JP2020037554A5 - 水素供給能を有するシリコン微細粒子及び／又はその凝集体の製造方法、水素供給方法、及び水素供給材の製造方法 - Google Patents
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- シリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体と過酸化水素水とを接触させる過酸化水素水処理工程、を含み、
前記シリコン微細粒子及び／又は前記凝集体を、フッ化水素酸に接触させる工程を含まない、
水素供給能を有するシリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体の製造方法。 - シリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体と過酸化水素水とを接触させる過酸化水素水処理工程、と、
前記過酸化水素水処理工程の後、水素の発生能を有する前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を、生理学的に許容可能な媒体に接触させる接触工程を含み、
前記シリコン微細粒子及び／又は前記凝集体を、フッ化水素酸に接触させる工程を含まない、
水素供給方法。 - 前記接触工程において、前記シリコン微細粒子又は前記凝集体の固形剤又は前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を含む層を覆う不透水性の膜の少なくとも一部を除去したとき又は該膜の少なくとも一部が溶解したときに、該シリコン微細粒子又は前記凝集体を前記媒体に接触させる、
請求項２に記載の水素供給方法。 - 前記媒体のｐＨが６以上である、
請求項２又は請求項３に記載の水素供給方法。 - 前記媒体は、液状、ゲル状、クリーム状、ペースト状、乳液状、及びムース状の群から選択される少なくとも１種である、
請求項２乃至請求項４のいずれか１項に記載の水素供給方法。 - シリコン微細粒子及び／又は該シリコン微細粒子の凝集体と過酸化水素水とを接触させる過酸化水素水処理工程、と、
前記過酸化水素水処理工程の後、水素の発生能を有する前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を、生理学的に許容可能な媒体に接触させる接触工程を含み、
前記シリコン微細粒子及び／又は前記凝集体を、フッ化水素酸に接触させる工程を含まない、
水素供給材の製造方法。 - 前記接触工程において、前記シリコン微細粒子又は前記凝集体の固形剤又は前記シリコン微細粒子又は前記凝集体を含む層を覆う不透水性の膜の少なくとも一部を除去したとき又は該膜の少なくとも一部が溶解したときに、該シリコン微細粒子又は前記凝集体を前記媒体に接触させる、
請求項６に記載の水素供給材の製造方法。 - 前記媒体の温度が、０℃超５０℃以下である、
請求項６又は請求項７に記載の水素供給材の製造方法。 - 前記媒体のｐＨが６以上である、
請求項６乃至請求項８のいずれか１項に記載の水素供給材の製造方法。 - 前記媒体は、液状、ゲル状、クリーム状、ペースト状、乳液状、及びムース状の群から選択される少なくとも１種である、
請求項６乃至請求項９のいずれか１項に記載の水素供給材の製造方法。 - 前記水素供給材が、洗浄剤、化粧用材料、治療用材料、又は衛生材料に含まれる、
請求項６乃至請求項１０のいずれか１項に記載の水素供給材の製造方法。
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