JP7398470B2 - 光学素子の製造方法 - Google Patents
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本発明者らの検討によれば、コレステリック液晶層中の液晶化合物の配向不良は、光配向膜が有する配向パターンにおいて液晶化合物を配向させる能力(以下、配向性ともいう)が十分でない領域が発生していることが原因であることがわかった。これに対して、光配向膜が有する配向パターンの配向性を高くするために、光配向膜を露光する際の露光量を大きくすることを検討したが、配向性を十分に高くできない場合があった。
[1] 光配向材料を含む光配向膜の表面を干渉露光して、光配向膜に、液晶化合物由来の光学軸の向きを、面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化させる配向パターンを形成する露光工程と、
配向パターンが形成された光配向膜上に、液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、液晶層を形成する液晶層形成工程とを有し、
光配向材料はアゾ化合物を含み、
露光工程は相対湿度50%以下の環境下で行われる光学素子の製造方法。
[2] 液晶層形成工程で形成した液晶層を光配向膜から剥離する剥離工程を有し、
剥離工程の後に再度、液晶層形成工程を実施して液晶層を形成することを繰り返す[1]に記載の光学素子の製造方法。
[3] 露光工程から液晶層形成工程までの間の雰囲気環境の相対湿度を50%以下とする[1]または[2]に記載の光学素子の製造方法。
[4] 剥離工程から液晶層形成工程までの間の雰囲気環境の相対湿度を50%以下とする[1]~[3]のいずれかに記載の光学素子の製造方法。
本発明において、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
まず、本発明の光学素子の製造方法(以下、本発明の製造方法ともいう)によって作製される光学素子について図面を用いて説明する。
図1に示す光学素子10は、支持体12と、光配向膜14と、コレステリック液晶層16とを有する。
コレステリック液晶層16は、コレステリック液晶相を固定してなるものである。本発明において、コレステリック液晶層16は、液晶化合物40に由来の光学軸40Aの向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する(図2参照)。
また、コレステリック液晶層16は、走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)で観察した断面において、コレステリック液晶相に由来する明部および暗部が、主面に対して傾斜している(図3参照)。なお、主面とは、シート状物(フィルム、板状物)の最大面である。
光学素子10において、支持体12は、光配向膜14およびコレステリック液晶層16を支持するものである。
なお、支持体12は、対応する光に対する透過率が50%以上であるのが好ましく、70%以上であるのがより好ましく、85%以上であるのがさらに好ましい。
支持体12の厚さは、1~1000μmが好ましく、3~250μmがより好ましく、5~150μmがさらに好ましい。
単層である場合の支持体12としては、ガラス、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、アクリル、および、ポリオレフィン等からなる支持体12が例示される。多層である場合の支持体12の例としては、前述の単層の支持体のいずれかなどを基板として含み、この基板の表面に他の層を設けたもの等が例示される。
光学素子10において、支持体12の表面には光配向膜14が形成される。
光配向膜14は、コレステリック液晶層16を形成する際に、液晶化合物40を所定の液晶配向パターンに配向するための光配向膜14である。
後述するが、本発明のコレステリック液晶層16は、液晶化合物40に由来する光学軸40A(図2参照)の向きが、面内の一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有する。従って、光配向膜14は、コレステリック液晶層16が、この液晶配向パターンを形成できるように、形成される。
以下の説明では、『光学軸40Aの向きが回転』を単に『光学軸40Aが回転』とも言う。
アゾ化合物とは、アゾ基(-N=N-)を有する化合物である。
アゾ化合物としては、例えば、特開2006-285197号公報、特開2007-76839号公報、特開2007-138138号公報、特開2007-94071号公報、特開2007-121721号公報、特開2007-140465号公報、特開2007-156439号公報、特開2007-133184号公報、特開2009-109831号公報、特許第3883848号公報および特許第4151746号公報に記載のアゾ化合物、が例示される。
アゾ基を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基およびホルマザン基が挙げられる。
これらの基は、さらに置換基で置換されていてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基もしくはその塩、スルホ基またはその塩、ハロゲン化アルキレン基、または、これらを組み合わせた基が挙げられる。
アゾ化合物としては、一般式(I)で表される化合物が好ましい。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
光配向膜14の厚さは、0.005~5μmが好ましく、0.01~2μmがより好ましい。
光学素子10において、光配向膜14の表面には、コレステリック液晶層16が形成される。
コレステリック液晶層16は、コレステリック液晶相を固定してなるものである。すなわち、コレステリック液晶層16は、コレステリック構造を有する液晶化合物40(液晶材料)からなる層である。
螺旋1ピッチとは、言い換えれば、螺旋の巻き数1回分の長さであり、すなわち、コレステリック液晶相を構成する液晶化合物のダイレクター(棒状液晶であれば長軸方向)が360°回転する螺旋軸方向の長さである。
コレステリック液晶相では、明部と暗部の繰り返し2回分が、螺旋1ピッチに相当する。明部と暗部の繰り返し2回分とは、暗部(明部)3つ、および、明部(暗部)2つ分である(図3参照)。このことから、コレステリック液晶層すなわち反射層の螺旋1ピッチ(ピッチP)は、SEM断面図から測定することができる。
コレステリック液晶相は、特定の波長において選択反射性を示すことが知られている。
一般的なコレステリック液晶相において、選択反射の中心波長(選択反射中心波長)λは、コレステリック液晶相における螺旋1ピッチの長さ(ピッチP、図1および図3参照)に依存し、コレステリック液晶相の平均屈折率nとλ=n×Pの関係に従う。そのため、螺旋ピッチを調節することによって、選択反射中心波長を調節することができる。
コレステリック液晶相の選択反射中心波長は、ピッチPが長いほど、長波長になる。
なお、ピッチの調節については富士フイルム研究報告No.50(2005年)p.60-63に詳細な記載がある。螺旋のセンスおよびピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版2007年出版、46頁、および、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 196頁に記載される方法を用いることができる。
図1に示すコレステリック液晶層16は、螺旋の捩れ方向が右であるので、選択的な波長帯域において、右円偏光を反射する。
なお、コレステリック液晶相の旋回の方向は、コレステリック液晶層を形成する液晶化合物の種類および/または添加されるキラル剤の種類によって調節できる。
反射波長域の半値幅は、光学積層体の用途に応じて調節され、例えば10~500nmであればよく、好ましくは20~300nmであり、より好ましくは30~100nmである。
コレステリック液晶層16は、コレステリック液晶相を形成する液晶化合物40に由来する光学軸40Aの向きが、コレステリック液晶層の面内において、一方向に連続的に回転しながら変化する液晶配向パターンを有する。
なお、液晶化合物40に由来する光学軸40Aとは、液晶化合物40において屈折率が最も高くなる軸、いわゆる遅相軸である。例えば、液晶化合物40が棒状液晶化合物である場合には、光学軸40Aは、棒形状の長軸方向に沿っている。以下の説明では、液晶化合物40に由来する光学軸40Aを、『液晶化合物40の光学軸40A』または『光学軸40A』ともいう。
なお、平面図とは、図1において、コレステリック液晶層16(光学素子10)を上方から見た図であり、すなわち、光学素子10を厚さ方向(=各層(膜)の積層方向)から見た図である。
また、図2では、本発明のコレステリック液晶層16の構成を明確に示すために、液晶化合物40は光配向膜14の表面の液晶化合物40のみを示している。
以下の説明では、矢印X方向と直交する方向を、便宜的にY方向とする。すなわち、図1、図2および後述する図4では、Y方向は、紙面に直交する方向となる。
また、コレステリック液晶層16を形成する液晶化合物40は、コレステリック液晶層16の面内において、矢印X方向に沿って、光学軸40Aの向きが、連続的に回転しながら変化する、液晶配向パターンを有する。図示例においては、液晶化合物40の光学軸40Aが、矢印X方向に沿って、反時計回りで連続的に回転しながら変化する、液晶配向パターンを有する。
なお、矢印X方向に互いに隣接する液晶化合物40の光学軸40Aの角度の差は、45°以下であるのが好ましく、15°以下であるのがより好ましく、より小さい角度であるのがさらに好ましい。
言い換えれば、コレステリック液晶層16を形成する液晶化合物40は、Y方向では、液晶化合物40の光学軸40Aと矢印X方向とが成す角度が等しい。
具体的には、図1および図2に示すように、矢印X方向と光学軸40Aの方向とが一致する2つの液晶化合物40の、矢印X方向の中心間の距離を、1周期の長さΛとする。以下の説明では、この1周期の長さΛを『1周期Λ』とも言う。
光学素子10において、コレステリック液晶層の液晶配向パターンは、この1周期Λを、矢印X方向すなわち光学軸40Aの向きが連続的に回転して変化する一方向に繰り返す。
これに対して、コレステリック液晶層16は、入射した光を、入射光に対して矢印X方向に角度を有した方向に反射する。コレステリック液晶層16は、面内において、矢印X方向(所定の一方向)に沿って光学軸40Aが連続的に回転しながら変化する、液晶配向パターンを有するものである。
従って、コレステリック液晶層16に光が入射すると、コレステリック液晶層16は、選択的な波長帯域における右円偏光Rのみを反射し、それ以外の光を透過する。
これに対して、面内において、矢印X方向に沿って光学軸40Aが連続的に回転する液晶配向パターンを有するコレステリック液晶層16は、鏡面反射に対して、矢印X方向に傾いた方向に入射した円偏光を反射する。
以下、この点について説明する。
ここで、コレステリック液晶層16では、液晶化合物40の光学軸40Aが矢印X方向(一方向)に沿って回転しながら変化している。そのため、光学軸40Aの向きによって、入射した右円偏光Rの絶対位相の変化量が異なる。
さらに、コレステリック液晶層16に形成された液晶配向パターンは、矢印X方向に周期的なパターンである。そのため、コレステリック液晶層16に入射した右円偏光Rには、それぞれの光学軸40Aの向きに対応して、矢印X方向に周期的な絶対位相が与えられる。
また、液晶化合物40の光学軸40Aの矢印X方向に対する向きは、矢印X方向と直交するY方向の液晶化合物40の配列では、均一である。
これによりコレステリック液晶層16では、右円偏光Rに対して、XY面に対して矢印X方向に降下するように傾いた等位相面が形成される。等位相面は、螺旋状に旋回する液晶化合物40における光学軸40Aの向きが旋回方向で一致している液晶化合物40を接続するように形成される。
コレステリック液晶層16では、この等位相面が反射面のように作用する。
周知のように、コレステリック液晶相の明部および暗部は、螺旋状に旋回する液晶化合物40における、光学軸40Aの向きが旋回方向で一致している液晶化合物40を接続するように形成される。すなわち、明部および暗部は、上述した等位相面と一致する。
ここで、通常のコレステリック液晶層の明部および暗部は、主面すなわち形成面である配向面と平行になる。
これに対して、コレステリック液晶層16は、面内において、矢印X方向に沿って光学軸40Aが連続的に回転する液晶配向パターンを有する。従って、コレステリック液晶層16の明部Bおよび暗部Dは、図3に概念的に示すように、螺旋状の旋回における光学軸40Aの向きが一致する液晶化合物40の配列に応じて、主面すなわち光配向膜14に対して矢印X方向に向かって降下するように傾斜する。
そのため、入射した右円偏光Rは、明部Bおよび暗部Dすなわち等位相面の法線方向に反射され、XY面(コレステリック液晶層の主面)に対して矢印X方向に傾いた方向に反射される。
さらに、上述したように、右円偏光を反射するコレステリック液晶層16と左円偏光を反射するコレステリック液晶層とでは、液晶化合物40の螺旋状の旋回方向が逆になる。従って、図示例のように、矢印X方向に向かって光学軸40Aが反時計回りに回転する液晶配向パターンを有する左円偏光を反射するコレステリック液晶層では、明部Bおよび暗部Dの傾斜方向が逆になるので、左円偏光は矢印X方向と逆方向に傾けて反射される。
従って、コレステリック液晶層16では、1周期Λを調節することで、入射した光の反射光の反射角度を調節できる。
なお、液晶配向パターンの1周期Λには、制限はないが、反射光を、入射方向に対して大きく傾けて反射できる点で、液晶配向パターンの1周期Λは、1.6μm以下が好ましく、1.0μm以下がより好ましく、0.6μm以下がさらに好ましい。
しかしながら、本発明は、これに制限はされず、液晶層において、液晶化合物40の光学軸40Aが一方向に沿って連続して回転するものであれば、各種の構成が利用可能である。
このような、同心円状の液晶配向パターンを有する液晶層は、液晶化合物の光学軸の回転方向および入射する円偏光の方向に応じて、入射光を、発散光または集束光として透過または反射できる。
すなわち、液晶層の液晶配向パターンを同心円状とすることにより、光学素子は、例えば、凸レンズまたは凹レンズとして機能を発現する。
この場合に、それぞれの領域Rにおける面内レターデーション(Re)の値は、半波長すなわちλ/2であるのが好ましい。これらの面内レターデーションは、領域Rの屈折率異方性に伴う屈折率差Δnと光学異方性層18の厚さとの積により算出される。ここで、光学異方性層18における領域Rの屈折率異方性に伴う屈折率差とは、領域Rの面内における遅相軸の方向の屈折率と、遅相軸の方向に直交する方向の屈折率との差により定義される屈折率差である。すなわち、領域Rの屈折率異方性に伴う屈折率差Δnは、光学軸40Aの方向の液晶化合物40の屈折率と、領域Rの面内において光学軸40Aに垂直な方向の液晶化合物40の屈折率との差に等しい。つまり、上記屈折率差Δnは、液晶化合物の屈折率差に等しい。
この作用を、図9に光学異方性層18を例示して概念的に示す。なお、光学異方性層18は、液晶化合物40の屈折率差と光学異方性層18の厚さとの積の値がλ/2であるとする。
図9に示すように、光学異方性層18の液晶化合物40の屈折率差と光学異方性層18の厚さとの積の値がλ/2の場合に、光学異方性層18に左円偏光である入射光L1が入射すると、入射光L1は、光学異方性層18を通過することにより180°の位相差が与えられて、透過光L2は、右円偏光に変換される。
また、入射光L1は、光学異方性層18を通過する際に、それぞれの液晶化合物40の光学軸40Aの向きに応じて絶対位相が変化する。このとき、光学軸40Aの向きは、矢印X方向に沿って回転しながら変化しているため、光学軸40Aの向きに応じて、入射光L1の絶対位相の変化量が異なる。さらに、光学異方性層18に形成された液晶配向パターンは、矢印X方向に周期的なパターンであるため、光学異方性層18を通過した入射光L1には、図9に示すように、それぞれの光学軸40Aの向きに対応した矢印X方向に周期的な絶対位相Q1が与えられる。これにより、矢印X方向に対して逆の方向に傾いた等位相面E1が形成される。
そのため、透過光L2は、等位相面E1に対して垂直な方向に向かって傾くように屈折され、入射光L1の進行方向とは異なる方向に進行する。このように、左円偏光の入射光L1は、入射方向に対して矢印X方向に一定の角度だけ傾いた、右円偏光の透過光L2に変換される。
また、入射光L4は、光学異方性層18を通過する際に、それぞれの液晶化合物40の光学軸40Aの向きに応じて絶対位相が変化する。このとき、光学軸40Aの向きは、矢印X方向に沿って回転しながら変化しているため、光学軸40Aの向きに応じて、入射光L4の絶対位相の変化量が異なる。さらに、光学異方性層18に形成された液晶配向パターンは、矢印X方向に周期的なパターンであるため、光学異方性層18を通過した入射光L4は、図10に示すように、それぞれの光学軸40Aの向きに対応した矢印X方向に周期的な絶対位相Q2が与えられる。
ここで、入射光L4は、右円偏光であるので、光学軸40Aの向きに対応した矢印X方向に周期的な絶対位相Q2は、左円偏光である入射光L1とは逆になる。その結果、入射光L4では、入射光L1とは逆に矢印X方向に傾斜した等位相面E2が形成される。
そのため、入射光L4は、等位相面E2に対して垂直な方向に向かって傾くように屈折され、入射光L4の進行方向とは異なる方向に進行する。このように、入射光L4は、入射方向に対して矢印X方向とは逆の方向に一定の角度だけ傾いた左円偏光の透過光L5に変換される。
また、入射光L1およびL4に対する透過光L2およびL5の屈折の角度は、入射光L1およびL4(透過光L2およびL5)の波長によって異なる。具体的には、入射光の波長が長いほど、透過光は大きく屈折する。すなわち、入射光が赤色光、緑色光および青色光である場合には、赤色光が最も大きく屈折し、青色光の屈折が最も小さい。
さらに、矢印X方向に沿って回転する、液晶化合物40の光学軸40Aの回転方向を逆方向にすることにより、透過光の屈折の方向を、逆方向にできる。
支持体12上に光配向膜14を形成し、光配向膜14上に液晶組成物を塗布、硬化することにより、液晶組成物の硬化層からなる光学異方性層18を得ることができる。液晶組成物の塗布方法および硬化方法は前述のとおりである。
なお、いわゆるλ/2板として機能するのは光学異方性層18であるが、本発明は、支持体12および光配向膜14を一体的に備えた積層体がλ/2板として機能する態様を含む。
光学異方性層18を形成するための液晶組成物が含有する、棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物等は、前述のコレステリック液晶層16を形成するための液晶組成物が含有する棒状液晶化合物、円盤状液晶化合物等と同様のものを用いることができる。
すなわち、光学異方性層18を形成するための液晶組成物は、キラル剤を含有しない以外は、前述のコレステリック液晶層16を形成するための液晶組成物と同様である。
本発明の光学素子の製造方法は、
光配向材料を含む光配向膜の表面を干渉露光して、光配向膜に、液晶化合物由来の光学軸の向きを、面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化させる配向パターンを形成する露光工程と、
配向パターンが形成された光配向膜上に、液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、液晶層を形成する液晶層形成工程とを有し、
光配向材料はアゾ化合物を含み、
露光工程は相対湿度50%以下の環境下で行われる光学素子の製造方法である。
光配向膜14の形成方法は、例えば、光配向膜を形成するための光配向膜形成用塗布液(以下、塗布液ともいう)を支持体12の表面に塗布する塗布工程、塗布した塗膜を乾燥させる乾燥工程、および、乾燥させた塗膜をレーザー光によって露光して、配向パターンを形成する露光工程を有する。
ここで、前述のとおり、本発明において、光配向膜はアゾ化合物を含む光配向材料を含んでいる。
光配向膜となる塗布液を塗布する方法としては限定はなく、バーコート、グラビアコート、および、スプレー塗布等の液体の塗布に用いられている公知の各種の方法が利用可能である。また、塗布液の塗布厚(塗膜厚)は、塗布液の組成等に応じて、目的とする厚さの光配向膜が得られる塗布厚を、適宜、設定すればよい。
塗膜を乾燥する方法としては限定はなく、ヒータによる加熱乾燥、温風による加熱乾燥等の公知の乾燥方法が全て利用可能である。
露光工程は、光配向材料を含む光配向膜の表面を干渉露光して、光配向膜に、液晶化合物由来の光学軸の向きを、面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化させる配向パターンを形成する工程である。
ここで、本発明においては、露光工程は相対湿度50%以下の環境下で行われる。
図4に示す露光装置60は、レーザー62を備えた光源64と、レーザー62が出射したレーザー光Mの偏光方向を変えるλ/2板65と、レーザー62が出射したレーザー光Mを光線MAおよびMBの2つに分離する偏光ビームスプリッター68と、分離された2つの光線MAおよびMBの光路上にそれぞれ配置されたミラー70Aおよび70Bと、λ/4板72Aおよび72Bと、を備える。
なお、光源64は直線偏光P0を出射する。λ/4板72Aは、直線偏光P0(光線MA)を右円偏光PRに、λ/4板72Bは直線偏光P0(光線MB)を左円偏光PLに、それぞれ変換する。
この際の干渉により、光配向膜14に照射される光の偏光状態が干渉縞状に周期的に変化するものとなる。これにより、光配向膜14において、配向状態が周期的に変化する配向パターンが得られる。以下、配向パターンを有する光配向膜をパターン光配向膜ともいう。
本発明者らの検討によれば、コレステリック液晶層中の液晶化合物の配向不良は、光配向膜が有する配向パターンにおいて液晶化合物を配向させる能力(以下、配向性ともいう)が十分でない領域が発生していることが原因であるがわかった。これに対して、光配向膜が有する配向パターンの配向性を高くするために、光配向膜を露光する際の露光量を大きくすることが考えられるが、配向性を十分に高くできない場合があった。
光配向膜の上に液晶層を形成して、液晶化合物由来の光学軸の向きが面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化している液晶配向パターンを有するコレステリック液晶層を形成する場合、非常に小さいピッチの配向させる配向能の点と、繰り返し光配向膜として液晶の配向をさせる場合、配向させる能力が高いまま維持できる耐久性の点で、アゾ化合物を用いることが好ましい。
また、全ての工程が相対湿度50%以下の環境で実施されるのが最も好ましい。
液晶層形成工程は、配向パターンを有する光配向膜の上に液晶層を形成する工程である。
以下の説明は、コレステリック液晶層を例にして行う。なお、図8に示すような光学異方性層の場合には、液晶組成物がキラル剤を含有しない以外は基本的に同様の方法で光学異方性層を形成することができる。
コレステリック液晶層16は、コレステリック液晶相を層状に固定して形成できる。
コレステリック液晶相を固定した構造は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている構造であればよく、典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、外場または外力によって配向形態に変化を生じさせることない状態に変化した構造が好ましい。
なお、コレステリック液晶相を固定した構造においては、コレステリック液晶相の光学的性質が保持されていれば十分であり、コレステリック液晶層において、液晶化合物40は液晶性を示さなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、液晶性を失っていてもよい。
特に、以下に示す本発明のコレステリック液晶層の形成方法は、本発明のコレステリック液晶層16を、安定して、好適に形成できるため、好ましく例示される。
コレステリック液晶相を固定してなるコレステリック液晶層16の形成に用いる材料は、一例として、液晶化合物およびキラル剤を含む液晶組成物が挙げられる。液晶化合物は重合性液晶化合物であるのが好ましい。
重合性液晶化合物は、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよい。
重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類、および、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類等が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
キラル剤(カイラル剤)はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル剤は、化合物によって誘起する螺旋の捩れ方向または螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物(例えば、液晶デバイスハンドブック、第3章4-3項、TN(twisted nematic)、STN(Super Twisted Nematic)用キラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989に記載)、イソソルビド(イソソルビド構造を有するキラル剤)、および、イソマンニド誘導体等を用いることができる。
また、キラル剤は、光の照射によって、戻り異性化、二量化、ならびに、異性化および二量化等を生じて、螺旋誘起力(HTP:Helical Twisting Power)が低下するキラル剤も、好適に利用可能である。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
液晶組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤は、安定的にまたは迅速にプレーナー配向のコレステリック液晶相とするために寄与する配向制御剤として機能できる化合物が好ましい。界面活性剤としては、例えば、シリコ-ン系界面活性剤およびフッ素系界面活性剤が挙げられ、フッ素系界面活性剤が好ましく例示される。
液晶組成物は、光配向膜上に塗布した際に、光配向膜側および空気界面側の少なくとも一方の界面にプレチルト角を有する領域を発現させるための添加剤(配向制御剤)を少なくとも一種含有させることが好ましい。前述の添加剤を組成物に含有させることで、光学素子にプレチルト角を有する領域を設けることができる。
液晶組成物には、上述した成分以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、液晶組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、0.01~20質量%であることが好ましく、0.5~5質量%であることが更に好ましい。
重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物100質量部に対して、1~50質量部であることが好ましく、5~30質量部であることがより好ましい。
有機溶媒としては、アミド、スルホキシド、ヘテロ環化合物、炭化水素、アルキルハライド、エステル、ケトン、および、エーテルが挙げられる。
コレステリック液晶層を形成する際には、コレステリック液晶層の形成面に液晶組成物を塗布して、液晶化合物をコレステリック液晶相の状態に配向した後、液晶化合物を硬化して、コレステリック液晶層とするのが好ましい。
すなわち、上述した液晶配向パターンに応じた、光学軸40Aの向きを、面内の少なくとも一方向に沿って回転させる配向パターンを有する光配向膜14に、上述した液所化合物およびキラル剤を含む液晶組成物を塗布する。
液晶組成物の塗布は、インクジェットおよびスクロール印刷等の印刷法、ならびに、スピンコート、バーコートおよびスプレー塗布等のシート状物に液体を一様に塗布できる公知の方法が全て利用可能である。
ここで、以下に示す方法では、1回の塗布によって、膜厚の厚いコレステリック液晶層を形成できる。この点を考慮すると、液晶組成物の塗膜厚dcは、液晶配向パターンにおける1周期Λの半分を超える厚さであるのが好ましい。すなわち、液晶組成物の塗膜厚dcは『dc>Λ/2』を満たすのが好ましい。
加熱処理は、液晶化合物40の、結晶相-ネマチック相転移温度(Cr-Ne相転移温度)~ネマチック相-等方相転移温度(Ne-Iso相転移温度)の温度範囲内の温度T1で行うのが好ましい。
加熱処理温度がCr-Ne相転移温度未満では、液晶化合物40を適正に配向できない等の不都合を生じるおそれがある。
加熱処理温度がNe-Iso相転移温度を超えると、配向欠陥の増加、回折効率の低下等の不都合を生じるおそれがある。
具体的には、液晶配向パターンの1周期Λに対して、ピッチPは『P/Λ≦1.5』を満たすのが好ましく、『P/Λ≦1.2』を満たすのがより好ましい。
硬化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。円盤状液晶化合物が重合性基を有する場合には、硬化処理は、光照射(特に紫外線照射)による重合反応であるのが好ましく、光照射(特に紫外線照射)によるラジカル重合反応であるのがより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプ等の光源が利用される。
紫外線の照射エネルギー量は特に制限されないが、一般的には、100~800mJ/cm2程度が好ましい。なお、紫外線を照射する時間は特に制限されないが、得られる層の充分な強度および生産性の双方の観点から適宜決定すればよい。
光の照射によってHTPが低下するキラル剤を用い、このような2段階の露光を行うことで、第1露光工程において螺旋1ピッチ(ピッチP)を伸長して、第2露光工程で液晶組成物を硬化することで、上述した『P/Λ≦1.5』を超える螺旋1ピッチを有するコレステリック液晶層16を形成でき、かつ、『P/Λ≦1.5』を超える螺旋1ピッチを有するコレステリック液晶層16でも、上部すなわち光配向膜14と離れた領域において、安定して液晶化合物40を主面に対して傾斜させることが可能である。
また、このような2回の露光工程を行うことにより、コレステリック液晶層16は、傾斜角θ1が、厚さ方向の位置によって異なる領域を有する構成となるように制御することが可能である。なお、傾斜角θ1とは、図3に示すように、明部および暗部がコレステリック液晶層16の主面に対して成す角度である。
好ましくは、コレステリック液晶層16は、厚さ方向の一方向に向かって、傾斜角θ1が連続的に増大する領域を有する。図示例においては、コレステリック液晶層16は、光配向膜14側から、光配向膜14と離間する側(空気側界面A)に向かって、傾斜角θ1が連続的に増大する領域を有するのが好ましい。
より好ましくは、コレステリック液晶層16は、厚さ方向の一方向に向かって傾斜角θ1が連続的に増大する領域と、同方向に向かって傾斜角が連続的に減少する領域とを有する。図示例においては、コレステリック液晶層16は、光配向膜14側から、光配向膜14と離間する側に向かって、傾斜角θ1が連続的に増大する領域と、同方向に向かって、傾斜角θ1が連続的に減少する領域とを有するのがより好ましい。特に、コレステリック液晶層16は、厚さ方向において、最も光配向膜14側の、傾斜角θ1の増大が少ない領域と、中間の傾斜角θ1の増大が大きい中間領域と、最も光配向膜14と離間する、中間領域に対して傾斜角θ1が連続的に減少する領域と、を有するのが好ましい。
このような膜厚方向に連続的にピッチPおよび/または傾斜角θが変化する構造を有するコレステリック液晶層16は、透過率の入射角依存性の広い性能を得ることができる。透過率が低下する角度範囲は、入射光が回折する角度範囲に相当する。従って、透過率の入射角依存性が広い回折素子を、例えばARグラスの導光板の入射、および/または、出射用の素子として使用することで、視野角の広いARグラスを得ることができる。
照射エネルギーは、合計で2mJ/cm2~50J/cm2が好ましく、5~1500mJ/cm2がより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で露光を実施してもよい。
本発明の形成方法によって形成されるコレステリック液晶層16の膜厚は、1.0μm以上が好ましく、2.0μm以上がより好ましい。本発明の形成方法によって形成するコレステリック液晶層16の膜厚の上限は、6μm程度である。
また、全ての工程が相対湿度50%以下の環境で実施されるのが最も好ましい。
例えば、本発明の製造方法で作製される光学素子は、赤色光を選択的に反射するコレステリック液晶層および緑色光を選択的に反射するコレステリック液晶層を有する、2層のコレステリック液晶層を有するものでもよく、赤色光を選択的に反射するコレステリック液晶層、緑色光を選択的に反射するコレステリック液晶層、および、青色光を選択的に反射するコレステリック液晶層を有する、3層のコレステリック液晶層を有するものでもよい。
光学素子が、複数層のコレステリック液晶層を有する場合には、全てのコレステリック液晶層が本発明の製造方法で作製されたコレステリック液晶層16であるのが好ましいが、従来の方法で作製されたコレステリック液晶層を含むものでもよい。
(光配向膜の形成)
支持体としてガラス基材を用意した。
支持体上に、下記の光配向膜形成用塗布液を、スピンコータを用いて、2500rpmにて30秒間塗布した(塗布工程)。この光配向膜形成用塗布液の塗膜が形成された支持体を60℃のホットプレート上で60秒間乾燥し(乾燥工程)、光配向膜を形成した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記光配向用素材 1.00質量部
水 16.00質量部
ブトキシエタノール 42.00質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル 42.00質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
温度25℃、相対湿度10%の環境下で、図4に示す露光装置を用いて光配向膜を露光して、配向パターンを有する光配向膜P-1を形成した。
露光装置において、レーザーとして波長(325nm)のレーザー光を出射するものを用いた。干渉光による露光量を3000mJ/cm2とした。2つのレーザー光の交差角(交差角α)は61.0°とした。
コレステリック液晶層を形成する液晶組成物として、下記の液晶組成物LC-1を調製した。この液晶組成物LC-1の固形分濃度は35wt%である。
液晶組成物LC-1
――――――――――――――――――――――――――――――――――
液晶化合物L-1 100.00質量部
重合開始剤I-1 3.00質量部
キラル剤Ch-1 6.20質量部
メチルエチルケトン 202.99質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
光配向膜P-1上に、上記の液晶組成物LC-1を、スピンコータを用いて、1000rpmで10秒間塗布した(塗布工程)。
液晶組成物LC-1の塗膜をホットプレート上で80℃にて3分間(180sec)加熱した(加熱工程)。
その後、80℃にて、窒素雰囲気下で高圧水銀灯を用いて波長365nmの紫外線を500mJ/cm2の照射量で塗膜に照射することにより(第2露光工程)、液晶組成物LC-1を硬化して液晶化合物の配向を固定化し、コレステリック液晶層を形成した。
これにより、支持体、光配向膜およびコレステリック液晶層を有する光学素子を作製した。
光学素子を光学軸の回転方向に沿う方向切削し、断面をSEMで観察した。SEM画像を解析することで、液晶配向パターンにおける1周期Λを測定した。1周期Λは0.32μmであった。
露光工程後、温度25℃、相対湿度60%の環境下に24時間放置した後、液晶層形成工程を実施した以外は、実施例1と同様に光学素子を作製した。
露光工程、および、露光工程後から液晶層形成工程までの間の環境の温度を25℃、相対湿度を30%とした以外は、実施例1と同様にして光学素子を作製した。
[実施例4]
露光工程、および、露光工程後から液晶層形成工程までの間の環境の温度を25℃、相対湿度を50%とした以外は、実施例1と同様にして光学素子を作製した。
露光工程、および、露光工程後から液晶層形成工程までの間の環境の温度を25℃、相対湿度を65%とした以外は、実施例1と同様にして光学素子を作製した。
実施例1で作製した光学素子のコレステリック液晶層を光配向膜との界面で剥離した(剥離工程)。コレステリック液晶層の剥離は、テープをコレステリック液晶層に接着して表面に垂直な方向に引っ張ることで行った。
コレステリック液晶層を剥離した光配向膜に、再び液晶組成物LC-1を塗布し、加熱、露光を行って(液晶層形成工程を行って)、コレステリック液晶層を作製した。液晶層形成工程は実施例1と同様とした。
剥離工程から液晶層形成工程までの間の環境の温度は25℃、相対湿度を10%とした。
実施例3で作製した光学素子のコレステリック液晶層を光配向膜との界面で剥離した(剥離工程)。コレステリック液晶層の剥離は、テープをコレステリック液晶層に接着して表面に垂直な方向に引っ張ることで行った。
コレステリック液晶層を剥離した光配向膜に、再び液晶組成物LC-1を塗布し、加熱、露光を行って(液晶層形成工程を行って)、コレステリック液晶層を作製した。液晶層形成工程は実施例1と同様とした。
剥離工程から液晶層形成工程までの間の環境の温度は25℃、相対湿度を50%とした。
実施例1で作製した光学素子のコレステリック液晶層を光配向膜との界面で剥離した(剥離工程)。コレステリック液晶層の剥離は、テープをコレステリック液晶層に接着して表面に垂直な方向に引っ張ることで行った。
コレステリック液晶層を剥離した光配向膜に、再び液晶組成物LC-1を塗布し、加熱、露光を行って(液晶層形成工程を行って)、コレステリック液晶層を作製した。液晶層形成工程は実施例1と同様とした。
剥離工程から液晶層形成工程までの間の環境の温度は25℃、相対湿度を65%とした。
作製した光学素子が有するコレステリック液晶層の、配向膜露光を実施した領域の中央部、および外周部について、それぞれ断面SEM観察を行い、配向欠陥の有無を以下の基準で評価した。
・A:配向欠陥がなかった。
・B:外周部にわずかに配向欠陥が見られた。
・C:全面に配向欠陥が多数見られた。
結果を表1および表2に示す。
また、実施例1と実施例2との対比から、露光工程から液晶層形成工程までの間の実施環境の相対湿度を50%以下とすることが好ましいことがわかる。
また、実施例3と実施例4との対比から、露光工程の際の相対湿度は30%以下であるのが好ましいことがわかる。
また、実施例5と実施例7との対比から、光配向膜を再利用する際に、液晶層の剥離工程から液晶層の形成工程までの間の実施環境の相対湿度を50%以下とすることが好ましいことがわかる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
12 支持体
14 光配向膜
16、16b コレステリック液晶層
40 液晶化合物
40A 光学軸
60 露光装置
62 レーザー
64 光源
65 λ/2板
68 偏光ビームスプリッター
70A,70B ミラー
72A,72B λ/4板
R 右円偏光
M レーザー光
MA,MB 光線
PO 直線偏光
PR 右円偏光
PL 左円偏光
P 螺旋ピッチ
Λ 液晶配向パターンの1周期
Claims (1)
- 光配向材料を含む光配向膜の表面を干渉露光して、光配向膜に、液晶化合物由来の光学軸の向きを、面内の少なくとも一方向に沿って連続的に回転しながら変化させる配向パターンを形成する露光工程と、
前記配向パターンが形成された光配向膜上に、液晶化合物を含む液晶組成物を塗布し、液晶層を形成する液晶層形成工程とを有し、
前記光配向材料はアゾ化合物を含み、
前記露光工程は相対湿度50%以下の環境下で行われ、
前記液晶層形成工程で形成した前記液晶層を前記光配向膜から剥離する剥離工程を有し、
前記剥離工程の後に再度、前記液晶層形成工程を実施して液晶層を形成することを繰り返し、
前記露光工程から前記液晶層形成工程までの間の雰囲気環境の相対湿度を50%以下とし、
前記剥離工程から前記液晶層形成工程までの間の雰囲気環境の相対湿度を10%以下とする光学素子の製造方法。
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