TW201931007A - 光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器 - Google Patents

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Abstract

一種光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器，包括內盒組件以及外盒組件，內盒組件用以容置光罩，並包括下蓋及上蓋，下蓋包括支撐件用以支撐光罩，上蓋用以與下蓋對接，並設置有壓抵單元用以壓抵於光罩，壓抵單元包括壓抵件及準位蓋，壓抵件具有位於相對側之壓抵部及受壓部，壓抵部穿過上蓋而壓抵於光罩，準位蓋蓋合於壓抵件並具有頂面，受壓部穿過準位蓋而凸出於頂面，外盒組件容置內盒組件並且包括相互對接之底座及外蓋，外蓋具有下壓平面。利用下壓平面與受壓部發生面接觸，並且同時按壓受壓部及頂面，避免光罩受力不均勻的問題。

Description

光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器
本發明是有關於一種光罩盒，且特別是有關於一種具有光罩壓抵單元之極紫外光光罩容器。
隨著半導體製程科技的突飛猛進，因為線寬的微縮化，使得電子裝置中的記憶體、晶片、處理器等，在提高效能的同時亦可兼顧體積以及功耗。其中線寬的微縮化，有很大一部分原因係得益於光學微影製程中，圖案化解析度的提升。為了進行極高解析度圖案的曝光顯影，近年來業界已在微影設備中使用波長極短的極紫外光作為光源。在這樣極端的曝光條件下，製程中對於整個曝光環境、半導體製程機台、乃至於半導體製程元件的潔淨度要求會更加嚴苛。
因此，在光學微影製程中所使用到的光罩，無論是在製造、加工、運輸或儲存的過程中，皆需利用抗污染的承載容器來保持光罩的潔淨度。承載容器除了本身利用低微粒產生的材質製成外，更可以用來隔絕光罩與外界環境的接觸，避免光罩被外界的微粒或化學氣體等接觸而遭受污染。在先進半導體廠中，一般會要求光罩承載容器的潔淨度符合機械標 準界面(Standard Mechanical Interface,SMIF)的要求。
目前已知的一種方式，是利用雙層的承載容器來容置光罩，以將光罩與外界環境隔絕。如2015年10月01日核准公告之編號I501910之中華民國發明專利「具有排水結構之極紫外光光罩儲存傳送盒」，揭示一種以一內部容器來承載光罩，並再以一外部容器將內部容器固定於其中的光罩盒。其中外部容器的上蓋上設置有第二支撐件。
進一步來說，該專利實施方式段落[0024]以及圖7揭露，當外盒上蓋蓋合時，其蓋合動作會使第二支撐件(元件編號32)下向施力，並壓迫到位於貫穿孔中固持件(元件編號40)之暴露的部份，而固持件受到壓迫後，會再往下壓入，使得支撐凸柱(元件編號401)亦會被向下壓入並與光罩之上表面之四角接觸。
然而，該專利中第二支撐件32是以點下壓的方式施力於固持件40，當光罩盒出現組裝公差，或因為其他原因發生第二支撐件32與固持件40之間施力與受力位置偏移時，會導致固持件40受力不均勻，嚴重時甚至會讓固持件40的位置發生歪斜。如此一來，會讓多個固持件40之間的歪 斜量或受力的量不一致。當固持件40受力不均時，容易使得固持件40下壓光罩的力道不均勻且不容易控制。受力不均勻的光罩容易因為固持件40的施力而產生裂痕、甚至破損。另外，光罩也會無法被容置在正確的位置，導致光罩在運送途中發生移動，除了產生微粒之外，容易讓光罩發生損傷。
因此目前存在一種對於可以穩固固定光罩並讓光罩均勻受力之光罩容器的需求，從而解決前述之諸多問題。
有鑒於此，本發明提出一種光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器，利用外蓋上之下壓平面與壓抵光罩之壓抵件之受壓部發生面接觸，可以避免壓抵件發生歪斜或避免多個壓抵件之間受力不均的問題。此外利用受壓部與準位蓋之頂面同時受到下壓平面按壓之方式，可以控制按壓的行程與下壓的力道，避免了光罩受力不均的問題。
依據本發明之一方面，提出一種極紫外光光罩容器，包括一外盒組件以及一內盒組件。內盒組件用以容置光罩，並且包括一下蓋及一上蓋。下蓋包括一支撐件，用以支撐光罩。上蓋用以與下蓋對接，設置有一壓抵單元用以壓抵於光罩。壓抵單元包括一壓抵件及一準位蓋。壓抵件具有位於相對側之一壓抵部及一受壓部，壓抵部用以穿過上蓋而壓抵於光罩，準位蓋設置於上蓋上並蓋合於壓抵件，準位蓋具有一頂面，受壓部用以穿過準位蓋而凸出於頂面。外盒組件用以容置內盒組件，並且包括一底座及一外蓋，係用以相互對接，外蓋具有一下壓平面，用以與受壓部發生面接觸，並且用以同時按壓於受壓部及頂面。
於一實施例中，壓抵件更具有一肩部，兩側分別連接於受壓部及壓抵部，準位蓋及上蓋係將肩部限制於兩者之間。壓抵單元更包括一彈性件，設置於上蓋及肩部之間，用以供肩部彈性接觸。壓抵部係穿過上蓋之一穿孔，彈性件係為一環狀結構並圍繞穿孔設置。
於另一實施例中，壓抵件更具有一肩部，兩側分別連接於受壓部及壓抵部，準位蓋及上蓋係將肩部限制於兩者之間。受壓部係穿過準位蓋之一窗口，肩部之寬度大於受壓部之寬度及窗口之寬度。
於又一實施例中，壓抵件係由一或多個接觸點接觸於光罩。
於另一實施例中，支撐件係由一或多個支撐點接觸於該光罩。
於再一實施例中，下蓋包括多個支撐件，設置於鄰近光罩之多個角落處，藉以使各角落可對應由一個支撐件支撐。上蓋包括多個壓抵單元，對應支撐件設置，藉以使各角落可對應由一個壓抵單元壓抵。
依據本發明之另一方面，提出一種光罩之壓抵單元，應用於一光罩容器中，光罩容器包括一上蓋、一下蓋及一外蓋，上蓋與下蓋用以相互對接並用以容置光罩。壓抵單元包括一壓抵件以及一準位蓋，壓抵件具有位於相對側之一壓抵部及一受壓部，壓抵部用以穿過上蓋而壓抵於光罩，準位蓋設置於上蓋並蓋合於壓抵件，準位蓋具有一頂面，受壓部用以穿過準位蓋而凸出於頂面，外蓋與光罩分別位於上蓋之相反兩側，受壓部用以與上蓋之一下壓平面發生面接觸，且受壓部及頂面用以同時受下壓平面按壓。
本發明實施例之光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器，外蓋上具有之下壓平面，用以與壓抵件之受壓部發生面接觸，並且用 以同時按壓於壓抵件之受壓部及準位蓋之頂面，可以解決壓抵件下壓行程與下壓力道控制不易的狀況，進而避免光罩受力不均發生破損，亦可避免光罩因未容置在正確位置所導致損傷之問題。
100‧‧‧基板容器
110‧‧‧內盒組件
120‧‧‧下蓋
121‧‧‧支撐件
124‧‧‧第二鎖固件
130‧‧‧上蓋
130a‧‧‧穿孔
130b‧‧‧凹槽
135‧‧‧導位塊
140‧‧‧壓抵單元
141‧‧‧壓抵件
142‧‧‧準位蓋
142a‧‧‧窗口
143‧‧‧彈性件
144‧‧‧第一鎖固件
150‧‧‧外盒組件
160‧‧‧底座
170‧‧‧外蓋
171、171’‧‧‧下壓平面
241‧‧‧壓抵件
221‧‧‧支撐件
1211‧‧‧支撐凸塊
1411‧‧‧壓抵部
1412‧‧‧受壓部
1413‧‧‧肩部
1421‧‧‧頂面
2211‧‧‧支撐凸塊
2212‧‧‧支撐點
2411‧‧‧壓抵部
2412‧‧‧受壓部
2413‧‧‧肩部
2414‧‧‧接觸點
d‧‧‧距離
R‧‧‧光罩
為讓本發明之上述以及其他特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1圖繪示依照本發明一實施例之極紫外光光罩容器之示意圖；第2圖繪示第1圖中之一個壓抵單元之爆炸圖；第3圖繪示壓抵件之剖面圖；第4a圖繪示下壓平面按壓於壓抵件時之示意圖；第4b圖繪示壓抵件位於按壓行程之終點時之示意圖；第5圖繪示按壓平面按壓於不同位置時之示意圖；第6圖繪示第1圖之下蓋及光罩之示意圖；第7圖繪示第6圖之光罩承置於下蓋上之示意圖；第8圖繪示依照本發明另一實施例之壓抵件之示意圖；以及第9圖繪示依照本發明另一實施例之支撐件之示意圖。
本發明實施例之光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器，利用外蓋的下壓平面以面接觸之方式接觸並壓抵於壓抵件，並且利用下壓平面同時按壓於準位蓋及壓抵件之方式，控制壓抵件下壓力道及距 離，抑制過壓量以維持光罩所承受的受壓力，可以避免光罩受力不均所發生的諸多問題。
請同時參照第1圖至第3圖，第1圖繪示依照本發明一實施例之極紫外光光罩容器之示意圖，第2圖繪示第1圖中之一個壓抵單元之爆炸圖，第3圖繪示壓抵件之剖面圖。
極紫外光光罩容器100包括一內盒組件110以及一外盒組件150。內盒組件110用以容置一光罩R，並且包括一下蓋120及一上蓋130。下蓋120包括一支撐件121，用以支撐光罩R。上蓋130用以與下蓋120對接，且上蓋130設置有一壓抵單元140，用以壓抵於光罩R。壓抵單元140包括一壓抵件141及一準位蓋142。壓抵件141具有位於相對側之一壓抵部1411及一受壓部1412，壓抵部1411用以穿過上蓋130而壓抵於光罩R。準位蓋142設置於上蓋130並蓋合於壓抵件141，準位蓋142具有一頂面1421，受壓部1412用以穿過準位蓋142而凸出於頂面1421。外盒組件150用以容置內盒組件110，並且包括一底座160及一外蓋170，底座160及外蓋170用以相互對接。外蓋170具有一下壓平面171，用以與受壓部1412發生面接觸，並且用以同時按壓於受壓部1412及頂面1421。
本實施例之壓抵件141更具有一肩部1413，兩側分別連接於受壓部1412及壓抵部1411，當準位蓋142蓋合於壓抵件141時，準位蓋142及上蓋130係將肩部1413限制於兩者之間，如此可以避免壓抵件141脫落，並限制壓抵件141做動之一壓抵行程(關於壓抵件141的壓抵行程及其做動方式，將詳述於後)。於一實施例中，壓抵件141可以是高分子耐磨材料製成之一體成型結構，除了可以避免微粒的生成，亦具備一定的結構強度，可 以順利傳遞按壓力道，並使壓抵件141具有結構簡單及低製造成本等特點。
本實施例中，上蓋130具有一穿孔130a，對應供壓抵部1411穿過，準位蓋142具有一窗口142a，用以供受壓部1412穿過。壓抵件141之肩部1413之寬度大於受壓部1412之寬度及窗口142a之寬度，藉此讓肩部1413可以被限制在準位蓋142及上蓋130之間。
壓抵單元140更包括一彈性件143，設置於上蓋130及壓抵件141之肩部1413之間，用以供肩部1413彈性接觸，彈性件143具有一環狀結構，並圍繞穿孔130a設置。彈性件143例如是一個O形環，用以提供壓抵件141受按壓時之緩衝，並且讓壓抵件141、上蓋130之間可以形成一定程度的氣密效果，使得此處不會成為氣流的通道，避免對於內盒組件110整體的氣密性造成影響。
另外，本實施例中壓抵單元140更包括一第一鎖固件144，用以將準位蓋142鎖固至上蓋130上。如第2圖中所示，上蓋130具有一凹槽130b，其係對應於準位蓋142之輪廓，用以容置準位蓋142並限制住準位蓋142之位置。準位蓋142經由第一鎖固件144鎖固至凹槽130b後，可以具有穩定的固定效果，使準位蓋142不會發生移動或受力偏移等問題。本實施例中，準位蓋142是經由第一鎖固件144固定至上蓋130上，然而本發明之技術並不限制於第一鎖固件144，其他可以用來將準位蓋142固定至上蓋130之技術手段，均可應用於本發明中。
請繼續參照第1圖及第2圖，依據本發明實施例之極紫外光光罩容器100，上蓋130用以與下蓋120對接，用於容置光罩R。實際應用時，光罩R承置於下蓋120上時，有時會因為位置偏移而傾斜，導致光罩R有一或 多個角落未確實被支撐件121支撐到，因此需要利用壓抵單元140推動並壓抵光罩R，讓光罩R的多個角落都可以確實被支撐件121支撐。
極紫外光光罩容器100容置光罩R之方法，是利用機械手臂來進行，大致包括下列步驟。首先將光罩R置放在下蓋120上，並將下蓋120與上蓋130對接形成內盒組件110。容置有光罩R的內盒組件110接著可以放置到底座160上，並蓋合外蓋170。當外蓋170與底座160相互對接時，外蓋170的下壓平面171會與壓抵件141接觸，並持續下壓壓抵件141，使得壓抵件141可以將光罩R推至定位。此時光罩R係可由壓抵單元140及支撐件121分別由上下兩側固定。
請參照第1以及第4a圖，第4a圖繪示下壓平面按壓於壓抵件時之示意圖。極紫外光光罩容器100中，壓抵件141係沿著壓抵行程將光罩R推至定位，以下針對壓抵件141之壓抵行程進行說明。
當外蓋170與底座160相互靠近並對接時，外蓋170的下壓平面171會與壓抵件141的受壓部1412接觸。受壓部1412之一上表面係為平面，用以與下壓平面171發生面接觸。下壓平面171之面積大於受壓部1412上表面之面積，因此受壓部1412會完整受到下壓平面171按壓，受力平均，不會發生壓抵件141歪斜的狀況。受壓部1412穿過準位蓋142之窗孔142a而凸出於頂面1421一距離d，此時下壓平面171僅接觸於壓抵件141之受壓部1412，而壓抵件141之壓抵部1411則接觸於光罩R。實際應用時，根據光罩R位置的高低，壓抵部1411此時亦有可能尚未與光罩R接觸。
請參照第1圖及第4b圖，第4b圖繪示壓抵件位於按壓行程之終點時之示意圖。當外蓋170與底座160繼續靠近，下壓平面171會持續下壓壓 抵件141，壓抵件141則會持續下壓光罩R，直到抵達按壓行程之終點。下壓的過程中，利用機械手臂直向運動的特性，使得大面積的下壓平面171可以確保持續與受壓部1412上表面面接觸。當壓抵件141位於壓抵行程之終點時，頂面1421與受壓部1412之上表面位於同一水平面上，此時下壓平面171係同時按壓於受壓部1412及頂面1421。準位蓋142例如是由金屬等材質製程，具有較佳的結構強度。利用準位蓋142之頂面1421作為下壓的停止點(即按壓行程的終點)，可以避免按壓過量，使得光罩R所承受的按壓力道可以維持在設計的範圍內。此時光罩R之頂面1421係抵接於壓抵件141之壓抵部1411，光罩R之底面係由支撐件121支撐，藉以穩固地固定光罩R。
請參照第1圖、第4b圖以及第5圖，第5圖繪示按壓平面按壓於不同位置時之示意圖。當極紫外光光罩容器100中各個組件之間產生公差偏移量時，會使得下壓平面171按壓於頂面1421上之位置發生變化。相較於原先第4b圖中下壓平面171所按壓之位置，第5圖中下壓平面171’係按壓於偏向左側之位置。由於下壓平面171’具有較大的面積，即便發生位置偏移，仍可確保與受壓部1412上表面維持面接觸，且當壓抵件141位於壓抵行程之終點時，下壓平面171仍可以維持同時按壓於受壓部1412及頂面1421之狀態，相當於吸收了各組件的公差偏移量。
如第1圖所示，本實施例中外蓋170具有朝向上蓋130凸出之凸臺結構，下壓平面171是凸臺結構的表面，凸臺結構係與外蓋170一體成形。在不同的實施例中，外盒組件150係可包括多個下壓件，設置於外蓋170朝向上蓋130的表面上，下壓平面171是下壓件的表面。實際應用上，無論是利用外蓋170本身結構，或是設置額外元件於外蓋170上，只要是能提供下 壓平面從而具有以面接觸方式按壓壓抵件141之功能者，均可以應用於本發明中。
請同時參照第6圖及第7圖，第6圖繪示第1圖之下蓋及光罩之示意圖，第7圖繪示第6圖之光罩承置於下蓋上之示意圖。本實施例中，下蓋120以包括四個支撐件121為例進行說明，各個支撐件121設置於鄰近光罩R之四個個角落處，以使光罩R各角落可對應由一個支撐件121支撐。更進一步來說，支撐件121具有一支撐凸塊1211，支撐件121是經由此支撐凸塊1211由下方朝上支撐光罩R。支撐件121為高分子耐磨材料製成之一體成型結構，除了可以避免微粒的生成，亦具備一定的結構強度，可以順利支撐並定位光罩R在下蓋120上之位置。
另外，下蓋120更包括一第二鎖固件124，用以將支撐件121鎖固至下蓋120上。本實施例中支撐件121是經由第二鎖固件124固定至下蓋120上，然而本發明之技術並不限制於第二鎖固件124，其他可以用來將支撐件121固定至下蓋120之技術手段，均可應用於本發明中。
相對應於前述之四個支撐件121，本實施例之上蓋130對應包括四個壓抵單元140(如第1圖所示)，對應於支撐件121設置，藉以使光罩R之各角落可對應由一個壓抵單元140壓抵。以此方式，光罩R之四個角落均可由壓抵單元140及支撐件121分別由上下壓抵及支撐，讓光罩R四個角落的受力均勻，除了避免因光罩R受力不均所衍生的各項問題，同時可以固定光罩R在內盒組件110中的位置。
請繼續參照第1圖及第4a圖，本實施例之上蓋130更包括多個導位塊135，此些導位塊135是以朝下蓋120延伸的方式設置於上蓋130。導 位塊135用以彈性接觸於下蓋120之周緣。當下蓋120及上蓋130進行對接時，導位塊135可以協助導正下蓋120與上蓋130的相對位置，讓兩者可以正確對接。本實施例中導位塊135係以分布於上蓋130的四個角落處為例。然而本發明並不以此配置方式及數量為限制，只要是當上蓋130與下蓋120對接時朝下蓋120延伸，並彈性接觸於下蓋120周緣者，均可視為本發明之導位塊135。
如第1圖至第7圖所述之實施例中，壓抵件141是經由一個接觸點接觸於光罩R。壓抵件141經由壓抵部1411之端點，以單點接觸的方式接觸於光罩R。然而本發明之技術並不以此為限制，壓抵件亦可以以多點接觸的方式接觸於光罩R。請參照第8圖，其繪示依照本發明另一實施例之壓抵件之示意圖。壓抵件241具有位於相對側之一壓抵部2411及一受壓部2412，並且具有一肩部2413兩側分別連接於受壓部2412及壓抵部2411。與第3圖之壓抵件141不同之處在於，此處所述之壓抵件241更具有多個接觸點2414，凸出並分布於壓抵部2411之一端。凸出之接觸點2414大致上位於同一個水平面，讓多個接觸點2414可以同時點接觸並壓抵於光罩R(光罩R如同於第4b圖所示)。利用多個接觸點2414接觸於光罩R之方式，可以降低光罩R每單位面積受壓的力道，更進一步降低光罩破損的問題，同時亦有助於降低微粒的生成。
如第1圖至第7圖所述之實施例中，支撐件121是經由一個支撐凸塊1211以單點接觸的方式支撐光罩R，前述單點接觸可以視為是以單一個支撐點接觸光罩R。然而本發明之技術並不以此為限制，支撐件121亦可以多點接觸的方式接觸於光罩R。請參照第9圖，其繪示依照本發明另一實施 例之支撐件之示意圖。支撐件221具有一支撐凸塊2211，支撐凸塊2211上凸出並佈設有多個支撐點2212。凸出之支撐點2212大致上位於同一個水平面，讓多個支撐點2212可以同時點接觸並支撐於光罩R(光罩R如同於第4b圖所示)。利用多個支撐點2212接觸於光罩R之方式，可以降低光罩R每單位面積受壓的力道，更進一步降低光罩破損的問題，同時亦有助於降低微粒的生成。
本發明另一實施例係揭露一種光罩之壓抵單元，應用於一光罩容器中，用來壓抵光罩。本實施例之光罩容器例如是一極紫外光光罩容器，用以容置應用於極紫外光微影製程之光罩。光罩容器包括一上蓋、一下蓋及一外蓋，上蓋與下蓋用以相互對接並用以容置該光罩。壓抵單元包括一壓抵件以及一準位蓋。壓抵件具有位於相對側之一壓抵部及一受壓部，壓抵部用以穿過上蓋而壓抵於光罩，準位蓋設置於上蓋並蓋合於壓抵件，準位蓋具有一頂面，受壓部用以穿過準位蓋而凸出於頂面。外蓋與光罩分別位於上蓋之相反兩側，受壓部用以與外蓋之一下壓平面發生面接觸，且受壓部及頂面用以同時受到下壓平面之按壓。利用準位蓋的頂面作為壓抵件之壓抵行程的終點，可以避免按壓過量的問題。另外利用受壓面與下壓平面發生面接觸之方式，可以讓受壓部完整受到下壓平面按壓，可以避免壓抵件受力不均的問題。
依照本發明實施例之光罩壓抵單元及應用其之極紫外光光罩容器，光罩容器包括內盒組件以及外盒組件。內盒組件用以容置光罩並且包括下蓋及上蓋。下蓋包括支撐件用以支撐光罩，上蓋用以與下蓋對接並設置有一壓抵單元用以壓抵於光罩。壓抵單元包括壓抵件及準位蓋，壓抵 件具有位於相對側之壓抵部及受壓部，壓抵部用以穿過上蓋而壓抵於光罩，準位蓋設置於上蓋並蓋合於壓抵件，準位蓋具有頂面，受壓部用以穿過準位蓋而凸出於頂面。外盒組件用以容置內盒組件並且包括用以相互對接之底座及外蓋，外蓋具有下壓平面，用以與受壓部發生面接觸，並且用以同時按壓於受壓部及頂面。利用外蓋上之下壓平面與壓抵件之受壓部發生面接觸，可以避免壓抵件發生歪斜或避免多個壓抵件之間受力不均的問題。利用受壓部與準位蓋之頂面同時受到下壓平面按壓之方式，可以控制按壓的行程與下壓的力道，抑制過壓量以維持光罩所承受的壓力，避免光罩破損的問題。此外，利用下壓平面完整按壓壓抵件之方式，即便位置偏移仍可維持面接觸，相當於吸收了光罩容器各組件的公差偏移量。
雖然本發明已以多個實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明。任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附申請專利範圍所界定者為準。

Claims (10)

  1. 一種極紫外光光罩容器，包括：一內盒組件，用以容置一光罩，並且包括：一下蓋，包括一支撐件，用以支撐該光罩；及一上蓋，用以與該下蓋對接，設置有一壓抵單元，用以壓抵於該光罩，該壓抵單元包括：一壓抵件，具有位於相對側之一壓抵部及一受壓部，該壓抵部用以穿過該上蓋而壓抵於該光罩；及一準位蓋，設置於該上蓋並蓋合於該壓抵件，該準位蓋具有一頂面，該受壓部用以穿過該準位蓋而凸出於該頂面；以及一外盒組件，用以容置該內盒組件，並且包括：一底座及一外蓋，用以相互對接，該外蓋具有一下壓平面，用以與該受壓部發生面接觸，並且用以同時按壓於該受壓部及該頂面。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之極紫外光光罩容器，其中該壓抵件更具有一肩部，兩側分別連接於該受壓部及該壓抵部，該準位蓋及該上蓋係將該肩部限制於兩者之間。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之極紫外光光罩容器，其中該壓抵單元更包括：一彈性件，設置於該上蓋及該肩部之間，用以供該肩部彈性接觸。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之極紫外光光罩容器，其中該壓抵部係穿過該上蓋之一穿孔，該彈性件係為一環狀結構並圍繞該穿孔設置。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之極紫外光光罩容器，其中該受壓部係穿過該準位蓋之一窗口，該肩部之寬度大於該受壓部之寬度及該窗口之寬度。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之極紫外光光罩容器，其中該壓抵件具有一壓抵行程，當該壓抵件位於該壓抵行程之終點時，該頂面與該受壓部之一上表面位於同一水平面上。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之極紫外光光罩容器，其中該壓抵件係由一或複數個接觸點接觸於該光罩。
  8. 如申請專利範圍第1項所述之極紫外光光罩容器，其中該支撐件係由一或複數個支撐點接觸於該光罩。
  9. 如申請專利範圍第1項所述之極紫外光光罩容器，其中該下蓋包括複數個該支撐件，設置於鄰近該光罩之複數個角落處，藉以使各該角落可對應由一個該支撐件支撐，該上蓋包括複數個該壓抵單元，對應該些支撐件設置，藉以使各該角落可對應由一個該壓抵單元壓抵。
  10. 一種光罩之壓抵單元，應用於一光罩容器中，該光罩容器包括一上蓋、 一下蓋及一外蓋，該上蓋與該下蓋用以相互對接並用以容置該光罩，該壓抵單元包括：一壓抵件，具有位於相對側之一壓抵部及一受壓部，該壓抵部用以穿過該上蓋而壓抵於該光罩；以及一準位蓋，設置於該上蓋並蓋合於該壓抵件，該準位蓋具有一頂面，該受壓部用以穿過該準位蓋而凸出於該頂面；其中，該外蓋與該光罩分別位於該上蓋之相反兩側，該受壓部用以與該外蓋之一下壓平面發生面接觸，且該受壓部及該頂面用以同時受該下壓平面按壓。
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