JP2020033576A5 - - Google Patents
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Description
（実施例１）
上述の成膜方法に基づいて、コランダム構造を有する酸化ガリウム（α−Ｇａ２Ｏ３）の成膜を行った。
具体的には、まず、臭化ガリウム０．１ｍｏｌ／Ｌの水溶液を調整し、さらに４８％臭化水素酸溶液を体積比で１０％となるように含有させ、これを原料溶液１０４ａとした。
上述のようにして得た原料溶液１０４ａをミスト発生源１０４内に収容した。このときの溶液の温度は２５℃であった。次に、基体１１０として４インチ（直径１００ｍｍ）のｃ面サファイア基板を、成膜室１０７内でホットプレート１０８に隣接するように設置し、ホットプレート１０８を作動させて温度を５００℃に昇温した。
続いて、流量調節弁１０３ａ、１０３ｂを開いてキャリアガス源１０２ａ、１０２ｂからキャリアガスとして酸素ガスを成膜室１０７内に供給し、成膜室１０７の雰囲気をキャリアガスで十分に置換するとともに、主キャリアガスの流量を５Ｌ／分に、希釈用キャリアガスの流量を０．５Ｌ／ｍｉｎにそれぞれ調節した。すなわち、キャリアガス流量Ｑ＝５．５Ｌ／分とした。
キャリアガス温度Ｔは、キャリアガス温度制御部１５０として、キャリアガス供給配管の周囲に温度調整した水の配管を巻くことで、調整できるようにした。
実施例１においては、キャリアガス温度Ｔを４５℃とした。つまり、Ｔ＋Ｑ＝５０．５である。
次に、超音波振動子１０６を２．４ＭＨｚで振動させ、その振動を、水１０５ａを通じて原料溶液１０４ａに伝播させることによって、原料溶液１０４ａをミスト化してミストを生成した。このミストを、キャリアガスによって供給管１０９ａを経て成膜室１０７内に導入した。そして、大気圧下、５００℃の条件で、成膜室１０７内でミストを熱反応させて、基体１１０上にコランダム構造を有する酸化ガリウム（α−Ｇａ２Ｏ３）の薄膜を形成した。成膜時間は３０分とした。
上述の成膜方法に基づいて、コランダム構造を有する酸化ガリウム（α−Ｇａ２Ｏ３）の成膜を行った。
具体的には、まず、臭化ガリウム０．１ｍｏｌ／Ｌの水溶液を調整し、さらに４８％臭化水素酸溶液を体積比で１０％となるように含有させ、これを原料溶液１０４ａとした。
上述のようにして得た原料溶液１０４ａをミスト発生源１０４内に収容した。このときの溶液の温度は２５℃であった。次に、基体１１０として４インチ（直径１００ｍｍ）のｃ面サファイア基板を、成膜室１０７内でホットプレート１０８に隣接するように設置し、ホットプレート１０８を作動させて温度を５００℃に昇温した。
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キャリアガス温度Ｔは、キャリアガス温度制御部１５０として、キャリアガス供給配管の周囲に温度調整した水の配管を巻くことで、調整できるようにした。
実施例１においては、キャリアガス温度Ｔを４５℃とした。つまり、Ｔ＋Ｑ＝５０．５である。
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