JP2019174655A - 感光性樹脂積層体、ドライフィルム、硬化物、電子部品、および、電子部品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
磁性体粒子は特に限定されないが、保磁力が小さく比透磁率μ’が大きい特徴を有する軟磁性体粒子であることが好ましい。具体的には、鉄(Fe)、ケイ素鋼(Fe−Si)、パーマロイ(Fe−Ni)、センダスト(Fe−Si−Al)、パーメンジュール(Fe−Co)、ソフトフェライト(Mnフェライト、Mn−Mg−Srフェライト、Ni−Zn−Cuフェライト、Mn−Znフェライト、Ni−Znフェライト等)、アモルファス磁性合金(Fe−Si−B、Fe−Si−B−C、Fe−Co−Si−B、Fe−Ni−Mo−B)、ナノクリスタル磁性合金(Fe−Si−B−Nb−Cu、Fe−Zr−B−Cu、Fe−Co−Zr−B−Cu)等の粒子表面にSiO2、Al2O3、TiO2、ZrO2、各種樹脂等の絶縁コートが施されている磁性体粒子が挙げられる。
樹脂層(A)および感光性樹脂層(B)が含有するアルカリ可溶性樹脂は同じであっても異なっていてもよい。
で表される少なくとも一方の構造と、アルカリ可溶性官能基と、を有するアミドイミド樹脂も好適に用いることができる。シクロヘキサン環またはベンゼン環に直結したイミド結合を有する樹脂を含むことにより、強靭性および耐熱性に優れた硬化物を得ることができる。特に、(1)で表される構造を有するアミドイミド樹脂は、光の透過性に優れるため、解像性を向上させることができる。前記アミドイミド樹脂は、透明性を有することが好ましく、例えば、前記アミドイミド樹脂の乾燥塗膜25μmにおいて、波長365nmの光の透過率は70%以上であることが好ましい。
(式(3A)および(3B)中、それぞれ、Rは1価の有機基であり、H、CF3またはCH3であることが好ましく、Xは直接結合または2価の有機基であり、直接結合、CH2またはC(CH3)2等のアルキレン基であることが好ましい。)で表される構造を有する樹脂が、引張強度や伸度等の物性および寸法安定性に優れるため好ましい。溶解性や機械物性の観点から、前記アミドイミド樹脂として、式(3A)および(3B)の構造を10〜100質量%有する樹脂を好適に用いることができる。より好ましくは20〜80質量%である。
(式(4A)および(4B)中、それぞれ、Rは1価の有機基であり、H、CF3またはCH3であることが好ましく、Xは直接結合または2価の有機基であり、直接結合、CH2またはC(CH3)2などのアルキレン基であることが好ましい。)で表される構造を有する樹脂が、引張強度や伸度等の機械的物性に優れる硬化物が得られることから好ましい。溶解性や機械物性の観点から、前記アミドイミド樹脂として、式(4A)および(4B)の構造を10〜100質量%有する樹脂を好適に用いることができる。より好ましくは20〜80質量%である。
本発明において、感光性樹脂層(B)は光重合開始剤を含有する。また、樹脂層(A)も光重合開始剤を含有してもよい。光重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(一般式(V)中、Xは、水素原子、炭素数1〜17のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、フェニル基、フェニル基(炭素数1〜17のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、アミノ基、炭素数1〜8のアルキル基を持つアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基により置換されている)、ナフチル基(炭素数1〜17のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、アミノ基、炭素数1〜8のアルキル基を持つアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基により置換されている)を表し、Y、Zはそれぞれ、水素原子、炭素数1〜17のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、ハロゲン基、フェニル基、フェニル基(炭素数1〜17のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、アミノ基、炭素数1〜8のアルキル基を持つアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基により置換されている)、ナフチル基(炭素数1〜17のアルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、アミノ基、炭素数1〜8のアルキル基を持つアルキルアミノ基またはジアルキルアミノ基により置換されている)、アンスリル基、ピリジル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基を表し、Arは、結合か、炭素数1〜10のアルキレン、ビニレン、フェニレン、ビフェニレン、ピリジレン、ナフチレン、チオフェン、アントリレン、チエニレン、フリレン、2,5−ピロール−ジイル、4,4’−スチルベン−ジイル、4,2’−スチレン−ジイルで表し、nは0か1の整数である。)
(一般式(VI)中、R1は、炭素原子数1〜4のアルキル基、または、ニトロ基、ハロゲン原子もしくは炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されていてもよいフェニル基を表す。R2は、炭素原子数1〜4のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基、または、炭素原子数1〜4のアルキル基もしくはアルコキシ基で置換されていてもよいフェニル基を表す。R3は、酸素原子または硫黄原子で連結されていてもよく、フェニル基で置換されていてもよい炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよいベンジル基を表す。R4は、ニトロ基、または、X−C(=O)−で表されるアシル基を表す。Xは、炭素原子数1〜4のアルキル基で置換されていてもよいアリール基、チエニル基、モルホリノ基、チオフェニル基、または、下記式(VII)で示される構造を表す。)
耐熱性および強靭性を向上させるために、樹脂層(A)は、熱硬化性樹脂を含有することが好ましい。また、感光性樹脂層(B)も熱硬化性樹脂を含有してもよい。熱硬化性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
樹脂層(A)および感光性樹脂層(B)は、エチレン性不飽和基を有する化合物を含有してもよい。エチレン性不飽和基を有する化合物は、活性エネルギー線の照射により光硬化して、樹脂層の照射部をアルカリ水溶液に不溶化し、または不溶化を助けることができる。エチレン性不飽和基を有する化合物としては、公知慣用の感光性モノマーである光重合性オリゴマー、光重合性ビニルモノマー等を用いることができる。エチレン性不飽和基を有する化合物として、感光性(メタ)アクリレート化合物を用いることができる。エチレン性不飽基を有する化合物は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。尚、本願明細書において、「エチレン性不飽和基を有する化合物」には、エチレン性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂を含まないものとする。
樹脂層(A)および感光性樹脂層(B)は、熱硬化性樹脂を含有する場合は、さらに熱硬化触媒を含有させてもよい。熱硬化触媒は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
樹脂層(A)および感光性樹脂層(B)には、これらを形成するための樹脂組成物の調製のため、または基板やキャリアフィルムに塗布するための粘度調整のために、有機溶剤を使用することができる。このような有機溶剤としては、ケトン類、芳香族炭化水素類、グリコールエーテル類、グリコールエーテルアセテート類、エステル類、アルコール類、脂肪族炭化水素、石油系溶剤等を挙げることができる。より具体的には、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート等のエステル類;エタノール、プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素;石油エーテル、石油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等である。有機溶剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
電子材料の分野において公知慣用の他の添加剤を配合してもよい。他の添加剤としては、熱重合禁止剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、可塑剤、難燃剤、帯電防止剤、老化防止剤、抗菌・防黴剤、消泡剤、レベリング剤、増粘剤、密着性付与剤、チキソ性付与剤、着色剤、光開始助剤、増感剤、熱可塑性樹脂、無機フィラー、有機フィラー、離型剤、表面処理剤、分散剤、分散助剤、表面改質剤、安定剤、蛍光体等が挙げられる。
この工程では、アルカリ可溶性樹脂および磁性体粒子を含む樹脂組成物(a)からなる樹脂層(A)を少なくとも一層形成する。樹脂層(A)の形成方法としては、塗布法と、ラミネート方が挙げられる。
この工程では、樹脂層(A)上に、アルカリ可溶性樹脂および光重合開始剤を含む感光性樹脂組成物(b)からなる感光性樹脂層(B)を少なくとも一層形成する。また、感光性樹脂層(B)と樹脂層(A)との間には、更なる層を介在させてもよい。感光性樹脂層(B)は、樹脂層(A)の形成方法と同様の方法で形成できる。
本発明の感光性樹脂積層体は、露光(光照射)を行うことにより、露光部(光照射された部分)が硬化する。具体的には、接触式または非接触方式により、パターンを形成したフォトマスクを通して選択的に活性エネルギー線により露光、もしくは、レーザーダイレクト露光機により直接パターン露光する。未露光部を希アルカリ水溶液(例えば、0.3〜3質量%炭酸ソーダ水溶液)により現像することにより、フォトリソグラフィによるパターンを形成できる。
本発明のドライフィルムは、本発明の感光性樹脂積層体の少なくとも片面が、フィルムで支持または保護されている。ドライフィルムの製造は、例えば、上記感光性樹脂組成物(b)を有機溶剤で希釈して適切な粘度に調整し、コンマコーター、ブレードコーター、リップコーター、ロッドコーター、スクイズコーター、リバースコーター、トランスファロールコーター、グラビアコーター、スプレーコーター等でキャリアフィルム上に均一な厚さに塗布する。その塗布層を乾燥し、キャリアフィルム上に感光性樹脂層(B)を形成する。同様にして、該感光性樹脂層(B)上に、樹脂組成物(a)により樹脂層(A)を形成し、本発明のドライフィルムを得ることができる。尚、キャリアフィルムに限らず、カバーフィルム上に形成してもよい。
本発明の電子部品の製造方法は、本発明の感光性樹脂積層体に、前記感光性樹脂層(B)側から露光した後、アルカリ現像することによって、前記樹脂層(A)と前記感光性樹脂層(B)とをパターニングする工程を含むことを特徴とするものである。パターンの形成方法については、上記のフォトリソグラフィによるパターンの形成方法に記載のとおりである。
温度計、窒素導入装置兼アルキレンオキシド導入装置および撹拌装置を備えたオートクレーブに、ノボラック型クレゾール樹脂(昭和電工社製、ショーノールCRG951、OH当量:119.4)119.4g、水酸化カリウム1.19gおよびトルエン119.4gを仕込み、撹拌しつつ系内を窒素置換し、加熱昇温した。次に、プロピレンオキシド63.8gを徐々に滴下し、125〜132℃、0〜4.8kg/cm2で16時間反応させた。その後、室温まで冷却し、この反応溶液に89%リン酸1.56gを添加混合して水酸化カリウムを中和し、固形分62.1%、水酸基価が182.2g/eq.であるノボラック型クレゾール樹脂のプロピレンオキシド反応溶液を得た。これは、フェノール性水酸基1当量当りアルキレンオキシドが平均1.08モル付加しているものであった。
次いで、得られたノボラック型クレゾール樹脂のアルキレンオキシド反応溶液293.0g、アクリル酸43.2g、メタンスルホン酸11.53g、メチルハイドロキノン0.18gおよびトルエン252.9gを、撹拌機、温度計および空気吹き込み管を備えた反応器に仕込み、空気を10ml/分の速度で吹き込み、撹拌しながら、110℃で12時間反応させた。反応により生成した水は、トルエンとの共沸混合物として、12.6gの水が留出した。その後、室温まで冷却し、得られた反応溶液を15%水酸化ナトリウム水溶液35.35gで中和し、次いで水洗した。その後、エバポレーターにてトルエンをジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート118.1gで置換しつつ留去し、ノボラック型アクリレート樹脂溶液を得た。次に、得られたノボラック型アクリレート樹脂溶液332.5gおよびトリフェニルホスフィン1.22gを、撹拌器、温度計および空気吹き込み管を備えた反応器に仕込み、空気を10ml/分の速度で吹き込み、撹拌しながら、テトラヒドロフタル酸無水物60.8gを徐々に加え、95〜101℃で6時間反応させた。このようにして得られたエチレン性不飽和結合およびカルボキシル基を併せ持つアルカリ可溶性樹脂1は、固形物の酸価88mgKOH/g、固形分71%であった。
温度計、攪拌機、滴下ロートおよび還流冷却器を備えたフラスコに、ベンジルメタクリレート、およびメタクリル酸をモル比で3:7となるように仕込み、溶媒としてジプロピレングリコールモノメチルエーテル、触媒としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN)を入れ、窒素雰囲気下、80℃で4時間攪拌し、樹脂溶液を得た。この樹脂溶液を冷却し、重合禁止剤としてメチルハイドロキノン、触媒としてテトラブチルホスホニウムブロミドを用い、グリシジルメタクリレートを、95〜105℃で16時間の条件で、上記樹脂のカルボキシル基に対し50モル%付加反応させ、冷却後、取り出した。このようにして得られたエチレン性不飽和結合およびカルボキシル基を併せ持つアルカリ可溶性樹脂2は、固形分酸価118mgKOH/g、カルボン酸当量(固形分)475、固形分50%、重量平均分子量が約20,000であった。
攪拌装置、温度計およびコンデンサーを付けたフラスコに、GBL(γ−ブチロラクトン)848.8gとMDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)57.5g(0.23モル)、DMBPDI(4,4’−ジイソシアネート−3,3’−ジメチル−1,1’−ビフェニル)59.4g(0.225モル)とTMA(無水トリメリット酸)67.2g(0.35モル)とTMA−H(シクロヘキサン−1,3,4−トリカルボン酸−3,4−無水物)29.7g(0.15モル)を仕込み、攪拌を行いながら発熱に注意して80℃に昇温し、この温度で1時間かけて溶解、反応させ、さらに2時間かけて160℃まで昇温した後、この温度で5時間反応させた。反応は炭酸ガスの発泡とともに進行し、系内は茶色の透明液体となった。25℃での粘度が7Pa・sの樹脂固形分17%で溶液酸価が5.3mgKOH/gのアルカリ可溶性樹脂3の溶液(樹脂がγ−ブチロラクトンに溶解した樹脂組成物)を得た。なお、樹脂の固形分酸価は31.2mgKOH/gであった。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)の測定の結果、重量平均分子量が約34,000であった。
下記の表1中に示す配合に従い、各成分を配合、攪拌して、3本ロールにて分散させて、それぞれ樹脂組成物を調製した。なお、表1中の配合量は、質量部を示す。
上記で得た樹脂組成物にメチルエチルケトンを加えて適宜希釈し、攪拌機で15分間撹拌して塗工液を得た。塗工液を、キャリアフィルムとして厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、80℃の温度で15分間乾燥し、厚み40μmの樹脂層(A)を形成した。
下記の表2中に示す配合に従い、各成分を配合、攪拌して、3本ロールにて分散させて、それぞれ樹脂組成物を調製した。なお、表2中の配合量は、質量部を示す。
上記で得た樹脂組成物にメチルエチルケトンを加えて適宜希釈し、攪拌機で15分間撹拌して塗工液を得た。塗工液を、キャリアフィルムとして厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布し、80℃の温度で15分間乾燥し、厚み10μmの感光性樹脂層(B)を形成した。
(解像性)
前記樹脂層(A)を、回路形成した基板上に、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートした。次いで前記感光性樹脂層(B)を、前記基板にラミネートされた樹脂層(A)上に、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートし、基板上に、樹脂層(A)、感光性樹脂層(B)の順で積層された感光性樹脂積層体を形成させた。この基板上に形成された感光性樹脂積層体に対し、高圧水銀灯(ショートアークランプ)搭載の露光装置を用いて、最適露光量でパターン露光し、その後、30℃の1質量%炭酸ナトリウム水溶液を用いて、スプレー圧0.2MPaの条件で240秒間現像を行い、感光性樹脂積層体のパターンを形成した。この基板上の感光性樹脂積層体に、UVコンベア炉にて積算露光量1000mJ/cm2の条件で紫外線照射した後、180℃で60分加熱して感光性樹脂積層体を硬化した。感光性樹脂積層体のパターンは、評価基板の回路を形成する銅上に、開口径100μmの開口を有する形態で形成した。
ここで、最適露光量とは以下の露光量を意味する。
すなわち、上記で得られた評価基板について、高圧水銀灯(ショートアークランプ)搭載の露光装置を用いてステップタブレット(Kodak No.2)を介して露光し、現像(30℃,0.2MPa,1質量%炭酸ナトリウム水溶液)を240秒で行った際に残存するステップタブレットのパターンが7段のときの露光量を意味する。
解像性の評価は、開口径100μmの開口部をSEM(走査型電子顕微鏡)により観察し、以下の基準にて評価した。評価結果を表3、4に示す。
○:開口底部の銅表面が確認される良好な形状である場合。
×:開口底部の銅表面が確認されない開口形状不良の場合。
前記樹脂層(A)を、厚さ9μmの電解銅箔(古河電工社製)上に、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートした。次いで前記感光性樹脂層(B)を、前記電解銅箔にラミネートされた樹脂層(A)上に、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートし、電解銅箔上に、樹脂層(A)、感光性樹脂層(B)の順で積層された感光性樹脂積層体を形成させた。この銅箔上に形成された感光性樹脂積層体に対し、高圧水銀灯(ショートアークランプ)搭載の露光装置を用いて、最適露光量でベタ露光した。この銅箔上の感光性樹脂積層体に、UVコンベア炉にて積算露光量1000mJ/cm2の条件で紫外線照射した後、180℃で60分加熱して感光性樹脂積層体を硬化した。
次いで、この感光性樹脂積層体付銅箔に対し、塩化第二銅340g/l、遊離塩酸濃度51.3g/lの組成のエッチング液を用いて銅箔をエッチング除去し、十分に水洗、乾燥して、厚さ50μmの硬化物からなる試験片を作製した。
このようにして作製した試験片について、E5071C ENAベクトル・ネットワーク・アナライザ(キーサイトテクノロジー社製)を用いて、周波数100MHzにおける比透磁率μ’を測定した。評価結果を表3、4に示す。
前記樹脂層(A)を、回路形成した基板上に、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートした。次いで前記樹感光性脂層(B)を、前記基板にラミネートされた樹脂層(A)上に、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートし、基板上に、樹脂層(A)、感光性樹脂層(B)の順で積層された感光性樹脂積層体を形成させた。この基板上に形成された感光性樹脂積層体に対し、高圧水銀灯(ショートアークランプ)搭載の露光装置を用いて、最適露光量でベタ露光した。この基板上の感光性樹脂積層体に、UVコンベア炉にて積算露光量1000mJ/cm2の条件で紫外線照射した後、180℃で60分加熱して感光性樹脂積層体の硬化物を得た。このようにして得た硬化物上に、前記樹脂層(A)を、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートした。次いで前記感光性樹脂層(B)を、前記基板にラミネートされた樹脂層(A)上に、真空ラミネーター(名機製作所社製MVLP−500)を用いて加圧度:0.8MPa、90℃、1分、真空度:133.3Paの条件で加熱ラミネートし、基板上に、樹脂層(A)、感光性樹脂層(B)の順で積層された感光性樹脂積層体を形成させた。この基板上に形成された感光性樹脂積層体に対し、高圧水銀灯(ショートアークランプ)搭載の露光装置を用いて、最適露光量でベタ露光した。この基板上の感光性樹脂積層体に、UVコンベア炉にて積算露光量1000mJ/cm2の条件で紫外線照射した後、180℃で60分加熱し、回路基板上に樹脂層(A)、感光性樹脂層(B)、樹脂層(A)、感光性樹脂層(B)の順に積層された評価基板を得た。
評価基板に対し、カッターナイフを用い、樹脂層が積層された側から回路基板に達するように縦11本、横11本の切り傷をつけ、100個の碁盤目を作製した。
次いで、碁盤目部分にセロハンテープを強く圧着させ、テープの端を45°の角度で一気に引き剥がし、碁盤目の状態を目視にて観察し、以下の基準にて評価した。評価結果を表3、4に示す。
○:100マスすべてで剥がれ無し
×:碁盤目で1箇所以上剥がれが確認された
実施例1〜14において、樹脂層(A)として樹脂層A1をラミネートした後に、感光性樹脂層(B)をラミネートしない以外は、実施例1〜14と同様にして評価を行った。評価結果を表3、4に示す。
実施例1〜14において、樹脂層(A)をラミネートせずに、感光性樹脂層(B)として樹脂層B1をラミネートした以外は、実施例1〜14と同様にして評価を行った。評価結果を表3、4に示す。
*2:上記で合成したアルカリ可溶性樹脂2(ベンジルメタクリレート+メタクリル酸共重合物のグリシジルメタクリレート付加物)
*3:上記で合成したアルカリ可溶性樹脂3(カルボキシル基含有アミドイミド樹脂)
*4:IGM Resins社製Omnirad(オムニラッド)TPO
*5:IGM Resins社製イOmnirad(オムニラッド)784
*6:BASF社製イルガキュアOXE02
*7:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
*8:ビスフェノールA型エポキシ樹脂
*9:ジシアンジアミド
*10:パウダーテック社製M001 Mnフェライト D50:1.2μm
*11:パウダーテック社製E001 Mn−Mg−Srフェライト D50:0.2μm
*12:エプソンアトミックス社製 AW2−08PF3FG アモルファス磁性合金 D50:3.2μm
*13:メチルエチルケトン
(B) 感光性樹脂層(B)
1 感光性樹脂積層構造体
2 基材
3 導体パターン
Claims (9)
- アルカリ可溶性樹脂および磁性体粒子を含む樹脂層(A)と、アルカリ可溶性樹脂および光重合開始剤を含む感光性樹脂層(B)が積層されたことを特徴とする感光性樹脂積層体。
- 前記樹脂層(A)が、さらに熱硬化性樹脂を含むことを特徴とする請求項1に記載の感光性樹脂積層体。
- 前記磁性体粒子の平均粒子径(D50)が、0.01〜50μmであることを特徴とする請求項1または2に記載の感光性樹脂積層体。
- 前記樹脂層(A)の、周波数100MHzにおける比透磁率(μ’)が、1超〜100以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の感光性樹脂積層体の少なくとも片面が、フィルムで支持または保護されていることを特徴とするドライフィルム。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体、または、請求項5に記載のドライフィルムの感光性樹脂積層体を、硬化して得られることを特徴とする硬化物。
- 請求項6に記載の硬化物を有することを特徴とする電子部品。
- インダクタであることを特徴とする請求項7に記載の電子部品。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の感光性樹脂積層体に、前記感光性樹脂層(B)側から露光した後、アルカリ現像することによって、前記樹脂層(A)と前記感光性樹脂層(B)とをパターニングする工程を含むことを特徴とする電子部品の製造方法。
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