DE102010002344A1

DE102010002344A1 - Abscheidungsmaske

Info

Publication number: DE102010002344A1
Application number: DE102010002344A
Authority: DE
Inventors: Sang-Shin Yongin Lee; Jung-Wo Yongin Ko; Taek-Kyo Yongin Kang; Seung-Ju Yongin Hong
Original assignee: Samsung Mobile Display Co Ltd
Current assignee: Samsung Display Co Ltd
Priority date: 2009-03-03
Filing date: 2010-02-25
Publication date: 2010-09-09
Also published as: KR101041138B1; KR20100099620A; JP5545958B2; JP2010202970A; CN101824591A; US20100224125A1; US8402916B2

Abstract

Eine Abscheidungsmaske, die eine Maskenplatte und einen Rahmen zum Tragen des Umfangs der Maskenplatte aufweist. Der Rahmen weist eine Kontaktoberfläche, die an der Maskenplatte befestigt ist, und eine nicht kontaktierende Oberfläche, die der Maskenplatte zugewandt und von dieser beabstandet ist, auf, wobei sich der nicht kontaktierende Abschnitt vom Kontaktabschnitt zu einer im Zentrum des Rahmens ausgebildeten Öffnung erstreckt. Der nicht kontaktierende Abschnitt kann einen spitzen Winkel bezüglich der Ebene der Maskenplatte ausbilden.

Description

HINTERGRUND DER ERFINDUNG
1. Gebiet der Erfindung
Aspekte der vorliegenden Erfindung betreffen eine Abscheidungsmaske.
2. Beschreibung des Standes der Technik
Von verschiedenen Verfahren zur Ausbildung eines Dünnfilms einer Anzeigevorrichtung wird üblicherweise ein Verfahren zur Ausbildung eines Dünnfilmmusters durch Abscheidung eines Targetmaterials mittels einer Maske verwendet. Üblicherweise erfolgt eine Abscheidung mittels einer Maske durch Ausrichten einer Maske auf einem Abscheidungssubstrat, wie zum Beispiel einem Substrat einer Anzeigevorrichtung, und durch Aufbringen eines Targetmaterials auf dem Abscheidungssubstrat durch die Maske, so dass ein Dünnfilm, der ein gewünschtes Muster aufweist, auf dem Abscheidungssubstrat ausgebildet wird.
Eine Maske weist einen Rahmen und eine am Rahmen befestigte Maskenplatte, die ein vorbestimmtes Muster aufweist, auf. Allgemein weist der Rahmen eine vorbestimmte Dicke, eine Rechteckform und eine in seiner Mitte ausgebildete Öffnung auf. Ein Rand der Maskenplatte steht mit dem Rahmen in Kontakt und ist an diesem befestigt, wodurch die Maske ausgebildet wird.
Die derart ausgebildete Maske wird auf einem Abscheidungssubstrat aufgesetzt, und ein Dünnfilm wird durch Abscheidung eines Targetmaterials auf dem Abscheidungssubstrat ausgebildet. Der Dünnfilm weist ein Muster auf, das einem auf der Maskenplatte ausgebildeten Muster entspricht. Die Maske kann somit für die Feinabscheidung dicht am Abscheidungssubstrat befestigt werden.
Während der Ausbildung oder Verwendung der Maske können allerdings Verunreinigungen zwischen dem Maskenrahmen und der Maskenplatte eindringen. Eine derartige Verunreinigung kann dazu führen, dass die Maske nicht korrekt auf dem Abscheidungssubstrat positioniert werden kann. Das heißt, dass die Verunreinigung einen Abstand zwischen der Maske und dem Abscheidungssubstrat bildet, wenn die Maske auf dem Abscheidungssubstrat aufgesetzt wird. Aufgrund des Abstands wird die Strukturierung des Dünnfilms beeinträchtigt, da während der Strukturierung ein Schatten entsteht, was zu Defekten führt.
ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Die Erfindung stellt daher die Abscheidungsmaske nach Anspruch 1 bereit. Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Genauer stellen Aspekte der vorliegenden Erfindung eine Abscheidungsmaske bereit, die verhindert, dass zwischen einen Maskenrahmen und eine Maskenplatte gelangte Verunreinigungen ein Strukturierungsverfahren beeinträchtigen.
Gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung weist eine Abscheidungsmaske auf: eine Maskenplatte; und einen Rahmen, der mit dem Umfang der Maskenplatte in Kontakt steht und an diesem befestigt ist. Der Rahmen weist eine Kontaktoberfläche, die an der Maskenplatte befestigt ist, sowie eine nicht kontaktierende Oberfläche, die sich zwischen der Kontaktoberfläche und einer in der Mitte des Rahmens ausgebildeten Öffnung erstreckt, auf. Die nicht kontaktierende Oberfläche kann bezüglich der Ebene der Maskenplatte abgewinkelt sein.
Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung weist eine Abscheidungsmaske auf: eine Maskenplatte; und einen Rahmen, der mit der Maskenplatte in Kontakt steht und an dieser befestigt ist. Der Rahmen weist einen eine nicht kontaktierende Oberfläche aufweisenden Hauptkörper und einen Vorsprung auf, der sich vom Hauptkörper erstreckt und eine Kontaktoberfläche ausbildet, die an der Maskenplatte befestigt ist.
Gemäß noch einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung weist eine Abscheidungsmaske auf: eine Maskenplatte; und einen Rahmen, der mit dem Umfang der Maskenplatte in Kontakt steht und an diesem befestigt ist. Der Rahmen weist eine an der Maskenplatte befestigte Kontaktoberfläche und eine nicht kontaktierende Oberfläche auf, die sich von der Kontaktoberfläche erstreckt und einen Winkel bezüglich der Ebene der Maskenplatte ausbildet.
Zusätzliche Aspekte und/oder Vorteile der Erfindung werden zum Teil in der nachfolgenden Beschreibung dargelegt und gehen teilweise aus der Beschreibung hervor oder werden bei Anwendung der Erfindung ersichtlich.
KURZBESCHREIBUNG DER FIGUREN
Diese und/oder weitere Aspekte und Vorteile der Erfindung werden anhand der nachfolgenden Beschreibung der Ausführungsformen in Verbindung mit den beigefügten Figuren ersichtlich und besser verständlich, wobei:
1 und 2 jeweils eine Maske gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung in einer perspektivischen Explosionsdarstellung und einer Draufsicht im montierten Zustand zeigen;
3 eine Querschnittdarstellung entlang der Linie A-A' in 2 zeigt; und
4 eine Querschnittdarstellung einer Maske gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung zeigt.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSBEISPIELE
Nachfolgend soll ausführlich auf die Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung eingegangen werden, von denen Beispiele in den beigefügten Figuren dargestellt sind, wobei sich gleiche Bezugszeichen immer auf gleiche Elemente beziehen. Die Ausführungsbeispiele werden weiter unten beschrieben, um Aspekte der vorliegenden Erfindung unter Bezugnahme auf die Figuren zu erläutern.
1 und 2 zeigen jeweils eine Maske 1 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung in einer perspektivischen Explosionsdarstellung und in einer Draufsicht im montierten Zustand. 3 zeigt eine Querschnittdarstellung, entlang der Linie A-A' in 2. Gemäß 1–3 weist die Maske 1 eine ein vorbestimmtes Muster aufweisende Maskenplatte 10 und einen Rahmen 30 auf, der mit dem Umfang der Maskenplatte 10 in Kontakt steht und an diesem befestigt ist.
Der Rahmen 30 und die Maskenplatte 10 sind als allgemein rechteckig dargestellt. Der Rahmen 30 und die Maskenplatte 10 können jedoch auch kreisförmig oder polygonal sein, vorausgesetzt, die Form des Rahmens 30 und der Maskenplatte 10 entsprechen sich.
Der Rahmen 30 weist eine Kontaktoberfläche 33 und eine nicht kontaktierende Oberfläche 34 auf, die beide allgemein der Maskenplatte 10 zugewandt sind. Die Kontaktoberfläche 33 ist an der Maskenplatte 10 befestigt und erstreckt sich allgemein parallel zur Ebene der Maskenplatte 10. Eine Öffnung 31 ist in der Mitte des Rahmens 30 definiert. Die nicht kontaktierende Oberfläche 34 erstreckt sich von der Kontaktoberfläche 33 hin zur Öffnung 31. Die nicht kontaktierende Oberfläche 34 ist in einem Winkel (Winkel α) bezüglich der Ebene der Maskenplatte 10 angeordnet. Insbesondere fällt die nicht kontaktierende Oberfläche 34 derart ab, dass ein erster Rand der nicht kontaktierenden Oberfläche 34, der benachbart zur Kontaktoberfläche 33 angeordnet ist, näher an der Maskenplatte 10 ist als ein gegenüberliegender zweiter Rand der nicht kontaktierenden Oberfläche 34, der benachbart zur Öffnung 31 angeordnet ist. Die nicht kontaktierende Oberfläche 34 kann eine größere Fläche als die Kontaktoberfläche 34 aufweisen.
Der Winkel α der nicht kontaktierenden Oberfläche 34 ist allgemein derart festgelegt, dass auf die nicht kontaktierende Oberfläche 34 gelangte Verunreinigungen nicht mit der Maskenplatte 10 in Kontakt kommen und dadurch einen Vorsprung in der Maskenplatte 10 ausbilden. Daher kann der Winkel α der nicht kontaktierenden Oberfläche 34 von einem Fachmann entsprechend einer Arbeitsumgebung gewählt werden. Zum Beispiel beträgt der Winkel α allgemein weniger als 90 Grad, so dass die nicht kontaktierende Oberfläche 34 der Maskenplatte 10 zugewandt ist.
Die Maskenplatte 10 kann in einen Anordnungsbereich 11, der das vorbestimmte Muster aufweist, und in einen um den Anordnungsbereich 11 herum angeordneten Nicht-Anordnungsbereich 13, der kein vorbestimmtes Muster aufweist, unterteilt sein. Ein Rand des Nicht-Anordnungsbereichs 13 steht mit dem Rahmen 30 in Kontakt und ist an diesem befestigt. Insbesondere ist der Umfang des Nicht-Anordnungsbereichs 13 an der Kontaktoberfläche 33 des Rahmens 30 befestigt.
Nachfolgend wird ein Verfahren zur Ausbildung der Maske 1 beschrieben. Zunächst wird der Anordnungsbereich 11 der Maskenplatte 10 auf die Öffnung 31 des Rahmens 30 ausgerichtet.
Anschließend wird die Maskenplatte 10 derart mit einer Kraft beaufschlagt, dass der Umfang der Maskenplatte 10 gegen die Kontaktoberfläche 33 gedrückt wird. Die Maskenplatte 10 wird dann durch Anschweißen der Maskenplatte 10 an der Kontaktoberfläche 33 am Rahmen 30 befestigt. Wie in 2 gezeigt, kann das Schweißen durch das Ausbilden von Schweißstellen 20 erfolgen.
Die Kontaktoberfläche 33 wird unmittelbar an der Maskenplatte 10 befestigt. Ist die Breite W der Kontaktoberfläche 33 zu klein, so kann die Durchführung der Schweißarbeit schwierig sein. Ist die Breite W der Kontaktoberfläche 33 dagegen zu groß, so kann es, bedingt durch das Eindringen von Verunreinigungen zwischen der Maskenplatte 10 und der Kontaktoberfläche 33, zu Problemen kommen. Daher kann die Breite W des Kontaktabschnitts 33a von einem Fachmann entsprechend einem Verfahren zur Befestigung der Maskenplatte 10 am Rahmen 30 oder entsprechend einer Arbeitsumgebung passend gewählt werden. Insbesondere kann die Breite W größer als die Breite der Schweißstellen 20 sein.
4 zeigt eine Querschnittdarstellung einer Maske 40 gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Gemäß 4 weist die Maske 40 eine Maskenplatte 10 und einen Rahmen 42 auf. Elemente, die denjenigen der Maske 1 ähnlich sind, werden nicht ausführlich beschrieben. Der Rahmen 42 weist einen Hauptkörper 44 und einen Vorsprung 46, der sich vom Hauptkörper 44 erstreckt, auf.
Der Vorsprung weist eine Kontaktoberfläche 48 auf, die, beispielsweise durch Schweißstellen 20, am Umfang der Maskenplatte 10 angeschweißt wird. Die Kontaktoberfläche 48 erstreckt sich parallel zur Ebene der Maskenplatte 10. Der Hauptkörper 44 weist eine nicht kontaktierende Oberfläche 50 auf, die der Maskenplatte 10 zugewandt ist und von dieser beabstandet ist. Insbesondere bilden die Kontaktoberfläche 48 und die nicht kontaktierende Oberfläche 50 eine Stufenstruktur aus. Da die nicht kontaktierende Oberfläche 50 von der Kontaktoberfläche 48 beabstandet ist, kommt die nicht kontaktierende Oberfläche nicht mit der Maskenplatte 10 in Kontakt.
Selbst wenn Verunreinigungen zwischen die Maskenplatte 10 und die nicht kontaktierende Oberfläche 50 gelangen, bilden die Verunreinigungen somit keine Vorsprünge auf der Maskenplatte 10 aus. Daher bleibt die Maskenplatte 10 flach, und zwischen der Maske 10 und dem Rahmen 42 besteht eine feste Verbindung, was die Abscheidungen von Feinmustern ermöglicht.
Gemäß der vorliegenden Offenbarung kann die Bildung eines Abstands zwischen einer Maske und einem Abscheidungssubstrat verhindert werden, indem das Eindringen von Verunreinigungen zwischen einem Maskenrahmen und einer Maskenplatte verhindert wird. Dadurch lässt sich die Haftung zwischen der Maske und dem Abscheidungssubstrat verbessern und wird eine Abscheidung von Feinmustern möglich.

Claims

Eine Abscheidungsmaske (1, 40), aufweisend: eine Maskenplatte (10); und einen Rahmen (30, 42), der zum Stützen des Umfangs der Maskenplatte (10) ausgebildet ist, wobei der Rahmen (30, 42) aufweist: eine Kontaktoberfläche (33, 48), die an der Maskenplatte (30) befestigt ist, und eine nicht kontaktierende Oberfläche (34, 50), die der Maskenplatte (10) zugewandt ist und von der Maskenplatte (10) beabstandet ist, wobei die nicht kontaktierende Oberfläche (34, 50) zwischen der Kontaktoberfläche (33, 48) und einer im Zentrum des Rahmens (30, 42) ausgebildeten Öffnung (31) angeordnet ist.
Die Abscheidungsmaske (1, 40) nach Anspruch 1, bei der die Maskenplatte (10) aufweist: einen gemusterten Anordnungsbereich (11); und einen Nicht-Anordnungsbereich (13), der um den gemusterten Anordnungsbereich (11) herum angeordnet ist, wobei der Nicht-Anordnungsbereich (13) an der Kontaktoberfläche (33, 48) befestigt ist.
Die Abscheidungsmaske (40) nach einem der Ansprüche 1 oder 2, bei der der Rahmen (42) aufweist: einen Hauptkörper (44), der die nicht kontaktierende Oberfläche (50) ausbildet; und einen Vorsprung (46), der sich vom Hauptkörper (44) erstreckt und die Kontaktoberfläche (48) ausbildet, derart, dass der Rahmen (42) eine Stufenstruktur aufweist.
Die Abscheidungsmaske nach Anspruch 3, bei der die nicht kontaktierende Oberfläche (50) parallel zur Ebene der Maskenplatte (10) ist.
Die Abscheidungsmaske (1) nach einem der Ansprüche 1 oder 2, bei der die nicht kontaktierende Oberfläche (34) einen spitzen Winkel bezüglich der Ebene der Maskenplatte (10) ausbildet.
Die Abscheidungsmaske (1, 40) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die nicht kontaktierende Oberfläche (34, 50) einen ersten Rand, der benachbart zur Kontaktoberfläche (33, 48) angeordnet ist, und einen gegenüberliegenden zweiten Rand, der benachbart zu der im Rahmen (30, 42) ausgebildeten Öffnung (31) angeordnet ist, aufweist, wobei der erste Rand näher an der Maskenplatte (10) angeordnet ist als der zweite Rand.
Die Abscheidungsmaske (1, 40) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die Breite der Kontaktoberfläche (33, 48) kleiner ist als die Breite von Schweißpunkten, die die Maskenplatte (10) mit dem Rahmen (30, 42) verbinden.
Die Abscheidungsmaske (1, 40) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die Fläche der nicht kontaktierenden Oberfläche (34, 50) größer als die Fläche der Kontaktoberfläche (33, 48) ist.