JP2020084320A - 成膜治具及び成膜方法 - Google Patents
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- 230000008021 deposition Effects 0.000 title abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 138
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 4
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 claims description 4
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 16
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 7
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000011946 reduction process Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
図1(a)は、本発明の一実施形態に係る成膜治具を示す模式的斜視図である。図1(b)は、図1(a)のA−A線に沿う部分の模式的断面図である。また、図1(c)は、図1(a)のB−B線に沿う部分の模式的断面図である。
まず、治具本体2及び蓋部3を用意する。次に、用意した治具本体2における複数の凹部2cの底部2d上に、複数枚のガラス板4をそれぞれ個別に載置する。載置後、治具本体2の第1の主面2a上に、蓋部3を載置する。この際、治具本体2の位置決めピン6a,6bに、蓋部3の位置決め穴8a,8bを嵌合させるように、蓋部3を載置する。次に、蓋部3のネジ穴7a,7b及び治具本体2のネジ穴5a,5bを、図1(a)に示すネジ10a,10bで締めることにより、蓋部3を治具本体2の第1の主面2a上に固定する。それによって、成膜治具1に、複数枚のガラス板4を固定することができる。
図8(a)は、本発明の一実施形態に係る成膜治具の蓋部における第1の変形例を示す模式的平面図である。また、図8(b)は、図8(a)のF−F線に沿う部分の模式的断面図である。
1a…収容部
2,12…治具本体
2a,3a,13a…第1の主面
2b,3b,13b…第2の主面
2c…凹部
2d…底部
2e,3c,13c…開口部
3,13…蓋部
4…ガラス板
5a,5b,7a,7b,17a,17b,27a,27b…ネジ穴
6a,6b…位置決めピン
8a,8b,28a,28b…位置決め穴
9,19…抑え部(抑え手段)
10a,10b…ネジ
20…固定部材
Claims (12)
- 長辺及び短辺を有する略矩形板状のガラス板を複数枚同時に成膜するための成膜治具であって、
前記複数枚のガラス板をそれぞれ個別に載置するための治具本体と、
前記治具本体に載置された前記複数枚のガラス板をそれぞれ個別に抑えるための抑え手段と、
を備える、成膜治具。 - 蓋部をさらに備え、
前記抑え手段が、前記蓋部の主面から突出するように設けられている抑え部である、請求項1に記載の成膜治具。 - 複数の前記蓋部を備え、
前記蓋部が、1枚の前記ガラス板ごとに個別に設けられている、請求項2に記載の成膜治具。 - 複数の前記蓋部を同時に固定するための枠状の固定部材をさらに備える、請求項3に記載の成膜治具。
- 前記抑え部が、前記ガラス板における両側の短辺側部分に当接されるように設けられている、請求項2〜4のいずれか1項に記載の成膜治具。
- 前記抑え部が、弾性部材により構成されている、請求項2〜5のいずれか1項に記載の成膜治具。
- 前記弾性部材が、バネである、請求項6に記載の成膜治具。
- 前記治具本体が、前記複数枚のガラス板をそれぞれ個別に載置するための複数の凹部を有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の成膜治具。
- 前記治具本体の前記凹部における底部の一部が開口することにより、前記ガラス板の成膜領域が構成されている、請求項8に記載の成膜治具。
- 前記治具本体の前記凹部における底部が、枠状の形状を有する、請求項8又は9に記載の成膜治具。
- 前記ガラス板が、ガラスマトリクス中に金属粒子が配向して分散されてなる偏光ガラス板である、請求項1〜10のいずれか1項に記載の成膜治具。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の成膜治具を用いた成膜方法であって、
前記成膜治具に、前記複数枚のガラス板を固定する工程と、
前記複数枚のガラス板の主面上に、膜を成膜する工程と、
を備える、成膜方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018214788 | 2018-11-15 | ||
JP2018214788 | 2018-11-15 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020084320A true JP2020084320A (ja) | 2020-06-04 |
JP7363373B2 JP7363373B2 (ja) | 2023-10-18 |
Family
ID=70906690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019197095A Active JP7363373B2 (ja) | 2018-11-15 | 2019-10-30 | 成膜治具及び成膜方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7363373B2 (ja) |
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2019
- 2019-10-30 JP JP2019197095A patent/JP7363373B2/ja active Active
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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