JP2020506783A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. ネイルポリッシュ液を収容する容器（１７４）を備える少なくとも１つの二部ネイルポリッシュカプセルから取外し可能であるネイルポリッシュ塗布要素（３０５）を受けるように構成され、固定具（１７２Ａ）を有するマウント要素であって、少なくとも１つのアクチュエータ（１０４）により、ネイルポリッシュ塗布空間（１３０）を横切る長手方向軸および前記長手方向軸に垂直な横方向軸において可動であり、前記少なくとも１つのアクチュエータ（１０４）によって前記長手方向軸の周りで回転可能である、マウント要素と、
   前記ネイルポリッシュ塗布空間を描写するセンサデータを生成するように構成された少なくとも１つのセンサ（１１２）と、
   前記センサデータの分析に従って前記少なくとも１つのアクチュエータの運動を制御するように構成された制御ユニット（１０２）と
   を備え、
   前記制御ユニットは、前記ネイルポリッシュ塗布要素（３０５）が前記容器に浸されるように前記マウント要素を動かすよう、前記少なくとも１つのアクチュエータをさらに作動させ、
   前記ネイルポリッシュ塗布要素（３０５）は、前記少なくとも１つの二部ネイルポリッシュカプセルのカバーとして働く部分を有し、
   前記制御ユニットは、前記ネイルポリッシュ液を塗布する前に、前記マウント要素で少なくとも１つの準備作業を行うようにさらに構成され、
   前記制御ユニットは、前記固定具（１７２Ａ）を前記取外し可能であるネイルポリッシュ塗布要素（３０５）に取り付けるために前記少なくとも１つのアクチュエータを動かし、次いで、前記取外し可能であるネイルポリッシュ塗布要素（３０５）を前記容器（１７４）から取外すために前記少なくとも１つのアクチュエータを動かすことによって、前記少なくとも１つの準備作業を実行する、
   ネイルポリッシュ塗布装置。
2. 前記ネイルポリッシュ塗布要素が、最初は前記少なくとも１つの二部カプセルに取り付けられており、前記ネイルポリッシュ塗布要素が、前記装置の使用者によって、および／または前記制御ユニットによって作動される前記マウント要素によって自動で、前記少なくとも１つの二部カプセルから取り外され、前記マウント要素に設置される、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
3. 前記ネイルポリッシュ塗布空間に少なくとも１つの手指ソケット（１３２）をさらに備え、前記少なくとも１つの手指ソケット（１３２）が、人間の手指および人間の足指のうちの少なくとも１本を受けて収めるように形状設定された表面を有する、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
4. 使用者の各手指が前記少なくとも１つの手指ソケットに配置されたとき、前記各手指の動きを制限するように構成された、手指拘束要素と、
   使用者の少なくとも１本の手指が前記少なくとも１つの手指ソケットに配置されたとき、使用者の手のひらの動きを制限するように構成された、少なくとも１つの手拘束要素と、
   からなる群の構成要素である少なくとも１つの拘束要素をさらに備える、請求項３に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
5. 前記少なくとも１つの手指ソケットは、前記少なくとも１つの手指ソケットに配置された手指の指先の皮膚を変位させるように構成された少なくとも１つの皮膚変位要素であって、前記手指の爪表面の下の指先の皮膚を後ろに変位させること、および、前記爪表面の少なくとも一方の側の皮膚を横に変位させること、の少なくとも１つを行うように構成された少なくとも１つの皮膚変位要素をさらに備える、請求項３に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
6. 前記ネイルポリッシュ塗布空間が、前記ネイルポリッシュ塗布空間の外から入ってくる外部の照明を軽減するように構築される、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
7. 前記ネイルポリッシュ液が、ネイルポリッシュ液、ベースコート液、トップコート液、ジェルポリッシュ、乾燥材料、ポリッシュ除去液、ネイルアートポリッシュ液、および医療用ネイルトリートメント液からなる群の少なくとも１つの構成要素を含む、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
8. 前記少なくとも１つの準備作業が、前記少なくとも１つのカプセルを振り混ぜること、前記ネイルポリッシュ塗布要素の位置決めを較正すること、前記ネイルポリッシュ塗布要素の汚れを落とすこと、前記ネイルポリッシュ塗布要素の飽和レベルを推定すること、および前記飽和レベルを調節することを含む群の構成要素を備え、前記少なくとも１つの準備作業は、前記マウント要素を収めるように構築された準備空間および前記ネイルポリッシュ塗布空間の少なくとも１つにおいて行われる、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
9. 前記制御ユニットによって作動されて、爪表面に塗布される前、後、および／または塗布中の前記ネイルポリッシュ液を乾燥させる少なくとも１つのネイルポリッシュ乾燥要素（１１６）をさらに備え、前記少なくとも１つのネイルポリッシュ乾燥要素（１１６）は、
   前記ネイルポリッシュ塗布空間と、
   人間の手指および人間の足指のうちの少なくとも１本を受けて収めるように形状設定された少なくとも１つの乾燥ソケットを備える専用の乾燥空間（１３６）と、
   の少なくとも１つにおいて前記ネイルポリッシュ液を乾燥させるように構成される、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
10. ネイルポリッシュ残留分を爪表面から取り除くための少なくとも１つのネイルポリッシュ除去要素（１１８）をさらに備え、
    前記少なくとも１つのネイルポリッシュ除去要素が、少なくとも１つのネイルポリッシュ除去ソケットを備えるネイルポリッシュ除去空間と前記ネイルポリッシュ塗布空間との少なくとも１つにおいて、前記ネイルポリッシュ残留分を取り除くように配置および構成され、前記少なくとも１つのネイルポリッシュ除去ソケットは、人間の手指および人間の足指のうちの少なくとも１本を受けて収めるように形状設定される、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
11. 前記少なくとも１つのセンサが、前記制御ユニットによって作動されて、ネイルポリッシュ塗布セッション中に前記ネイルポリッシュ塗布空間を描写する少なくとも１つの画像を取得する画像センサであり、前記ネイルポリッシュ塗布セッションでは、前記少なくとも１つのカプセルに一体化された前記ネイルポリッシュ塗布要素が、前記ネイルポリッシュ塗布空間において少なくとも１本の手指の爪表面に前記ネイルポリッシュ液を塗布し、前記分析のために使用される前記センサデータが、前記少なくとも１つの画像を含む、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
12. 前記分析が、画像（または他のセンサデータ）を処理して、
    前記少なくとも１つのカプセルの品質コンプライアンスを推定すること、
    前記爪表面の少なくとも１つの湾曲部を検出すること、
    前記爪表面の少なくとも１つの境界を検出すること、
    前記爪表面の３次元（３Ｄ）表面を検出すること、
    前記爪表面への接触前および接触中の前記ネイルポリッシュ塗布要素の供給ヘッドの検出された幅に従って、前記爪表面からの前記ネイルポリッシュ塗布要素の高さを推定すること、
    前記ネイルポリッシュ塗布空間における前記少なくとも１本の手指の動きを検出すること、
    前記ネイルポリッシュ塗布要素における前記ネイルポリッシュ液の飽和レベルを検出すること、
    前記ネイルポリッシュ液が前記ネイルポリッシュ塗布要素の先端に到達する時刻を検出すること、
    前記爪表面へのネイルポリッシュ液塗布の品質を推定すること、
    ネイルポリッシュ液塗布における少なくとも１つの不備を検出すること、
    前記爪表面に塗布された前記ネイルポリッシュ液の乾燥状態を推定すること、
    前記ネイルポリッシュ液の粘度に従って前記ネイルポリッシュ液の流量を較正するため、前記ネイルポリッシュ液の液滴の広がりを分析することによって前記粘度を推定すること、
    前記少なくとも１本の手指が前記ネイルポリッシュ塗布空間に存在している間、前記爪表面の少なくとも１つの画像の分析に従って、前記ネイルポリッシュ液の塗布のために前記爪表面のコンプライアンスを推定すること、
    のうちの少なくとも１つを特定することを含む、請求項１０に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
13. 前記制御ユニットによって作動されて爪表面を照らす少なくとも１つの光源をさらに備え、前記少なくとも１つの光源が、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザエミッタ装置、および赤外線（ＩＲ）エミッタからなる群の構成要素である、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
14. 前記制御ユニットによって作動されて、ネットワーク接続された少なくとも１つの装置と少なくとも１つのネットワークを介して通信するネットワークインターフェース（１２２）をさらに備え、前記ネットワーク接続された少なくとも１つの装置が、前記ネイルポリッシュ塗布装置を使用する使用者のクライアント端末、およびネットワーク接続されたリモートノードのうちの少なくとも一方である、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。
15. 前記制御ユニットによって作動されて少なくとも１つの使用者との相互作用を可能にするユーザインターフェース（１２０）をさらに備え、前記ユーザインターフェースが、表示ライト、ディスプレイ、サウンドインジケーション、および制御スイッチからなる群の少なくとも１つの構成要素を含む、請求項１に記載のネイルポリッシュ塗布装置。