JP2020074395A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
液や、薬液を含むリンス液、或いは、薬液を吐出するノズル等からの薬液が、液滴となって上述した凹部に滞留する可能性が考えられる。特にノズル先端が凹部の表面から多少なりとも突出して形成されている場合には、当該ノズル近傍に液滴が滞留しやすい。
いる。この回転テーブル11は、円盤状をなした下板12と上板13とを重ね合わせてなり、これら下板12と上板13との中心部分には、動力伝達体3の内部空間に連通する通孔14が形成されている。
の上部ノズル体51、リンス液として純水を吐出する第3の上部ノズル体52、及び窒素ガスなどの気体を吐出する第4の上部ノズル体53が配置されている。
吐出ノズル33が設けられており、排液孔30aを挟んで気体吐出ノズル33と対向する位置には、裏面W2に向けて純水を吐出する純水吐出ノズル34が設けられている。また、図3において、排液孔30aの上側には、エッチング液等の薬液を吐出する第1の薬液吐出ノズル40が設けられており、排液孔30aの下側には、SC‐1溶液等の薬液を吐出する第2の薬液吐出ノズル41が設けられている。
に沿って凹部30の周方向に、渦巻状や、らせん(螺旋)状に移動し得る程度の流量である。これに対して第2の流量は、第1のノズルD1の一端部から吐出する気体の流量が、基板の裏面W2の乾燥処理を行うのに十分な流量である。従って、第1の流量は第2の流量よりはるかに少ない。
る液滴を除去することができる。
、少し斜面30bの下方を向くように形成されている。
せることによってノズルヘッド32(凹部30)を加熱する方法も考えられる。具体的には、基板処理装置100Bにおける基板Wの処理が終了して、基板Wが搬出された後、基板Wによって塞がれることのない上部(凹部30に対向する)位置から凹部30を加熱することで、液滴を蒸発させる。
く、溝D5aを伝って排液孔30aへと液滴を導くことは困難となる可能性がある。さらに、溝D5a自体も同様に曲面で構成されていると好ましい。
で、液滴の飛散を抑えつつスムーズに排液孔30aに向けて液滴を流すことが可能となる。
30 凹部
30a 排液孔(排液部)
30b 斜面
32 ノズルヘッド
33 気体吐出ノズル
34 純水吐出ノズル(処理液供給ノズル)
37 排液管(排液部)
40 第1の薬液吐出ノズル(処理液供給ノズル)
41 第2の薬液吐出ノズル(処理液供給ノズル)
45 カバー
45a 返し
48 開口
D1 除去部(第1のノズル)
D1a 孔
D2 除去部(第2のノズル)
D3 除去部(吐出口)
D4 除去部
D5a 除去部(溝)
D6a 除去部(溝)
基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を備えるノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられ、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
を有し、
前記除去部は、前記ノズルヘッドの表面から突出させて形成される、前記被処理面に対して気体を吐出する第1のノズルであって、
前記第1のノズルは、前記気体の吐出方向に直交する方向であって前記凹部に向けて前記気体を吐出させることが可能な孔を有し、
前記孔から吐出される前記気体によって、前記凹部に存在する前記液滴を前記排液部に導くことを特徴とする。
基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を有するノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられた、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
を有し、
前記除去部は、前記ノズルヘッドの表面から突出させて形成される第1のノズルを有し、
前記第1のノズルは、前記気体吐出ノズルによる前記気体の吐出方向に直交する方向であって前記凹部に向けて前記気体を吐出させることが可能な孔を有し、
前記孔から吐出される前記気体によって、前記凹部に存在する前記液滴を前記排液部に導くことを特徴とする特徴とする。
Claims (7)
- 基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を備えるノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられ、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
を有し、
前記除去部は、前記ノズルヘッドの表面から突出させて形成される、前記被処理面に対して気体を吐出する第1のノズルであって、
前記第1のノズルは、前記気体の吐出方向に直交する方向であって前記凹部に向けて前記気体を吐出させることが可能な孔を有し、
前記孔から吐出される前記気体によって、前記凹部に存在する前記液滴を前記排液部に導くことを特徴とする基板処理装置。 - 基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を備えるノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられ、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
前記ノズルヘッドと前記基板との間に配置され、前記被処理面に対して処理を行うべく前記ノズルヘッドに設けられるノズルから吐出される処理液を通過させる開口を具備するカバーと、を有し、
前記除去部は、前記ノズルヘッドに形成され、前記カバーに向けた気体の吐出口を備える第2のノズル、及び、前記カバーの前記開口に形成される返しであって、
前記第2のノズルは、吐出された前記気体を前記凹部へと導くべく、前記返しに向けて前記気体を吐出することを特徴とする基板処理装置。 - 基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を備えるノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられ、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
を有し、
前記除去部は、前記凹部の表面に環状に配置された、前記凹部に存在する液滴を除去するべく前記底部に設けられている前記排液部に向けて処理材を吐出する吐出口であることを特徴とする基板処理装置。 - 基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を備えるノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられ、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
を有し、
前記除去部は、前記凹部の上部表面に配置された、前記凹部に存在する液滴を除去するべく前記底部に設けられている前記排液部に向けて処理材を吐出する吐出口であって、
前記吐出口は、その配置場所と前記排液部との間を最短で結ぶ線に対して直交し、かつ、前記凹部表面に沿って前記除去材を吐出させることが可能な向きに設けられていることを特徴とする基板処理装置。 - 基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を備えるノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられ、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
を有し、
前記除去部は、前記凹部の上部から前記凹部の底部に設けられている前記排液部との間
を最短で結ぶように形成される溝であることを特徴とする基板処理装置。 - 基板の被処理面に対向し、前記被処理面に向けて開口した凹部を備えるノズルヘッドと、前記ノズルヘッドに設けられ、前記被処理面に処理液を供給する処理液供給ノズル、前記被処理面に向けて気体を吐出する気体吐出ノズル、とを有し、前記被処理面に対して、前記処理液による処理と、前記気体を用いた乾燥処理を行なう基板処理装置において、
前記凹部に存在する液滴を除去する除去部と、
前記ノズルヘッドの前記凹部の底部に設けられ、除去対象となる前記液滴を前記凹部の外へと排出する排液部と、
を有し、
前記除去部は、前記凹部の上部から前記凹部の底部に設けられている前記排液部に向けてらせん状に形成される溝であることを特徴とする基板処理装置。 - 前記らせん状に形成される溝の向きは、前記基板に対する処理が行われる際の前記基板の回転方向と同じ向きに形成されることを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。
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