態である吐出ノズルに連結される。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂは、１つまたは複数の固定具１６２を含み、この１つまたは複数の固定具１６２は、通常は吐出ノズル３０６の変形形態である吐出ノズルとともに挿入される、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素を受けて収めるように構成される。吐出ノズル３０６は、移送管１６４を介してカプセルコンパートメント１６０に連結され、このカプセルコンパートメント１６０は、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容する、カプセル３００の変形形態である二部カプセルを受けて収めるように構成される。
次に、本発明のいくつかの実施形態による二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の、例示的なマウント要素およびカプセルコンパートメントの縦断面図である、図１５を参照する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂなどのネイルポリッシュ塗布装置の、カプセルコンパートメント１１０などの例示的なカプセルコンパートメント１６０は、カプセル３００の変形形態である例示的な二部カプセル３００Ｈの、本体部３０２の変形形態である本体部３０２Ｈを受けて収めるように構成することができる。二部カプセル３００Ｈは、吐出ノズル３０６の変形形態である吐出ノズル３０６Ｅ、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素、および本体部３０２Ｈを吐出ノズル３０６Ｅに連結する移送管１６４などの移送管をさらに含む。マウント要素１０８などの、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂのマウント要素は、吐出ノズル３０６Ｅおよびネイルポリッシュ塗布要素３０４を受けて収めるように構成された固定具１６２を含む。前に述べたように、マウント要素１０８は、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動される、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって可動である。移送管１６４は、高弾性材料で構築されてかなり柔軟でもよく、したがって、ネイルポリッシュ塗布要素３０４は少なくともネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間において可動であるが、カプセルコンパートメント１６０は静的でもよい。したがって、移送管１６４は、通常は静的な本体部３０２Ｈと、ネイルポリッシュ塗布要素３０４に連結された可動吐出ノズル３０６Ｅとの間の機械的連結部に対応する。ネイルポリッシュ液３１０は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａに関して説明したように、圧力印加要素１０６などの１つまたは複数の圧力印加要素により、本体部３０２Ｈから押し流されてもよい。
任意選択で、ネイルポリッシュ塗布要素３０４は、最初はカプセル３００Ｈの一部であり、例えば、本体部３０２Ｈに取り付けられている。ポリッシュ塗布処理を開始する前に、ネイルポリッシュ塗布要素３０４を本体部３０２Ｈから取り外し、固定具１６２に装着することができる。いくつかの実施形態では、ネイルポリッシュ塗布要素３０４は、カプセルコンパートメント１６０に本体部３０２Ｈを配置する前および／または後に、使用者によって手動で取り外されてもよい。使用者は、さらに、ネイルポリッシュ塗布要素３０４を固定具１６２に手動で装着してもよい。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布要素３０４は、自動でカプセル３００Ｈから取り外され、かつ／または固定具１６０に装着されてもよい。これは、カプセル３００Ｈに向かって、具体的には（本体部３０２Ｈに取り付けられた）ネイルポリッシュ塗布要素３０４の場所に向かってマウント要素１０８を移動させ、ネイルポリッシュ塗布要素３０４を固定具１６２にロックするよう、制御ユニット１０２がマウントアクチュエータ１０４を作動させることによって実施することができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用してネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する、例示的なネイルポリッシュ塗布装置の概略図である図１６を参照する。例示的なネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃは、大半の態様、特徴、実装形態、および機能において、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａに類似している。したがって、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃは、制御ユニット１０２などの制御ユニット、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータ、圧力印加要素１０６などの圧力印加要素、マウント要素１０８などのマウント要素、センサ１１２などの１つまたは複数のセンサ、（任意選択で手指ソケット１３２などの１つまたは複数の手指ソケットを有する）ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間、および電源１４０などの電源を含む。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃは、乾燥要素１１６などの１つまたは複数の乾燥要素、ネイルポリッシュ除去要素１１８などの１つまたは複数のネイルポリッシュ除去要素、ユーザインターフェース１２０などのユーザインターフェース、ネットワークインターフェース１２２などのネットワークインターフェース、ハンドレスト台１３３などのハンドレスト台、準備空間１３４などの準備空間、乾燥空間１３６などの乾燥空間、および／またはネイルポリッシュ除去空間１３８などのネイルポリッシュ除去空間を含む。
しかし、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃは、１つまたは複数のネイルポリッシュカプセル、具体的にはネイルポリッシュ塗布要素３０４などの取外し可能なネイルポリッシュ塗布要素３０５を備えた使い捨ての二部ネイルポリッシュカプセルを受けて収めるように構成される。使い捨ての二部ネイルポリッシュカプセルのそれぞれは、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するネイルポリッシュ液容器（本体部）１７４を備え、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５が容器１７４に蓋をする。具体的には、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５は、１つまたは複数の爪表面にネイルポリッシュ液３１０を塗布するように形状設定および構成された供給ヘッド、例えば、ブラシ、塗布ヘッドなどを含む。供給ヘッドは、爪表面に塗布すべきネイルポリッシュ液３１０を捕集するために、ネイルポリッシュ液容器１７４に浸すことができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃは、ネイルポリッシュカプセルを受けて収めるように構成された１つまたは複数のカプセルコンパートメント１７０を含む。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃのマウント要素１０８は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５を受けて収めるように構成された１つまたは複数の固定具１７２を含む。使い捨ての二部ネイルポリッシュカプセルは、通常、カバーとして機能するネイルポリッシュ塗布要素３０５で封止されてネイルポリッシュ液３１０を収容する、フラスコとして構築され得る。使用者は、フラスコを開き、カバー、すなわちネイルポリッシュ塗布要素３０５は固定具１７２に設置し、フラスコタイプの容器１７４はカプセルコンパートメント１７０に設置することができる。任意選択で、フラスコを開き、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５を固定具１７２に設置することは、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃによって自動で行われる。本発明のいくつかの実施形態では、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５を備えた二部ネイルポリッシュカプセルは使い捨てであり、したがって容器１７４とネイルポリッシュ塗布要素３０５の両方は、１回のネイルポリッシュ塗布セッションのために使用される。容器１７４（例えば、フラスコ本体）に収容されるネイルポリッシュ液３１０の量は、例えば、単一の爪表面、片手の手指の爪表面、両手の手指の爪表面などにネイルポリッシュ液３１０を１回塗布するのに足りるように構成することができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の例示的なマウント要素の縦断面図である、図１７を参照する。マウント要素１０８などの、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃのマウント要素は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５などの取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素を受けて収めるように構成された固定具１７２を含む。前に述べたように、マウント要素１０８は、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって可動である。制御ユニット１０２は、カプセルコンパートメント１７０などのカプセルコンパートメントに配置されたカプセルの１つまたは複数のネイルポリッシュ容器１７４（例えば、フラスコ）と、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間との間でマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。アクチュエータ１０４を作動させることにより、制御ユニット１０２は、カプセルコンパートメント１７０に挿入されたカプセルの容器１７４に収容されたネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液に、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５の供給ヘッドを浸すよう、マウント要素１０８を移動させることができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａについて説明したように、ネイルポリッシュ液３１０を爪表面に正確に塗布するために、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０において標的爪表面の上にネイルポリッシュ塗布要素３０５を移動させるように、センサ１１２から収集されたセンサデータの分析に従ってマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４をさらに作動させることができる。制御ユニット１０２は、センサデータを分析して、例えば、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５の供給ヘッドにおけるネイルポリッシュ液３１０の飽和レベルを推定することができ、分析に基づいて、カプセルコンパートメント１７０に配置された容器１７４（例えば、フラスコ）に供給ヘッドのそれぞれを浸すようにマウント要素１０８を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。カプセルコンパートメント１７０は静的であり、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃの中で、例えば、ネイルポリッシュ塗布空間１３０、準備空間１３４などにおいて固定位置に配置されていてもよい。任意選択で、カプセルコンパートメント１７０は、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって動的に動くことができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用するネイルポリッシュ塗布装置の例示的なマウント要素の斜視側面図および斜視正面図である、図１８Ａ、図１８Ｂ、および図１８Ｃを参照する。図１８Ａに示すように、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃなどのネイルポリッシュ塗布装置の、マウント要素１０８などのマウント要素１０８Ａは、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５などの取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを受けて収めるように構成された、固定具１７２などの例示的な固定具１７２Ａを備える。図１８Ｂに示すように、マウント要素１０８Ａは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって移動されて、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを備えた二部カプセルを保持する、カプセルコンパートメント１７０などのカプセルコンパートメントへと、固定具１７２Ａを動かすことができる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容する二部カプセルの容器１７４などの容器（例えば、フラスコ）１７４Ａのカバーとして機能する取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａに噛み合うようにマウント要素１０８Ａ、したがって固定具１７２Ａを移動させるよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。図１８Ｃに示すように、制御ユニット１０２は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを容器１７４Ａから取り外すようにマウント要素１０８Ａ、したがって固定具１７２Ａを動かすよう、アクチュエータ１０４をさらに作動させることができる。
次に、本発明のいくつかの実施形態による、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素を備えた二部カプセルを利用してネイルポリッシュ液を爪表面に塗布する、例示的なネイルポリッシュ塗布装置の斜視側面図である図１８Ｄを参照する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃなどの例示的なネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃ１は、ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａなどの取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素を備えた、３つの使い捨ての二部ネイルポリッシュカプセルを受けて収めるように構成される。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃ１は、カプセルコンパートメント１７０などの３つのカプセルコンパートメント１７０Ａを備え、各カプセルコンパートメント１７０Ａは、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを備えた、３つの使い捨ての二部ネイルポリッシュカプセルのうちの１つを受けて収めるように形状設定される。カプセルコンパートメント１７０Ａのそれぞれは、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を含む各二部ネイルポリッシュカプセルの、容器（フラスコ）１７４Ａなどの容器を受けて収めるように形状設定される。カプセルコンパートメント１７０Ａには、１つまたは複数の実装形態、例えば、引出し、キャビネットなどが利用されてもよい。例えば、カプセルコンパートメント１７０Ａは、カプセルコンパートメント１７０Ａに二部カプセルを配置するために使用者が引き出すことができ、またネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃ１の中の定位置に押し戻すことができる、摺動引出しおよび／または可動引出しとして構築されてもよい。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃ１は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを受けて収めるように構成された固定具１７２Ａなどの固定具が装着された、マウント要素１０８Ａなどのマウント要素をさらに備える。
マウント要素１０８Ａは、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって移動されて、固定具１７２Ａをカプセルコンパートメント１７０Ａへと動かし、カプセルコンパートメント１７０Ａに挿入されたネイルポリッシュカプセルのうちの１つの取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａに取り付けることができる。制御ユニット１０２は、容器（フラスコ）１７４Ａのカバーとして機能するそれぞれの取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５に噛み合うようにマウント要素１０８Ａ、したがって固定具１７２Ａを移動させるよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。制御ユニット１０２は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを容器１７４Ａから取り外すように固定具１７２Ａを動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。制御ユニット１０２は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを携えたマウント要素１０８Ａを、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間１３０Ａと容器１７４Ａとの間で移動させるよう、アクチュエータ１０４をさらに作動させることができる。
ネイルポリッシュ塗布セッション中、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０Ａに配置された手指の１つまたは複数の爪表面に取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａの供給ヘッドがネイルポリッシュ液３１０を塗布するように、ネイルポリッシュ塗布空間１３０Ａにおいて取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを動かすようにマウント要素１０８Ａを移動させるよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。制御ユニット１０２は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５Ａを容器（フラスコ）１７４Ａへと動かして容器１７４Ａのうちの１つの中のネイルポリッシュ液３１０に供給ヘッドを浸すようにマウント要素１０８Ａを移動させるよう、アクチュエータ１０４を作動させることもできる。
次に、本発明のいくつかの実施形態によるネイルポリッシュ塗布装置の例示的な爪成形要素の縦断面図である図１９を参照する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃなどのネイルポリッシュ塗布装置は、１つまたは複数の爪表面を処理するための１つまたは複数の爪成形要素１９０２を含んでもよい。処理には、例えば、爪表面の境界を成形すること、爪表面を埋めること、爪表面に光沢を出すこと、爪表面を平滑化することなどが含まれ得る。処理は、爪表面から甘皮を取り除き、切り取り、かつ／または変位させることをさらに含んでもよい。マウント要素１０８などの、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃのマウント要素は、爪成形要素１９０２のうちの１つまたは複数を受けて収めるように構成された固定具１７３を含んでもよい。爪成形要素１９０２は、制御ユニット１０２などの制御ユニットによって作動されるアクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータによって回転され得るスピンヘッドを含むことができる。スピンヘッドは、通常は爪表面の処理に使用される爪やすりを製作するために使用される粗面材料、例えば、エメリーペーパー、ガラス、金属、セラミックなどで被覆されてもよい。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などのネイルポリッシュ塗布空間において、マウント要素１０８を動かして爪成形要素１９０２、具体的には爪成形要素１９０２の成形ヘッドを標的となる爪表面の上に移動させるよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。制御ユニット１０２は、センサ１１２から収集されたセンサデータを分析して、標的となる爪表面の上に爪成形要素１９０２を正確に案内、位置決め、および／または移動して、標的となる爪表面を成形し、かつ／もしくは埋め、かつ／または標的となる爪表面から甘皮を取り除き、切り取り、かつ／もしくは変位させることができる。
任意選択で、固定具１７３は、固定具１７２などの固定具によって利用されてもよい。固定具１７２は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５および／または爪成形要素１９０２を収めるように設計および構築されてもよい。こうした設計の実装形態では、制御ユニット１０２は、取外し可能ネイルポリッシュ塗布要素３０５と爪成形要素１９０２とを自動で切り換えるようにマウント要素１０８、したがって固定具１７２を動かすよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。任意選択で、固定具１７２および／または固定具１７３への爪成形要素１９０２の取付けは、使用者によって手動で実施される。
次に、本発明のいくつかの実施形態による例示的なネイルポリッシュ塗布装置の斜視側面図および斜視上面図である図２０Ａおよび図２０Ｂを参照する。例示的なネイルポリッシュ塗布装置１０１は、提示されたネイルポリッシュ塗布装置、例えば、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａおよび／またはネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂのうちの１つまたは複数に適用することができる、例示的な工業上および機能上の設計を実際に示す。ネイルポリッシュ塗布装置１０１は、１つまたは複数の材料、例えば、プラスチック、金属、複合材料などで作成されたエンクロージャを備え、このエンクロージャは、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａおよび／またはネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂに関して説明した動作要素を収容する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１の動作要素の大半は内部にある場合があるので見えない場合があるが、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａおよび／または１０１Ｂに関して提示した特徴のうちの少なくともいくつかを理解することができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０などの例示的なネイルポリッシュ塗布空間を含むことができる。例示的なネイルポリッシュ塗布空間１３０は、使用者の（親指を除いた）４本の手指を保持する、手指ソケット１３２などの４つの手指ソケットを含む。ネイルポリッシュ塗布装置１０１は、使用者が手指ソケット１３２に自身の手指を配置している間、自身の手を快適に載せることを可能にする、ハンドレスト台１３３などのハンドレスト台をさらに備える。
ネイルポリッシュ塗布装置１０１は、カプセル３００などの使い捨てカプセルを受けて収めるように構成された、カプセルコンパートメント１１０（および／または１６０）などのカプセルコンパートメントを含む。カプセルコンパートメント１１０は、カプセルコンパートメント１１０にカプセル３００を挿入した後に閉じることができる蓋部（カバー）をさらに含む。ネイルポリッシュ塗布空間１３０は、例えば、動作ステータス、ブルートゥース接続ステータス、および接続されている（ペアリングされている）使用者のモバイルデバイスのモバイルデバイスプラットフォームタイプ（例えば、ｉＯＳ、Ａｎｄｒｏｉｄなど）など、ステータスを表示するライトを備える、ユーザインターフェース１２０などの例示的なユーザインターフェースも含む。例示的なユーザインターフェース１２０は、オン／オフ押しボタンをさらに含む。
ネイルポリッシュ塗布装置１０１は、使用者が新しいネイルポリッシュ液３１０を塗布することを望む爪表面からネイルポリッシュ残留分を取り除くことができる、ネイルポリッシュ除去空間１３８などのネイルポリッシュ除去空間をさらに含む。
次に、本発明のいくつかの実施形態による、ネイルポリッシュ液を爪表面に自動で塗布する例示的なプロセスのフローチャートである、図２１を参照する。１つまたは複数の爪表面にネイルポリッシュを自動で塗布する例示的なプロセス１９００は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１、具体的にはネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａ、１０１Ｂおよび／または１０１Ｃなどのネイルポリッシュ塗布装置によって実行することができる。
２１０２に示すように、ネイルポリッシュ自動塗布プロセス１９００は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１の１つまたは複数の空間、例えば、ネイルポリッシュ塗布空間１３０、準備空間１３４、および／または乾燥空間１３６を描写するセンサ１１２などの１つまたは複数のセンサから収集されたセンサデータを、制御ユニット１０２などの制御ユニットが分析することから始まる。制御ユニット１０２は、プロセス１９００の全体を通してこのステップを連続的に繰り返して、更新されたセンサデータを得ることができる。さらに、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１の動作要素の１つまたは複数の動作を自動で制御するために、センサデータを連続的に分析することができる。
２１０４に示すように、制御ユニット１０２は、センサデータの分析に基づいて、ネイルポリッシュ塗布空間１３０における使用者の１つまたは複数の爪表面、例えば、手指の爪表面および／または足指の爪表面を検出することができる。
任意選択で、制御ユニット１０２は、センサデータ、例えば、１つまたは複数の画像を分析して、ネイルポリッシュを塗布するために、検出された爪表面のコンプライアンスを推定する。
制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ液３１０などのネイルポリッシュ液を収容するカプセル３００などの１つまたは複数のカプセルが、カプセルコンパートメント１１０および／または１６０などの１つまたは複数のカプセルコンパートメントに適切に挿入されているかどうかを検証することができる。制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布要素３０４などのネイルポリッシュ塗布要素がマウント要素１０８などのマウント要素によって適切に保持されているかどうかをさらに検証することができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａでは、制御ユニット１０２は、カプセル３００がカプセルコンパートメント１１０に適切に挿入されているかどうかを検証することができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｂでは、制御ユニット１０２は、カプセル３００がカプセルコンパートメント１６０に適切に挿入されており、ネイルポリッシュ塗布要素３０４が固定具１６２などの固定具に適切に噛み合っているかどうかを検証することができる。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃでは、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布要素３０４が固定具１７２などの固定具に適切に噛み合っているかどうかを検証することができる。任意選択で、制御ユニット１０２は、センサデータ、例えば、画像を分析して、カプセル３００の品質コンプライアンスを推定する。任意選択で、ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃでは、制御ユニット１０２は、センサデータ、例えば、画像、液面センサなどを分析して、ネイルポリッシュ液容器１７０などの１つまたは複数のネイルポリッシュ液容器の中のネイルポリッシュ液３１０の存在および／または量を推定する。
任意選択で、制御ユニット１０２は、１つまたは複数の準備作業、例えば、カプセル３００からカバーを取り外すこと、カプセル３００を振り混ぜてカプセル３００に収容されたネイルポリッシュ液３１０の組成を均質にすること、１つまたは複数の基準点に対するネイルポリッシュ塗布要素３０４の位置決めを較正すること、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の汚れを落とすこと、カプセルの本体部３０２に穿孔すること、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の、ネイルポリッシュ液３１０の飽和レベルを推定すること、ネイルポリッシュ液３１０の粘度を推定することなどを開始する。準備作業のうちの１つまたは複数は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０において、および／またはネイルポリッシュ塗布装置１０１によって利用可能な場合は準備空間１３４において行うことができる。
２１０６に示すように、制御ユニット１０２は、センサデータの分析に基づき、アクチュエータ１０４などの１つまたは複数のアクチュエータを作動させて、ネイルポリッシュ塗布空間１３０を横切る長手方向軸、横方向軸においてマウント要素１０８を動かす。加えて、制御ユニット１０２は、長手方向軸周りでマウント要素１０８を回転させる（傾斜させる）よう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。アクチュエータ１０４は、爪表面に対して実質的に垂直な軸において、マウント要素１０８をさらに動かすことができる。制御ユニット１０２は、マウント要素１０８によって保持されているネイルポリッシュ塗布要素３０４が爪表面の場所および位置に対して適切に配置および位置決めされ、ネイルポリッシュ塗布要素３０４によってネイルポリッシュ液を爪表面に供給することが可能になるようにマウント要素１０８を移動させるよう、アクチュエータ１０４を作動させる。
２１０８に示すように、制御ユニットは、ネイルポリッシュ塗布要素３０４の供給ヘッドにおけるネイルポリッシュ液の飽和レベルを調節する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ａおよび／または１０１Ｂの場合には、制御ユニット１０２は、圧力印加１０６、例えば、圧力印加１０６Ａ、１０６Ｂ、１０６Ｃ、１０６Ｄ、１０６Ｅ、１０６Ｆおよび／または１０６Ｇなどの圧力印加要素を制御および／または作動させる。圧力印加１０６は、カプセル３００の本体部３０２などの本体部に圧力を印加して、本体部３１０から吐出ノズル３０６などの吐出ノズルを通してネイルポリッシュ塗布要素３０４へと、ネイルポリッシュ液３１０を押し出すことができる。制御ユニットは、センサデータを分析して、ネイルポリッシュ塗布要素３０４へのネイルポリッシュ液３１０の流量を検出することができる。制御ユニット１０２は、それに応じて圧力印加要素１０６を作動させて、本体部３０２に印加される圧力を維持、増加、または減少させることにより、流量を調節、例えば、維持、増加、または減少させることができる。任意選択で、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布要素３０４への一定の流量を維持するために、既定の圧力が維持されるように圧力印加要素１０６を制御する。ネイルポリッシュ塗布装置１０１Ｃの場合には、制御ユニット１０２は、センサデータの分析、具体的にはネイルポリッシュ塗布要素３０５の供給ヘッドにおけるネイルポリッシュ液の飽和レベルの推定に基づいて、ネイルポリッシュ塗布要素３０５をネイルポリッシュ液容器１７０に浸すようにマウント要素１０８を移動させるよう、アクチュエータ１０４を作動させることができる。
２１１０に示すように、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理１９００の全体を通してセンサ１１２から新しいセンサデータを連続的に収集し、（それに応じてアクチュエータ１０４を作動させることによって）マウント要素１０８の運動を調節することができ、かつ／またはそれに応じて圧力印加要素１０６を作動させることによってネイルポリッシュ液の流量を調節することができる。
プロセス１９００は、ネイルポリッシュ塗布処理が終了するまで、すなわち制御ユニット１０２が、例えば、センサデータの分析に基づいて、ネイルポリッシュ液が適切に爪表面に塗布されたと判定するまで、何度も繰り返すことができる。任意選択で、プロセス１９００は、ネイルポリッシュ塗布装置１０１の使用者によって手動で中止、停止、および／または再開される。
任意選択で、制御ユニット１０２は、使用者の爪表面のうちの１つまたは複数に塗布された後のネイルポリッシュ液３１０を乾燥させるように、乾燥要素１１６などの１つまたは複数の乾燥要素を制御する。乾燥作業は、ネイルポリッシュ塗布空間１３０において、および／またはネイルポリッシュ塗布装置１０１によって利用可能な場合は乾燥空間１３６において行うことができる。
任意選択で、制御ユニット１０２は、ネイルポリッシュ塗布処理１９００の間の１つまたは複数のステータス表示、例えば、現在の段階、現在の段階が完了するまでの残り時間、プロセス１９００が完了するまでの残り時間、通信ステータスなどを使用者に知らせる。
任意選択で、制御ユニット１０２は、１つまたは複数のリモートデバイス、例えば、リモートノードおよび／または使用者のモバイルデバイスと通信する。制御ユニット１０２は、プロセス１９００の完了前、完了中、および／または完了後にリモートデバイスと通信することができる。
本出願から権利化（ｍａｔｕｒｅ）された特許の期間中、関連する多くの手法、材料、および／または物質が開発されることが予想され、ネイルポリッシュ液という用語の範囲は、こうしたあらゆる新規な技術を事前に含むことを意図している。
本明細書で使用する「約」は、±１０％を指す。
「具備する（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「具備している（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」という用語およびその活用形は、「限定されるものではないが、含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ ｂｕｔ ｎｏｔ ｌｉｍｉｔｅｄ ｔｏ）」を意味する。
「からなる」という用語は、「含み、限定される」ことを意味する。
本明細書において、単数形を表す「ａ」、「ａｎ」および「ｔｈｅ」は、文脈が明らかに他を示さない限り、複数をも対象とする。例えば、「化合物（a compound）」または「少なくとも１種の化合物」には、複数の化合物が含まれ、それらの混合物をも含み得る。
本願全体を通して、本発明のさまざまな実施形態は、範囲形式にて示され得る。範囲形式での記載は、単に利便性および簡潔さのためであり、本発明の範囲の柔軟性を欠く制限ではないことを理解されたい。したがって、範囲の記載は、可能な下位の範囲の全部、およびその範囲内の個々の数値を特異的に開示していると考えるべきである。例えば、１〜６といった範囲の記載は、１〜３、１〜４、１〜５、２〜４、２〜６、３〜６等の部分範囲のみならず、その範囲内の個々の数値、例えば、１、２、３、４、５および６も具体的に開示するものとする。これは、範囲の大きさに関わらず適用される。
本明細書において数値範囲を示す場合、それは常に示す範囲内の任意の引用数（分数または整数）を含むことを意図する。第１の指示数と第２の指示数「との間の範囲」という表現と、第１の指示数「から」第２の指示数「までの範囲」という表現は、本明細書で代替可能に使用され、第１の指示数および第２の指示数と、それらの間の分数および整数の全部を含むことを意図する。
明確さのために別個の実施形態に関連して記載した本発明の所定の特徴はまた、１つの実施形態において、これら特徴を組み合わせて提供され得ることを理解されたい。逆に、簡潔さのために１つの実施形態に関連して記載した本発明の複数の特徴はまた、別々に、または任意の好適な部分的な組み合わせ、または適当な他の記載された実施形態に対しても提供され得る。さまざまな実施形態に関連して記載される所定の特徴は、その要素なしでは特定の実施形態が動作不能でない限り、その実施形態の必須要件であると捉えてはならない。
関連出願
本出願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下で、「Ｂｒｕｓｈ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃａｐｓｕｌｅ ｗｉｔｈ Ｆｉｌｍ−Ｆｏｒｍｉｎｇ Ｐｏｌｙｍｅｒ ｆｏｒ Ｎａｉｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ」と題する２０１７年１月３１日出願の米国仮特許出願第６２／４５２，４６１号の優先権の利益を主張し、その内容を参照により本明細書に全体として援用する。
本出願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下で、「Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｎａｉｌ Ｐｏｌｉｓｈ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ａｐｐａｒａｔｕｓ」と題する２０１７年７月１８日出願の米国仮特許出願第６２／５３３，７２０号の優先権の利益を主張し、その内容を参照により本明細書に全体として援用する。
本出願は、米国特許法第１１９条（ｅ）の下で、「Ｎａｉｌ Ｐｏｌｉｓｈ Ｋｉｔ ｆｏｒ Ｕｓｅ ｂｙ ａｎ Ａｕｔｏｍａｔｅｄ Ｎａｉｌ Ｐｏｌｉｓｈ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ａｐｐａｒａｔｕｓ」と題する２０１７年１０月１９日出願の米国仮特許出願第６２／５７４，２４１号の優先権の利益を主張し、その内容を参照により本明細書に全体として援用する。

Claims (49)

  1. ネイルポリッシュ液を収容する容器を備える少なくとも１つの二部ネイルポリッシュカプセルから取外し可能であるネイルポリッシュ塗布要素を受けるように構成されたマウント要素であって、少なくとも１つのアクチュエータにより、ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および前記長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、前記少なくとも１つのアクチュエータによって前記長手方向軸周りで回転可能である、マウント要素と、
    前記ネイルポリッシュ塗布空間を描写するセンサデータを生成するように構成された少なくとも１つのセンサと、
    前記センサデータの分析に従って前記少なくとも１つのアクチュエータの運動を制御するように構成された制御ユニットと
    を備え、
    前記制御ユニットは、前記ネイルポリッシュ塗布要素が前記容器に浸されるように前記マウント要素を動かすよう、前記少なくとも１つのアクチュエータを作動させる、
    ネイルポリッシュ塗布装置。
  2. 前記ネイルポリッシュ塗布要素が、最初は前記少なくとも１つの二部カプセルに取り付けられており、前記ネイルポリッシュ塗布要素が、前記装置の使用者によって、および／または前記制御ユニットによって作動される前記マウント要素によって自動で、前記少なくとも１つの二部カプセルから取り外され、前記マウント要素に設置される、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  3. 前記マウント要素が、前記少なくとも１つのアクチュエータにより、前記爪表面に垂直な軸において可動である、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  4. 前記ネイルポリッシュ塗布空間に少なくとも１つの手指ソケットをさらに備え、前記少なくとも１つの手指ソケットが、人間の手指および人間の足指のうちの少なくとも１本を受けて収めるように形状設定された表面を有する、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  5. 使用者の少なくとも１本の手指が前記少なくとも１つの手指ソケットに配置されたとき、使用者の手のひらの動きを制限するように構成された、少なくとも１つの手拘束要素をさらに備える、請求項４に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  6. 使用者の各手指が前記少なくとも１つの手指ソケットに配置されたとき、前記各手指の動きを制限するように構成された、少なくとも１つの手指拘束要素をさらに備える、請求項４に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  7. 前記少なくとも１つの手指ソケットは、前記手指が前記少なくとも１つの手指ソケットに配置されたとき前記爪表面の下の指先の皮膚を後ろに変位させるように構成された皮膚変位要素をさらに備える、請求項４に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  8. 前記少なくとも１つの手指ソケットは、前記手指が前記少なくとも１つの手指ソケットに配置されたときに前記爪表面の少なくとも一方の側の指先の皮膚を横に変位させるように構成された皮膚変位要素をさらに備える、請求項４に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  9. 前記ポリッシュ塗布空間の前にハンドレスト台をさらに備え、前記ハンドレスト台が、使用者の手のひらを受けて収めるように形状設定された表面を有する、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  10. 前記ネイルポリッシュ塗布空間が、前記ネイルポリッシュ塗布空間の外から入ってくる外部の照明を軽減するように構築される、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  11. 前記ネイルポリッシュ液が、ネイルポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、ジェルポリッシュ、乾燥材料、ポリッシュ除去液、ネイルアートポリッシュ液、および医療用ネイルトリートメント液からなる群の少なくとも１つの構成要素を含む、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  12. 前記制御ユニットが、前記ネイルポリッシュ液を塗布する前に、前記マウント要素に関する少なくとも１つの準備作業を行うようにさらに構成され、前記少なくとも１つの準備作業が、前記少なくとも１つのカプセルからカバーを取り外すこと、前記少なくとも１つのカプセルを振り混ぜること、前記ネイルポリッシュ塗布要素の位置決めを較正すること、前記ネイルポリッシュ塗布要素の汚れを落とすこと、前記ネイルポリッシュ塗布要素の飽和レベルを推定すること、および前記飽和レベルを調節することを含む群の構成要素である、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  13. 前記少なくとも１つの準備作業のために前記マウント要素を収めるように構築された準備空間をさらに備える、請求項１２に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  14. 前記準備空間が、前記ネイルポリッシュ塗布空間において利用される、請求項１３に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  15. 前記制御ユニットによって作動されて、前記爪表面に塗布される前、後、および／または塗布中の前記ネイルポリッシュ液を乾燥させる少なくとも１つのネイルポリッシュ乾燥要素をさらに備える、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  16. 前記少なくとも１つのネイルポリッシュ乾燥要素が、前記制御ユニットによって作動される前記少なくとも１つのアクチュエータによって可動である、請求項１５に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  17. 前記少なくとも１つのネイルポリッシュ乾燥要素が、人間の手指および人間の足指のうちの少なくとも１本を受けて収めるように形状設定された少なくとも１つの乾燥ソケットを備える乾燥空間において、前記ネイルポリッシュ液を乾燥させるように配置および構成される、請求項１５に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  18. 前記乾燥空間が、前記ネイルポリッシュ塗布空間において利用される、請求項１７に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  19. ネイルポリッシュ残留分を前記爪表面から取り除くための少なくとも１つのネイルポリッシュ除去要素をさらに備える、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  20. 前記少なくとも１つのネイルポリッシュ除去要素が、人間の手指および人間の足指のうちの少なくとも１本を受けて収めるように形状設定された少なくとも１つのネイルポリッシュ除去ソケットを備えるネイルポリッシュ除去空間において、前記ネイルポリッシュ残留分を取り除くように配置および構成される、請求項１９に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  21. 前記ネイルポリッシュ除去空間が、前記ネイルポリッシュ塗布空間において利用される、請求項２０に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  22. 前記少なくとも１つのセンサが、前記制御ユニットによって作動されて、ネイルポリッシュ塗布セッション中に前記ネイルポリッシュ塗布空間を描写する少なくとも１つの画像を取得する画像センサであり、前記ネイルポリッシュ塗布セッションでは、前記少なくとも１つのカプセルに一体化された前記ネイルポリッシュ塗布要素が、前記ネイルポリッシュ塗布空間において少なくとも１本の手指の爪表面に前記ネイルポリッシュ液を塗布し、前記分析のために使用される前記センサデータが、前記少なくとも１つの画像を含む、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  23. 前記分析が、画像（または他のセンサデータ）を処理して、
    前記爪表面の少なくとも１つの湾曲部を検出すること、
    前記爪表面の少なくとも１つの境界を検出すること、
    前記爪表面の３次元（３Ｄ）表面を検出すること、
    前記爪表面への接触前および接触中の前記ネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドの検出された幅に従って、前記爪表面からの前記ネイルポリッシュ塗布要素の高さを推定すること、
    前記ネイルポリッシュ塗布空間における前記少なくとも１本の手指の動きを検出すること、
    前記ネイルポリッシュ塗布要素における前記ネイルポリッシュ液の飽和レベルを検出すること、
    前記ネイルポリッシュ液が前記ネイルポリッシュ塗布要素の先端に到達する時刻を検出すること、
    前記爪表面へのネイルポリッシュ液塗布の品質を推定すること、
    ネイルポリッシュ液塗布における少なくとも１つの不備を検出すること、
    前記爪表面に塗布された前記ネイルポリッシュ液の乾燥状態を推定すること、および
    前記ネイルポリッシュ液の粘度に従って前記ネイルポリッシュ液の流量を較正するため、前記ネイルポリッシュ液の液滴の広がりを分析することによって前記粘度を推定すること、
    のうちの少なくとも１つを特定することを含む、請求項２２に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  24. 前記制御ユニットが、前記少なくとも１つのカプセルを描写する少なくとも１つの画像の分析に従って、前記少なくとも１つのカプセルの品質コンプライアンスを推定するようにさらに構成される、請求項２３に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  25. 前記制御ユニットは、前記少なくとも１本の手指が前記ネイルポリッシュ塗布空間に存在している間、前記爪表面の少なくとも１つの画像の分析に従って、前記ネイルポリッシュ液の塗布のために前記爪表面のコンプライアンスを推定するようにさらに構成される、請求項２３に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  26. 前記少なくとも１つのセンサが、前記制御ユニットによって作動されて、前記ネイルポリッシュ塗布空間に配置された少なくとも１本の手指の爪表面に対する前記ネイルポリッシュ塗布要素の近さを描写する近接データを生成する近接センサであり、前記分析のために使用される前記センサデータが、前記近接データを含む、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  27. 前記制御ユニットによって作動されて前記爪表面を照らす少なくとも１つの光源をさらに備え、前記少なくとも１つの光源が、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザエミッタ装置、および赤外線（ＩＲ）エミッタからなる群の構成要素である、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  28. 前記少なくとも１つの爪表面を処理するように形状設定および構成された少なくとも１つの爪成形要素をさらに備え、前記処理には、前記少なくとも１つの爪表面の境界を成形すること、前記少なくとも１つの爪表面を埋めること、前記少なくとも１つの爪表面に光沢を出すこと、前記少なくとも１つの爪表面を平滑化すること、前記少なくとも１つの爪表面の甘皮を取り除くこと、および前記少なくとも１つの爪表面の甘皮を変位させることのうちの少なくとも１つが含まれる、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  29. 前記制御ユニットによって作動されて、ネットワーク接続された少なくとも１つの装置と少なくとも１つのネットワークを介して通信する通信インターフェースをさらに備え、前記ネットワーク接続された少なくとも１つの装置が、前記ネイルポリッシュ塗布装置を使用する使用者のクライアント端末、およびネットワーク接続されたリモートノードのうちの少なくとも一方である、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  30. 前記制御ユニットによって作動されて少なくとも１つの使用者との相互作用を可能にするユーザインターフェースをさらに備え、前記ユーザインターフェースが、表示ライト、ディスプレイ、サウンドインジケーション、および制御スイッチからなる群の少なくとも１つの構成要素を含む、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  31. ネイルポリッシュ液を収容する少なくとも１つのカプセルを受けるように構成されたカプセルコンパートメントを備えるマウント要素であって、少なくとも１つのアクチュエータにより、ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および前記長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、前記少なくとも１つのアクチュエータによって前記長手方向軸周りで回転可能である、マウント要素と、
    前記カプセルコンパートメントに装着される前記少なくとも１つのカプセルの本体部に圧力を印加するように構成された圧力印加要素であって、前記本体部により、ネイルポリッシュ液を収容するリザーバが画定され、前記圧力により前記リザーバの内圧が高まり、それにより、前記少なくとも１つのカプセルに一体化されたネイルポリッシュ塗布要素へと前記ネイルポリッシュ液が押し出される、圧力印加要素と、
    前記ネイルポリッシュ塗布空間を描写するセンサデータを生成するように構成された少なくとも１つのセンサと、
    前記センサデータの分析に従って前記少なくとも１つのアクチュエータおよび前記圧力を作動させるように構成された制御ユニットと
    を備える、ネイルポリッシュ塗布装置。
  32. 前記制御ユニットが、前記爪表面から既定の高さに、かつ前記爪表面に対する垂直角度において既定の角度で前記ネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドを位置決めするように前記ネイルポリッシュ塗布要素を移動するよう、前記マウント要素を作動させるようにさらに構成される、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  33. 前記既定の高さが、０ミリメートル〜２．５ミリメートルの範囲である、請求項３２に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  34. 前記既定の角度が、２０度〜１６０度の範囲である、請求項３２に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  35. 前記圧力印加要素が、前記少なくとも１つのアクチュエータによって可動なピストンを備え、前記ピストンが、前記リザーバを画定する前記本体部の第１の面を封止する摺動ガスケットを押し下げるように構成され、前記摺動ガスケットが、前記第１の面に対向する、前記本体部の第２の面に向かって下方に摺動すると、前記リザーバの容積が小さくなり、それによって前記内圧が高まり、
    前記制御ユニットが、前記分析に基づいて計算された前記ピストンの変位変化に従って前記ピストンを動かすよう前記少なくとも１つのアクチュエータを作動させることにより、前記圧力を制御するように構成される、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  36. 前記ピストンが、送りねじ、歯車、プランジャ、およびピニオンに連結されたラックのうちの少なくとも１つを介して、前記少なくとも１つのアクチュエータによって可動である、請求項３５に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  37. 前記圧力印加要素が、前記少なくとも１つのアクチュエータによって可動なプランジャを備え、前記プランジャが、前記本体部の他の面の弾性係数よりも前記弾性係数が高い、前記本体部の少なくとも１つの面を変形させるように構成され、前記少なくとも１つの面が変形すると、前記リザーバの容積が小さくなり、前記リザーバ内の内圧が高まり、
    前記制御ユニットが、前記分析に基づいて計算された前記ネイルポリッシュ液の流量に従って前記プランジャに力を加えるよう前記少なくとも１つのアクチュエータを作動させることにより、前記圧力を制御するように構成される、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  38. 前記圧力印加要素がペリスタルティックポンプを備え、前記ペリスタルティックポンプが、前記ネイルポリッシュ液を押し出すことにより、変位運動を引き起こして前記リザーバの容積を小さくするように構成され、前記ペリスタルティックポンプが、前記本体部を前記ネイルポリッシュ塗布要素に連結する少なくとも１つの移送トンネルにポンピングを施すことによって前記変位運動を引き起こすように構成され、前記少なくとも１つの移送トンネルの弾性係数が高く、
    前記制御ユニットが、前記分析に基づいて計算された、前記ネイル塗布要素を通る前記ネイルポリッシュ液の流量に従って動作するよう、前記ペリスタルティックポンプを作動させることにより、前記圧力を制御するように構成される、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  39. 前記圧力印加要素が圧縮機を備え、前記圧縮機が、高い圧力で前記本体部に圧縮材料を注入し、それによって前記リザーバの内圧を高めるように構成され、
    前記制御ユニットが、前記分析に基づいて計算された、前記ネイル塗布要素を通る前記ネイルポリッシュ液の流量に従って動作するよう、前記圧縮機を作動させることにより、前記圧力を制御するように構成される、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  40. 前記圧力印加要素が、磁場を発生させるように構成された少なくとも１つの磁場発生装置を備え、前記カプセルの摺動ガスケットの中に一体化された少なくとも１つの磁気要素は、前記磁場に対して反応し、前記反応が、吸引および反発からなる群の構成要素であり、
    前記摺動ガスケットが、前記リザーバを画定する前記本体部の第１の面を封止し、前記磁場によって生じる磁気力により、前記第１の面に対向する前記本体部の第２の面に向かって下方に摺動する前記摺動ガスケットが押し下げられると、前記リザーバの容積が小さくなり、
    前記制御ユニットが、前記分析に基づいて計算された、前記ネイル塗布要素を通る前記ネイルポリッシュ液の流量に従って前記磁場の力および方向を制御することにより、前記圧力を制御するように構成される、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  41. 前記制御ユニットが、前記ネイルポリッシュ塗布要素の特質、前記ネイルポリッシュ液の粘度、前記ネイルポリッシュ塗布要素と前記爪表面の間の間隙、および前記マウント要素の線速度からなる群の構成要素である少なくとも１つのネイルポリッシュ塗布パラメータに従って前記圧力を制御するようにさらに構成される、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  42. 前記制御ユニットが、前記ネイルポリッシュ液を塗布する前に、前記マウント要素に関する少なくとも１つの準備作業を行うようにさらに構成され、前記少なくとも１つの準備作業が、前記本体部から前記ネイルポリッシュ塗布要素へと前記ネイルポリッシュ液が流れることを可能にするために、前記少なくとも１つのカプセルに穿孔することを含む群の構成要素である、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  43. 前記本体部から前記ネイルポリッシュ塗布要素へと前記ネイルポリッシュ液が流れることを可能にするために、前記少なくとも１つのカプセルに穿孔するための少なくとも１つの穿孔要素をさらに備える、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  44. 前記ネイルポリッシュ塗布要素への前記ネイルポリッシュ液の流量を制御するために、動的に調節可能なシャッタをさらに備える、請求項３１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  45. ネイルポリッシュ液を収容するリザーバを画定する本体部を有する少なくとも１つのカプセルを受けるように構成されたカプセルコンパートメントと、
    少なくとも１つの移送管によって前記本体部に連結されるネイルポリッシュ塗布要素を受けるように構成されたマウント要素であって、少なくとも１つのアクチュエータにより、ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および前記長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、前記少なくとも１つのアクチュエータによって前記長手方向軸周りで回転可能である、マウント要素と、
    前記本体部に圧力を印加するように構成された圧力印加要素であって、前記圧力により前記リザーバの中の圧力が高まり、それにより、前記ネイルポリッシュ液が前記少なくとも１つの移送管を通って前記ネイルポリッシュ塗布要素へと押し出される、圧力印加要素と、
    前記ネイルポリッシュ塗布空間を描写するセンサデータを生成するように構成された少なくとも１つのセンサと、
    前記センサデータの分析に従って、前記少なくとも１つのアクチュエータの運動および前記圧力を制御するように構成された制御ユニットと
    を備える、ネイルポリッシュ塗布装置。
  46. 前記ネイルポリッシュ塗布要素が、最初は前記少なくとも１つのカプセルに取り付けられており、前記ネイルポリッシュ塗布要素が、前記装置の使用者によって、および／または前記制御ユニットによって作動される前記マウント要素によって自動で、前記少なくともカプセルから取り外され、前記マウント要素に設置される、請求項４５に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
  47. ネイルポリッシュ塗布装置を制御する方法であって、
    ネイルポリッシュ塗布装置の制御ユニットの少なくとも１つのプロセッサを使用するステップを含み、前記少なくとも１つのプロセッサが、
    ネイルポリッシュ塗布空間を横切る長手方向軸および前記長手方向軸に垂直な横方向軸においてマウント要素を運動させ、前記長手方向軸周りで前記マウント要素を回転させるように構成された少なくとも１つのアクチュエータを制御するためのコードであって、前記マウント要素が、二部ネイルポリッシュカプセルの少なくとも１つのネイルポリッシュ塗布要素を受けるように構成された少なくとも１つのコンパートメントを備え、前記ネイルポリッシュ塗布要素が、ネイルポリッシュ液を供給するように構成される、コード、
    前記ネイルポリッシュ塗布空間を描写する、少なくとも１つのセンサから受け取ったセンサデータを分析するためのコード、および
    前記分析に従って、前記少なくとも１つのネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドにおける前記ネイルポリッシュ液の飽和レベルを調節するためのコード、
    前記分析に従って前記少なくとも１つのアクチュエータを制御することによって前記運動を調節するためのコード、を実行する、方法。
  48. 前記飽和レベルが、前記少なくとも１つのコンパートメントに装着される少なくとも１つのカプセルの本体部に圧力を印加するように構成された圧力印加要素を制御することによって調節され、前記本体部が、ネイルポリッシュ液を収容するリザーバを画定し、前記圧力により前記リザーバの中の圧力が高まり、それによって前記少なくとも１つのカプセルに一体化された前記ネイルポリッシュ塗布要素へと前記ネイルポリッシュ液が押し出される、請求項４７に記載の方法。
  49. 前記飽和レベルが、前記少なくとも１つのネイルポリッシュ塗布要素の前記供給ヘッドを、前記ネイルポリッシュ液を収容する容器に浸すことによって調節される、請求項４７に記載の方法。
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