JP2020502565A - 表面整合パターンのソフトインプリント複製を用いた液晶のパターン化 - Google Patents
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Abstract
Description
本願は、米国出願第14/555,585号(出願日2014年11月27日);米国出願第14/690,401号(出願日2015年4月18日);米国出願第14/212,961号(出願日2014年3月14日);米国出願第14/331,218号(出願日2014年7月14日);および米国出願第15/072,290号(出願日2016年3月16日)の各々の全体を参照により援用する。
1.液晶ポリマー層をパターン化するためのプロセスであって、
液晶ポリマー層の液晶分子が、主に、化学、立体、または他の分子間相互作用を介して、再使用可能整合テンプレートの表面整合パターンに整合されるように、液晶ポリマー層と表面整合パターンを備える再使用可能整合テンプレートとを接触させることと、
液晶ポリマー層を重合化することと、
パターン化された重合化液晶ポリマー層および再使用可能整合テンプレートを分離することと
を含み、再使用可能整合テンプレートは、表面整合パターンを備える光整合層を備える、プロセス。
2.光整合層は、表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、実施例1に記載のプロセス。
3.液晶ポリマー層を重合化することは、液晶ポリマーの液晶を所望の整合に固定することを含む、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
4.液晶ポリマー層と再使用可能整合テンプレートとを接触させることは、液晶ポリマー層を再使用可能整合テンプレートの表面上に堆積させることを含む、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
5.液晶ポリマー層を堆積させることは、液晶ポリマー層をジェット堆積させることを含む、実施例4に記載のプロセス。
6.液晶ポリマー層を堆積させることは、液晶ポリマー層をスピンコーティングすることを含む、実施例4に記載のプロセス。
7.パターン化された重合化液晶ポリマー層および再使用可能整合テンプレートを分離することは、パターン化された重合化液晶ポリマー層を再使用可能整合テンプレートから離層することを含む、実施例4−6のいずれか1項に記載のプロセス。
8.液晶ポリマー層は、パターン化された重合化液晶ポリマー層を再使用可能整合テンプレートから離層することに先立って、基板に固着される、実施例7に記載のプロセス。
9.液晶ポリマー層と再使用可能整合テンプレートとを接触させることは、液晶ポリマー層の表面が再使用可能整合テンプレートの表面に接触するように、液晶ポリマー層および/または再使用可能整合テンプレートを物理的に移動させることを含む、実施例1−3のいずれか1項に記載のプロセス。
10.液晶ポリマー層は、再使用可能整合テンプレートに接触することに先立って、基板の表面上に配置される、実施例9に記載のプロセス。
11.パターン化された重合化液晶ポリマー層および再使用可能整合テンプレートを分離することは、パターン化された重合化液晶ポリマー層および再使用可能整合テンプレートを相互から離れるように物理的に移動させることを含む、実施例9または10のいずれか1項に記載のプロセス。
12.基板は、光学的に透過性である、実施例8、10、または11のいずれか1項に記載のプロセス。
13.再使用可能整合テンプレートはさらに、光整合層にわたって配置される剥離層を備える、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
14.剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、実施例13に記載のプロセス。
15.再使用可能整合テンプレートはさらに、光整合層と剥離層との間に配置される液晶ポリマー層を備える、実施例13または14のいずれか1項に記載のプロセス。
16.光整合層は、フォトレジストを備える、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
17.パターン化された重合化液晶ポリマー層は、整合層を液晶デバイス内に備える、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
18.パターン化された重合化液晶ポリマー層は、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)構造を備える、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
19.PBPE構造は、回折格子を備える、実施例18に記載のプロセス。
20.パターン化された重合化液晶ポリマー層は、波状パターンを備え、波は、約1nm〜約1ミクロン離間される、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
21.パターン化された重合化液晶ポリマー層は、約1nm未満のRMS表面粗度を備える、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
22.パターン化された重合化液晶ポリマー層は、サブマスタ整合テンプレートを備える、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
23.液晶ポリマー層をパターン化するためのプロセスであって、
液晶ポリマー層の液晶分子が、主に、化学、立体、または他の分子間相互作用を介して、再使用可能整合テンプレートの表面整合パターンに整合されるように、液晶ポリマー層を表面整合パターンを備える再使用可能整合テンプレート上に堆積させることと、
液晶ポリマー層を重合化することと、
パターン化された重合化液晶ポリマー層を再使用可能整合テンプレートから離層することと、
を含み、再使用可能整合テンプレートは、表面整合パターンを備える光整合層を備える、プロセス。
24.光整合層は、表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、実施例23に記載のプロセス。
25.再使用可能整合テンプレートはさらに、光整合層にわたって配置される剥離層を備える、実施例23または24のいずれか1項に記載のプロセス。
26.剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、実施例25に記載のプロセス。
27.液晶ポリマー層をパターン化するためのプロセスであって、
液晶ポリマー層を基板の表面上に堆積させることと、
液晶ポリマー層の液晶分子が、主に、化学、立体、または他の分子間相互作用を介して、再使用可能整合テンプレートの表面整合パターンに整合されるように、堆積される液晶ポリマー層と表面整合パターンを備える再使用可能整合テンプレートとを接触させることと、
液晶ポリマー層を重合化することと、
再使用可能整合テンプレートおよびパターン化された重合化液晶ポリマー層を分離することと、
を含み、再使用可能整合テンプレートは、表面整合パターンを備える光整合層を備える、プロセス。
28.光整合層は、表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、実施例27に記載のプロセス。
29.再使用可能整合テンプレートはさらに、光整合層にわたって配置される剥離層を備える、実施例27または28のいずれか1項に記載のプロセス。
30.剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、実施例29に記載のプロセス。
31.液晶ソフトインプリント整合プロセスにおいて使用するための再使用可能整合テンプレートであって、
基板と、
基板を覆う光整合層であって、該光整合層は、表面整合パターンを備える、光整合層と
を備え、光整合層は、表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、再使用可能整合テンプレート。
32.光整合層を覆う剥離層をさらに備える、実施例31に記載の再使用可能整合テンプレート。
33.剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、実施例32に記載のプロセス。
34.光整合層と剥離層との間に配置される液晶ポリマー層をさらに備える、実施例32または33のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
35.表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴を備える、実施例31−34のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
36.表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴の反転を備える、実施例31−34のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
37.PBPE特徴は、回折格子パターンを備える、実施例35または36のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
38.光整合層は、フォトレジストを備える、実施例31−37のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
39.液晶ソフトインプリント整合プロセスにおいて使用するための再使用可能整合テンプレートを加工するためのプロセスであって、
光整合層を基板の表面上に堆積させることと、
光整合層を光パターン化し、所望の表面整合パターンをその中に形成することと、
を含み、光整合層は、表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、プロセス。
40.剥離層を光パターン化された光整合層にわたって堆積させることをさらに含む、実施例39に記載のプロセス。
41.剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、実施例40に記載のプロセス。
42.剥離層を光パターン化された光整合層にわたって堆積させることに先立って、液晶ポリマー層を光パターン化された光整合層上に堆積させることを含む、実施例40または41のいずれか1項に記載のプロセス。
43.表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴を備える、実施例39−42のいずれか1項に記載のプロセス。
44.表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴の反転を備える、実施例39−42のいずれか1項に記載のプロセス。
45.PBPE特徴は、回折格子パターンを備える、実施例43または44のいずれか1項に記載のプロセス。
46.光整合層は、フォトレジストを備える、実施例39−45のいずれか1項に記載のプロセス。
47.該光整合層は、実質的に光学的に透過性または透明である、上記の実施例のいずれかに記載のプロセス。
48.該光整合層は、実質的に光学的に透過性または透明である、上記の実施例のいずれかに記載のプロセスまたは再使用可能整合テンプレート。
49.液晶ポリマー層は、光を該光整合層を通して通過させることによって重合化される、実施例48に記載のプロセスまたは再使用可能整合テンプレート。
Claims (49)
- 液晶ポリマー層をパターン化するためのプロセスであって、
前記液晶ポリマー層の液晶分子が、主に、化学、立体、または他の分子間相互作用を介して、再使用可能整合テンプレートの表面整合パターンに整合されるように、液晶ポリマー層と表面整合パターンを備える再使用可能整合テンプレートとを接触させることと、
前記液晶ポリマー層を重合化することと、
前記パターン化された重合化液晶ポリマー層および前記再使用可能整合テンプレートを分離することと
を含み、
前記再使用可能整合テンプレートは、前記表面整合パターンを備える光整合層を備える、プロセス。 - 前記光整合層は、前記表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、請求項1に記載のプロセス。
- 前記液晶ポリマー層を重合化することは、前記液晶ポリマーの液晶を所望の整合に固定することを含む、請求項1または2に記載のプロセス。
- 前記液晶ポリマー層と前記再使用可能整合テンプレートとを接触させることは、前記液晶ポリマー層を前記再使用可能整合テンプレートの表面上に堆積させることを含む、請求項1−3のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記液晶ポリマー層を堆積させることは、前記液晶ポリマー層をジェット堆積させることを含む、請求項4に記載のプロセス。
- 前記液晶ポリマー層を堆積させることは、前記液晶ポリマー層をスピンコーティングすることを含む、請求項4に記載のプロセス。
- 前記パターン化された重合化液晶ポリマー層および前記再使用可能整合テンプレートを分離することは、前記パターン化された重合化液晶ポリマー層を前記再使用可能整合テンプレートから離層することを含む、請求項4−6のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記液晶ポリマー層は、前記パターン化された重合化液晶ポリマー層を前記再使用可能整合テンプレートから離層することに先立って、基板に固着される、請求項7に記載のプロセス。
- 前記液晶ポリマー層と前記再使用可能整合テンプレートとを接触させることは、前記液晶ポリマー層の表面が前記再使用可能整合テンプレートの表面に接触するように、前記液晶ポリマー層および/または前記再使用可能整合テンプレートを物理的に移動させることを含む、請求項1−3のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記液晶ポリマー層は、前記再使用可能整合テンプレートに接触することに先立って、基板の表面上に配置される、請求項9に記載のプロセス。
- 前記パターン化された重合化液晶ポリマー層および前記再使用可能整合テンプレートを分離することは、前記パターン化された重合化液晶ポリマー層および前記再使用可能整合テンプレートを相互から離れるように物理的に移動させることを含む、請求項9または10に記載のプロセス。
- 前記基板は、光学的に透過性である、請求項8、10、または11のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記再使用可能整合テンプレートはさらに、前記光整合層にわたって配置される、剥離層を備える、請求項1−12のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、請求項13に記載のプロセス。
- 前記再使用可能整合テンプレートはさらに、前記光整合層と前記剥離層との間に配置される液晶ポリマー層を備える、請求項13または14に記載のプロセス。
- 前記光整合層は、フォトレジストを備える、請求項1−15のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記パターン化された重合化液晶ポリマー層は、整合層を液晶デバイス内に備える、請求項1−16のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記パターン化された重合化液晶ポリマー層は、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)構造を備える、請求項1−17のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記PBPE構造は、回折格子を備える、請求項18に記載のプロセス。
- 前記パターン化された重合化液晶ポリマー層は、波状パターンを備え、前記波は、約1nm〜約1ミクロン離間される、請求項1−19のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記パターン化された重合化液晶ポリマー層は、約1nm未満のRMS表面粗度を備える、請求項1−20のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記パターン化された重合化液晶ポリマー層は、サブマスタ整合テンプレートを備える、請求項1−21のいずれか1項に記載のプロセス。
- 液晶ポリマー層をパターン化するためのプロセスであって、
前記液晶ポリマー層の液晶分子が、主に、化学、立体、または他の分子間相互作用を介して、再使用可能整合テンプレートの表面整合パターンに整合されるように、液晶ポリマー層を表面整合パターンを備える再使用可能整合テンプレート上に堆積させることと、
前記液晶ポリマー層を重合化することと、
前記パターン化された重合化液晶ポリマー層を前記再使用可能整合テンプレートから離層することと
を含み、
前記再使用可能整合テンプレートは、前記表面整合パターンを備える光整合層を備える、プロセス。 - 前記光整合層は、前記表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、請求項23に記載のプロセス。
- 前記再使用可能整合テンプレートはさらに、前記光整合層にわたって配置される剥離層を備える、請求項23または24に記載のプロセス。
- 前記剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、請求項25に記載のプロセス。
- 液晶ポリマー層をパターン化するためのプロセスであって、
液晶ポリマー層を基板の表面上に堆積させることと、
前記液晶ポリマー層の液晶分子が、主に、化学、立体、または他の分子間相互作用を介して、再使用可能整合テンプレートの表面整合パターンに整合されるように、前記堆積される液晶ポリマー層と表面整合パターンを備える再使用可能整合テンプレートとを接触させることと、
前記液晶ポリマー層を重合化することと、
前記再使用可能整合テンプレートおよび前記パターン化された重合化液晶ポリマー層を分離することと
を含み、
前記再使用可能整合テンプレートは、前記表面整合パターンを備える光整合層を備える、プロセス。 - 前記光整合層は、前記表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、請求項27に記載のプロセス。
- 前記再使用可能整合テンプレートはさらに、前記光整合層にわたって配置される剥離層を備える、請求項27または28に記載のプロセス。
- 前記剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、請求項29に記載のプロセス。
- 液晶ソフトインプリント整合プロセスにおいて使用するための再使用可能整合テンプレートであって、
基板と、
前記基板を覆う光整合層であって、前記光整合層は、表面整合パターンを備える、光整合層と
を備え、
前記光整合層は、前記表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、再使用可能整合テンプレート。 - 前記光整合層を覆う剥離層をさらに備える、請求項31に記載の再使用可能整合テンプレート。
- 前記剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、請求項32に記載のプロセス。
- 前記光整合層と前記剥離層との間に配置される液晶ポリマー層をさらに備える、請求項32または33に記載の再使用可能整合テンプレート。
- 前記表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴を備える、請求項31−34のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
- 前記表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴の反転を備える、請求項31−34のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
- 前記PBPE特徴は、回折格子パターンを備える、請求項35または36に記載の再使用可能整合テンプレート。
- 前記光整合層は、フォトレジストを備える、請求項31−37のいずれか1項に記載の再使用可能整合テンプレート。
- 液晶ソフトインプリント整合プロセスにおいて使用するための再使用可能整合テンプレートを加工するためのプロセスであって、
光整合層を基板の表面上に堆積させることと、
前記光整合層を光パターン化し、所望の表面整合パターンをその中に形成することと
を含み、
前記光整合層は、前記表面整合パターンに対応する表面レリーフ構造を備えていない、プロセス。 - 剥離層を前記光パターン化された光整合層にわたって堆積させることをさらに含む、請求項39に記載のプロセス。
- 前記剥離層は、フルオロシランまたはジメチルポリシロキサン(PDMS)を備える、請求項40に記載のプロセス。
- 前記剥離層を前記光パターン化された光整合層にわたって堆積させることに先立って、液晶ポリマー層を前記光パターン化された光整合層上に堆積させることをさらに含む、請求項40または41に記載のプロセス。
- 前記表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴を備える、請求項39−42のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記表面整合パターンは、パンチャラトナムベリー位相効果(PBPE)特徴の反転を備える、請求項39−42のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記PBPE特徴は、回折格子パターンを備える、請求項43または44に記載のプロセス。
- 前記光整合層は、フォトレジストを備える、請求項39−45のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記光整合層は、実質的に光学的に透過性または透明である、前記請求項のいずれか1項に記載のプロセス。
- 前記光整合層は、実質的に光学的に透過性または透明である、前記請求項のいずれか1項に記載のプロセスまたは再使用可能整合テンプレート。
- 前記液晶ポリマー層は、光を前記光整合層を通して通過させることによって重合化される、請求項48に記載のプロセスまたは再使用可能整合テンプレート。
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