CN108004503B - 掩模板、蒸镀设备和装置 - Google Patents

Abstract

一种掩模板、蒸镀设备和装置。该掩模板包括相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条，掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成构件的掩模图案，在第一掩模条和在第二掩模条的交叉区域，第一掩模条和第二掩模条共同构成该掩模图案的一部分。该掩模板可以降低掩模条的张网难度，提升掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制造的装置的良率。

Description

掩模板、蒸镀设备和装置

技术领域

本公开至少一个实施例涉及一种掩模板、蒸镀设备和装置。

背景技术

随着电子显示产品的普及，用户对电子显示产品的功能、外观的要求进一步提高。例如，对于精细掩模板来说，如果用该掩模板形成的电子显示产品的结构层具有特殊的形状(例如弧形等)，则用于形成该构件的掩模条可能需要在原有形状的基础上进行相应的形变设计，如果形变过大，会极大增加掩模条的张网难度，使得掩模条张网时因变形而伸展不均匀，导致掩模板精度不良，影响利用该掩模板制造的电子显示产品的良率。

发明内容

本公开至少一个实施例提供一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案，在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在利用所述掩模板形成所述构件时，所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域在所述装置的待形成的所述构件所在面上的正投影对应于所述构件的边角区域。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一掩模条沿与所述掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸，所述第二掩模条沿与所述第一平面平行的第二方向延伸；以及所述第一掩模条包括至少两个第一侧边，所述第二掩模条包括至少两个对应的第二侧边，在所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条的至少两个第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影和所述第二掩模条的对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影构成平滑相连的线段。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在所述第一方向上，所述第一掩模条包括彼此交替设置的至少一个第一部分和至少一个第二部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第一方向的方向上，所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度，所述第二部分的与所述第一部分连接的边为所述第一侧边；以及在所述第二方向上，所述第二掩模条包括彼此交替设置的至少一个第三部分和至少一个第四部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第二方向的方向上，所述第四部分的宽度大于所述第三部分的宽度，所述第四部分的与所述第三部分连接的边为所述第二侧边。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影与对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影至少部分重叠。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一掩模条为遮挡掩模条，所述第二掩模条为支撑掩模条，所述第二掩模条配置为支撑所述第一掩模条。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的形状为圆弧形。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一方向与所述第二方向垂直，并且所述第一侧边的弧度为π/6～π/4，所述第二侧边的弧度为π/4～π/3。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的弧度为π/2，并且所述线段的一个端点的切线与所述第一方向平行，所述线段的另一个端点的切线与所述第二方向平行。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段为直线段。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一方向和所述第二方向垂直，并且所述第一侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/3～1/2，所述第二侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/2～2/3。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的延伸线所在的方向与所述第一方向和所述第二方向的夹角都为45度。

本公开至少一个实施例提供一种蒸镀设备，包括前述任一实施例中的掩模板。

本公开至少一个实施例提供一种装置，该装置的构件至少之一由前述任一实施例中的掩模板制备。

例如，在本公开至少一个实施例提供的装置中，所述装置包括有机发光二极管显示面板，所述构件包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和金属电极中的一种或者组合。

在本公开至少一个实施例提供的掩模板、蒸镀设备和装置中，第一掩模条和第二掩模条共同构成用于形成装置中的构件的掩模图案，如此，可以降低每个掩模条的张网难度，从而提升掩模板的精度，并且提高利用该掩模板制备的装置的良率。

附图说明

为了更清楚地说明本公开实施例的技术方案，下面将对实施例的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本公开的一些实施例，而非对本公开的限制。

图1为本公开一个实施例提供的掩模板的部分结构示意图；

图2为图1所示掩模板A区域的一种结构示意图；

图3A为图2所示掩模板中的第一掩模条的局部结构示意图；

图3B为图2所示掩模板中的第二掩模条的局部结构示意图；

图4为图1所示掩模板A区域的另一种结构示意图；

图5A为图4所示掩模板中的第一掩模条的局部结构示意图；以及

图5B为图4所示掩模板中的第二掩模条的局部结构示意图。

附图标记：

10-框架；100-第一掩模条；101-第一部分；102-第二部分；110-第一侧边；200-第二掩模条；201-第三部分；202-第四部分；210-第二侧边；1000-掩模板。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

本公开至少一个实施例提供一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成构件的掩模图案，在第一掩模条和在第二掩模条的交叉区域，第一掩模条和第二掩模条共同构成掩模图案的一部分。当采用该掩模板形成的装置的构件的尺寸较大或用于形成弧度较大的弯曲形状等时，与单独一个掩模条形成情况相比，由两个彼此交叉的掩模条形成对应的掩模图案，这样，消除了单一一个掩模条因形变过大造成的张网困难的问题，减少或消除掩模条张网时因形变过大导致的伸展不均匀，提升了掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制备的装置的良率。

下面，结合附图对根据本公开至少一个实施例中的掩模板、蒸镀设备和装置进行说明。

图1为本公开一个实施例提供的掩模板的部分结构示意图，图2为图1所示掩模板A区域的一种结构示意图。

例如，在本公开至少一个实施例中，如图1和图2所示，掩模板1000包括相互交叉设置的至少一个第一掩模条100和至少一个第二掩模条200，掩模板1000构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成该构件的掩模图案，在第一掩模条100和在第二掩模条200的交叉区域例如图1中的A区域，第一掩模条100和第二掩模条200共同构成掩模图案的一部分。第一掩模条100和第二掩模条200共同形成用于形成装置的构件的掩模图案，这样，消除了单一一个掩模条因形变过大造成的张网困难的问题，降低或消除掩模条张网时因形变过大导致的伸展不均匀，提升掩模板1000的精度，从而提高利用该掩模板1000制备的装置的良率。

在本公开的实施例中，对掩模板的具体化结构不做限制，可以根据实际工艺的需求进行设计。示例性的，以装置为显示面板为例，在实际工艺中，通常先制造大块的显示面板母板，然后再将该显示面板母板切割为多个小块的显示面板子板，所以，掩模板可以设计为用于显示面板母板的制造工艺中。如图1所示，掩模板1000可以包括多个第一掩模条100和多个第二掩模条200，第一掩模条100和第二掩模条200例如可以通过张网机拉伸绷紧后固定(例如焊接)在框架10上，第一掩模条100和第二掩模条200相互交叉以限定多个区域例如图1中的区域P1～P9等，在工艺中，区域P1～P9中的每一个都可以对应于一个显示面板子板。需要说明的是，如图1所示的掩模板中还可以在相邻的第一掩模条100之间设置其它的带有掩模图案的掩模条，掩模板也可以设计为只用于制造一个显示面板子板的结构，掩模板的具体结构根据需要形成的构件的类型或者装置的结构进行设计，本公开的实施例在此不做限制。

在本公开至少一个实施例中，掩模板可以为用于蒸镀工艺中的金属掩模板，例如，第一掩模条100和第二掩模条200中的至少一个的制备材料可以包括金属或者合金(例如因瓦合金)等，以便于焊接在框架10上。

在本公开的实施例中，对由第一掩模条和第二掩模条共同构成的掩模图案的位置不做限定，只要用于形成装置的构件的掩模图案由第一掩模条和第二掩模条共同构成即可。示例性的，在利用该掩模板制造装置中的构件时，该掩模图案的位置可以对应于构件的边角区域，或者对应于构件的中心区域或者其它区域。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在利用掩模板形成装置(装置中的构件)时，第一掩模条和第二掩模条的交叉区域在装置的待形成的构件所在面上的投影(例如正投影)对应于构件的边角区域。示例性的，如图1所示，在利用掩模板1000制造装置中的构件时，区域P1可以对应于一个装置，掩模板的区域P1的位于交叉区域A中的部分可以用于形成构件的边角区域的相关结构，即构件的位于该构件的边角区域的部分的形状可以与A区域中由第一掩模条100和第二掩模条200共同构成的掩模图案的形状相同。例如，在本公开至少一个实施例中，在构件的边角区域中，第一掩模条100和第二掩模条200共同构成的掩模图案可以用于形成构件的外边缘。

下面，以第一掩模条和第二掩模条在二者交叉区域构成的掩模图案对应于构件的边角区域为例，对本公开下述至少一个实施例中的技术方案进行说明。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，第一掩模条沿与掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸，第二掩模条沿与第一平面平行的第二方向延伸，第一掩模条包括至少两个第一侧边，第二掩模条包括至少两个对应的第二侧边，在第一掩模条和第二掩模条的交叉区域，第一掩模条的至少两个第一侧边中任一个在第一平面上的正投影和第二掩模条的对应的第二侧边在第一平面上的正投影构成平滑相连的线段。例如，第一平面可以为掩模板所在面。示例性的，如图2所示，第一掩模条100包括至少两个第一侧边110，第二掩模条200包括至少两个对应的第二侧边210，在垂直于第一平面的方向上看，相对应的第一掩模条100的第一侧边110和第二掩模条200的第二侧边210构成的图形为平滑相连的线段。该掩模板用于制造装置中的构件，所以，该构件的边角区域的部分(例如外边缘)的形状与该线段的形状相同。与单独一个掩模条形成情况相比，由两个彼此交叉的掩模条形成对应的掩模图案，这样，消除了单一一个掩模条因形变过大造成的张网困难的问题，减少或消除掩模条张网时因形变过大导致的伸展不均匀，提升了掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制备的装置的良率。

在本公开的实施例中，第一侧边和第二侧边的对应为两者在第一平面上的正投影可以构成平滑相连的线段。例如，如图2所示，以第一掩模条100的位于区域P1中的第一侧边110为例，第二掩模条200的位于区域P1中的第二侧边210为与第一侧边110对应的侧边，而且该第一侧边110和第二侧边210都位于区域P1的同一个边角区域，使得两者在第一平面上的正投影构成平滑相连的线段。

需要说明的是，线段的形状由第一掩模条的第一侧边中任一个在第一平面上的正投影和第二掩模条的对应的第二侧边在第一平面上的正投影共同构成。所以，下面以第一侧边和对应的第二侧边共同构成的形状来直接表示线段的形状，对本公开下述至少一个实施例中的技术方案进行说明。

在本公开的实施例中，掩模板中的第一掩模条和第二掩模条之间交叉设置，但是对第一掩模条和第二掩模条之间的其它位置关系不做具体限制，可以根据欲制造的装置中的构件的具体化形状进行设计。例如，第一掩模条延伸的第一方向和第二掩模条延伸的第二方向之间可以呈任意角度彼此相交，进一步例如第一方向和第二方向彼此垂直。下面，以第一方向和第二方向彼此垂直为例，对本公开下述至少一个实施例中的技术方案进行说明。

在本公开的实施例中，可以建立坐标系以对掩模板中各结构的位置进行指向性说明。例如图1和图2所示，第一掩模条100延伸的第一方向与X轴的方向平行，第二掩模条200延伸的第二向与Y轴的方向平行，X-Y确定的平面可以为第一平面(掩模板所在面)。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，第一侧边中任一个在第一平面上的正投影与对应的第二侧边在第一平面上的正投影至少部分重叠。在实际工艺中，第一掩模条和第二掩模条的尺寸可能存在微小的误差或者二者在张网后可能会有微小的移动，所以可以设置安全余量例如将第一侧边和对应的第二侧边设置为彼此部分重叠，如此，可以保证线段的连续性，提高掩模板的精度。示例性的，如图2所示，在垂直于第一平面的方向上，第一侧边110和对应的第二侧边210部分重叠，如此，对掩模条张网后，可以保证线段的形状(第一侧边110和对应的第二侧边210共同构成的形状)是连续的。

需要说明的是，如果可以保证掩模条的精度以及在张网时不会产生移动等因素产生的误差，也可以将第一侧边和对应的第二侧边设计为只有端点重叠，即线段为平滑相连，且线段的长度为第一侧边的长度和对应的第二侧边的长度之和。

图3A为图2所示掩模板中的第一掩模条的局部结构示意图，图3B为图2所示掩模板中的第二掩模条的局部结构示意图。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在第一方向上，第一掩模条包括彼此交替设置的至少一个第一部分和至少一个第二部分，在平行于第一平面且垂直于第一方向的方向上，第二部分的宽度大于第一部分的宽度，第二部分的与第一部分连接的边为第一侧边；以及在第二方向上，第二掩模条包括彼此交替设置的至少一个第三部分和至少一个第四部分，在平行于第一平面且垂直于第二方向的方向上，第四部分的宽度大于第三部分的宽度，第四部分的与第三部分连接的边为第二侧边。

示例性的，如图3A所示，在第一方向(平行于X轴的方向)上，第一掩模条100包括彼此交替设置的至少一个第一部分101和至少一个第二部分102，在垂直于第一方向的方向(平行于Y轴的方向)上，第二部分102的宽度大于第一部分101的宽度，第二部分102的与第一部分101连接的边为第一侧边110。需要说明的是，第二部分102的宽度大于第一部分101的宽度是对于整体而言的，在第一部分101的边缘和第二部分102的边缘平滑相接的情况下，在二者连接处，第一部分101的宽度和第二部分102的宽度相同。如图3A所示，第二部分102的宽度减去第一部分101的宽度的差值的范围为0～2L1。

示例性的，如图3B所示，在第二方向(平行于Y轴的方向)上，第二掩模条200包括彼此交替设置的至少一个第三部分201和至少一个第四部分202，在垂直于第二方向的方向(平行于X轴的方向)上，第四部分202的宽度大于第三部分201的宽度，第四部分202的与第三部分201连接的边为第二侧边210。需要说明的是，第四部分202的宽度大于第三部分201的宽度是对于整体而言的，在第三部分201的边缘和第四部分202的边缘平滑相接的情况下，在二者连接处，第三部分201的宽度和第四部分202的宽度相同。如图3A所示，第四部分202的宽度减去第三部分201的宽度的差值的范围为0～2L2。

在本公开的实施例中，对线段的形状(第一侧边和对应的第二侧边共同构成的形状)不做限制。示例性的，线段的形状可以为曲线形(例如圆弧形等)、直线形、锯齿形或者波浪形等。

例如，在本公开至少一个实施例中，线段的形状(第一侧边和对应的第二侧边共同构成的形状)可以为圆弧形。如此，在利用该掩模板制造的构件中，构件的边角区域的部分的形状为圆弧形，相应地，该掩模板也可以适用于构件的边角形状为圆弧形的制造工艺(例如蒸镀工艺)中。

在本公开的实施例中，对第一掩模条和第二掩模条的类型不做限制。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，第一掩模条可以为遮挡掩模条，第二掩模条可以为支撑掩模条，第二掩模条配置为支撑第一掩模条。示例性的，如图1、图2、图3A和图3B所示，第一掩模条100可以为遮挡掩模条，其上可以设置有掩模图案以用于形成装置中的构件的其它部分(例如构件的未与交叉区域A对应的部分)；第二掩模条200为支撑掩模条，其通常设置于框架10和遮挡掩模条100之间，在例如蒸镀工艺过程中，支撑掩模条200对遮挡掩模条100进行支撑以免遮挡掩模条100因下垂而发生变形。需要说明的是，支撑掩模条中也可以设置掩模图案，支撑掩模条的具体化结构可以根据需要获得的构件的结构来设计，本公开的实施例在此不做赘述。

在本公开的实施例中，对第一侧边和对应的第二侧边之间的长度比例关系不做限制，可以根据实际需要进行设计。例如，以线段的形状为圆弧形为例，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，第一方向与第二方向垂直，并且第一侧边的弧度为π/6～π/4，第二侧边的弧度为π/4～π/3。示例性的，如图3A所示，第一侧边110的弧度Q1的范围可以为π/6～π/4；如图3B所示，第二掩模条200的第二侧边210的弧度Q2的范围可以为π/4～π/3。需要说明的是，在本公开的实施例中，第一侧边和对应的第二侧边的弧度范围不限于上述数值范围，只要线段的弧度由第一侧边的弧度和对应的第二侧边的弧度共同构成即可。

通常来说，第二掩模条(支撑掩模条)主要起支撑作用，所以第二掩模条的强度通常会大于第一掩模条(遮挡掩模条)的强度，而且第二掩模条的宽度也可以设计为大于第一掩模条的宽度，因此，与第一掩模条相比，第二掩模条可以承受的形变更大。示例性的，如图3B所示的第二掩模条200的L2区域的宽度可以大于如图3A所示的第一掩模条100的L1区域的宽度。如此，可以进一步减小第一掩模条100中的形变，提升掩模板的整体精度。

示例性的，如图3A和图3B所示，第一侧边110的弧度Q1可以为π/6，第二侧边210的弧度Q2可以为π/3，如此，第一侧边110和对应的第二侧边210可以构成具有π/2弧度的线段。或者，示例性的，如图3A和图3B所示，第一侧边110的弧度Q1可以为2π/9，第二侧边210的弧度Q2可以为π/3，如此，在第一侧边110和对应的第二侧边210可以构成具有π/2弧度的线段的情况下，第一侧边110和对应的第二侧边210重叠的部分的弧度为π/36，在实际工艺中，该π/36的余量可以保证第一侧边110和对应的第二侧边210构成连续的线段。

例如，在本公开至少一个实施例中，线段的弧度为π/2，并且线段的一个端点的切线与第一方向平行，线段的另一个端点的切线与第二方向平行。示例性的，如图2、图3A和3B所示，由第一侧边110和对应的第二侧边210构成的线段的弧度可以为π/2，如此，由该掩模板制造的装置的构件的边角区域的部分也为具有π/2弧度的圆弧形。如图3A所示，第一侧边110的与第一部分101连接的端点的切线可以与第一方向平行，即第一侧边110可以与第一部分101的边平滑相接；如图3B所示，第二侧边210的与第三部分201连接的端点的切线可以与第一方向平行，即第二侧边210可以与第三部分201的边平滑相接，如此，可以使得线段的一个端点的切线与第一方向平行，线段的另一个端点的切线与第二方向平行，由此，使得装置中的构件的边角区域的部分例如外边缘与该外边缘的相邻边之间也为平滑相接。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，线段为直线段。图4为图1所示掩模板A区域的另一种结构示意图，图5A为图4所示掩模板中的第一掩模条的局部结构示意图，图5B为图4所示掩模板中的第二掩模条的局部结构示意图。示例性的，如图4、图5A和图5B所示，第一掩模条100的第一侧边110和第二掩模条200的对应的第二侧边210构成的线段可以为直线段。如此，在利用该掩模板制造的构件中，构件的边角区域的部分的形状为直线段(例如构件的边角可以为倒角)，相应地，该掩模板可以适用于构件的边角形状为直线段的装置的制造工艺(例如蒸镀工艺)。

在本公开的实施例中，对第一侧边和对应的第二侧边之间的长度比例关系不做限制，可以根据实际需要进行设计。例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，第一方向和第二方向垂直，并且第一侧边在第一平面上的正投影的长度为线段的长度的1/3～1/2，第二侧边在第一平面上的正投影的长度为线段的长度的1/2～2/3。示例性的，以如图4所示的线段的长度W(第一侧边110和对应的第二侧边210重叠后的总长度)为基准，如图5A所示，第一侧边110的长度与线段的长度的比值W1/W约为1/3～1/2；如图5B所示，第二侧边210的长度与线段的长度的比值W2/W约为1/2～2/3。需要说明的是，在本公开的实施例中，第一侧边和对应的第二侧边的长度与线段的长度的比值范围不限于上述数值范围，只要线段由第一侧边和对应的第二侧边共同构成即可。

例如，在本公开的实施例中，在第一掩模条为遮挡掩模条，第二掩模条为支撑掩模条的情况下，如图5B所示的第二掩模条200的第二侧边210的长度可以设计为大于如图5A所示的第一掩模条100的第一侧边110的长度。如此，可以进一步减小第一掩模条100中的形变，可以提升掩模板的整体的精度。

示例性的，如图5A和图5B所示，第一侧边110的长度与线段的长度比例可以为1/3，第二侧边210的长度与线段的长度比例可以为2/3，如此，第一侧边110和对应的第二侧边210的端点重合以构成线段。或者，示例性的，如图5A和图5B所示，第一侧边110的长度与线段的长度比例可以为1/2，第二侧边210的长度与线段的长度比例可以为2/3，如此，在第一侧边110和对应的第二侧边210部分重叠以构成线段，第一侧边110和对应的第二侧边210重叠的部分占线段总长度的1/12，在实际工艺中，该1/12百分比的长度的余量可以保证第一侧边110和对应的第二侧边210构成连续的线段。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，线段的延伸线所在的方向与第一方向和第二方向的夹角都为45度。示例性的，在第一方向和第二方向垂直的情况下，如图4、图5A和5B所示，由第一侧边110和对应的第二侧边210构成的线段的与第一方向的夹角和与第二方向之间的夹角相等，如此，由该掩模板制造的装置的构件的部分与其相邻的边之间的夹角也相等，即构件或者装置的外边缘的形状可以为内角都为135度的八边形。

本公开至少一个实施例提供一种掩模条，该掩模条可以构成掩模图案的一部分。该掩模图案构造为用于形成一装置的构件，并且至少两个上述的掩模条共同构成该掩模图案。如此，每个掩模条只构成掩模图案的一部分，与单独由一个掩模条构成掩模图案相比，消除了单一一个掩模条因形变过大造成的张网困难的问题，减少或或消除掩模条张网时因形变过大导致的伸展不均匀，从而提升掩模板的精度，并且提高利用该掩模板制备的装置的良率。例如，上述掩模条的具体化结构可以参考前述实施例(关于掩模板的实施例)中的第一掩模条和/或第二掩模条的设计结构，本公开的实施例在此不做赘述。

本公开至少一个实施例提供一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括前述任一实施例中的掩模板。例如，在本公开至少一个实施例中，蒸镀设备还可以包括蒸镀室、蒸发源以及固定部件等结构。例如，以待蒸镀的装置为基板为例，蒸镀过程可以包括：对蒸发源中的蒸镀材料加热，使得蒸镀材料的原子或者分子气化逸出形成蒸汽流，气态下的蒸镀材料被引导(例如重力、电场或者磁场等)至基板上后，冷凝形成固态薄膜。例如，该蒸镀室可以为真空蒸镀室。例如，蒸发源可以包括点型蒸发源或者线型蒸发源等。固定部件可以固定并限位基板，以保证基板的蒸镀良率。

本公开至少一个实施例提供一种装置，该装置的构件至少之一由前述任一实施例中的掩模板制备。第一掩模条和第二掩模条共同构成用于形成装置中的构件的掩模图案，如此，可以降低每个掩模条的张网难度，提升掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制备的装置的良率。在本公开的实施例中，对该装置的类型不做限制，只要在该装置的制造过程中，装置中的构件需要利用前述实施例中的掩模板制造即可。

例如，在本公开至少一个实施例中，装置可以为显示面板。该显示面板可以包括显示区域。

例如，利用掩模板形成的构件可以对应于显示区域，如此，在第一掩模条和第二掩模条的交叉区域处，二者共同构成的掩模图案的形状可以对应于显示区域的边角区域的形状。示例性的，以如图2所示的第一侧边110和对应的第二侧边210构成圆弧形的线段(掩模图案)为例，显示面板的显示区域的边角也可以为圆弧形的，即显示面板可以具有圆角显示的功能。

例如，利用掩模板形成的构件可以对应于整个装置，如此，在第一掩模条和第二掩模条的交叉区域处，二者共同构成的掩模图案的形状可以对应于装置的边角区域的形状。示例性的，以如图2所示的第一侧边110和对应的第二侧边210构成圆弧形的线段(掩模图案)为例，显示面板的边角也可以为圆弧形的。

需要说明的是，以装置为显示面板为例，显示面板的形状可以与显示面板的显示区域的形状相似，即显示面板的边角为圆弧形，显示面板的显示区域的边角也可以为圆弧形。

例如，在本公开至少一个实施例提供的装置中，装置包括有机发光二极管显示面板，构件包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和金属电极等中的一种或者组合。当然，本公开实施例提供的掩模板也可以用于制造其它类型的显示面板或者其它制造工艺涉及该掩模板的装置。

例如，在本公开至少一个实施例提供的装置中，装置可以为液晶显示面板，构件可以包括像素电极、公共电极、有源层等中的一种或者组合。当然，本公开实施例提供的掩模板也可以用于制造其它类型的显示面板或者其它制造工艺涉及该掩模板的装置。

在本公开的实施例中，用于形成装置的构件的掩模板的具体化结构可以参考前述实施例(关于掩模板的实施例)中的相关内容，本公开的实施例在此不做赘述。

需要说明的是，在本公开的实施例中，构件可以为通过掩模板在装置中形成的材料层的最初形态，不限于为在装置中的最终形态。以装置包括有机发光二极管显示面板为例。示例性的，可以通过该掩模板进行蒸镀工艺，以在装置中形成金属薄膜，该金属薄膜可以做为有机发光器件的金属电极例如阴极，该阴极可以为本公开实施例中所指的构件。或者，示例性的，通过该掩模板对装置进行蒸镀工艺后，装置中形成金属薄膜，然后可以通过例如光刻工艺对该金属薄膜进行图案化处理，以形成显示面板中的例如信号线等结构，形成该信号线之前的金属薄膜即为本公开实施例中所指的构件。

本公开的实施例提供一种掩模板、蒸镀设备和装置，并且可以具有以下至少一项有益效果：

(1)在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，当采用该掩模板形成的装置的构件的尺寸较大或用于形成弧度较大的弯曲形状等时，与单独一个掩模条形成情况相比，由两个彼此交叉的掩模条形成对应的掩模图案，这样，消除了单一一个掩模条因形变过大造成的张网困难的问题，减少或或消除掩模条张网时因形变过大导致的伸展不均匀，从而提升掩模板的精度，并且提高利用该掩模板制备的装置的良率。

(2)在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在第一掩模条为遮挡掩模条，第二掩模条为支撑掩模条的情况下，对于由第一侧边和对应的第二侧边的投影构成的线段的总长度，第二侧边所占的比例大于第一侧边所占的比例，进一步减小第一掩模条的形变，降低了第一掩模条在张网时的难度，提高掩模板的精度。

对于本公开，还有以下几点需要说明：

(1)本公开实施例附图只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计。

(2)为了清晰起见，在用于描述本公开的实施例的附图中，层或区域的厚度被放大或缩小，即这些附图并非按照实际的比例绘制。

(3)在不冲突的情况下，本公开的实施例及实施例中的特征可以相互组合以得到新的实施例。

以上，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，本公开的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (11)

1.一种掩模板，包括：

相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；

其中，所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案，在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分；

在利用所述掩模板形成所述构件时，所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域在所述装置的待形成的所述构件所在面上的正投影对应于所述构件的边角区域；

其中，所述第一掩模条沿与所述掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸，所述第二掩模条沿与所述第一平面平行的第二方向延伸；以及

所述第一掩模条包括至少两个第一侧边，所述第二掩模条包括至少两个对应的第二侧边，

在所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条的至少两个所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影和所述第二掩模条的对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影构成平滑相连的线段；

所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影与对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影至少部分重叠；

在所述第一方向上，所述第一掩模条包括彼此交替设置的至少一个第一部分和至少一个第二部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第一方向的方向上，所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度，所述第二部分的与所述第一部分连接的边为所述第一侧边；以及

在所述第二方向上，所述第二掩模条包括彼此交替设置的至少一个第三部分和至少一个第四部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第二方向的方向上，所述第四部分的宽度大于所述第三部分的宽度，所述第四部分的与所述第三部分连接的边为所述第二侧边。

2.根据权利要求1所述的掩模板，其中，

所述第一掩模条为遮挡掩模条，所述第二掩模条为支撑掩模条，所述第二掩模条配置为支撑所述第一掩模条。

3.根据权利要求1或2所述的掩模板，其中，

所述线段的形状为圆弧形。

4.根据权利要求3所述的掩模板，其中，

所述第一方向与所述第二方向垂直，并且所述第一侧边的弧度为π/6～π/4，所述第二侧边的弧度为π/4～π/3。

5.根据权利要求4所述的掩模板，其中，

所述线段的弧度为π/2，并且所述线段的一个端点的切线与所述第一方向平行，所述线段的另一个端点的切线与所述第二方向平行。

6.根据权利要求1或2所述的掩模板，其中，

所述线段为直线段。

7.根据权利要求6所述的掩模板，其中，

所述第一方向和所述第二方向垂直，并且所述第一侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/3～1/2，所述第二侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/2～2/3。

8.根据权利要求7所述的掩模板，其中，

所述线段的延伸线所在的方向与所述第一方向和所述第二方向的夹角都为45度。

9.一种蒸镀设备，包括权利要求1-8中任一项所述的掩模板。

10.一种装置，该装置的构件至少之一由权利要求1-8中任一项所述的掩模板制备。

11.根据权利要求10所述的装置，其中，

所述装置包括有机发光二极管显示面板，所述构件包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和金属电极中的一种或者组合。

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