JP3155351U - 液処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】回転中の基板の表面に液供給ノズルから処理液を供給する場合に、液跳ねの発生を抑制すると共に、基板の面内全体で液跳ね量（頻度?液量）のバランスを取り、かつ、基板の面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な液処理を実行することができる液処理装置を提供すること。【解決手段】回転するウエハＷの表面に所定の処理液を供給する液供給ノズル（現像液ノズル１４）に、回転中のウエハＷの回転中心付近に対して、垂直方向から処理液を供給する第１の吐出部２３と、回転するウエハＷの回転半径上で、第１の吐出部２３よりも外周側に配置されると共に、回転中心付近を除く位置に対して、垂直方向からウエハＷの回転方向に所定角度だけ傾斜した方向に処理液を供給する外側吐出部（第２の吐出部２４）とを備える。【選択図】 図５

Description

本考案は、例えば、半導体ウエハや液晶ディスプレイ用のガラス基板（ＦＰＤ基板）や太陽光発電用の基板（ウエハ、セル、モジュール）といった基板に処理液を吐出する液供給ノズルを備えた液処理装置に関するものである。

半導体デバイスやＦＰＤ基板や太陽電池の製造プロセスにおいては、半導体ウエハ（以下にウエハという）などの基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、フォトマスクを用いてそのレジスト膜を露光し、露光後のウエハ表面に現像液を供給して現像処理を行う、いわゆるフォトリソグラフィ技術が用いられており、これら一連の処理工程では一般に塗布、現像装置と呼ばれる液処理装置が使用されている。

上記現像処理においては、ウエハの直径とほぼ同じかウエハの直径よりも長い細長形状を有し、長手方向に沿ったスリット状の吐出口が形成された現像液供給ノズルを、静止状態のウエハに対してスキャンさせることでウエハ上に現像液を供給する、いわゆるスキャン現像が知られている。一方、ウエハを所望の回転速度で回転させ、回転中のウエハに対して現像液を供給する、いわゆるスピン現像も知られている。

このスピン現像に利用される現像液供給ノズルとしては、上記スキャン現像に使用されるのと同じ、ウエハの直径とほぼ同じかウエハの直径よりも長い細長形状の現像液供給ノズルが知られている（例えば、特許文献１参照）。また、同様に細長形状の現像液供給ノズルではあるが、長さがウエハの半径とほぼ同じかウエハの半径よりも短いタイプを用い、ノズルの長手方向に並列して設けられた複数の吐出口から、ウエハの回転方向と同じ向きに現像液を供給する手法も知られている（例えば、特許文献２参照）。さらに、スプレー式の現像液供給ノズルも知られており、この手法によれば、ウエハの上方位置に配置されたスプレーノズルから現像液を噴射することで、ウエハに現像液が供給される（例えば、特許文献３）。

特開平５−１３３２０号公報（特許請求の範囲、図１〜図３） 特開平９−１３８５０８号公報（特許請求の範囲、図１〜図４） 特開平７−１６１６７５号公報（特許請求の範囲、図１〜図３）

ところで、最近の塗布、現像装置においては、形成されるレジスト膜の表面疎水化性能を向上させるために有効なレジスト液が使用されている。特に、液浸露光装置を用いた、いわゆる液浸リソグラフィープロセスにおいては、レジスト膜からのレジスト成分の溶出が液浸露光装置に使用される光学レンズ等への汚染原因となるため、レジスト液の材料開発の段階から疎水性を高めることがトレンドとなっている。

一方、現像処理においては、上記のように現像液供給ノズルからウエハに対して現像液が供給されるが、ウエハ上に形成されたレジスト膜の疎水化性能が高ければ高いほど、ウエハに供給される現像液がはじかれやすくなり、いわゆる液跳ねという現象が発生しやすくなる。この液跳ねが発生する状態では、ウエハ上に供給される現像液の量が多くなり、コスト的に割高になるという問題があった。

また、スピン現像においては、回転するウエハの回転速度はウエハの外周にいくほど速くなる。特許文献１〜特許文献３に記載のように、現像液供給ノズルからウエハに対して均等に現像液を供給する手法では、ウエハの中心部とウエハの周縁部とで回転速度が異なるため、ウエハの外周に近くなるほど現像液の液跳ねが発生しやすくなる。現像液の液跳ねが発生しやすいウエハの周縁部付近では、結果としてウエハ上に現像液がぬれていない部分が生じる可能性があり、これは現像ムラや現像欠陥の原因となるという問題もあった。これらの問題は、ウエハ等の基板のサイズが大型化すると、より顕著となる。

本考案は上記事情に鑑みなされたもので、回転中の基板の表面に液供給ノズルから処理液を供給する場合に、液跳ねの発生を抑制すると共に、基板の面内全体で液跳ね量（頻度×液量）のバランスを取り、かつ、基板の面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な液処理を実行することができる液処理装置を提供する。

上記目的を達成するために、本考案の液処理装置は、基板を回転可能に保持する保持手段と、上記保持手段により保持される上記基板の表面に所定の処理液を供給する液供給ノズルと、上記液供給ノズルを待機位置と処理液供給位置との間で移動させる駆動機構とを備える液処理装置であって、 上記液供給ノズルは、 回転中の上記基板の半径方向の上方に配置可能な、処理液を収容するノズル本体と、 回転中の上記基板の回転中心付近に対して、垂直方向から上記処理液を供給する第１の吐出部と、 回転する上記基板の回転半径上で、上記第１の吐出部よりも外周側に配置されると共に、上記回転中心付近を除く位置に対して、垂直方向から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した方向に上記処理液を供給する外側吐出部とを備えた、ことを特徴とする。

このような構成とすることによって、回転中の基板の表面に液供給ノズルから処理液を供給する場合に、回転速度が遅く、かつ液跳ねの頻度が少ない、基板の中心部付近での液跳ねする液量をそのままにして、回転速度が速く、かつ液跳ねの頻度が多い、基板の周縁部付近での液跳ねする液量を低減することができる。したがって、基板の面内全体で液跳ね量（頻度×液量）のバランスを取り、基板の面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な液処理を実行することができる。

また、本考案の液処理装置において、上記第１の吐出部と上記外側吐出部は、上記ノズル本体の底面から下方に向けて突出しており、上記第１の吐出部は、筒状に形成され、上記外側吐出部は、上記ズル本体の長手方向及び上記基板の回転半径に沿う方向に処理液を供給すべく、横長状に形成される方が好ましい。

このような構成とすることによって、基板のサイズが大型化され、回転する基板の回転半径が大きくなる場合であっても、基板の回転半径に沿って上記外側吐出部の長さを伸ばすことで、基板の面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な液処理を実行することができる。

さらに、本考案の液処理装置において、上記外側吐出部は、液供給ノズルの底面から垂直方向に突出した垂直吐出部と、この垂直吐出部から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した傾斜吐出部とを備えた構成とする方が好ましい。

このような構成とすることによって、上記外側吐出部から上記基板の回転方向に向けた処理液の液流を形成することが容易となる。

また、本考案の液処理装置において、上記外側吐出部は、回転する上記基板の回転半径上で、上記第１の吐出部よりも外周側に配置されると共に、上記回転中心付近を除く位置に対して、垂直方向から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した方向に上記処理液を供給する第２の吐出部と、回転する上記基板の回転半径上で、上記第２の吐出部よりも外周側に配置されると共に、上記回転中心付近を除く位置、かつ、上記第２の吐出部から上記処理液が供給される位置よりも外周側の位置に対して、垂直方向から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した方向に上記処理液を供給する第３の吐出部とを備えた構成としても良い。

このような構成とすることによって、回転中の基板の表面に液供給ノズルから処理液を供給する場合に、最も回転速度が速い基板の外周部付近に対しては、それより内側の位置に対するよりも、さらに勢いを弱められた状態で処理液を供給することができる。したがって、基板の外周部付近で発生する液跳ねの頻度が最も多いとしても、液跳ねする液量自体が最も低減されていることとなり、さらに基板の面内全体で液跳ね量（頻度×液量）のバランスを取ることができ、基板の面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な液処理を実行することができる。

また、本考案の液処理装置において、上記第２の吐出部と上記第３の吐出部は、ノズル本体の底面から下方に向けて突出しており、上記第２の吐出部と上記第３の吐出部は、上記液供給ノズルの長手方向及び上記基板の回転半径に沿う方向に処理液を供給すべく、横長状に形成される方が好ましい。

このような構成とすることによって、上記第２の吐出部と上記第３の吐出部とから上記基板の回転方向に向けた処理液の液流を形成することが容易となる。

さらに、本考案の液処理装置において、上記第２の吐出部と第３の吐出部は、液供給ノズルの底面から垂直方向に突出した垂直吐出部と、この垂直吐出部から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した傾斜吐出部とを備えており、第３の吐出部の傾斜吐出部の傾斜角度は、第２の吐出部の傾斜吐出部の傾斜角度よりも大きくした方が好ましい。

このような構成とすることによって、回転する上記基板の外周部付近に処理液を供給する第３の吐出部から吐出される処理液の勢いを最も弱めることができる。

さらに、本考案の液処理ノズルにおいて、上記第３の吐出部は、上記第１の吐出部及び上記第２の吐出部に対して、上記基板の回転半径に沿って移動可能に構成される方が好ましい。

このような構成とすることによって、回転する上記基板の外周部付近に処理液を吐出する第３の吐出部の位置を調整することができる。すなわち、回転する上記基板の外周部付近へ処理液を供給する必要が無い場合等は、第３の吐出部を上記基板の中心方向へ移動することで、外周部付近への処理液供給量を抑制することができる。

以上説明したように、本考案によれば、回転中の基板の表面に液供給ノズルから処理液を供給する場合に、液跳ねの発生を抑制すると共に、基板の面内全体で液跳ね量（頻度×液量）のバランスを取り、かつ、基板の面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な液処理を実行することができる。

本考案に係る液供給ノズル及び液処理装置を適用した塗布現像処理システムの概略平面図である。 上記塗布現像処理システムの概略斜視図である。 上記塗布現像処理システムの概略正面図である。 本考案に係る液処理装置である現像処理ユニットの構成を示す概略斜視図である。 本考案に係る液供給ノズルである現像液ノズルの構成を示す概略平面図（ａ）、（ａ）のＩ−Ｉ線に沿う概略断面図（ｂ）及び（ｂ）のII−II線に沿う概略断面図（ｃ）である。 上記現像液ノズルの吐出部の構成、及びこの吐出部から吐出される現像液の吐出方向を示す概略断面図である。 他の実施形態に係る液供給ノズルである現像液ノズルの構成を示す概略平面図（ａ）、（ａ）のIII−III線に沿う概略断面図（ｂ）及び（ｂ）のIV−IV線に沿う概略断面図（ｃ）である。 上記現像液ノズルの吐出部の構成、及びこの吐出部から吐出される現像液の吐出方向を示す概略断面図である。 さらに他の実施形態に係る液供給ノズルである現像液ノズルの構成を示す概略断面図である。 上記現像液ノズルの吐出部の移動を示す概略側面図である。

以下に、本考案の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施の形態では、本考案に係る液供給ノズル及び、この液供給ノズルを備えた液処理装置を、半導体ウエハの塗布現像処理システムに適用した場合について説明する。

上記塗布現像処理システムは、図１ないし図３に示すように、基板である半導体ウエハ（以下にウエハＷという）を密閉型の基板収納容器であるキャリア８０で複数枚例えば２５枚単位で外部からシステムに搬入したり、キャリア８０をシステムから外部へ搬出したり、キャリアブロックアームＣでキャリア８０に対してウエハＷを搬出・搬入したりするためのキャリアブロックＳ１と、このキャリアブロックＳ１と隣接して設けられ、塗布、現像工程の中で１枚ずつウエハＷに所定の処理を施す枚葉式の各種処理ユニットを所定位置に多数配置してなる処理ブロックＳ２と、この処理ブロックＳ２と隣接して設けられ、露光装置Ｓ４との間でウエハＷを受け渡すためのインターフェイスブロックＳ３とで主要部が構成されている。

上記キャリアブロックＳ１は、図１に示すように、載置台８０ａ上に複数個例えば４個までのキャリア８０がそれぞれのウエハ搬入出口を処理ブロックＳ２側に向けて水平のＸ方向に沿って一列に載置可能に構成されている。また、キャリアブロックＳ１は、キャリア配列方向（Ｘ方向）及びキャリア８０内に垂直方向に沿って収容されたウエハＷのウエハ配列方向（Ｚ方向）に移動可能で、かつ処理前のウエハＷをキャリア８０から取り出して処理ブッロクＳ２に受け渡し、処理済みのウエハＷを処理ブロックＳ２から受け取ってキャリア８０に戻すキャリアブロックアームＣを備えた構成となっている。

上記処理ブロックＳ２は、図２に示すように、ウエハＷに現像処理を行うための現像処理ユニットが設けられる第１の液処理ブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１、ウエハＷに塗布されたレジスト膜の下層側に形成される反射防止膜の形成処理を行うための下層反射防止膜塗布ユニットが設けられる第２の液処理ブロック（ＢＣＴ層）Ｂ２、ウエハＷにレジスト膜の塗布を行うためのレジスト塗布ユニットが設けられる第３の液処理ブロック（ＣＯＴ層）Ｂ３、ウエハＷに塗布されたレジスト膜の上層側に形成される反射防止膜の形成処理を行うための上層反射防止膜塗布ユニットが設けられる第４の液処理ブロック（ＴＣＴ層）Ｂ４を下から順に積層して構成されている。

上記第１の液処理ブロックＢ１に設けられた現像処理ユニット、上記第２の液処理ブロックＢ２に設けられた下層反射防止膜塗布ユニット、上記第３の液処理ブロックＢ３に設けられたレジスト塗布ユニット、上記第４の液処理ブロックＢ４に設けられた上層反射防止膜塗布ユニットが、本考案に係る液処理装置である。さらに処理ブロックＳ２は、これらの液処理装置で行われる液処理の前後にウエハＷを加熱処理又は冷却処理する熱処理ユニット、各ユニット間又は各ブロック間でのウエハＷの搬送で一時的にウエハＷを載置する基板受け渡しユニット等の非液処理装置を多段に積層してなるユニットタワー（Ｕ１〜Ｕ６）を備えており、これらの液処理装置、非液処理装置に対してウエハＷを搬入、搬出する搬送アームＡ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４も備えた構成となっている。

なお、上記処理ブロックＳ２に設けられた現像処理ユニット、レジスト塗布ユニットなどの駆動部と、上記搬送アームＡ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４は、コントローラ９からの制御信号に基づいて駆動制御されるように構成されている。

上記インターフェイスブロックＳ３は、図１及び図３に示すように、処理ブロックＢ２で所定の処理が施されたウエハＷを露光装置Ｓ４に受け渡し、露光装置Ｓ４で露光処理が施されたウエハＷを受け取り、再び処理ブロックＢ２へ戻すインターフェイスアームＢを備えた構成となっている。

次に、上記塗布現像処理システムの動作について、上記塗布現像処理システムのさらに詳細な構成の説明と共に説明する。まず、キャリア８０内のウエハＷはキャリアブロックアームＣで搬出され、処理ブロックＳ２内のユニットタワーＵ５の一つの受け渡しユニットＴＲＳ１（トランジションステージ）に搬入される。ユニットタワーＵ５の近傍には、ユニットタワーＵ５に積層された複数のユニット間でウエハＷを搬送する受け渡しアームＤが設けられている。受け渡しユニットＴＲＳ１に搬入されたウエハＷは、受け渡しアームＤにより、第２の液処理ブロックＢ２に対応する、ユニットタワーＵ５内の冷却処理ユニットＣＰＬ２へ搬送される。第２の液処理ブロックＢ２内でウエハＷを搬送する搬送アームＡ２は、この冷却処理ユニットＣＰＬ２からウエハＷを受け取り、ウエハＷを所定の各ユニット（下層反射防止膜塗布ユニット及び熱処理ユニット）に搬送する。このようにして、ウエハＷに下層反射防止膜が形成される。

下層反射防止膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ２でユニットタワーＵ５内の受け渡し待機ユニットＢＦ２へ搬送される。その後、ウエハＷは、受け渡しアームＤにより、第３の液処理ブロックＢ３に対応する、ユニットタワーＵ５内の冷却処理ユニットＣＰＬ３へ搬送される。第３の液処理ブロックＢ３内でウエハＷを搬送する搬送アームＡ３は、この冷却処理ユニットＣＰＬ３からウエハＷを受け取り、ウエハＷを所定の各ユニット（レジスト塗布ユニット及び熱処理ユニット）に搬送する。このようにして、ウエハＷの下層反射防止膜の上にレジスト膜が形成される。

レジスト膜が形成されたウエハＷは、搬送アームＡ３でユニットタワーＵ５内の受け渡し待機ユニットＢＦ３へ搬送される。次に、ウエハＷはインターフェイスブロックＳ３を介して、露光装置Ｓ４へ搬送される。そのため、ウエハＷは、受け渡しアームＤにより、
受け渡し待機ユニットＢＦ３からユニットタワーＵ５内の冷却処理ユニットＣＰＬ１１へ搬送され、次にユニットタワーＵ５とユニットタワーＵ６との間でウエハＷを直接搬送するシャトルアームＥにより、冷却処理ユニットＣＰＬ１１からユニットタワーＵ６内の冷却処理ユニットＣＰＬ１２へ搬送され、さらにインターフェイスアームＢを介して露光装置Ｓ４へ搬送される。

なお、レジスト膜が形成されたウエハＷは、第４の液処理ブロックＢ４にてさらに反射防止膜が形成される場合もある。この場合ウエハＷは、受け渡し待機ユニットＢＦ３へ搬送された後、受け渡しアームＤにより、第４の液処理ブロックＢ４に対応する、ユニットタワーＵ５内の冷却処理ユニットＣＰＬ４へ搬送され、第４の液処理ブロックＢ４内でウエハＷを搬送する搬送アームＡ４により、この冷却処理ユニットＣＰＬ４から所定の各ユニット（上層反射防止膜塗布ユニット及び熱処理ユニット）に搬送され、レジスト膜の上に上層反射防止膜が形成される。上層反射防止膜が形成されたウエハＷは、受け渡しアームＤで冷却処理ユニットＣＰＬ１１に搬送され、そこから上記と同様にして露光装置Ｓ４へ搬送される。

露光装置Ｓ４で露光処理が施されたウエハＷは、インターフェイスアームＢによってユニットタワーＵ６内の一つの受け渡しユニットＴＲＳ６へ搬送される。第１の液処理ブロックＢ１内でウエハＷを搬送する搬送アームＡ１は、この受け渡しユニットＴＲＳ６からウエハＷを受け取り、所定の各ユニット（現像処理ユニット及び熱処理ユニット）に搬送する。この間、ウエハＷには、現像処理前の加熱処理（ポストエクスポージャーベイク）、冷却処理、現像処理、現像後の加熱処理（ポストベーク）が施される。その後、ウエハＷは、搬送アームＡ１でユニットタワーＵ５内の一つの受け渡しユニットＴＲＳ１に搬送され、さらにキャリアブロックアームＣを介してキャリア８０に戻され、塗布現像処理システムでの一連の処理工程が終了する。

なお、最近の傾向としては、上記露光装置Ｓ４として、いわゆる液浸露光装置が利用されるケースが増えている。液浸露光装置は露光に用いるレンズ（図示しない）とウエハＷとの間に水を満たした状態で露光処理を行うため、ウエハＷ上に形成された上記レジスト膜等のレジスト成分が水中に溶け出し、上記レンズ等を汚染する恐れがある。そのため、上記レジスト膜、上記上層反射防止膜、上記下層反射防止膜の表面疎水化性能を高める必要がある。よって、本考案に係る液処理装置においても、上記レジスト膜、上記上層反射防止膜、上記下層反射防止膜の表面疎水化性能が、十分高くなるような液材料が使用されているものとして説明する。

次に、本考案に係る液処理装置の一実施形態である現像処理ユニットについて説明する。

現像処理ユニットは、上記のように第１の液処理ブロック（ＤＥＶ層）Ｂ１内に設けられ、図４に示すように、複数例えば３つの現像液処理部が横方向に並んで配置された構成となっており、各々の現像液処理部で基板を収容するカップであるカップ１１ａ，１１ｂ，１１ｃと、同じく各々の現像液処理部で基板にリンス液を吐出するリンス液ノズル１２ａ，１２ｂ，１２ｃと、これらリンス液ノズル１２ａ，１２ｂ，１２ｃが各々取り付けられたリンス液ノズルアーム１３ａ，１３ｂ，１３ｃと、３つの現像液処理部に共通して現像液を供給する現像液ノズル１４と、現像液ノズル支持部１５を介して、この現像液ノズル１４が取り付けられた現像液ノズルアーム１６とを備えている。

上記カップ１１ａ，１１ｂ，１１ｃは、図４に示すように、ウエハＷの裏面の中央部を吸着して水平に保持する保持手段であるスピンチャック２ａ，２ｂ，２ｃを備えており、各スピンチャック２ａ，２ｂ，２ｃは、ウエハＷを吸着した状態で回転駆動機構（図示しない）により鉛直軸回りに回転できるように構成されている。各スピンチャック２ａ，２ｂ，２ｃの周囲には、スピンチャックに保持されたウエハＷを囲むようにして、上方が開口したカップ体３０ａ，３０ｂ，３０ｃが設けられている。さらに、カップ体３０ａ、３０ｂ、３０ｃの底部側には、現像処理中の雰囲気を排気する排気ライン（図示しない）と、現像処理中にウエハＷに供給された現像液又はリンス液の廃液が流れ込むドレインライン（図示しない）とが各々設けられている。

また、上記カップ１１ａ，１１ｂ，１１ｃには、図４に示すように、各スピンチャック２ａ，２ｂ，２ｃと、各カップ体３０ａ，３０ｂ，３０ｃとの間に、ウエハＷの裏面を支持可能に設けられた、３本で１組の支持ピン１０ａ，１０ｂ，１０ｃが備えられている。これら支持ピン１０ａ，１０ｂ，１０ｃは、昇降機構（図示しない）により昇降自在に構成されており、上昇した位置でウエハＷを上記搬送アームＡ１に対して受け渡し、下降した位置でウエハＷをスピンチャック２ａ，２ｂ，２ｃに対して受け渡す構成となっている。

上記のように現像ノズル１４は、現像液ノズル支持部１５を介して、現像液ノズルアーム１６に取り付けられており、この現像液ノズルアーム１６は、現像液ノズル駆動機構１８により昇降自在に構成されている。また、現像液ノズル駆動機構１８は、上記カップ１１ａ，１１ｂ，１１ｃの配列方向に設けられたガイドレール２に沿って移動自在に構成されている。これらの構成により、現像ノズル１４は、現像ノズルアーム１６の移動に伴って所定の現像液処理部まで移動し、所定の処理プログラムに従ってウエハＷに現像液を供給する。さらに、カップ１１ａの側方には、現像ノズル１４からウエハＷへの現像液供給の必要が無い間に現像液ノズル１４を待機させる現像液ノズル待機部２０が設けられている。

次に、リンス液ノズル１２ａ，１２ｂ，１２ｃについて説明するが、各リンス液ノズルは上記カップ１１ａ，１１ｂ，１１ｃにそれぞれに対応しており、各々の構成は同じであるので、以下はリンス液ノズル１２ａ、カップ１１ａについて説明する。

上記のようにリンス液ノズル１２ａは、リンス液ノズルアーム１３ａに取り付けられており、このリンス液ノズルアーム１３ａは、リンス液ノズル駆動機構１９ａにより昇降自在に構成されている。また、リンス液ノズル駆動機構１９ａは、図４に示すように、カップ１１ａの外に設けられたガイドレール３ａに沿って移動自在に構成されている。これらの構成により、リンス液ノズル１２ａは、リンス液ノズルアーム１３ａの移動に伴って移動し、所定の処理プログラムに従ってウエハＷにリンス液を供給する。さらに、図４に示すように、カップ１１ａの側方には、リンス液ノズル１３ａからウエハＷへのリンス液供給の必要が無い間にリンス液ノズル１３ａを待機させるリンス液ノズル待機部１７ａが設けられている。

次に、本考案に係る液供給ノズルである現像液ノズル１４の構造について、図５及び図６を参照して説明する。

現像液ノズル１４は、図５に示すように、スピンチャックにより保持されたウエハＷの半径方向の上方に移動可能な、内部に現像液収容部２１を有する横長容器状のノズル本体１４Ａを備えている。ノズル本体１４Ａの現像液収容部２１には、現像液ノズル支持部１５、及び現像液ノズルアーム１６の内部を貫通する現像液供給配管２２が接続されている。この現像液供給配管２２の他端は、現像液供給源（図示しない）に接続されており、不活性ガスの気体圧等により、所定圧力で現像液収容部２１内に所定量の現像液を供給可能に構成されている。

また、図５に示すように、ノズル本体１４Ａの底部には、ウエハＷに向けて突出する如く、第１の吐出部２３と外側吐出部である第２の吐出部２４とが設けられている。第１の吐出部２３は、現像液収容部２１と連通し、筒状、例えば円筒状の形状であって、上記不活性ガスの気体圧等により、ウエハＷに対してほぼ垂直方向に現像液を供給できる構成となっており、現像液ノズル１４が現像液ノズルアーム１６の移動に伴ってウエハＷ上に移動した時に、ウエハＷの中心部付近に対向するように構成されている。

一方、第２の吐出部２４は、ノズル本体１４Ａの長手方向に沿った横長状の形状であって、内部には、該長手方向に並列して設けられた、各々が現像液収容部２１と連通する複数の吐出口２５を備えており、上記不活性ガスの気体圧等により、全ての吐出口２５からほぼ同時に現像液を吐出できる構成となっている。また、複数の吐出口２５は、現像液ノズル１４が現像液ノズルアーム１６の移動に伴ってウエハＷ上に移動した時に、ウエハＷの中心部付近を除く位置であって、ウエハＷの半径方向に沿った位置に対向するように構成されている。ここで、図５（ｂ）及び図６に示すように、第２の吐出部２４は、ノズル本体１４Ａの底面に対して垂直方向に突出した垂直吐出部２４ａと、この垂直吐出部２４ａに延設して設けられ、ノズル本体１４Ａの底面の鉛直方向に対して所定の角度θ１で傾斜した傾斜吐出部２４ｂとで構成されている。この傾斜吐出部２４ｂの傾斜方向は、現像液ノズル１４が現像液ノズルアーム１６の移動に伴ってウエハＷ上に移動した時に、ウエハＷの回転方向Ｒと同じになるようにされている。

なお、上記実施形態においては、現像液収容部２１に対して第１の吐出部２３と第２の吐出部２４とが共通して連通した構成となっていたが、現像液収容部２１の内部を２つに分割して、それぞれに第１の吐出部２３と第２の吐出部２４とを独立して連通させても良い。また、２つに分割された現像液収容部２１に対しては、現像液供給配管２２も別々に接続する構成としても良く、この場合は、第１の吐出部２３と第２の吐出部２４とから吐出される現像液の吐出量、吐出タイミングを独立して制御できる。さらに、上記実施形態においては、上記第２の吐出口２４の内部に複数の吐出口２５を備えていたが、これに限定せず、上記現像液ノズル１４の長手方向に沿ったスリット状の吐出口を備える構成としても良い。

次に、上記現像処理ユニットの動作について説明する。なお、上記のように現像処理ユニットにおいて、３つの現像液処理部を構成するカップ１１ａ，１１ｂ，１１ｃの構成は同じであるので、以下はカップ１１ａでの処理について説明する。

まず、上記搬送アームＡ１が、ウエハＷをカップ１１ａ内の支持ピン１０ａに受け渡す。続いて、ウエハＷは、支持ピン１０ａの降下によってスピンチャック２ａ上に受け渡され、スピンチャック２ａ上に吸着保持される。さらに、ウエハＷは、スピンチャック２ａの回転開始に伴って回転を開始する。このウエハＷの回転開始とほぼ同じタイミングで、現像液ノズルアーム１６の移動と共に、現像液ノズル１４がウエハＷの上方の所定の位置に移動され、第１の吐出部２３及び第２の吐出部２４からウエハＷに対して、所定のタイミングで、所定量の現像液の供給が開始される。

このとき、第１の吐出部２３は、ウエハＷの中心部付近の上方に位置しており、ウエハＷの中心部付近に対して、ほぼ垂直方向の液流をもって現像液を供給する。一方、第２の吐出部２４は、ウエハＷの中心部付近を除く位置であって、ウエハＷの半径方向に沿った位置の上方に位置しており、そこからウエハＷの回転方向に向いた斜め方向の液流をもって現像液を供給する。

第１の吐出部２３及び第２の吐出部２４からウエハＷに対して現像液の供給が開始されてから所定時間経過後に、現像液の供給が停止され、現像液ノズル１４は現像液ノズルアーム１６の移動と共に、ウエハＷ上方から現像液ノズル待機部２０に向けて移動され、これとほぼ同じタイミングでウエハＷの回転も停止される。この後、所定時間が経過した後に再びウエハＷが回転され、リンス液ノズルアーム１３ａの移動と共に、リンス液ノズル１２ａがウエハＷの上方に移動され、リンス液ノズル１２ａからウエハＷにリンス液が供給されることでリンス処理が開始される。所定時間のリンス処理がなされた後は、リンス液ノズル１２ａからのリンス液の吐出を停止し、リンス液ノズル１２ａはリンス液ノズルアーム１３ａの移動と共に、リンス液ノズル待機部１７ａに向けて移動する。最後に、ウエハＷは、所定時間に亘って回転され、ウエハＷ上の液を振切られ、現像処理ユニットでの処理が終了する。

ところで、回転中のウエハＷの回転速度は、ウエハＷの中心部に近いほど遅く、周縁部に近いほど速いため、回転中のウエハＷの表面に対して均一に現像液を供給するとしたら、中心部付近と周縁部付近とでは、現像液の液跳ね量に差が出てしまう。さらに、上記レジスト膜、上記上層反射防止膜、上記下層反射防止膜の形成において、各々の膜の表面疎水化性能を向上させる液材料が使用されている場合には、この液跳ね量の差はより顕著となる。

しかし、本実施形態においては、回転中のウエハＷに対して異なる２つの吐出部から現像液を供給している。すなわち、図６に示すように、ウエハＷの中心部付近の位置に対しては、第１の吐出部２３から、ほぼ垂直方向の液流で現像液が供給され、ウエハＷの中心部付近を除く位置に対しては、第２の吐出部２４から、ウエハＷの回転方向に角度θ１だけ傾斜した方向の液流で現像液が供給されている。よって、ウエハＷの中心部付近に供給される現像液は比較的強い勢いでウエハＷに対してぶつかるが、中心部付近の回転速度そのものが遅いため、発生する液跳ねの頻度が低減される。一方、回転速度が速い、ウエハＷの周縁部付近に供給される現像液は、第２の吐出ノズル２４からウエハＷに対して斜め方向にぶつかるため、衝撃が緩和され、発生する液跳ねの頻度が多くても、液跳ねする液量自体は低減される。

本考案においては、回転速度が遅く、液跳ねの頻度が少ないウエハＷの中心部付近での液跳ねする液量をそのままにすると共に、回転速度が速く、液跳ねの頻度が多いウエハＷの周縁部付近での液跳ねする液量を低減させたので、ウエハＷの面内全体での液跳ね量（頻度×液量）のバランスが取れている。したがって、ウエハＷの面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な現像処理を実行することができる。

また、本考案においては、比較的狭い範囲となるウエハＷの中心部付近に現像液を供給する第１の吐出部２３を円筒状の形状とし、ウエハＷの中心部付近を除く位置であって、ウエハＷの半径方向に沿った部位に現像液を供給する第２の吐出部２４を現像液ノズル１４の長手方向に沿った横長状の形状としたので、ウエハＷ等の基板のサイズが大型化され、回転する基板の回転半径が大きくなったとしても、これに合わせて第２の吐出部２４の長さを伸ばせば良い。したがって、ウエハＷのサイズが大きくなっても、ウエハＷの面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な現像処理を実行することができる。

なお、上記実施形態においては、図６に示すように、ウエハＷの回転方向Ｒに対して第１の吐出部２３を前方側、第２の吐出部２４を後方側に配置していたが、これに限定せず、ウエハＷの回転方向Ｒに対して第１の吐出部２３を後方側、第２の吐出部２４を前方側に配置しても良く、ウエハＷの回転方向Ｒに対してほぼ同じ位置に第１の吐出部２３と第２の吐出部２４とを並べて配置しても良い。

また、上記傾斜吐出部２４ｂの傾斜角度θ１は、１０〜４５度の範囲に設定されることが望ましい。一方、上記実施形態においては、第１の吐出部２３から吐出される現像液の吐出方向をほぼ垂直方向としていたが、これに限定せず、ウエハＷの回転方向に少し傾斜した方向であっても良い。しかし、その傾斜角度は、上記傾斜吐出部２４ｂの傾斜角度θ１よりも十分に小さくする必要がある。

次に、本考案の別の実施形態に係る液供給ノズルである現像液ノズル１１４の構造について、図７及び図８を参照して説明する。なお、図５に示した現像液ノズル１４の構成要件と重複する部分については、同じ番号を使用し、説明も省略する。

図７に示すように、現像液ノズル１１４は横長容器状のノズル本体１４Ｂを備えており、ノズル本体１４Ｂの底部には、ウエハＷに向けて突出する如く、第１の吐出部２３と、外側吐出部を構成する第２の吐出部１２４と第３の吐出部２６とが設けられている。外側吐出部を構成する第２の吐出部１２４と第３の吐出部２６とは、図５に示した第２の吐出部２４（外側吐出部）と同様に、各々の内部に複数の吐出口１２５、２７を備えている。第１の吐出部２３は、図５に示した構成と同じであるが、第２の吐出部１２４は、現像液ノズル１１４の長手方向において、図５に示した第２の吐出部２４よりも短く、例えば約１／２の長さになっている。本実施形態では、ノズル本体１４Ｂの長手方向において、第２の吐出部１２４の長さと第３の吐出部２６の長さとをほぼ同じにしたので、第２の吐出部１２４の長さと第３の吐出部２６の長さとを合わせると、図５に示した第２の吐出部２４の長さとほぼ同じになる構成となっている。

また、図７及び図８に示すように、第２の吐出部１２４は、ノズル本体１４Ｂの底面に対して垂直方向に突出した垂直吐出部１２４ａと、この垂直吐出部１２４ａに延設して設けられ、ノズル本体１４Ｂの底面の鉛直方向に対して所定の角度θ２で傾斜した傾斜吐出部１２４ｂとで構成されている。さらに、第３の吐出部２６は、ノズル本体１４Ｂの底面に対して垂直方向に突出した垂直吐出部２６ａと、この垂直吐出部２６ａに延設して設けられ、ノズル本体１４Ｂの底面の鉛直方向に対して所定の角度θ３で傾斜した傾斜吐出部２６ｂとで構成されている。ここで上記傾斜吐出部１２４ｂの傾斜角度θ２は、１０〜３０度の範囲に設定されることが望ましく、上記傾斜吐出部２６ｂの傾斜角度θ３は、傾斜角度θ２より大きい３０〜４５度の範囲に設定されることが望ましい。

なお、上記実施形態においては、現像液収容部２１に対して第１の吐出部２３と第２の吐出部１２４と第３の吐出部２６とが共通して連通した構成となっていたが、現像液収容部２１の内部を３つに分割して、それぞれに第１の吐出部２３と第２の吐出部１２４と第３の吐出部２６とを独立して連通させても良い。さらに、３つに分割された現像液収容部２１に対しては、現像液供給配管２２も別々に接続する構成としても良く、この場合は、第１の吐出部２３と第２の吐出部１２４と第３の吐出部２６から吐出される現像液の吐出量、吐出タイミングを独立して制御できる。

次に、上記現像液ノズル１１４を備えた現像処理ユニットの動作について説明するが、上記現像液ノズル１４を備えた現像処理ユニットでの説明と同様にカップ１１ａでの処理について説明する。また、上記現像液ノズル１４での説明と重複する内容については、説明を省略する。

本実施形態においては、上記コントローラ９からの制御信号に基づいて、スピンチャック２ａに保持されたウエハＷの回転開始とほぼ同じタイミングで、現像液ノズルアーム１６の移動と共に、現像液ノズル１４がウエハＷの上方の所定の位置に移動され、第１の吐出部２３、第２の吐出部１２４及び第３の吐出部２６からウエハＷに対して、所定のタイミングで、所定量の現像液の供給が開始される。このとき、第１の吐出部２３は、ウエハＷの中心部付近の上方に位置しており、ウエハＷの中心部付近に対して、ほぼ垂直方向の液流をもって現像液を供給する。一方、第２の吐出部１２４と第３の吐出部２６は、ウエハＷの中心部付近を除く位置であって、ウエハＷの半径方向に沿った位置の上方に位置しており、そこからウエハＷの回転方向Ｒに向いた斜め方向の液流をもって現像液を供給する。ここで、第３の吐出部２６がウエハＷの外周に近い位置に配置され、第２の吐出部１２４は第３の吐出部２６の内側の位置に配置されている。

本実施形態においては、図７及び図８に示すように、ウエハＷの外周付近の位置に対しては、第３の吐出部２６から、ウエハＷの回転方向Ｒに角度θ３だけ傾斜した方向の液流で現像液が供給され、それより内側の位置に対しては、第２の吐出部１２４から、ウエハＷの回転方向Ｒに角度θ３より小さい角度θ２だけ傾斜した方向の液流で現像液が供給されている。よって、最も回転速度が速いウエハＷの外周部付近に対しては、それより内側の位置に対するよりも勢いを弱められた状態で現像液が供給される。したがって、ウエハＷの外周部付近で発生する液跳ねの頻度が最も多いとしても、液跳ねする液量自体は最も低減されていることとなる。このようにすることで、さらに良好に、ウエハＷの面内全体での液跳ね量（頻度×液量）のバランスを取ることができ、ウエハＷの面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な現像処理を実行することができる。

なお、上記実施形態においては、図８に示すように、ウエハＷの回転方向Ｒに対して第１の吐出部２３を１番前、第２の吐出部１２４を２番目、第３の吐出部２６を３番目に配置していたが、これに限定せず、それぞれの順番を入れ替えても良く、ウエハＷの回転方向Ｒに対してほぼ同じ位置にこれら３つの吐出部を並べて配置しても良い。また、上記実施形態においては、現像液ノズル１１４に３つの吐出部を設ける例を示したが、これに限定せず、さらに多くの吐出部を設けても良い。

次に、本考案のさらに別の実施形態に係る液供給ノズルである現像液ノズル２１４の構造について、図９を参照して説明する。

図９に示すように、現像液ノズル２１４は横長容器状のノズル本体１４Ｃを備えており、ノズル本体１４Ｃは、３つの現像液収容部２２１ａ，２２１ｂ，２２１ｃを有している。これら３つの現像液収容部２２１ａ，２２１ｂ，２２１ｃには、現像液ノズル支持部２１５ａ，２１５ｂ、駆動可能支持部２１７及び現像液ノズルアーム２１６の内部を貫通する現像液供給配管２２２が接続されている。この現像液供給配管２２２の他端は、現像液供給源（図示しない）に接続されており、不活性ガスの気体圧等により、所定圧力で現像液収容部２２１ａ，２２１ｂ，２２１ｃ内に所定量の現像液を供給可能に構成されている。

また、ノズル本体１４Ｃすなわち３つの現像液収容部２２１ａ，２２１ｂ，２２１ｃの底部には、それぞれウエハＷに向けて突出する如く、第１の吐出部２２３と、外側吐出部を構成する第２の吐出部２２４と第３の吐出部２２６とが設けられている。第１の吐出部２２３は、現像液供給部２２１ａと連通し、筒状、例えば円筒状の形状であって、上記不活性ガスの気体圧等により、ウエハＷに対してほぼ垂直方向に現像液を供給できる構成となっており、現像液ノズル２１４が現像液ノズルアーム２１６の移動に伴ってウエハＷ上の所定の位置に移動した時に、ウエハＷの中心部付近に対向するように構成されている。

一方、第２の吐出部２２４及び第３の吐出部２２６は、ノズル本体１４Ｃの長手方向に沿った横長状の形状であって、内部には、該長手方向に並列して設けられた、各々が現像液収容部２２１ｂ，２２１ｃと連通する複数の吐出口２２５，２２７を備えており、上記不活性ガスの気体圧等により、全ての吐出口２２５，２２７からほぼ同時に現像液を吐出できる構成となっている。また、複数の吐出口２２５，２２７は、現像液ノズル２１４が現像液ノズルアーム２１６の移動に伴ってウエハＷ上の所定の位置に移動した時に、ウエハＷの中心部付近を除く位置であって、ウエハＷの半径方向に沿った位置に対向するように構成されている。ここで、第２の吐出部２２４及び第３の吐出部２２６は、ノズル本体１４Ｃの長手方向において、図５に示した第２の吐出部２４よりも短く、例えば約１／２の長さになっている。本実施形態では、現像液ノズル２１４の長手方向において、第２の吐出部２２４の長さと第３の吐出部２２６の長さとをほぼ同じにしたので、第２の吐出部２２４の長さと第３の吐出部２２６の長さとを合わせると、図５に示した第２の吐出部２４の長さとほぼ同じになる構成となっている。

さらに、本実施形態においては、図９及び図１０に示すように、現像液ノズル２２４のノズル本体１４Ｃは、その内部に現像液収容部２２１ａ及び現像液収容部２２１ｂを有し、第１の吐出部２２３及び第２の吐出部２２４を備えた第１のノズル本体２１４ａと、その内部に現像液収容部２２１ｃを有し、第３の吐出部２２６を備えた第２のノズル本体２１４ｂとの２ブロック構成となっており、第２のノズル本体２１４ｂは、第１のノズル本体２１４ａに対して移動可能な構成となっている。すなわち、駆動機構（図示しない）の駆動によりガイドレール２１８に沿って、現像液ノズル２１４ｂと駆動可能支持部２１７とが移動する。

また、図９に示すように、第２の吐出部２２４は、ノズル本体１４Ｃの底面に対して垂直方向に突出した垂直吐出部２２４ａと、この垂直吐出部２２４ａに延設して設けられ、ノズル本体１４Ｃの底面の鉛直方向に対して所定の角度θ４で傾斜した傾斜吐出部２２４ｂとで構成されている。さらに、第３の吐出部２２６は、ノズル本体１４Ｃの底面に対して垂直方向に突出した垂直吐出部２２６ａと、この垂直吐出部２２６ａに延設して設けられ、ノズル本体１４Ｃの底面の鉛直方向に対して所定の角度θ５で傾斜した傾斜吐出部２２６ｂとで構成されている。ここで上記傾斜吐出部２２４ｂの傾斜角度θ４は、１０〜３０度の範囲に設定されることが望ましく、上記傾斜吐出部２２６ｂの傾斜角度θ５は、３０〜４５度の範囲に設定されることが望ましい。

なお、上記実施形態においては、現像液収容部２２１ａと現像液収容部２２１ｂとを設け、それぞれ第１の吐出部２２３、第２の吐出部２２４に連通させた構成としたが、現像液収容部を１つにまとめ、そこから第１の吐出部２２３及び第２の吐出部２２４に現像液を供給する構成としても良い。

次に、上記現像液ノズル２１４を備えた現像処理ユニットの動作について説明するが、上記現像液ノズル１４及び上記現像液ノズル１１４を備えた現像処理ユニットでの説明と同様にカップ１１ａでの処理について説明する。また、上記現像液ノズル１４及び上記現像液ノズル１１４での説明と重複する内容については、説明を省略する。

本実施形態においては、上記コントローラ９からの制御信号に基づいて、スピンチャック２ａに保持されたウエハＷの回転開始とほぼ同じタイミングで、現像液ノズルアーム２１６の移動と共に、現像液ノズル２１４がウエハＷの上方の所定の位置に移動され、第１の吐出部２２３、第２の吐出部２２４及び第３の吐出部２２６からウエハＷに対して、所定のタイミングで、所定量の現像液の供給が開始される。このとき、第１の吐出部２２３は、ウエハＷの中心部付近の上方に位置しており、ウエハＷの中心部付近に対して、ほぼ垂直方向の液流をもって現像液を供給する。一方、第２の吐出部２２４と第３の吐出部２２６とは、ウエハＷの中心部付近を除く位置であって、ウエハＷの半径方向に沿った位置の上方に位置しており、そこからウエハＷの回転方向Ｒに向いた斜め方向の液流をもって現像液を供給する。ここで、第３の吐出部２２６がウエハＷの外周に近い位置に配置され、第２の吐出部２２４は第３の吐出部２２６の内側の位置に配置されているが、第３の吐出部２２６は、ウエハＷの回転数、現像液の供給量、ウエハＷ上に形成されたパターン形状に応じて、ウエハＷの半径方向に沿って移動する。すなわち、ウエハＷの回転数が高速であり、ウエハＷの最外周部付近に現像液を供給しても遠心力によりウエハＷの外方に弾き飛ばされてしまう場合や、ウエハＷ上に供給する現像液の液量の関係で、ウエハＷの最外周部付近に現像液を供給する必要の無い場合や、ウエハＷの最外周部付近に現像すべきパターンが形成されていない場合等である。

本実施形態においては、液跳ねの頻度が最も多いウエハＷの外周部付近に現像液を供給する第３の吐出部２２６をウエハＷの半径方向に沿って移動可能としたので、ウエハＷの外周部付近で現像液が供給される位置を調整することができ、ウエハＷの最外周部付近へ現像液を供給する必要が無い場合等は、その部位への現像液供給量を抑制することができる。このようにすることで、さらに良好に、ウエハＷの面内全体で液跳ね量（頻度×液量）のバランスを取ることができ、ウエハＷの面内位置において液跳ね量の偏りが無く、均一な現像処理を実行することができる。

なお、上記実施形態においては、図９及び図１０に示すように、ウエハＷの回転方向Ｒに対して第１の吐出部２２３を１番前、第２の吐出部２２４を２番目、第３の吐出部２２６を３番目に配置し、第３の吐出部２２６のみをウエハＷの半径方向に移動可能としていたが、これに限定せず、それぞれの順番を入れ替えても良く、ウエハＷの回転方向Ｒに対してほぼ同じ位置にこれら３つの吐出部を並べて配置しても良く、さらには、全ての吐出部をウエハＷの半径方向に沿って移動可能な構成としても良い。

なお、上記説明においては、本考案に係る液供給ノズルを現像液ノズルに用いる場合について説明したが、上記リンス液ノズルに用いても良い。さらに上記説明においては、本考案の液処理装置を現像処理ユニットに用いる場合について説明したが、処理液を用いて基板を処理するものであれば他の装置、例えばレジスト塗布ユニット、洗浄処理ユニット等に用いることも勿論可能である。

本考案は、回転中の基板、例えば、半導体ウエハや液晶ディスプレイ用のガラス基板（ＦＰＤ基板）や太陽光発電用の基板（ウエハ、セル、モジュール）の面内位置において、均一な液処理を実行すること等に好適に利用することができる。

Ｗ 半導体ウエハ（基板）
２ａ，２ｂ，２ｃ スピンチャック（保持手段）
１４，１１４，２１４ 現像液ノズル（液供給ノズル）
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ ノズル本体
１８ 駆動機構
２２ 現像液供給配管
２３ 第１の吐出部
２４，１２４，２２４ 第２の吐出部（外側吐出部）
２４ａ，１２４ａ，２２４ａ 垂直吐出部
２４ｂ，１２４ｂ，２２４ｂ 傾斜吐出部
２６，２２６ 第３の吐出部（外側吐出部）
２６ａ，２２６ａ 垂直吐出部
２６ｂ，２２６ｂ 傾斜吐出部
２１４ａ 第１のノズル本体
２１４ｂ 第２のノズル本体

Claims (7)

1. 基板を回転可能に保持する保持手段と、上記保持手段により保持される上記基板の表面に所定の処理液を供給する液供給ノズルと、上記液供給ノズルを待機位置と処理液供給位置との間で移動させる駆動機構とを備える液処理装置であって、
   上記液供給ノズルは、
   回転中の上記基板の半径方向の上方に配置可能な、処理液を収容するノズル本体と、
   回転中の上記基板の回転中心付近に対して、垂直方向から上記処理液を供給する第１の吐出部と、
   回転する上記基板の回転半径上で、上記第１の吐出部よりも外周側に配置されると共に、上記回転中心付近を除く位置に対して、垂直方向から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した方向に上記処理液を供給する外側吐出部とを備えた、
   ことを特徴とする液処理装置。
2. 請求項１に記載の液処理装置において、
   上記第１の吐出部と上記外側吐出部は、上記ノズル本体の底面から下方に向けて突出しており、
   上記第１の吐出部は、筒状に形成され、
   上記外側吐出部は、上記ズル本体の長手方向及び上記基板の回転半径に沿う方向に処理液を供給すべく、横長状に形成される、
   ことを特徴とする液処理装置。
3. 請求項２に記載の液処理装置において、
   上記外側吐出部は、上記ノズル本体の底面から垂直方向に突出した垂直吐出部と、この垂直吐出部から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した傾斜吐出部とを備えた、
   ことを特徴とする液処理装置。
4. 請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置において、
   上記外側吐出部は、
   回転する上記基板の回転半径上で、上記第１の吐出部よりも外周側に配置されると共に、上記回転中心付近を除く位置に対して、垂直方向から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した方向に上記処理液を供給する第２の吐出部と、
   回転する上記基板の回転半径上で、上記第２の吐出部よりも外周側に配置されると共に、上記回転中心付近を除く位置、かつ、上記第２の吐出部から上記処理液が供給される位置よりも外周側の位置に対して、垂直方向から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した方向に上記処理液を供給する第３の吐出部とを備えた、
   ことを特徴とする液処理装置。
5. 請求項４に記載の液処理装置において、
   上記第２の吐出部と上記第３の吐出部は、ノズル本体の底面から下方に向けて突出しており、
   上記第２の吐出部と上記第３の吐出部は、上記ノズル本体の長手方向及び上記基板の回転半径に沿う方向に処理液を供給すべく、横長状に形成される、
   ことを特徴とする液処理装置。
6. 請求項５に記載の液処理装置において、
   上記第２の吐出部と第３の吐出部は、上記ノズル本体の底面から垂直方向に突出した垂直吐出部と、この垂直吐出部から上記基板の回転方向に所定角度だけ傾斜した傾斜吐出部とを備えており、
   上記第３の吐出部の傾斜吐出部の傾斜角度は、上記第２の吐出部の傾斜吐出部の傾斜角度よりも大きい、
   ことを特徴とする液処理装置。
7. 請求項４ないし６のいずれかに記載の液処理装置において、
   上記第３の吐出部は、上記第１の吐出部及び上記第２の吐出部に対して、上記基板の回転半径に沿って移動可能に構成される、
   ことを特徴とする液処理装置。

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