JP5545958B2 - 蒸着用マスク - Google Patents

Description

本発明は蒸着用マスクに関し、マスクフレームとマスクシートとの間に異物が入ることを防止することで、マスクと蒸着基材との間に隙間が生じることを防ぎ、マスクと蒸着基材との密着性を向上させることができ、精密なパターンの蒸着が可能な蒸着用マスク（Ｍａｓｋ ｆｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）に関する。

表示装置の薄膜を形成する多様な方法の１つとして、マスクを用いて蒸着物を所望のパターンに蒸着させることで薄膜を形成する方法が適用されている。

このような通常のマスクを用いた蒸着においては、蒸着基材、例えば、表示装置の基板にマスクを整列させ、マスクを介して蒸着物を蒸着基材に供給して、所望するパターンの薄膜を蒸着基材上に形成させる。

マスクは、マスクフレームと、前記マスクフレームに固定され、所定のパターンが形成されたマスクシートとを含む。

通常、マスクフレームは、所定厚さの部材からなっており、中央部に形成される所定面積の開放部と外郭に形成される四角枠状部とからなり、前記マスクシートの端部が前記マスクフレームの四角枠に接触固定されることによりマスクが形成されている。

前記のように、形成されたマスクは蒸着基材と密着するように載置され、マスクシートに形成されたパターンを透過して、蒸着物が蒸着基材に蒸着されることにより薄膜が形成される。

したがって、より精密な蒸着を行うためには、マスクと蒸着基材とが密着されていることが好ましい。

しかし、マスクは、製作時または使用時に、マスクフレームとマスクシートとの接触部分に異物が入る場合があって、異物の入った部位は表面に突起が形成され、マスクと蒸着基材との密着性を悪化させる。

すなわち、蒸着するためにマスクを蒸着基材に載置した場合、突起があるためマスクと蒸着基材とが密着せず、マスクと蒸着基材との間に隙間が生じることになる。このような隙間により、精密な蒸着を行うことができなくなり、影が生じて不良の原因となる。

大韓民国出願公開第２００７−００６４９０６号明細書 大韓民国出願公開第２００６−０１０２８３８号明細書 大韓民国出願公開第２００６−０１１４６０２号明細書 特開２００５−３３９８５８号公報

そこで、本発明は、前記のような問題を解決するために提供され、マスクフレームとマスクシートとの間に異物が入ることを防止し、マスクと蒸着基材との密着性を向上させることができ、精密なパターンの蒸着が可能な蒸着用マスクを提供することにその目的がある。

本発明は、マスクシート、及び前記マスクシートの端部が接触固定されるフレームを含む蒸着用マスクであって、前記フレームにおいて、前記マスクシートが固定される面の内側端部に、前記マスクシートが位置する側と反対方向に傾斜又は段差を有することを特徴とする蒸着用マスクを提供する。

また、本発明は、マスクシートと、前記マスクシートの端部が接触固定されるフレームとを含む蒸着用マスクであって、前記フレームにおいて、前記マスクシートが固定される面の内側端部は、前記マスクシートと接触しないことを特徴とする蒸着用マスクを提供する。

また、本発明は、マスクシート、及び前記マスクシートの端部が接触固定されるフレームを含む蒸着用マスクであって、前記フレームは、その外側に形成され、前記マスクシートと接触する接触部、及び前記接触部の端部から内側方向に、前記接触部よりも低く形成されている非接触部を含むことを特徴とする蒸着用マスクを提供する。

本発明によれば、マスクフレームとマスクシートとの間に異物が入ることを防止して、マスクと蒸着基材との間に隙間が生じることを防ぎ、マスクと蒸着基材との密着性を向上させることができ、精密なパターンの蒸着が可能となる。

本発明の実施形態に係るマスクの分離斜視図である。 本発明の実施形態に係るマスクの結合平面図である。 図２の切断線Ａ−Ａ’による断面図である。 本発明に係る他の実施形態の断面図である。

以下、本発明の好適な実施形態を示す添付図面を参照しながら、本発明に係る蒸着用マスクを詳しく説明する。

図１及び図２は、本発明の実施形態に係るマスクの分離斜視図及び結合平面図であって、図３は、図２の切断線Ａ−Ａ’の断面図であり、図４は本発明に係る他の実施形態の断面図である。

図１乃至図４に示すように、本発明の実施形態に係るマスク１は、所定のパターンが形成されたマスクシート１０と、該マスクシート１０端部が接触固定されたフレーム３０とを含む。

本実施形態では、前記フレーム３０が四角枠であることを例にあげているが、工程によって、前記フレーム３０は円形または四角以外の多角フレームで形成することができる。

前記フレーム３０は所定厚さの部材からなっており、前記フレーム３０において、前記マスクシート１０が接触固定された面の内側端部は、前記マスクシート１０と接触しないように、前記マスクシート１０が位置する側と反対方向に所定の傾きで傾斜し、または所定の深さの段差が形成される。

すなわち、前記マスクシート１０は、所定のパターンが形成されたアレイ領域１１とパターンが形成されない非アレイ領域１３とに区分することができ、前記非アレイ領域１３の端部が、前記フレーム３０に接触固定される。

前記フレーム３０は、その中央部に形成された所定面積を有する開放部３１と、前記開放部３１の周縁部を覆い、前記マスクシート１０の非アレイ領域１３が接触固定される支持部３３とを含み、所定厚さの部材からなる。

マスクの形成方法を説明すると、まず、マスクシート１０のアレイ領域１１が、フレーム３０の開放部３１に位置するように整列させる。

次いで、前記支持部３３に密着するように、前記マスクシート１０に引張力を加えた状態で、支持部３３とマスクシート１０とが接触する地点に複数の溶接を行うことで、前記マスクシート１０は前記フレーム３０に固定される。

このとき、前記支持部３３において、前記マスクシート１０が固定する地点は外側に形成され、前記マスクシート１０に接触する接触部３３ａと、前記接触部３３ａの端部から内側方向に、前記接触部３３ａよりも低く形成されている非接触部３３ｂとを含む。

図３に示すように、前記非接触部３３ｂは、所定の傾きで、前記マスクシート１０が位置する側と反対方向に傾斜するように形成されていて、図４に示すように、前記非接触部３３ｂは所定深さの段差を有するように形成されてもよい。

前記接触部３３ａは、前記マスクシート１０が接触固定される領域であって、前記接触部３３ａの幅Ｗが狭すぎると、マスクシート１０を固定するための溶接の作業性が低下する。

また、前記接触部３３ａの幅Ｗが広すぎると、異物がマスクシート１０と接触部３３ａとの間に入る確率が高くなる。

したがって、前記接触部３３ａの幅Ｗは、前記フレーム３０に前記マスクシート１０を固定する方法または作業環境によって、当業者が適切に選択しなければならなく、溶接部２０の幅よりは少し広くすることが好ましい。

前記非接触部３３ｂは、溶接が行われた接触部３３ａよりも低い位置に形成される領域であるため、前記マスクシート１０とは接触しない。

したがって、前記マスクシート１０と前記非接触部３３ｂとの間に異物が入っても、異物によりマスクシート１０に突出領域が形成されない。従って、マスクシート１０の平面度を維持することができ、マスクと蒸着基材との密着性を向上させることができ、精密なパターンの蒸着が可能である。

しかし、非接触部３３ｂを設けても、非接触部３３ｂの傾斜角度αが小さすぎると、異物がマスクシート１０と接触して突出領域を形成することもあるので、前記非接触部３３ｂの傾斜角度は、作業環境によって当業者が適切に選択しなければならない。

また、前記非接触部３３ｂの傾斜角度が９０゜以上の場合、前記フレーム３０は接触部３３ａだけとなるので、９０゜以下にすべきである。

以上、本発明の好ましい実施形態を説明したが、本発明は前記の実施形態に限定されることはない。本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。

１ マスク
１０ マスクシート
１１ アレイ領域
１３ 非アレイ領域
２０ 溶接部
３０ フレーム
３１ 開放部
３３ 支持部
３３ａ 接触部
３３ｂ 非接触部

Claims (3)

1. マスクシートと、
   前記マスクシートの端部が接触固定されるフレームと、を含む蒸着用マスクであって、
   前記フレームにおいて、前記マスクシートが固定される面の内側端部は、前記マスクシートが位置する側と反対方向に傾斜することにより又は段差状とされることにより切り欠かれ、これにより前記フレームにおける前記マスクシートが固定される面の内側端部は、前記マスクシートと接触しない非接触部を形成しており、前記マスクシートは、前記フレームにおける前記非接触部の外側に位置した接触部のみによって前記フレームにより支持され、
   前記マスクシートは、パターンが形成されたアレイ領域、及びパターンが形成されない非アレイ領域を含み、
   前記非アレイ領域は、前記フレームの前記非接触部を上方から覆っていることを特徴とする蒸着用マスク。
2. 前記非アレイ領域の端部が前記フレームに接触固定されることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。
3. 前記フレームは、
   その中央部に形成される開放部と、
   前記開放部の周縁部を覆い、前記非アレイ領域が接触固定される支持部と、
   を含むことを特徴とする請求項２に記載の蒸着用マスク。

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