JP2020056096A - マスク組立体及びそれを利用した表示装置の製造装置並びに表示装置の製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 131
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 70
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 9
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 21
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 91
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 91
- 239000010408 film Substances 0.000 description 31
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 16
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 15
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 11
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 10
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- -1 region Substances 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Abstract
Description
移動用電子機器としては、モバイルフォンのような小型電子機器以外にも、最近になり、タブレットPC(personal computer)が汎用されている。
そのような移動型電子機器は、多様な機能を支援するために、イメージまたは映像のような視覚情報をユーザに提供するために表示装置を含む。
そのような表示装置は、イメージを具現する表示領域を具備する。
そのような表示領域は、多様な電子機器の製造のために、多様な形態に製造される。
すなわち、表示領域は、長方形ではない非定形にも形成される。
つまり、既存のマスク組立体を使用する場合、非定形の表示領域を有する表示装置の製造時、マスク組立体製造時に加えられる引っ張り力、または熱変形により、マスク組立体が設計値と異なってしまうという問題点がある。
前記第1突出部は、複数個具備され、複数個の前記第1突出部の内の2個の第1突出部は、前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることが好ましい。
前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置された2個の前記第1突出部は、互いに同一形状であることが好ましい。
前記第1遮蔽シート及び前記第2遮蔽シートの内の少なくとも1枚は、長手方向に平行な仮想の中心線を基準として、中心線の両側の形状が対称であることが好ましい。
前記第1遮蔽シートと前記第2遮蔽シートは、互いに直角を形成するように配置されることが好ましい。
前記第2突出部は、複数個具備され、複数個の前記第2突出部の内の2個の第2突出部は、前記第2遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることが好ましい。
前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置されることが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに形状が異なることが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに面積が異なることが好ましい。
前記第1突出部は、複数個具備され、複数個の前記第1突出部の内の2個の第1突出部は、前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることが好ましい。
前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置された2個の前記第1突出部は、互いに同一形状であることが好ましい。
前記第1遮蔽シート及び前記第2遮蔽シートの内の少なくとも1枚は、長手方向に平行な仮想の中心線を基準として、中心線の両側の形状が対称であることが好ましい。
前記第1遮蔽シートと前記第2遮蔽シートは、互いに直角を形成するように配置されることが好ましい。
前記第2突出部は、複数個具備され、複数個の前記第2突出部の内の2個の第2突出部は、前記第2遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることが好ましい。
前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置されることが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに形状が異なることが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに面積が異なることが好ましい。
前記第1突出部は、複数個具備され、複数個の前記第1突出部の内の2個の第1突出部は、前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることが好ましい。
前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置された2個の前記第1突出部は、互いに同一形状であることが好ましい。
前記第1遮蔽シート及び前記第2遮蔽シートの内の少なくとも1枚は、長手方向に平行な仮想の中心線を基準として、中心線の両側の形状が対称であることが好ましい。
前記第1遮蔽シートと前記第2遮蔽シートは、互いに直角を形成するように配置されることが好ましい。
前記第2突出部は、複数個具備され、複数個の前記第2突出部の内の2個の第2突出部は、前記第2遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることが好ましい。
前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置されることが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに形状が異なることが好ましい。
前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに面積が異なることが好ましい。
前記マスク組立体は、マスクフレームに配置され、複数個の開口部を備えるマスクシートと、前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第1遮蔽シートと、前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記各第1遮蔽シートと所定の角度を形成し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第2遮蔽シートと、を含み、前記各第1遮蔽シートと前記各第2遮蔽シートは、前記蒸着領域を定義することが好ましい。
本発明に係る表示装置の製造装置、及び表示装置の製造方法によれば、設計された形状の非定形表示領域を有する表示装置を製造することが可能である。
また、本発明の表示装置の製造装置、及び表示装置の製造方法は、表示領域の最外郭において、形状歪曲が発生しない表示装置を製造することが可能である。
しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、多様な形態によっても具現される。
図面を参照して説明するとき、同一であるか、あるいは対応する構成要素は、同一図面符号を付し、それに係わる重複説明は、省略する。
以下の実施形態において、第1、第2のような用語は、限定的な意味ではなく、1つの構成要素を他の構成要素と区別する目的に使用する。
以下の実施形態において、単数の表現は、文脈上明白に異なって意味しない限り、複数の表現を含む。
以下の実施形態において、膜、領域、構成要素のような部分が他の部分の上または上部にあるとするとき、他の部分の真上にある場合だけではなく、その中間に、他の膜、領域、構成要素などが介在されている場合も含む。
図面においては、説明の便宜のために、構成要素がその大きさが誇張されていたり縮小されていたりする。
例えば、図面に示された各構成の大きさ及び厚みは、説明の便宜のために任意に示されているので、本発明は、必ずしも図示したところに限定されるものではない。
ある実施形態が異なって具現可能である場合、特定の工程順序は、説明される順序と異なっても遂行される。
例えば、連続して説明される2つの工程が、実質的に同時に遂行されもし、説明される順序と反対の順序によっても進められる。
例えば、本明細書において、膜、領域、構成要素などが電気的に接続(連結)されているとするとき、膜、領域、構成要素などが直接電気的に接続(連結)されている場合だけではなく、その中間に、他の膜、領域、構成要素などが介在されて間接的に電気的接続(連結)されている場合も含む。
マスク組立体150は、内部に空間が形成されるように、複数個のフレームが互いに連結される。
一実施形態として、マスク組立体150は、中央に1つの開口部が形成された額縁形態でもある。
他の実施形態として、マスク組立体150は、複数個の開口部を含む窓枠のような格子形態にも形成され得る。
以下では、説明の便宜のために、マスク組立体150が、中央に1つの開口部が形成された場合を中心に詳細に説明する。
このとき、マスクシート152は、第1方向(例えば、図1のY軸方向、または図1のX方向の内の一つ)に配列される。
マスクシート152は、少なくとも1以上の開口部(152−1)を含む。
特に、マスクシート152には、長手方向に、複数個の開口部(152−1)が形成される。
このとき、複数個の開口部(152−1)は、互いに一定間隔離隔されるようにも配置され、マスクシート152の全面に形成される。
このとき、第1遮蔽シート153は、複数枚個具備され、マスクフレーム151に互いに離隔されるように配置される。
例えば、複数枚の第1遮蔽シート153は、マスクシート152の長手方向に互いに離隔するように配列される。
また、各第1遮蔽シート153は、マスクシート152と所定の角度を形成することができる。
例えば、各第1遮蔽シート153は、マスクシート152の長手方向と直交する方向(例えば、図1のX方向、または図1のY方向)に配列される。
以下では、説明の便宜のために、第1遮蔽シート153が、図1のY方向に配列される場合を中心に詳細に説明する。
第1遮蔽シート153は、マスクフレーム151に設けられる第1遮蔽シート本体部(153−1)と、第1遮蔽シート本体部(153−1)から突出する第1突出部(153−2)と、を含む。
第1遮蔽シート本体部(153−1)は、直線状のプレートに形成される。
このとき、第1遮蔽シート本体部(153−1)は、マスクシート152の長手方向と直交する方向(または、第1方向、図1のY方向)に配列される。
このとき、第1突出部(153−2)は、第1遮蔽シート本体部(153−1)と共に、蒸着領域Sの境界を定義する。
このとき、第1突出部(153−2)は、蒸着領域Sの境界を多様な形状に定義することができる。
特に、第1突出部(153−2)は、蒸着領域Sの境界において、第1遮蔽シート本体部(153−1)と所定の角度を形成する傾いた部分、曲率をもって形成される部分などを定義することができる。
例えば、第1突出部(153−2)は、蒸着領域Sの境界(または、枠)に配列された開口部(152−1)の一部を遮蔽することができる。
そのような場合、蒸着物質は、開口部(152−1)の一部しか通過することができない。
第1突出部(153−2)は、第1遮蔽シート本体部(153−1)の長手方向に対して所定の角度を形成するように、第1遮蔽シート本体部(153−1)の両側に突出するように形成される。
このとき、第1遮蔽シート本体部(153−1)の両側に配置された2個の第1突出部(153−2)は、互いに同一形状及び同一サイズを有し得る。
このとき、上述のような第1突出部(153−2)は、複数個具備される。
そのような場合、複数個の第1突出部(153−2)は、2個ずつ複数個のグループを形成し、各グループを形成する第1突出部(153−2)は、第1遮蔽シート本体部(153−1)の長手方向に沿って互いに離隔されるように配列される。
そのような場合、第1遮蔽シート153は、第1中心線C1を基準として、両側が互いに対称である。
具体的には、第2遮蔽シート154は、第1遮蔽シート153と直角を形成するように配列される。
第2遮蔽シート154は、第1遮蔽シート153と共に、蒸着領域Sを定義する。
そのような場合、第2遮蔽シート154は、マスクフレーム151とマスクシート152との間に配置される。
このとき、第2遮蔽シート154は、複数個具備され、複数個の第2遮蔽シート154は、第1遮蔽シート153の長手方向に、互いに離隔されるように配列される。
そのような第2遮蔽シート154は、第2遮蔽シート154の長手方向と平行であり、第2遮蔽シート154の中心を通る中心線を基準として、両側の形状が対称であるように形成される。
第2遮蔽シート154は、第2遮蔽シート本体部(154−1)と第2突出部(154−2)とを含む。
このとき、第2遮蔽シート本体部(154−1)は、マスクシート152の長手方向に配置される。
第2突出部(154−2)は、第2遮蔽シート本体部(154−1)から第1遮蔽シート本体部(153−1)の長さ方向に向かって突出する。
第2突出部(154−2)は、第2遮蔽シート本体部(154−1)と共に、蒸着領域Sの境界(または、枠)を定義する。
このとき、第2突出部(154−2)は、蒸着領域Sの境界を多様な形態に定義することができる。
例えば、第2突出部(154−2)は、蒸着領域Sの境界において、第2遮蔽シート本体部(154−1)と所定の角度を形成する傾いた部分、曲率をもって形成された部分などを定義することができる。
そのような場合、第2突出部(154−2)は、第1突出部(153−2)と類似して、複数個の開口部(152−1)の内の一部を遮蔽させることができる。
例えば、第2突出部(154−2)の形状は、第1突出部(153−2)と異なっていてもよい。
他の実施形態として、第2突出部(154−2)は、第1突出部(153−2)と形状が同一であり、面積(または、大きさ)が異なるように形成することも可能である。
そのような場合、第1突出部(153−2)と第2突出部(154−2)は、少なくとも一部分が重畳するようにも形成される。
それだけではなく、複数個の第1突出部(153−2)の内の一部だけが、第2突出部(154−2)と重畳するようにも配置され得る。
第2突出部(154−2)は、複数個具備され得る。
このとき、複数個の第2突出部(154−2)は、1対ずつ1つのグループを形成し、複数個のグループは、第2遮蔽シート本体部(154−1)の長手方向に沿って互いに離隔されるように配置される。
また、一対の第2突出部(154−2)は、第2遮蔽シート本体部(154−1)を中心として互いに対向するようにも配置される。
そのような場合、互いに対向する第2突出部(154−2)は、互いに同一形状及び同一サイズを有することができる。
そのような場合、第2遮蔽シート154は、第2中心線C2を基準として、両側の形状が対称である。
このとき、1つの蒸着領域Sは、互いに隣接する2枚の第1遮蔽シート153と、互いに隣接する2枚の第2遮蔽シート154とが形成する空間上に配置された複数個の開口部(152−1)を介して、蒸着物質が通過する領域として定義される。
上述のような蒸着領域Sは、長方形または正方形を除いた非定形の形状を有することができる。
例えば、蒸着領域Sは、三角形、多角形、楕円、円のような形状を有することができる。
そのような場合、蒸着領域Sの非定形形状は、後述する第3中心線C3を中心として、第3中心線C3の両側に配置された第1蒸着領域S1と第2蒸着領域S2とが互いに異なる形状を有する場合に定義される。
そのような場合、第1蒸着領域S1と第2蒸着領域S2は、互いに異なる形状を有し得る。
すなわち、第3中心線C3を基準として、第1蒸着領域S1と第2蒸着領域S2は、互いに非対称であり得る。
そのような場合、第2蒸着領域S2のコーナー部分は、丸く面取り(R面取り)されて形成される。
一方、第1蒸着領域S1のコーナー部分は、傾斜するように(C面取り)形成される。
(以降の記載においては、蒸着領域、表示装置の表示領域のコーナー部分の変形に対して便宜的に「面取り」と称することとする。)
例えば、第1遮蔽シート153及び第2遮蔽シート154は、オーステナイト系ステンレス鋼(austenitic stainless steels)を含んでもよく、マスクシート152は、ニッケル・鉄合金(invar)を含んでもよい。
具体的には、マスクフレーム151上に、第2遮蔽シート154を配置した後、第2遮蔽シート154が引っ張られる可能性がある。
そのような場合、第2遮蔽シート154は、第2中心線C2を中心として、第2中心線C2の両側の形状が対称であるように形成されることにより、引っ張り力が加えられた場合にも、捻れたり、一部分だけ変形してしまったりするということはない。
また、蒸着物質が通過する場合、高温の蒸着物質によって発生する第2遮蔽シート154の変形が、第2遮蔽シート154全体にある程度均一に生じ、第2遮蔽シート154の対称形状により、第2中心線C2両側の第2遮蔽シート154部分が同一に変形され、第2遮蔽シート154が捻れたり、一部分のみ変形したりするということが、過度に発生しない。
第1遮蔽シート153は、第2遮蔽シート154と同様に、マスクフレーム151に配置された後で固定される。
そのような場合、第1遮蔽シート153も、引っ張り力が加えられる可能性がある。
このとき、第1遮蔽シート153は、第1中心線C1を基準として、第1中心線C1両側の形状が互いに対称に形成されることにより、第1遮蔽シート153が引っ張られる時、第1遮蔽シート153が全区間でほぼ同一に変形されるのである。
そのような場合、第1遮蔽シートが引っ張られる場合、または高温の蒸着物質により、第1遮蔽シートが加熱される場合、第1遮蔽シートの非対称により、第1遮蔽シートの各部分での変化率が互いに異なることにより、設計値と異なる蒸着領域が形成される。
それにより、蒸着物質がディスプレイ基板上に設計形状と異なる発光領域を形成することにより、不良が発生したり、品質が低下したりしてしまう。
また、第2遮蔽シート154の第2突出部(154−2)を、第1遮蔽シート153の第1突出部(153−2)と重畳させるように配置することにより、非定形の蒸着領域Sを具現することが可能である。
そのような場合、第2突出部(154−2)の一部は、第1突出部(153−2)の外側に突出することができる。
それにより、第2突出部(154−2)は、第1蒸着領域S1において、第1突出部(153−2)が形成する第1蒸着領域S1の境界と異なる第2蒸着領域S2の境界を形成することができる。
このとき、第1遮蔽シート153と第2遮蔽シート154は、マスクフレーム151に順次に積層されたり、第2遮蔽シート154と第1遮蔽シート153とがマスクフレーム151に順次に積層されたりし得る。
以下では、説明の便宜のために、マスクフレーム151、第2遮蔽シート154、及び第1遮蔽シート153を順次に積層する場合を中心に詳細に説明する。
以下では、説明の便宜のために、マスクシート152は、第2遮蔽シート154と同一方向に配置される場合を中心に詳細に説明する。
マスクシート152は、引っ張られた状態でマスクフレーム151上に配置され、マスクフレーム151にも固定される。
従って、マスク組立体150は、製造時、第1遮蔽シート153の変形を最小化させることにより、設計時の蒸着領域Sと、同一であるか、あるいは近似した蒸着領域Sを具現することが可能である。
図5を参照すると、表示装置の製造装置100は、チャンバ110、第1支持部120、第2支持部130、マスク組立体150、ソース部140、磁力部160、ビジョン部170、及び圧力調節部180を含む。
このとき、チャンバ110の開口された部分には、ゲート弁(110−1)が設けられる。
そのような場合、ゲート弁(110−1)の作動により、チャンバ110の開口された部分は、開放(OPEN)されたり閉鎖(CLOSE)されたりする。
このとき、第1支持部120は、チャンバ110内部に固定されたプレート状であり得る。
他の実施形態として、第1支持部120は、ディスプレイ基板Dが載置され、チャンバ110内部において線形運動可能なシャトル状でもあり得る。
さらに他の実施形態として、第1支持部120は、チャンバ110に固定されたり、昇降可能であったりするように配置される静電チャックや粘着チャックを含むことも可能である。
以下では、説明の便宜のために、第1支持部120は、チャンバ110内部に固定されるプレート状である場合を中心に詳細に説明する。
このとき、第2支持部130は、チャンバ110内部に配置される。
第2支持部130は、マスク組立体150の位置を微細調整することができる。
このとき、第2支持部130は、マスク組立体150を、互いに異なる方向に移動させることができるように、別途の駆動部あるいはアラインユニットなどを具備することができる。
このとき、ソース部140には、蒸着物質が収納され、蒸着物質に熱を加えることにより、蒸着物質を蒸発させたり昇華させたりすることができる。
ソース部140は、チャンバ110内部に固定されるように配置されるか、あるいは一方向に沿って線形運動可能になるように、チャンバ110内部に配置される。
ただし、以下では、説明の便宜のために、ソース部140がチャンバ110内部に固定されるように配置される場合を中心に詳細に説明する。
このとき、磁力部160は、マスクシート152に磁力を加え、ディスプレイ基板D側に、マスク組立体150に力を加えることができる。
特に、磁力部160は、マスクシート152の反りを防止するだけではなく、マスクシート152をディスプレイ基板Dに隣接させることができる。
また、磁力部160は、マスクシート152とディスプレイ基板Dとの間隔を、マスクシート152の長手方向に対して均一に維持させることができる。
このとき、ビジョン部170は、ディスプレイ基板D及びマスク組立体150を撮影するカメラを含み得る。
ビジョン部170で撮影されたイメージを基に、ディスプレイ基板Dとマスク組立体150との位置を把握することができ、そのイメージを基に、第2支持部130において、マスク組立体150の位置を微細調整することができる。
例えば、圧力調節部180は、チャンバ110内部の圧力を、大気圧と、同一であるか、あるいは近似して調節することができる。
また、圧力調節部180は、チャンバ110内部の圧力を、真空状態と同一であるか、あるいは近似して調節することができる。
圧力調節部180は、チャンバ110と連結される連結配管181と、連結配管181に設けられるポンプ182と、を含み得る。
このとき、ポンプ182の作動により、連結配管181を介して、外気を流入させたり、チャンバ110内部のガスを連結配管181を介して、外部に案内、流出させたりすることができる。
具体的には、圧力調節部180が、チャンバ110内部を大気圧と同一であるか、あるいは近似した状態にすれば、ゲート弁(110−1)が作動し、チャンバ110の開口された部分を開放することができる。
その後、外部から、ディスプレイ基板Dを、チャンバ110外部から内部に装入(挿入)する。
このとき、ディスプレイ基板Dは、多様な方式により、チャンバ110に装入(挿入)される。
例えば、ディスプレイ基板Dは、チャンバ110外部に配置されたロボットアームなどを介して、チャンバ110外部からチャンバ110内部に装入(挿入)される。
以下では、説明の便宜のために、チャンバ110外部に配置されたロボットアームを介して、ディスプレイ基板Dが、チャンバ110外部からチャンバ110内部に装入(挿入)する場合を中心に詳細に説明する。
他の実施形態として、マスク組立体150は、ディスプレイ基板Dと同一であるか、あるいは類似し、チャンバ110外部からチャンバ110内部に装入(挿入)することも可能である。
ただし、以下では、説明の便宜のために、マスク組立体150は、チャンバ110内部に配置された状態において、ディスプレイ基板Dだけがチャンバ110外部からチャンバ110内部に装入(挿入)される場合を中心に詳細に説明する。
このとき、ビジョン部170は、ディスプレイ基板Dとマスク組立体150との位置を撮影する。
特に、ビジョン部170は、ディスプレイ基板Dの第1アラインマーク、及びマスク組立体150の第2アラインマークを撮影する。
上述のように、撮影された第1アラインマークと第2アラインマークとを基に、ディスプレイ基板Dとマスク組立体150との位置を把握することができる。
このとき、表示装置の製造装置100は、別途の制御部(図示せず)が具備され、ディスプレイ基板Dとマスク組立体150との位置を把握することができる。
ディスプレイ基板Dとマスク組立体150との位置把握が完了すれば、第2支持部130は、マスク組立体150の位置を微細調整する。
このとき、ポンプ182は、チャンバ110内部のガスを吸入し、外部に排出させることにより、チャンバ110内部の圧力を、真空と同一であるか、あるいは近似した状態に維持させる。
上述のような場合、蒸着物質は、上述の蒸着領域(図示せず)上に配置された開口部を通過し、ディスプレイ基板Dに蒸着される。
このとき、マスク組立体150は、上述のように設計された蒸着領域と、同一であるか、あるいは近似した蒸着領域を提供することができる。
従って、表示装置の製造装置100は、ディスプレイ基板Dに設計された形態と同一であるか、あるいは近似した領域に蒸着物質を蒸着させることが可能である。
また、表示装置の製造装置100は、非定形の発光領域を有しながら、精密な表示装置を製造することが可能である。
図6及び図7を参照すると、表示装置20は、基板21上において、表示領域DAと、表示領域DAの外郭の非表示領域NDAとが定義される。
表示領域DAには、有機発光素子28が配置され、非表示領域には、電源配線(図示せず)などが配置される。
また、非表示領域には、パッド部Cが配置される。
このとき、表示領域DAは、非定形形状でもある。
具体的には、表示領域DAは、表示領域DAの中心を通る任意の第4中心線C4に対して、第4中心線C4の両側が非対称形態である。
このとき、表示領域DAの中心は、表示領域DAの境界のうち任意の2つの点を結ぶ線分のうち、長さが最長である線分と、長さが最短である線分とが交差する地点である。
また、任意の第4中心線C4は、前述の第1遮蔽シート(図示せず)の第1中心線(図示せず)と平行でもある。
そのような場合、第1表示領域DA1と第2表示領域DA2との形状及び大きさ(または、面積)は、互いに異なるように形成される。
表示装置20は、ディスプレイ基板D、ディスプレイ基板D上に配置された中間層(28−2)、中間層(28−2)上に配置された対向電極(28−3)を含み得る。
また、表示装置20は、対向電極(28−3)の上部に形成される薄膜封止層Eを含み得る。
基板21には、プラスチック材を使用することができ、また、SUS(steel use stainless)、Tiのような金属材を使用することもできる。
また、基板21は、ポリイミド(PI)を使用することもできる。
以下では、説明の便宜のために、基板21がポリイミドによって形成される場合を中心に詳細に説明する。
基板21の上面には、有機化合物及び/または無機化合物からなるバッファ層22がさらに形成されるが、SiOx(x≧1)、SiNx(x≧1)などからも形成される。
バッファ層22上に、所定パターンに配列された活性層23が形成された後、活性層23が、ゲート絶縁層24によっても埋め込まれる。
活性層23は、ソース領域(23−1)とドレイン領域(23−3)とを有し、その間に、チャネル領域(23−2)をさらに含む。
例えば、活性層23は、非晶質シリコンまたは結晶質シリコンのような無機半導体物質を含んでもよい。
他の例として、活性層23は、酸化物半導体を含んでもよい。
さらに他の例として、活性層23は、有機半導体物質を含んでもよい。
ただし、以下では、説明の便宜のために、活性層23が非晶質シリコンから形成される場合を中心に詳細に説明する。
そのような活性層23は、バッファ層22上に、非晶質シリコン膜を形成した後、それを結晶化させ、多結晶質シリコン膜に形成し、多結晶質シリコン膜をパターニングして形成することができる。
ゲート絶縁層24の上面には、活性層23と対応するゲート電極25と、それを埋め込む層間絶縁層26とが形成される。
そして、層間絶縁層26とゲート絶縁層24とに、コンタクトホールH1を形成した後、層間絶縁層26上に、ソース電極(27−1)及びドレイン電極(27−2)が、それぞれソース領域(23−1)及びドレイン領域(23−3)とコンタクトされるように形成する。
画素電極(28−1)は、パッシベーション膜27に形成されたビアホールH2により、TFTのドレイン電極(27−2)にコンタクトされる。
パッシベーション膜27は、無機物及び/または有機物、単層または2層以上にも形成されるが、下部膜の屈曲に係わりなく、上面が平坦になるように、平坦化膜によっても形成される一方、下部に位置した膜の屈曲に沿って屈曲がなされるようにも形成される。
そして、パッシベーション膜27は、共振効果を達成するように、透明絶縁体によって形成されることが望ましい。
そして、少なくとも、画素電極(28−1)上に、中間層(28−2)及び対向電極(28−3)が形成される。
他の実施形態として、対向電極(28−3)は、ディスプレイ基板Dの全面に形成することも可能である。
そのような場合、対向電極(28−3)は、中間層(28−2)、画素定義膜29の上にも形成される。
以下では、説明の便宜のために、対向電極(28−3)が、中間層(28−2)、画素定義膜29の上に形成される場合を中心に詳細に説明する。
画素電極(28−1)と対向電極(28−3)は、中間層(28−2)によって互いに絶縁されており、中間層(28−2)に、互いに異なる極性の電圧を加え、有機発光層で発光がなされるようにする。
選択的な他の例として、中間層(28−2)は、有機発光層(organic emission layer)を具備し、その外に、正孔注入層(HIL:hole injection layer)、正孔輸送層(hole transport layer)、電子輸送層(electron transport layer)及び電子注入層(electron injection layer)の内の少なくとも1層をさらに具備することができる。
本実施形態は、それに限定されるものではなく、中間層(28−2)が有機発光層を具備し、その他多様な機能層(図示せず)をさらに具備することができる。
このとき、上述のような中間層(28−2)は、上述の表示装置の製造装置(図示せず)を介しても形成される。
特に、複数の中間層(28−2)は、長方形、正方形を除いた形状の表示領域DAを形成し得る。
このとき、複数の中間層(28−2)は、表示領域DA内に互いに離隔されるように配置される。
そのような複数の中間層(28−2)の内の一部の面積は、複数の中間層(28−2)の内の他の一部の面積と異なってもいる。
例えば、複数の中間層(28−2)の内の一部の面積は、複数の中間層(28−2)の他の一部の面積より小さく形成される。
そのような複数の中間層28−2の内の他の中間層(28−2)より面積が小さい中間層(28−2)は、前述の遮断部(図示せず)の境界でも形成される。
例えば、複数の副画素は、それぞれ赤色、緑色、及び青色の光を放出する副画素を具備することができ、赤色、緑色、青色及び白色の光を放出する副画素(図示せず)を具備することができる。
前述のような副画素は、1個の中間層(28−2)を含み得る。
このとき、1つの副画素を形成する場合、前述の表示装置の製造装置100を介して、中間層(28−2)を形成することができる。
薄膜封止層Eの有機層は、高分子によって形成され、望ましくは、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ、ポリエチレン、及びポリアクリレートの内のいずれか一つによって形成される単一膜または積層膜であり得る。
さらに望ましくは、有機層は、ポリアクリレートによって形成され、具体的には、ジアクリレート系モノマーやトリアクリレート系モノマーを含むモノマー組成物が高分子化されたものを含んでもよい。
モノマー組成物に、モノアクリレート系モノマーがさらに含まれてもよい。
また、モノマー組成物に、TPOのような公知の光開始剤がさらに含まれてもよいが、それに限定されるものではない。
具体的には、無機層は、SiNx、Al2O3、SiO2、TiO2の内のいずれか一つを含み得る。
薄膜封止層Eにおいて、外部に露出した最上層は、有機発光素子に対する透湿を防止するために、無機層によっても形成される。
薄膜封止層Eは、少なくとも2層の無機層間に、少なくとも1層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。
他の例として、薄膜封止層Eは、少なくとも2層の有機層間に、少なくとも1層の無機層が挿入されたサンドイッチ構造を少なくとも一つ含んでもよい。
さらに他の例として、薄膜封止層Eは、少なくとも2層の無機層間に、少なくとも1層の有機層が挿入されたサンドイッチ構造、及び少なくとも2層の有機層間に、少なくとも1つの無機層が挿入されたサンドイッチ構造を含んでもよい。
他の例として、薄膜封止層Eは、有機発光素子(OLED)の上部から順に、第1無機層、第1有機層、第2無機層、第2有機層、第3無機層を含んでもよい。
さらに他の例として、薄膜封止層Eは、有機発光素子(OLED)の上部から順に、第1無機層、第1有機層、第2無機層、第2有機層、第3無機層、第3有機層、第4無機層を含んでもよい。
有機発光素子(OLED)と第1無機層との間に、LiFを含むハロゲン化金属層が追加して含まれてもよい。
ハロゲン化金属層は、第1無機層をスパッタリング法で形成するとき、前記有機発光素子(OLED)の損傷を防止することができる。
従って、表示装置20は、長方形及び正方形を除いた形状を有する表示領域を具現することが可能である。
また、表示装置20は、設計された表示領域と、同一であるか、あるいは近似した表示領域が具現される。
図8及び図9を参照すると、マスク組立体(図示せず)は、マスクフレーム(図示せず)、第1遮蔽シート(図示せず)、第2遮蔽シート154A、及びマスクシート(図示せず)を含む。
このとき、マスクフレーム、第1遮蔽シート、及びマスクシートは、前述の図1〜図4Bで説明したものと同一であるか、あるいは類似しているので、詳細な説明は、省略する。
このとき、第2遮蔽シート本体部(154A−1)と第2突出部(154A−2)は、前述の図1〜図4Bで説明したものと類似している。
このとき、第2突出部(154A−2)の形状は、前述の図1〜図4Bに示したものと異なる。
この場合、第2突出部(154A−2)は、円の一部と類似した形態でもある。
このとき、第2突出部(154A−2)は、第1突出部(図示せず)の両側辺の内の片方の側辺に形成されることにより、前記第1突出部の一部を遮蔽させることができる。
そのような場合、上述したように、第1遮蔽シート及び第2遮蔽シート154Aが引っ張られて、マスクフレームに固定させる場合、の第1遮蔽シート及び第2遮蔽シート154Aの内の少なくとも1枚は、捻れなどが発生しない。
従って、マスク組立体は、設計された蒸着領域に蒸着物質を通過させることが可能である。
このとき、表示装置20は、前述の図7で説明したものと同様に形成される。
このとき、表示領域DAの周囲には、非表示領域DAが配置され、非表示領域DAには、パッドCが配置される。
表示領域DAは、第4中心線C4を基準として、第4中心線C4の両側に配置される第1表示領域DA1及び第2表示領域DA2を含む。
このとき、第1表示領域DA1と第2表示領域DA2は、図9に示しているように、互いに異なる形状、互いに異なる大きさを有することができる。
一方、第2表示領域DA2のコーナーは、表示領域DAの外側に向かって凸状に形成され、面取りされて形成される。
そのような場合、第1表示領域DA1のコーナーと、第2表示領域DA2のコーナーとの内の少なくとも一つは、少なくとも一つ以上の曲率半径を有し得る。
他の実施形態として、第1表示領域DA1のコーナーの曲率半径と、第2表示領域DA2のコーナーの曲率半径とがそれぞれ複数個である場合、複数個の第1表示領域DA1のコーナーの曲率半径の内の少なくとも一つと、複数個の第2表示領域DA2のコーナーの曲率半径の内の少なくとも一つは、互いに異なっていてもよい。
従って、表示装置20は、設計されたものと同一であるか、あるいは近似した精密な形態の非定形表示領域DAを有することが可能である。
図10及び図11を参照すると、マスク組立体(図示せず)は、マスクフレーム(図示せず)、第1遮蔽シート(図示せず)、第2遮蔽シート154B、及びマスクシート(図示せず)を含む。
このとき、マスクフレーム、第1遮蔽シート、及びマスクシートは、前述の図1〜図4Bで説明したものと同一であるか、あるいは類似しているので、詳細な説明は、省略する。
このとき、第2遮蔽シート本体部(154B−1)と第2突出部(154B−2)は、前述の図1〜図4Bで説明したものと類似している。
このとき、第2突出部(154B−2)の形状は、前述の図1〜図4Bに示したものと異なり得る。
そのような場合、第2突出部(154B−2)は、四角形形状でもある。
このとき、第2突出部(154B−2)は、前記第1突出部の一部を遮蔽させることができる。
そのような場合、前述のように、第1遮蔽シート及び第2遮蔽シート154Bが引っ張られ、マスクフレーム(図示せず)に固定させる場合、第1遮蔽シート及び第2遮蔽シート154Bの内の少なくとも1枚は、捻れなどが発生しない。
従って、マスク組立体は、設計された蒸着領域において、蒸着物質を通過させることが可能である。
このとき、表示装置20は、前述の図7で説明したものと同様に形成される。
このとき、表示領域DAの周囲には、非表示領域DAが配置され、非表示領域DAには、パッドCが配置される。
表示領域DAは、第4中心線C4を基準として、第4中心線C4の両側に配置される第1表示領域DA1と第2表示領域DA2とを含む。
このとき、第1表示領域DA1と第2表示領域DA2は、図11に示しているように、互いに異なる形状、互いに異なる大きさを有し得る。
例えば、第1表示領域DA1のコーナー部分は、段のような形状形成され、第2表示領域DA2のコーナー部分は、面取り(R面取り)されている。
従って、表示装置20は、設計されたものと同一であるか、あるいは類似した精密な形態の非定形表示領域DAを有することが可能である。
図12及び図13を参照すると、マスク組立体(図示せず)は、マスクフレーム(図示せず)、第1遮蔽シート153C、第2遮蔽シート154C、及びマスクシート(図示せず)を含む。
このとき、マスクフレーム及びマスクシートは、前述の図1〜図4Bで説明したものと同一であるか、あるいは類似しているので、詳細な説明は、省略する。
このとき、第1遮蔽シート本体部(153C−1)と第1突出部(153C−2)は、前述の図1〜図4Bで説明したものと同一であるか、あるいは類似しているので、詳細な説明は、省略する。
第2遮蔽シート154Cは、第2遮蔽シート本体部(154C−1)と第2突出部(154C−2)とを含む。
このとき、第2遮蔽シート本体部(154C−1)と第2突出部(154C−2)は、前述の図1〜図4Bで説明したものと類似してもいる。
そのような場合、第1突出部(153C−2)の面取りされた部分と、第2突出部(154C−2)の面取りされた部分との形状が互いに異なっていてもよい。
例えば、第1突出部(153C−2)の面取りされた部分の曲率半径R1と、第2突出部(154C−2)の面取りされた部分の曲率半径R2とが互いに異なっていてもよい。
前述のような場合、第1遮蔽シート153Cは、第1中心線C1を基準として、第1中心線C1両側の形状が対称になり、第2遮蔽シート154Cは、第2中心線C2を基準として、第2中心線C2の両側の形状が対称になる。
そのような場合、前述のように、第1遮蔽シート153C及び第2遮蔽シート154Cが引っ張られ、マスクフレーム151に固定させる場合、第1遮蔽シート153C及び第2遮蔽シート154Cの内の少なくとも1枚は、捻れなどが発生しない。
従って、マスク組立体は、設計された蒸着領域において、蒸着物質を通過させることが可能である。
このとき、表示装置20は、前述の図7で説明したものと同様に形成される。
このとき、表示領域DAの周囲には、非表示領域NDAが配置され、非表示領域NDAには、パッドCが配置され得る。
表示領域DAは、第4中心線C4を基準として、第4中心線C4の両側に配置される第1表示領域DA1と第2表示領域DA2とを含む。
このとき、第1表示領域DA1と第2表示領域DA2は、図13に示しているように、互いに異なる形状、互いに異なる大きさを有することができる。
このとき、第1表示領域DA1と第2表示領域DA2との内の少なくとも一つは、少なくとも一つ以上の曲率半径を有し得る。
一実施形態として、第2表示領域DA2の曲率半径R1’と、第1表示領域DA1の曲率半径R2’とが一つである場合、第2表示領域DA2の曲率半径R1’と、第1表示領域DA1の曲率半径R2’は、互いに異なっていてもよい。
他の実施形態として、第2表示領域DA2の曲率半径R1’と、第1表示領域DA1の曲率半径R2’とがそれぞれ複数個である場合、複数個の第2表示領域DA2の曲率半径R1’の内の少なくとも一つと、複数個の第1表示領域DA1の曲率半径R2’の内の少なくとも一つは、互いに異なっていてもよい。
また、第2表示領域DA2は、第2突出部(154C−2)によって蒸着物質が遮断されることによって形成される。
すなわち、第1表示領域DA1の形成時、第1突出部(153C−2)が影響を及ぼし、第2表示領域DA2の形成時、第2突出部(154C−2)が影響を及ぼす。
従って、表示装置20は、設計されたものと同一であるか、あるいは近似して精密な形態の非定形表示領域DAを有することが可能である。
21 基板
100 表示装置の製造装置
110 チャンバ
110−1 ゲート弁
120 第1支持部
130 第2支持部
140 ソース部
150 マスク組立体
151 マスクフレーム
152 マスクシート
152−1 開口部
153、153C 第1遮蔽シート
153−1、153C−1 第1遮蔽シート本体部
153−2、153C−2 第1突出部
154、154A、154B、154C 第2遮蔽シート
154−1、154A−1、154B−1、154C−1 第2遮蔽シート本体部
154−2、154A−2、154B−2、154C−2 第2突出部
160 磁力部
170 ビジョン部
180 圧力調節部
181 連結配管
182 ポンプ
D ディスプレイ基板
Claims (40)
- マスクフレームと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部を備えるマスクシートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第1遮蔽シートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記各第1遮蔽シートと所定の角度を形成し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第2遮蔽シートと、を有し、
前記各第1遮蔽シートと前記各第2遮蔽シートは、前記複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記複数個の開口部の内の一部を含む蒸着領域を定義し、
前記蒸着領域は、互いに隣接する前記第1遮蔽シートの中心を通過し、前記第1遮蔽シートの長手方向と平行な任意の直線によって、第1蒸着領域と第2蒸着領域とに区分され、
前記第1蒸着領域と前記第2蒸着領域は、形状が互いに異なることを特徴とするマスク組立体。 - 前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、
前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことを特徴とする請求項1に記載のマスク組立体。 - 前記第1突出部は、複数個具備され、
複数個の前記第1突出部の内の2個の第1突出部は、前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることを特徴とする請求項2に記載のマスク組立体。 - 前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置された2個の前記第1突出部は、互いに同一形状であることを特徴とする請求項3に記載のマスク組立体。
- 前記第1遮蔽シート及び前記第2遮蔽シートの内の少なくとも1枚は、長手方向に平行な仮想の中心線を基準として、中心線の両側の形状が対称であることを特徴とする請求項1に記載のマスク組立体。
- 前記第1遮蔽シートと前記第2遮蔽シートは、互いに直角を形成するように配置されることを特徴とする請求項1に記載のマスク組立体。
- 前記第2遮蔽シートは、第2遮蔽シート本体部と、
前記第2遮蔽シート本体部から突出する第2突出部と、を含むことを特徴とする請求項1に記載のマスク組立体。 - 前記第2突出部は、複数個具備され、
複数個の前記第2突出部の内の2個の第2突出部は、前記第2遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることを特徴とする請求項7に記載のマスク組立体。 - 前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、
前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことを特徴とする請求項7に記載のマスク組立体。 - 前記第1突出部と前記第2突出部は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置されることを特徴とする請求項9に記載のマスク組立体。
- 前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに形状が異なることを特徴とする請求項9に 記載のマスク組立体。
- 前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに面積が異なることを特徴とする請求項9に記載のマスク組立体。
- 蒸着源と、
前記蒸着源と対向するように配置され、前記蒸着源から放射される蒸着物質が通過するマスク組立体と、
前記マスク組立体と対向するように配置され、前記マスク組立体を通過した蒸着物質が蒸着される基板を支持する基板支持部と、を有し、
前記マスク組立体は、マスクフレームと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部を備えるマスクシートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第1遮蔽シートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記各第1遮蔽シートと所定の角度を形成し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第2遮蔽シートと、を含み、
前記各第1遮蔽シートと前記各第2遮蔽シートは、前記複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記複数個の開口部の内の一部を含む蒸着領域を定義し、
前記蒸着領域は、互いに隣接する前記第1遮蔽シートの中心を通過し、前記第1遮蔽シートの長手方向と平行な任意の直線によって、第1蒸着領域と第2蒸着領域とに区分され、
前記第1蒸着領域と前記第2蒸着領域は、形状が互いに異なることを特徴とする表示装置の製造装置。 - 前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、
前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことを特徴とする請求項13に記載の表示装置の製造装置。 - 前記第1突出部は、複数個具備され、
複数個の前記第1突出部の内の2個の第1突出部は、前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることを特徴とする請求項14に記載の表示装置の製造装置。 - 前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置された2個の前記第1突出部は、互いに同一形状であることを特徴とする請求項15に記載の表示装置の製造装置。
- 前記第1遮蔽シート及び前記第2遮蔽シートの内の少なくとも1枚は、長手方向に平行な仮想の中心線を基準として、中心線の両側の形状が対称であることを特徴とする請求項13に記載の表示装置の製造装置。
- 前記第1遮蔽シートと前記第2遮蔽シートは、互いに直角を形成するように配置されることを特徴とする請求項13に記載の表示装置の製造装置。
- 前記第2遮蔽シートは、第2遮蔽シート本体部と、
前記第2遮蔽シート本体部から突出する第2突出部と、を含むことを特徴とする請求項13に記載の表示装置の製造装置。 - 前記第2突出部は、複数個具備され、
複数個の前記第2突出部の内の2個の第2突出部は、前記第2遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることを特徴とする請求項19に記載の表示装置の製造装置。 - 前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、
前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことを特徴とする請求項13又は19に記載の表示装置の製造装置。 - 前記第1突出部と前記第2突出部は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置されることを特徴とする請求項21に記載の表示装置の製造装置。
- 前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに形状が異なることを特徴とする請求項21に記載の表示装置の製造装置。
- 前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに面積が異なることを特徴とする請求項21に記載の表示装置の製造装置。
- チャンバ内部に、ディスプレイ基板とマスク組立体とを配置する段階と、
前記ディスプレイ基板と前記マスク組立体とを整列する段階と、
前記マスク組立体と対向するように配置された蒸着源から蒸着物質を放射させ、前記ディスプレイ基板に蒸着物質パターンを形成する段階と、を有し、
前記マスク組立体は、マスクフレームと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部を備えるマスクシートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第1遮蔽シートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記各第1遮蔽シートと所定の角度を形成し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第2遮蔽シートと、を含み、
前記各第1遮蔽シートと前記各第2遮蔽シートは、前記複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記複数個の開口部の内の一部を含む蒸着領域を定義し、
前記蒸着領域は、互いに隣接する前記第1遮蔽シートの中心を通過し、前記第1遮蔽シートの長手方向と平行な任意の直線によって、第1蒸着領域と第2蒸着領域とに区分され、
前記第1蒸着領域と前記第2蒸着領域は、形状が互いに異なることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、
前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことを特徴とする請求項25に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1突出部は、複数個具備され、
複数個の前記第1突出部の内の2個の第1突出部は、前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることを特徴とする請求項26に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置された2個の前記第1突出部は、互いに同一形状であることを特徴とする請求項27に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1遮蔽シート及び前記第2遮蔽シートの内の少なくとも1枚は、長手方向に平行な仮想の中心線を基準として、中心線の両側の形状が対称であることを特徴とする請求項25に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1遮蔽シートと前記第2遮蔽シートは、互いに直角を形成するように配置されることを特徴とする請求項25に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第2遮蔽シートは、第2遮蔽シート本体部と、
前記第2遮蔽シート本体部から突出する第2突出部と、を含むことを特徴とする請求項25に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第2突出部は、複数個具備され、
複数個の前記第2突出部の内の2個の第2突出部は、前記第2遮蔽シート本体部を中心として互いに対向するように配置されることを特徴とする請求項31に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1遮蔽シートは、第1遮蔽シート本体部と、
前記第1遮蔽シート本体部の長手方向に対して所定の角度を形成するように、前記第1遮蔽シート本体部から突出する第1突出部と、を含むことを特徴とする請求項31に記載の表示装置の製造方法。 - 前記第1突出部と前記第2突出部は、少なくとも一部分が互いに重畳するように配置されることを特徴とする請求項33に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに形状が異なることを特徴とする請求項33に記載の表示装置の製造方法。
- 前記第1突出部と前記第2突出部は、互いに面積が異なることを特徴とする請求項33に記載の表示装置の製造方法。
- チャンバ内部に、ディスプレイ基板とマスク組立体とを配置する段階と、
前記ディスプレイ基板と前記マスク組立体とを整列する段階と、
前記マスク組立体と対向するように配置された蒸着源から蒸着物質を放射させ、前記ディスプレイ基板に蒸着物質パターンを形成する段階と、を有し、
前記ディスプレイ基板に形成された蒸着物質パターンは、表示領域を形成し、
前記表示領域は、前記表示領域の中心を通過する任意の直線によって2つの領域に区分され、
前記表示領域の2つの領域は、非対称であることを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記マスク組立体は、蒸着物質が通過し、前記ディスプレイ基板に蒸着される前記蒸着物質パターンが形成する前記表示領域と対応するように、前記蒸着物質が通過する蒸着領域を定義することを特徴とする請求項37に記載の表示装置の製造方法。
- 前記マスク組立体は、マスクフレームに配置され、複数個の開口部を備えるマスクシートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第1遮蔽シートと、
前記マスクフレーム上に配置され、複数個の開口部の内の一部を遮蔽し、前記各第1遮蔽シートと所定の角度を形成し、互いに離隔されるように配列された少なくとも2枚以上の第2遮蔽シートと、を含み、
前記各第1遮蔽シートと前記各第2遮蔽シートは、前記蒸着領域を定義することを特徴とする請求項38に記載の表示装置の製造方法。 - チャンバ内部に、ディスプレイ基板とマスク組立体とを配置する段階と、
前記ディスプレイ基板と前記マスク組立体とを整列する段階と、
前記マスク組立体と対向するように配置された蒸着源から蒸着物質を放射させ、前記ディスプレイ基板に蒸着物質パターンを形成する段階と、を有し、
前記ディスプレイ基板に形成された蒸着物質パターンは、表示領域を形成し、
前記表示領域は、前記マスク組立体が定義する蒸着領域内部に突出した前記マスク組立体の第1遮蔽シートの突出部により、蒸着物質の一部が遮断されて形成された第1表示領域と、
前記マスク組立体が形成する蒸着領域内部に突出した前記マスク組立体の第2遮蔽シートの突出部により、蒸着物質の一部が遮断されて形成された第2表示領域と、を含むことを特徴とする表示装置の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020180116584A KR102631256B1 (ko) | 2018-09-28 | 2018-09-28 | 마스크 조립체, 이를 이용한 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
KR10-2018-0116584 | 2018-09-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020056096A true JP2020056096A (ja) | 2020-04-09 |
Family
ID=69945725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019067907A Pending JP2020056096A (ja) | 2018-09-28 | 2019-03-29 | マスク組立体及びそれを利用した表示装置の製造装置並びに表示装置の製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11421314B2 (ja) |
JP (1) | JP2020056096A (ja) |
KR (1) | KR102631256B1 (ja) |
CN (1) | CN110965019A (ja) |
TW (1) | TW202026449A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021092759A1 (zh) * | 2019-11-12 | 2021-05-20 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板 |
KR20210088802A (ko) * | 2020-01-06 | 2021-07-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
CN111509016B (zh) * | 2020-04-28 | 2023-03-24 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩膜版及其制作方法 |
CN111575648B (zh) * | 2020-06-23 | 2022-07-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜板组件及其制造方法 |
KR20220007800A (ko) | 2020-07-10 | 2022-01-19 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 및 이를 포함하는 증착 설비 |
KR102435236B1 (ko) * | 2020-10-07 | 2022-08-24 | 주식회사 효산 | 마스크의 제조 방법 및 마스크 |
KR20220078007A (ko) * | 2020-12-02 | 2022-06-10 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
CN114716154B (zh) * | 2022-04-15 | 2023-05-12 | 业成科技(成都)有限公司 | 屏蔽组件 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101837624B1 (ko) | 2011-05-06 | 2018-03-13 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
CN104536260A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 组合式掩模板及其制作方法 |
KR102432350B1 (ko) * | 2015-11-06 | 2022-08-16 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체, 이를 포함하는 증착 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
KR102420460B1 (ko) * | 2016-01-15 | 2022-07-14 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체, 표시 장치의 제조 장치 및 표시 장치의 제조 방법 |
KR102568780B1 (ko) * | 2016-05-26 | 2023-08-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리 |
KR102532305B1 (ko) * | 2016-06-15 | 2023-05-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 프레임 조립체 및 그 제조방법 |
CN107740040B (zh) * | 2017-09-08 | 2019-09-24 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 掩膜版组件及蒸镀装置 |
CN107699854B (zh) | 2017-11-10 | 2019-09-17 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜组件及其制造方法 |
CN108004503B (zh) * | 2017-12-15 | 2021-01-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板、蒸镀设备和装置 |
CN108365134B (zh) * | 2018-02-11 | 2020-11-06 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩模板及其制造方法、掩模装置、蒸镀方法 |
CN108517490A (zh) * | 2018-05-11 | 2018-09-11 | 云谷(固安)科技有限公司 | 掩膜板及其制造方法 |
KR20200092524A (ko) * | 2019-01-24 | 2020-08-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 증착용 마스크 프레임 어셈블리 |
-
2018
- 2018-09-28 KR KR1020180116584A patent/KR102631256B1/ko active IP Right Grant
-
2019
- 2019-03-29 JP JP2019067907A patent/JP2020056096A/ja active Pending
- 2019-07-15 US US16/512,047 patent/US11421314B2/en active Active
- 2019-09-26 CN CN201910916668.3A patent/CN110965019A/zh active Pending
- 2019-09-27 TW TW108135230A patent/TW202026449A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11421314B2 (en) | 2022-08-23 |
US20200102636A1 (en) | 2020-04-02 |
CN110965019A (zh) | 2020-04-07 |
TW202026449A (zh) | 2020-07-16 |
KR20200037024A (ko) | 2020-04-08 |
KR102631256B1 (ko) | 2024-01-31 |
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