JP2018517183A - 反射防止フィルムおよびディスプレイ装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、ハードコーティング層と、前記ハードコーティング層に形成された低屈折層と、を含み、表面積１．４７ｍｍ２のうち平均線以上のピークの凸部の体積の和が０．０３ｍｍ３未満であり、平均線以下のバレーの凹部の体積の和が０．０３ｍｍ３未満の反射防止フィルムと、前記反射防止フィルムを含むディスプレイ装置に関するものである。

Description

[関連出願の相互参照]
本出願は、２０１６年３月１４日付の韓国特許出願第１０−２０１６−００３０３９６号、および２０１６年３月２８日付の韓国特許出願第１０−２０１６−００３７２０９号に基づく優先権の利益を主張し、当該韓国特許出願の文献に開示された全ての内容は本明細書の一部として含まれる。

本発明は、反射防止フィルムおよびディスプレイ装置に関するものであって、より詳しくは、高解像度ディスプレイに適用時、スパークリング現象が少なく、視認性に優れて、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムと優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置に関するものである。

一般に、ＰＤＰ、ＬＣＤなどの平板ディスプレイ装置には外部から入射する光の反射を最小化するための反射防止フィルムが装着される。

光の反射を最小化するための方法としては、樹脂に無機微粒子などのフィラーを分散させて基材フィルム上にコーティングし、凹凸を付与する方法（ａｎｔｉ−ｇｌａｒｅ：ＡＧコーティング）、基材フィルム上に屈折率が異なる複数の層を形成して光の干渉を利用する方法（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲコーティング）、またはこれらを混用する方法などがある。その中で、前記ＡＧコーティングの場合、反射される光の絶対量は一般的なハードコーティングと同等程度であるが、凹凸を通した光の散乱を利用して目に入る光の量を減らすことによって低反射効果を得ることができる。しかし、前記ＡＧコーティングは、表面凹凸によって画面の鮮明度が落ちるため、最近は、ＡＲコーティングの多くの研究が行われている。

前記ＡＲコーティングを利用したフイルムとしては、基材フィルム上にハードコーティング層（高屈折率層）、低反射コーティング層などが積層された多層構造であることが商用化されている。しかし、表面に凹凸がないクリア（ｃｌｅａｒ）コーティングの場合、眩しさ防止の効果が十分でなく、ディスプレイ内部の不良点が容易に見えるという短所がある。

したがって、イメージの鮮明性を維持しながら外部から入射する光の反射を最小化する多くの研究が行われているが、ディスプレイの解像度が上がるほど、これに伴う物性改善の程度は十分ではないのが実情である。最近、液晶ディスプレイ装置の液晶パネルとしてＣＯＴ（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ ｏｎ ＴＦＴ）構造を使用する場合がある。

このようなＣＯＴ構造の液晶パネルを使用する場合、電極などに含まれる金属によってパネル内部の反射度が高くなりながら、外部ブラック視感および明暗比などのディスプレイの光特性が低下するという問題点があり、したがって、ディスプレイパネルの収率が高くかつ優れた反射防止機能を有する表面コーティングフィルムの開発を必要とするのが実情である。

本発明は、高解像度ディスプレイに適用時、スパークリング現象が少なく、視認性に優れて、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムを提供するものである。

また、本発明は、優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置を提供するものである。

前記課題を解決するために、本発明は、
ハードコーティング層および前記ハードコーティング層に形成された低屈折層を含み、表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピーク（ｐｅａｋ）の凸部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満であり、平均線以下のバレー（ｖａｌｌｅｙ）の凹部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満である、反射防止フィルムが提供される。

また、本明細書では、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。

以下、本発明の具現例による反射防止フィルムおよびディスプレイ装置についてより詳細に説明する。

本明細書で、光重合性化合物は光が照射されれば、例えば、可視光線または紫外線が照射されれば重合反応を起こす化合物を通称する。

また、フッ素系化合物は、化合物のうちの少なくとも１つ以上のフッ素元素が含まれている化合物を意味する。

また、（メタ）アクリル[（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ]はアクリル（ａｃｒｙｌ）およびメタクリル（Ｍｅｔｈａｃｒｙｌ）の両方を含む意味である。

また、（共）重合体は共重合体（ｃｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）および単独重合体（ｈｏｍｏ−ｐｏｌｙｍｅｒ）の両方を含む意味である。

また、中空シリカ粒子（ｓｉｌｉｃａ ｈｏｌｌｏｗ ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）とは、ケイ素化合物または有機ケイ素化合物から導出されるシリカ粒子として、前記シリカ粒子の表面および／または内部に空き空間が存在する形態の粒子を意味する。

本発明の一実施形態によれば、ハードコーティング層および前記ハードコーティング層に形成された低屈折層を含む反射防止フイルムであって、前記反射防止フィルム表面の表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満であり、平均線以下のバレーの凹部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満である、反射防止フィルムが提供される。ここで、“ピークの凸部”は前記反射防止フィルムの表面の凹凸形状のうち、上に尖っている凸部分を意味し、“バレーの凹部”は前記反射防止フィルムの表面の凹凸形状のうち、下へ凹んでいる凹部分を意味する。

前記ハードコーティング層はその一面に微細凹凸を有する、通常ＡＧコーティング層といわれるコーティング層で構成される。具体的に、前記ハードコーティング層の表面は数百ｎｍ乃至数μｍ高さの凹凸構造からなる。凹凸構造が形成されたフィルムは外部から光が入ってきた時に乱反射を誘導できるため、眩しさ防止効果は優れているが、内部から出てくるイメージも表面で歪曲されるので、イメージの鮮明性や解像度が低下する問題をもたらす。また、ＵＨＤ（ｕｌｔｒａｈｉｇｈ ｄｅｆｉｎｉｔｉｏｎ）以上の高解像度ディスプレーではこのようなイメージ歪曲が激しいため、凹凸構造の制御が必要である。

これに本発明者らは反射防止効果と視認性を同時に実現できる最適の表面凹凸構造を導出するために、反射防止フィルムの表面凹凸構造に対して効果的に分析できるパラメータに関して研究を進行した結果、反射防止フィルムの一定範囲の表面積当たりの平均線以上のピークの凸部および平均線以下のバレーの凹部の体積の和を通じて表面凹凸の把握が容易であることを実験を通して確認し、本発明を完成した。特に、反射防止フィルムの表面凹凸のピークの凸部およびバレーの凹部が占める体積に対するパラメータは、表面凹凸の高さパラメータに比べて、表面凹凸の高さが低い場合に有用である。

具体的に、前記体積パラメータは、表面の凹凸形状の十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．２μｍ以下である場合に反射防止フィルムの表面凹凸構造を把握するのに特に有用である。例えば、平均粗さ（Ｒｚ）値の減少は表面の凹凸形状の高さの減少を示すので、平均粗さ（Ｒｚ）の値が減少するほど最大高さを有する凹凸と最小高さを有する凹凸の間の差が減少して、凹凸の高さだけでは凹凸の形状を把握しにくいこともある。

したがって、本発明者らは、高さが低い凹凸の形状を有する反射防止フィルムに対する研究を重ねた結果、凹凸の高さが同じでも、凹凸の大きさ、数、形状などにより前記フィルムの眩しさ防止機能には差があるため、これを示すパラメータとして平均粗さ（Ｒｚ）と同じ高さのパラメータよりは凹凸形状の高さと形状に対する情報を同時に有する３次元変数である体積パラメータがより適切であることを確認した。

また、前記反射防止フィルムの表面凹凸のピークおよびバレーが特定範囲の体積を持つ時、低屈折層による反射率を低くし、優れた眩しさ防止効果と視認性を示す反射防止フィルムを実現可能であることを確認した。

具体的に、前記反射防止フィルムの表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部が占める体積は０．０３ｍｍ^３未満、または０．００１ないし０．０３ｍｍ^３、または０．０１ないし０．０３ｍｍ^３でありうる。また、前記反射防止フィルムの表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以下のバレーの凹部が占める体積は０．０３ｍｍ^３未満、または０．００１ないし０．０３ｍｍ^３、または０．０１ないし０．０３ｍｍ^３でありうる。

前記反射防止フィルムの表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部の体積の和は任意に設定した測定表面積内で平均線以上の高さを有する凸部分が占める部分の和を意味し、前記反射防止フィルムの表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以下のバレーの凹部の体積の和は任意に設定した測定表面積内で平均線以下の高さを有する凹部分が占める部分の和を意味する。この時、‘平均線’とは、反射防止フィルムの表面に直角な平面でその表面を切断したとき、その断面に現れる曲線で所定の波長より短い部分を位相補償型低域フィルターで除去した後、ピークの面積の和とバレーの面積の和が同一に計算されるピーク高さ値を意味する。表面積１．４７ｍｍ^２は横の長さおよび／または縦の長さを調整して設定可能であるが、例えば、１．４０ｍｍ×１．０５ｍｍに設定される。

このような、前記反射防止フィルム表面の平均線以上のピークの凸部の体積の和および平均線以下のバレーの凹部の体積の和は非接触表面形状測定器（３Ｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）を利用して測定できる。

具体的に、前記反射防止フィルムはハードコーティング層上に形成された低屈折層を含むので、前記反射防止フィルムの表面の平均線以上のピークの凸部の体積の和および平均線以下のバレーの凹部の体積の和は低屈折層の表面に対して測定して求められる。

この時、前記反射防止フィルムの表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部あるいは平均線以下のバレーの凹部の体積の和がそれぞれ０超過０．０３ｍｍ^３未満であり、これによって、表面の外部凹凸を最小化しながらも外部反射を低くすることができる。前記反射防止フィルムの表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部あるいは平均線以下のバレーの凹部の体積の和が０であれば、眩しさ防止機能がなくてフィルム隠蔽力が悪くなる問題点があり、ハードコーティング層の表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部あるいは平均線以下のバレーの凹部の体積の和が０．０３ｍｍ^３以上であれば、必要以上のフィルム隠蔽力でフィルムの視認性が低下できる。

したがって、表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満で、かつ平均線以下のバレーの凹部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満である反射防止フィルムは、優れた反射防止機能と視認性を同時に示すことができる。

さらに、前記反射防止フィルムは、優れた耐摩耗性、耐擦傷性、または耐スクラッチ性などの機械的物性を表すが、これは、ハードコーティング層および低屈折層コーティングによる外部凹凸特性と前記低屈折層を形成する組成の特性によって具現される。前記低屈折層の組成に対する具体的な内容については後述する。

また、これと共に、前記反射防止フィルムの視認性を維持しながらパネル不良の隠蔽力を改善するためには、前記反射防止フィルムにヘイズを付与できる。前記反射防止フィルムの全ヘイズは内部ヘイズと外部ヘイズの和で定義され、前記全ヘイズは、前記反射防止フィルム自体に対してヘイズを測定して得ることができ、前記内部ヘイズはヘイズが０である粘着剤を表面に付けて平坦化層を作ったり、あるいはアルカリ処理をした表面に平坦化層をコーティングして測定でき、前記全ヘイズおよび内部ヘイズ値が定義されることによって、外部ヘイズ値が定義される。

具体的に、前記反射防止フィルムの内部ヘイズが０超過１０％未満であるとき、鮮明性を維持しながらパネル不良の隠蔽力を改善することができる。前記反射防止フィルムの内部ヘイズが０％の場合、パネル隠蔽力が低下することができ、前記反射防止フィルムの内部ヘイズが１０％以上の場合には明暗比の低下など視認性の低下をもたらすことができる。

また、前記反射防止フィルムの外部ヘイズが０超過０．５％未満、または０超過０．２％以下であるとき、スパークリング現象が少なく解像度が高い反射防止フィルムを製造することができる。前記反射防止フィルムの外部ヘイズが０％の場合、低反射効果を期待できず、前記反射防止フィルムの外部ヘイズが０．５％以上である場合、解像度の低下をもたらすことができる。上述した範囲の外部ヘイズは、表面積１．４７ｍｍ^２のうち、０．０３ｍｍ^３未満の体積の和を有する平均線以上のピークの凸部および０．０３ｍｍ^３未満の体積の和を有する平均線以下のバレーの凹部から構成された表面凹凸によって具現される。

前述のように、前記反射防止フィルムは、表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満であり、平均線以下のバレーの凹部の体積の和は０．０３ｍｍ^３未満であり、内部ヘイズが０超過１０％未満であり、外部ヘイズが０超過１％未満であり、３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ波長領域で５％未満の平均反射率を示すことができる。具体的に、前記反射防止フィルムの平均反射率は、３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ波長領域で３．５％以下、または２．０％以下、または１．５％以下でありうる。これによって、前記反射防止フィルムは反射防止機能を極大化し、ＣＯＴパネルなどで外部光による視認性低下を抑制することができる。

前記反射防止フィルムの平均線以上のピークの凸部の体積の和、平均線以下のバレーの凹部の体積の和、反射率、内部ヘイズおよび外部ヘイズは反射防止フィルムのハードコーティング層を形成する組成物の組成、およびその形成方法により調整可能で、反射防止フィルムの表面に相当する低屈折層を形成する組成物の組成、およびその形成方法によっても影響を受けられる。反射防止フィルム表面の凹凸の大部分は、ハードコーティング層の凹凸形状が反映されて現れるが、低屈折層によっても反射防止フィルム表面の凹凸の高さと形状が異なることができるので、低屈折層による凹凸変化を考慮してハードコーティング層の凹凸の高さおよび形状を適切に調整するのが望ましい。

具体的に、表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満であり、平均線以下のバレーの凹部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満の反射防止フィルムはハードコーティング層を形成する組成物内有機粒子および無機粒子それぞれの大きさおよび投入量、および有機粒子と無機粒子との間の比率、有機粒子とバインダーの間の比率などを変更して、粒子の凝集を所望する水準に調整することによって具現される。例えば、前記組成物内の有機粒子または無機粒子の含有量を減らすことによって、粒子の凝集を減少させて凹凸の高さを低くすることができる。また、粒子の凝集よりは分散性に優れた有機粒子を使用して、粒子の凝集が行われないようにして、凹凸形状の高さを低くすることもできる。この時、適切な含有量の無機粒子と共に添加する場合、無機粒子の表面処理剤と有機粒子の表面処理剤の間の極性の違いによって、有機粒子の分散性が調整され、そのために、粒子の凝集の程度が異なり、表面凹凸の大きさおよび形状が制御されることができる。

また、表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピークの凸部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満であり、平均線以下のバレーの凹部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満の反射防止フィルムは、同じ組成の組成物を使っても、ハードコーティング層および／または低屈折層の厚さを調整することによって具現される。具体的に、前記ハードコーティング層および／または低屈折層の厚さが厚くなるほど、粒子による表面凹凸がコーティング層に埋められて表面凹凸の高さが低くなることができる。前記ハードコーティング層および／または低屈折層の厚さが厚くなれば、有機粒子あるいは無機粒子の大きさに比べてこれら層の厚さが厚くなるため、粒子が多く凝集された突起ができても表面に凹凸として目立たなくて、低い高さを有する凹凸として現れる。このように、ハードコーティング層および／または低屈折層を形成する組成物の組成およびこれらを形成するための工程条件を調整して、反射防止フィルムの表面の凹凸形状の体積パラメータ、反射率、内部ヘイズおよび外部ヘイズを特定範囲以内で調整することができる。

一方、前記ハードコーティング層は、光重合性化合物、光開始剤および有機微粒子または無機微粒子を含むハードコーティング組成物から形成することができる。具体的に、前記ハードコーティング層は光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子を含んでもよい。

前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物に含まれる光重合性化合物は、紫外線などの光が照射されれば重合反応を起こすことができる光重合型／光硬化型化合物として、当業系で通常的なものでありうる。

具体的に、前記ハードコーティング層に含まれる光重合性化合物の（共）重合体は、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、ポリエステルアクリレート、およびポリエーテルアクリレートからなる反応性アクリレートオリゴマー群；およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチレンプロピルトリアクリレート、プロポキシル化グリセロールトリアクリレート、トリメチルプロパンエトキシトリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、プロポキシル化グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、およびエチレングリコールジアクリレートからなる多官能性アクリレート単量体群より選択される１種以上から形成される（共）重合体でありうる。

また、前記光重合性化合物の（共）重合体は、重量平均分子量１０，０００以上の高分子量（共）重合体をさらに含んでもよい。この時、前記高分子量（共）重合体は、セルロース系ポリマー、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、エポキシド系ポリマー、ナイロン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびポリオレフィン系ポリマーからなる群より選択される１種以上であってもよい。

前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体とともに有機または無機微粒子を含んで表面凹凸と内部ヘイズを付与する。前記有機または無機微粒子は粒径が０．５ないし１０μｍ、または０．５ないし５μｍ、好ましくは１ないし５μｍの球形粒子であってもよい。

前記有機または無機微粒子の粒径は表面凹凸と内部ヘイズを発現するためには０．５μｍ以上にすることができ、ヘイズまたはコーティング厚さの側面から１０μｍ以下にすることができる。例えば、微粒子粒径が１０μｍを超えて過度に大きくなる場合、微細表面凹凸を嵌合するためにコーティング厚さを上げなければならないし、これによってフィルムの耐クラック性が低下しフィルムが曲がる問題が発生することができる。

前記有機または無機微粒子の具体的な例が限定されるものではないが、例えば前記有機または無機微粒子は（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシド樹脂およびナイロン樹脂からなる有機微粒子であるか、酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウムおよび酸化亜鉛からなる無機微粒子でありうる。

前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記有機または無機微粒子０．１ないし２０重量部、または１ないし１５重量部、好ましくは１ないし１０重量部を含んでもよい。前記有機または無機微粒子が光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して、０．１重量部未満含まれる場合、内部散乱によるヘイズ値が十分に具現されないことがある。また、前記有機または無機微粒子が光重合性化合物の（共）重合体１００重量部に対して２０重量部を超える場合、コーティング層のヘイズが高くて明暗比が低下でき、コーティング組成物の粘度が高まってコーティング性が不良になる問題が発生できる。

また、前記有機または無機微粒子の屈折率はマトリックスを形成する光硬化型樹脂の屈折率と差を有する。粒子の含有量により適正屈折率の差が決定され、屈折率差が０．０１ないし０．５を有するのが好ましい。前記微粒子と光硬化性樹脂の屈折率差が０．０１未満であれば適正なヘイズ値を得にくいこともある。また、前記微粒子と光硬化性樹脂の屈折率差が０．５を超えれば極少量の粒子含有量を使わなければならないため、所望する水準の表面凹凸形状を得られない。

具体的に前記有機または無機微粒子は、（メタ）アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、およびその共重合体樹脂からなる有機微粒子群；および酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化インジウム、酸化錫、酸化ジルコニウム、および酸化亜鉛からなる無機微粒子群より選択される１種以上であってもよい。

より具体的に、前記有機微粒子は、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ｍ−クロロメチルスチレン、スチレンスルホン酸、ｐ−ｔ−ブトキシスチレン、ｍ−ｔ−ブトキシスチレン、ビニルアセテート、ビニルプロピオン酸塩、ビニルブチレート、ビニルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、不飽和カルボキシ酸、アルキル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロニトリルおよび（メタ）アクリレートからなる群より選択される一つ以上でありうる。

また、前記有機物微粒子はポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリアクリレート、ポリアクリレート−ｃｏ−スチレン、ポリメチルアクリレート−ｃｏ−スチレン、ポリメチルメタクリレート−ｃｏ−スチレン、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリアセタール、エポキシレジン、フェノールレジン、シリコーン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン、ポリジビニルベンゼン、ポリジビニルベンゼン−ｃｏ−スチレン、ポリジビニルベンゼン−ｃｏ−アクリレート、ポリフタル酸ジアリルおよびトリアリルイソシアヌレートポリマーの中から選択された一つの単一物またはこれらの２つ以上のコポリマー（ｃｏｐｏｌｙｍｅｒ）であることを用いることができるが、必ずこれに限定されるものではない。

一方、前記ハードコーティング層は１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子をさらに含んでもよい。前記無機ナノ粒子の表面には所定の作用基や化合物が結合される。前記無機ナノ粒子は、有機または無機微粒子の表面に存在したりあるいは単独で存在することがあり、ハードコーティング層の表面凹凸の形状をスムースに調整でき、コーティング層の機械的な特性も向上できる。前記無機ナノ粒子の具体的な種類としては酸化ケイ素（シリカ）、アルミナ、チタニアなどを使用することができる。

この時、前記ハードコーティング層は５０ｎｍ超過１２０ｎｍ以下の直径を有する無機ナノ粒子をさらに含んでもよい。そのために、前記ハードコーティング層は無機ナノ粒子として、１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子だけを含んだり、あるいは１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子および５０ｎｍ超過１２０ｎｍ以下の直径を有する無機ナノ粒子いずれもを含んでもよい。例えば、前記無機ナノ粒子は、前記ハードコーティング層に前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部当り１０重量部以下含まれる。

また、前記ハードコーティング層は、前記有機または無機微粒子および無機ナノ粒子の総重量を基準にして、前記１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子３ないし１０重量％、または４ないし１０重量％、または５ないし１０重量％を含んでもよい。

前記ハードコーティング層内に前記１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子を前記範囲で調整する場合、内部散乱による十分なヘイズ値が具現され、かつ粒子の凝集程度が調整されて所望する高さおよび形状を有する凹凸を実現でき、そのために反射防止フィルムの体積パラメータを調整することができる。

例えば、前記１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子の含有量が３重量％より低い場合、凝集体の大きさが制御されず、ディスプレイ適用時に不良画素が生じたり黒色明暗比が低下できる。また、前記１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子の含有量が１０重量％より高い場合、内部散乱効果が不均一に発現でき、粒子の凝集の大きさにばらつきがあり、ディスプレイ適用時に不良画素が生成できる。

前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は光開始剤を含むことができ、前記光開始剤としては、通常知られている光開始剤を特に制限なしに使用することができる。前記光開始剤の例としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシジメチルアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、およびベンゾインブチルエーテルの中から選択された一つの単一物または二つ以上の混合物が用いられるが、本発明は上述した例に限定されるものではない。

この時、前記光開始剤は、前記光重合性化合物１００重量部に対して０．１ないし１０重量部で添加することができる。前記光開始剤が前記光重合性化合物１００重量部に対して０．１重量部未満含まれる場合、紫外線照射による十分な光硬化が起こらないこともあり、前記光重合性化合物１００重量部に対して１０重量部を超えて含まれる場合、最終形成される反射防止フィルムの膜強度が低下でき、前記ハードコーティング層上の低屈折層との密着が低下できる。

一方、前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は有機溶媒をさらに含んでもよい。このような有機溶媒が添加される場合、その構成の限定はないが、コーティング組成物の適切な粘度確保および最終形成されるフィルムの膜強度などを考慮して、前記光硬化性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５０ないし７００重量部、さらに好ましくは１００ないし５００重量部、最も好ましくは１５０ないし４５０重量部を使用することができる。

この時、使用可能な有機溶媒の種類は特に限定はないが、炭素数１ないし６の低級アルコール類、アセテート類、ケトン類、セロソルブ類、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、トルエンおよびキシレンからなる群より選択される１種または１種以上の混合物を使用することができる。

この時、前記低級アルコール類としてはメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、またはジアセトンアルコールなどが挙げられるが、本発明はこれに限定されるものではない。そして、前記アセテート類としては、メチルアセテート、酢酸エチル、イソプロピルアセテート、ブチルアセテート、またはセロソルブアセテートが用いられ、前記ケトン類としては、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、またはアセトンが用いられるが、これらに限定されるものではない。

一方、前記ハードコーティング層を形成するハードコーティング組成物は、レベリング剤、ウェッティング剤、消泡剤からなる添加剤群より選択される１種以上の添加剤をさらに含んでもよい。この時、前記添加剤は、それぞれ前記光重合性化合物１００重量部に対して０．０１ないし１０重量部の範囲内で添加することができる。

前記レベリング剤はハードコーティング組成物を使用し、コーティングしたコーティング膜の表面を均一にする役割を果たす。また、前記ウェッティング剤はハードコーティング組成物の表面エネルギーを低くする役割を果たすことによって、ハードコーティング組成物を透明基材層にコーティングするとき、均一な塗布が行われるようにする。

この時、前記消泡剤はハードコーティング組成物内の気泡を除去するために添加することができる。

それに、前記レベリング剤、ウェッティング剤、消泡剤はハードコーティング組成物の微粒子あるいはナノ粒子の分散性と凹凸形成に影響を与えられる。

一方、前記低屈折層は光重合性化合物；無機微細粒子；および反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）；光反応性作用基を含むフッ素系化合物；および光重合開始剤；を含む、低屈折層製造のための光硬化性コーティング組成物から形成することができる。具体的に、前記低屈折層は光重合性化合物；光反応性作用基を含むフッ素系化合物；および反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）；の間の架橋重合体を含むバインダー樹脂と、前記バインダー樹脂に分散した無機微細粒子を含んでもよい。

この時、前記低屈折層は、前記前記光重合性化合物１００重量部に対して前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）０．５ないし２５重量部含んでもよい。

前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンを特定含有量で含む光硬化性コーティング組成物を用いると、低い反射率および高い透光率を実現でき、耐アルカリ性を向上させると同時に優れた耐摩耗性または耐スクラッチ性を確保できる低屈折層およびディスプレイ装置の画面の鮮明度を高めることができ、かつ優秀な機械的物性を示す反射防止フィルムを提供することができる。

以前には、反射防止フィルムに含まれる低屈折層の耐スクラッチ性を向上させるためにはナノメートルサイズの多様な粒子（例えば、シリカ、アルミナ、ゼオライトなどの粒子）を添加する方法が試みられたが、このような方法によれば、耐スクラッチ性をある程度確保できるが、前記ナノメートルサイズの粒子が低い表面処理率を示すだけでなく、小さいサイズによって前処理液に露出する比表面積が増加して、耐アルカリ性が大きく低下する限界があった。

これに反し、前記一実施形態の光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５ないし２５重量部、または１．５ないし１９重量部を含んで、低い反射率および高い透光率を有し、かつ高い耐アルカリ性および耐スクラッチ性を同時に実現できる低屈折層を提供でき、さらに、最終製造される反射防止フィルムやこのような反射防止フィルムが適用されるディスプレイ装置の性能や品質を高めることができる。

具体的に、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンは、表面に反応性作用基が存在して前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の機械的物性、例えば耐スクラッチ性を高めることができる。また、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンは、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が分子内部に位置して以前に知られているシリカ、アルミナ、ゼオライトなどの微細粒子を使用する場合とは異なり、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性を向上させることができる。

前述のように、前記光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン０．５ないし２５重量部、または１．５ないし１９重量部を含んでもよい。そのために、前記バインダー樹脂中の光重合性化合物から由来する部分対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）から由来する部分の重量比率は０．００５ないし０．２５、または０．０１５ないし０．１９でありうる。

前記光硬化性コーティング組成物中の前記光重合性化合物対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンの含有量が小さすぎる場合、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性や耐スクラッチ性を十分に確保し難いこともある。また、前記光硬化性コーティング組成物中の前記光重合性化合物対比前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンの含有量が大きすぎる場合、前記光硬化性コーティング組成物から製造される低屈折層や反射防止フィルムの透明度が低下でき、スクラッチ性がむしろ低下できる。

前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性作用基はアルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、（メタ）アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン[アリル（ａｌｌｙ）、シクロアルケニル（ｃｙｃｌｏａｌｋｅｎｙｌ）またはビニルジメチルシリルなど]、ポリエチレングリコール、チオールおよびビニル基からなる群より選択された１種以上の作用基を含むことができ、好ましくはエポキシドまたは（メタ）アクリレートでありうる。

前記反応性作用基のより具体的な例としては、（メタ）アクリレート、炭素数１ないし２０のアルキル（メタ）アクリレート、炭素数３ないし２０のシクロアルキル（ｃｙｃｌｏａｌｋｙｌ）エポキシド、炭素数１ないし１０のアルキルシクロアルケン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドが挙げられる。前記アルキル（メタ）アクリレートは（メタ）アクリレートと結合しない‘アルキル’の他の一部分が結合位置という意味であり、前記シクロアルキルエポキシドはエポキシドと結合しない‘シクロアルキル’の他の部分が結合位置という意味であり、アルキルシクロアルケン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドはシクロアルケン（ｃｙｃｌｏａｌｋａｎｅ）エポキシドと結合しない‘アルキル’の他の部分が結合位置という意味である。

一方、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンは、上述した反応性作用基以外に炭素数１ないし３０の直鎖または分枝鎖のアルキル基、炭素数６ないし３０のシクロヘキシル基および炭素数６ないし３０のアリール基からなる群より選択された１種以上の未反応性作用基が１つ以上さらに含んでもよい。このように、前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基と未反応性作用基が表面に置換されることによって、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンでシロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が分子内部に位置しながら外部に露出しなくなり、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性をより高めることができる。特に、前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基と一緒に導入される非反応性作用基が炭素数６以上、または炭素数６ないし３０の直鎖または分枝鎖のアルキル基または炭素数６ないし３０のシクロヘキシル基の場合、塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性を向上させる効果がより高い。

一方、前記ポリシルセスキオキサンは（ＲＳｉＯ_１．５）_ｎで表記され（この時、ｎは４ないし３０または８ないし２０）、ランダム型、梯子型、籠型および部分的な籠型などの多様な構造を有することができる。

ただし、前記一実施形態の前記光硬化性コーティング組成物から製造される低屈折層および反射防止フィルムの物性および品質を高めるために、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンで反応性作用基が１つ以上置換されて籠型（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）を使用することができる。

また、より好ましくは、前記作用基が１つ以上置換され、籠型（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンは分子中シリコーン８ないし２０個を含んでもよい。

前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコーンのうちの少なくとも１つ以上または全体が上述した反応性作用基が置換され、また、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコーンのうちの少なくとも１つ以上には反応性作用基が置換され、反応性作用基が置換されないシリコーンには上述した非反応性作用基が置換されることもできる。

前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコーンのうちの少なくとも一つに反応性作用基が置換されることによって、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の機械的物性を向上させることができ、同時に残りシリコーンに非反応性作用基が置換されることによって分子構造的に立体障害（Ｓｔｅｒｉｃ ｈｉｎｄｅｒａｎｃｅ）が現れて、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が外部に露出する頻度や確率を大きく低くして前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の耐アルカリ性を向上させることができる。

より具体的に、前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基および非反応性作用基が一緒に置換される場合、前記ポリシルセスキオキサンに置換された非作用性反応器対比反応性作用基のモル比（ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ）が０．２０以上、または０．３以上であってもよく、また０．２０ないし６、または０．３ないし４、または０．４ないし３であってもよい。前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性作用基および非反応性作用基の間の比率が前記範囲の場合、前記ポリシルセスキオキサン分子で立体障害が極大化され、そのため、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−）が外部に露出する頻度や確率はより大きく低くなり、前記光硬化性コーティング組成物の光硬化時に形成される塗膜やバインダー樹脂の機械的物性や耐アルカリ性がより向上することができる。

そして、前記ポリシルセスキオキサンに反応性作用基および非反応性作用基が一緒に置換される場合、前記ポリシルセスキオキサンに置換された非反応性作用基対比反応性作用基のモル比（ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ）を満足した状態で、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンのシリコーンの１００ｍｏｌ％が反応性作用基および非反応性作用基に置換することができる。

一方、前記反応性作用基が１つ以上置換され籠型（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ、ＰＯＳＳ）の例としては、ＴＭＰ ＤｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｃｙｃｌｏｈｅｘａｎｅｄｉｏｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、１，２−ＰｒｏｐａｎｅｄｉｏｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｏｃｔａ（３−ｈｙｄｒｏｘｙ−３ ｍｅｔｈｙｌｂｕｔｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｏｘｙ）ＰＯＳＳなどアルコールが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ａｍｉｎｏｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎ−Ｐｈｅｎｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎ−Ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＡｍｍｏｎｉｕｍ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、ＡｍｉｎｏｐｈｅｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどアミンが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ−Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ−Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｏｃｔａ Ｍａｌｅａｍｉｃ Ａｃｉｄ ＰＯＳＳなどカルボン酸が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＥｐｏｘｙＣｙｃｌｏｈｅｘｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｅｐｏｘｙｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、Ｇｌｙｃｉｄｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＧｌｙｃｉｄｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳなどエポキシドが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＰＯＳＳ Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ、ＰＯＳＳ Ｍａｌｅｉｍｉｄｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌなどイミドが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｃｒｙｌｏＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｃｙｃｌｏｈｅｘｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅ Ｅｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ Ｅｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌａｔｅＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌＰｈｅｎｙｌ ＰＯＳＳ、（Ｍｅｔｈ）ａｃｒｙｌ ＰＯＳＳ、Ａｃｒｙｌｏ ＰＯＳＳなど（メタ）アクリレートが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＣｙａｎｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどのニトリル基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＥｔｈｙｌ ＰＯＳＳ、ＮｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌｅｔｈｙｌ ＤｉＳｉｌａｎｏＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、Ｔｒｉｓｎｏｒｂｏｒｎｅｎｙｌ Ｉｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳなどノルボルネン基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｌｌｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＭｏｎｏＶｉｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＣｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌ ＰＯＳＳなどビニル基が１つ以上置換されたＰＯＳＳ；ＡｌｌｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＭｏｎｏＶｉｎｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＣｙｃｌｏｈｅｘｅｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌｄｉｍｅｔｈｙｌｓｉｌｙｌ ＰＯＳＳ、ＯｃｔａＶｉｎｙｌ ＰＯＳＳなどのオレフィンが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；炭素数５ないし３０のＰＥＧが置換されたＰＯＳＳ；またはＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｂｕｔｙｌ ＰＯＳＳまたはＭｅｒｃａｐｔｏｐｒｏｐｙｌＩｓｏｏｃｔｙｌ ＰＯＳＳなどのチオールギが１つ以上置換されたＰＯＳＳ；などが挙げられる。

一方、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物は、光反応性作用基を含むフッ素系化合物を含んでもよい。前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物が含まれることによって、前記光硬化性を有するコーティング組成物から製造される低屈折層および反射防止フィルムはより低い反射率および向上した透光率を有することができ、かつ耐アルカリ性および耐スクラッチ性をより高めることができる。

前記フッ素系化合物には１つ以上の光反応性作用基を含みまたは置換でき、前記光反応性作用基は光の照射によって、例えば可視光線または紫外線の照射によって重合反応に参加できる作用基を意味する。前記光反応性作用基は光の照射によって重合反応に参加できる公知の多様な作用基を含むことができ、その具体的な例としては、（メタ）アクリレート基、エポキシ基、ビニル（Ｖｉｎｙｌ）基、またはチオール（Ｔｈｉｏｌ）基が挙げられる。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は１ないし２５重量％のフッ素含有量を有することができる。前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物でフッ素の含有量が小さすぎると、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られる最終結果物の表面にフッ素成分が十分に配列されなくて耐アルカリ性などの物性を十分に確保し難いこともある。また、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物でフッ素の含有量が大きすぎると、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物から得られる最終結果物の表面特性が低下したり最終結果物を得るための後段工程中に不良品発生率が高くなることができる。一方、反射防止フィルムが適用された最終製品（例えば、ＴＶやモニターなど）を生産するための後段工程中に発生できる剥離帯電圧による問題点を最小化するために、前記低屈折層は１重量％乃至２５重量％のフッ素含有量を有する光反応性作用基を含むフッ素系化合物を含んでもよい。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物はケイ素またはケイ素化合物をさらに含んでもよい。つまり、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は選択的に内部にケイ素またはケイ素化合物を含んでもよく、具体的に前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物中のケイ素の含有量は０．１重量％乃至２０重量％でありうる。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物に含まれるケイ素は、前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層にヘイズ（ｈａｚｅ）が発生するのを防止して透明度を高める役割をする。一方、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物中のケイ素の含有量が大きすぎると、前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が有する耐アルカリ性が低下できる。

前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は２，０００ないし２００，０００の重量平均分子量（ＧＰＣ法によって測定したポリスチレン換算の重量平均分子量）を有することができる。前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物の重量平均分子量が小さすぎると、前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐アルカリ特性を有さないこともある。また、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物の重量平均分子量が大きすぎると、前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐久性や耐スクラッチ性を有さないこともある。

具体的に、前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は、ｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性作用基に置換され、少なくとも一つの水素がフッ素に置換され、一つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つのシリコーンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子（例えば、ポリジメチルシロキサン系高分子）；ｉｖ）１以上の光反応性作用基に置換され、少なくとも一つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物、または前記ｉ）乃至ｉｖ）のうち２以上の混合物またはこれらの共重合体が挙げられる。

前記光硬化性を有するコーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部に対して前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物１ないし７５重量部を含んでもよい。前記光重合性化合物対比前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物が過剰で添加される場合、前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物のコーティング性が低下したり前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐久性や耐スクラッチ性を有さないこともある。また、前記光重合性化合物対比前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物の量が小さすぎると、前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物から得られた低屈折層が十分な耐アルカリ特性を有さないこともある。

一方、前記光重合性化合物は（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含んでもよい。具体的に、前記光重合性化合物は（メタ）アクリレートまたはビニル基を１以上、または２以上、または３以上含む単量体またはオリゴマーを含んでもよい。

前記（メタ）アクリレートを含む単量体またはオリゴマーの具体的な例としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリレンジイソシアナート、キシレンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチルロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサエチルメタクリレート、ブチルメタクリレートまたはこれらの２種以上の混合物や、またはウレタン変性アクリレートオリゴマー、エポキシドアクリレートオリゴマー、エーテルアクリレートオリゴマー、デンドリックアクリレートオリゴマー、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。この時、前記オリゴマーの分子量は１，０００ないし１０，０００であるのが好ましい。

前記ビニル基を含む単量体またはオリゴマーの具体的な例としては、ジビニルベンゼン、スチレンまたはパラメチルスチレンが挙げられる。

前記光硬化性を有するコーティング組成物中、前記光重合性化合物の含有量が特に限定されるものではないが、最終製造される低屈折層や反射防止フィルムの機械的物性などを考慮して前記光硬化性を有するコーティング組成物の固形分のうちの前記光重合性化合物の含有量は２０重量％乃至８０重量％でありうる。前記光硬化性を有するコーティング組成物の固形分とは、前記光硬化性を有するコーティング組成物中の液状の成分、例えば、後述するように選択的に含まれる有機溶媒などの成分を除いた固体の成分だけを意味する。

一方、前記光重合性化合物は、上述した単量体またはオリゴマー以外にフッ素系（メタ）アクリレート系化合物をさらに含んでもよい。前記フッ素系（メタ）アクリレート系化合物をさらに含む場合、前記（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーに対する前記フッ素系（メタ）アクリレート系化合物の重量比は０．１％乃至１０％でありうる。

前記フッ素系（メタ）アクリレート系化合物の具体的な例としては、下記の化学式１１ないし１５からなる群より選択される１種以上の化合物が挙げられる。

前記化学式１１において、Ｒ^１は水素基または炭素数１ないし６のアルキル基であり、ａは０ないし７の整数であり、ｂは１ないし３の整数である。

前記化学式１２において、ｃは１ないし１０の整数である。

前記化学式１３において、ｄは１ないし１１の整数である。

前記化学式１４において、ｅは１ないし５の整数である。

前記化学式１５において、ｆは４ないし１０の整数である。

前記光硬化性を有するコーティング組成物は無機微細粒子を含んでもよく、低屈折層または反射防止フィルムの特性などを考慮して通常知られている無機微細粒子を含んでもよい。この時、無機微細粒子はナノメートルまたはマイクロメートル単位の直径を有する無機粒子を意味する。

具体的に、前記無機微細粒子は１０ないし１００ｎｍの数平均粒径を有する中空シリカ粒子でありうる。前記中空シリカ粒子は、粒子の表面および／または内部に空き空間が存在するシリカ粒子を意味する。前記中空シリカ粒子は密に詰まった粒子に比べて低い屈折率を有するため、優れた反射防止特性を示すことができる。

前記中空シリカ粒子は数平均粒径が１０ないし１００ｎｍ、好ましくは２０ないし７０ｎｍ、より好ましくは３０ないし７０ｎｍであり、粒子の形状は球状であるのが好ましいが、不定形でもよい。

また、前記中空型無機ナノ粒子としては、その表面がフッ素系化合物でコーティングされたものを単独で使ったり、フッ素系化合物で表面がコーティングされない中空型無機ナノ粒子と混合して使用することができる。前記中空型無機ナノ粒子の表面をフッ素系化合物でコーティングすれば表面エネルギーをより低くすることができ、そのため、前記具現例の光硬化性を有するコーティング組成物内で前記中空型無機ナノ粒子がより均一に分布でき、前記光硬化性を有するコーティング組成物から得られるフィルムの耐久性や耐スクラッチ性をより高めることができる。

前記中空型無機ナノ粒子の表面にフッ素系化合物をコーティングする方法として通常知られている粒子コーティング方法や重合方法などを特に制限なしに用いることができ、例えば、前記中空型無機ナノ粒子およびフッ素系化合物を水と触媒の存在下でゾル−ゲル反応させて加水分解および縮合反応を通して前記中空型無機ナノ粒子の表面にフッ素系化合物を結合させることができる。

そして、前記中空シリカ粒子は所定の分散媒に分散したコロイド状で組成物に含まれる。前記中空シリカ粒子を含むコロイド状は分散媒として有機溶媒を含んでもよい。

この時、前記中空シリカは、前記有機溶媒により容易に分散するために、表面に置換された所定の作用基を含んでもよい。前記中空シリカ粒子表面に置換可能な有機作用基の例は、特に限定されるものではなく、例えば、（メタ）アクリレート基、ビニル基、ヒドロキシ基、アミン基、アリル（ａｌｌｙｌ）基、エポキシ基、ヒドロキシ基、イソシアネート基、アミン基、またはフッ素などが前記中空シリカ表面に置換されることができる。前記中空シリカ粒子のコロイド状で中空シリカ粒子の固形分含有量は、前記一実施形態の光硬化性を有するコーティング組成物中で中空シリカの含有量範囲や前記光硬化性を有するコーティング組成物の粘度などを考慮して決定され、例えば、前記コロイド状の前記中空シリカ粒子の固形分含有量は５重量％乃至６０重量％でありうる。

ここで、前記分散媒中の有機溶媒としては、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコール、ブタノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、ガンマブチロラクトンなどのエステル類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類；またはこれらの混合物が挙げられる。

前記低屈折層製造のための光硬化性コーティング組成物は、前記光重合性化合物１００重量部に対して前記中空シリカ粒子１０ないし３２０重量部、または５０ないし２００重量部を含んでもよい。前記中空粒子が過剰で添加される場合、バインダーの含有量の低下によってコーティング膜の耐スクラッチ性や耐摩耗性が低下できる。

一方、前記光重合開始剤としては、光硬化性樹脂組成物に用いられる公知の化合物であれば特に制限なしに使用でき、具体的に、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、非イミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、オキシン系化合物、またはこれらの２種以上の混合物を使用することができる。

前記光重合性化合物１００重量部に対して、前記光重合開始剤は０．１ないし１００重量部の含有量で用いることができる。前記光重合開始剤の量が小さすぎると、前記光硬化性を有するコーティング組成物の光硬化段階で未硬化の残留物質が発生できる。前記光重合開始剤の量が多すぎると、未反応開始剤が不純物として残留したり架橋密度が低くなり、製造されるフィルムの機械的物性が低下したり反射率が非常に高くなることができる。

一方、前記光硬化性を有するコーティング組成物は有機溶媒をさらに含んでもよい。

前記有機溶媒の非限定的な例としては、ケトン類、アルコール類、アセテート類およびエーテル類、またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

このような有機溶媒の具体的な例としては、メチルエチルケノン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトンまたはイソブチルケトンなどのケトン類；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、またはｔ−ブタノールなどのアルコール類；酢酸エチル、ｉ−プロピルアセテート、またはポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのアセテート類；テトラヒドロフランまたはプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのエーテル類；またはこれらの２種以上の混合物が挙げられる。

前記有機溶媒は、前記光硬化性を有するコーティング組成物に含まれる各成分を混合する時期に添加されたり、各成分が有機溶媒に分散または混合された状態で添加されながら前記光硬化性を有するコーティング組成物に含まれる。前記光硬化性を有するコーティング組成物中の有機溶媒の含有量が小さすぎると、前記光硬化性を有するコーティング組成物の流動性が低下して最終製造されるフィルムに縞模様が生じるなど不良が発生することができる。また、前記有機溶媒の過剰添加時に固形分含有量が低くなって、コーティングおよび成膜が十分に行われないのでフィルムの物性や表面特性が低下でき、乾燥および硬化過程で不良が発生することができる。そのため、前記光硬化性を有するコーティング組成物は、含まれる成分の全体固形分の濃度が１重量％乃至５０重量％、または２ないし２０重量％となるように有機溶媒を含んでもよい。

一方、前記反射防止フィルムは前記ハードコーティング組成物を基材の一面に塗布し乾燥、光硬化を経た後に低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物を前記形成されたハードコーティング層上に塗布し、塗布された結果物を光硬化することによって得られる。この時、前記ハードコーティング層は半硬化され、低屈折層の硬化時、最終硬化する方法が最も望ましい。

前記基材の具体的な種類や厚さは特に限定されるものではなく、低屈折層または反射防止フィルムの製造に使用される公知の基材を特別な制限なしに使用することができる。例えば、前記基材として、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセチルプロピルセルロースフィルム、アセチルブチルセルロースフィルムのようなセルロースフィルム；ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムのようなポリエステルフィルム；ポリビニルアセテートフィルム；ポリカーボネートフィルム；ポリスルホンフィルム；ポリアクリルフィルム；ポリアミドフィルム；ポリスチレンフィルム；または位相差フィルムなどが用いられるが、これに限定されるものではない。

前記光硬化性コーティング組成物を塗布するために、通常使用される方法および装置を特別な制限なしに使用することができ、例えば、Ｍｅｙｅｒ ｂａｒなどのバーコーティング法、グラビアコーティング法、２ ｒｏｌｌ ｒｅｖｅｒｓｅコーティング法、ｖａｃｕｕｍ ｓｌｏｔ ｄｉｅコーティング法、２ ｒｏｌｌ コーティング法などを使用することができる。

前記光硬化性を有するコーティング組成物を光硬化させる段階では２００〜４００ｎｍ波長の紫外線または可視光線を照射することができ、照射時の露光量は１００ないし４，０００ｍＪ／ｃｍ^２が望ましい。また、露光時間も特に限定されるものではなく、用いられる露光装置、照射光線の波長または露光量により適切に変化させることができる。

また、前記光硬化性を有するコーティング組成物を光硬化させる段階では開始剤が酸素によって分解されることを防止するために窒素パージングなどを行うことができる。

一方、最終乾燥された前記ハードコーティング層は５μｍ超過１０μｍ未満の厚さを有することができる。前記ハードコーティング層の厚さが５μｍ以下であれば、有機粒子あるいは無機粒子が凝集して反射防止フィルム表面上に高さが高く、かつ不規則に分布するピークが存在することがあり、前記ハードコーティング層の厚さが１０μｍ以上であれば、コーティング層が厚くて、コーティングフィルムの取扱い時にクラックが発生しやすいという短所がある。この時、低屈折層は１ｎｍ乃至３００ｎｍ、または５０ｎｍ乃至２００ｎｍの厚さを有することができる。上述した範囲でハードコーティング層および低屈折層の厚さを調整することによって、上述した範囲内で体積パラメータの調整が可能で、反射防止フィルムの眩しさ防止機能を維持しながらもイメージの鮮明度を高めることができる。

一方、本発明の他の具現例によれば、上述した反射防止フィルムを含むディスプレイ装置が提供される。

前記ディスプレイ装置は、互いに対向する一対の偏光板；前記一対の偏光板の間に順次に積層された薄膜トランジスター、カラーフィルターおよび液晶セル；およびバックライトユニットを含む液晶ディスプレイ装置でありうる。

図１ａおよび図１ｂに、それぞれ本発明の一実施例による反射防止フィルムが具備された一般のＴＦＴディスプレイ装置およびＣＯＴパネルディスプレイ装置の概略的な構造を示した。また、図１ａおよび図１ｂに示す構造の代わりに、偏光板およびバックライトユニットの間に前記反射防止フィルムが具備された構造も可能である。

本発明によれば、高解像度ディスプレイに適用時、スパークリング現象が少なく視認性に優れて、ディスプレイ製作時に作業性に優れた反射防止フィルムと優れた外部ブラック視感および明暗比などの光特性および高い画面の鮮明度を提供するディスプレイ装置が提供される。

前記反射防止フィルムは、高解像度ディスプレイに適用されてパネル不良の隠蔽力が高く、反射防止性能と視認性に優れた特性を提供することができる。特に、パネル内部の反射率が高いＣＯＴパネルに適用して反射防止性能を発現することができる。

実施例１の反射防止フィルムが設けられた一般のＴＦＴディスプレイ装置の断面を概略的に示した図である。 実施例１の反射防止フィルムが設けられたＣＯＴパネルディスプレイ装置の断面を概略的に示した図である。 実施例１で製造された反射防止フィルム表面の光学顕微鏡写真（反射モード、倍率：２０倍）である。 比較例３で製造された反射防止フィルム表面の光学顕微鏡写真（反射モード、倍率：１０倍）である。

本発明の具体的な具現例を下記実施例でより詳細に説明する。但し、下記実施例は、本発明の具体的な具現例を例示するためのものであって、本発明の具体的な具現例の内容が下記実施例によって限定されるものではない。

<製造例：ハードコーティング組成物および低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物の製造>
（１）ハードコーティング組成物の製造
下記表１の成分を均一に混合してハードコーティング組成物を製造した。表１で使用されているすべての成分の含有量はｇ単位で示した。また、下記表１で粒子の合計は有機微粒子および無機ナノ粒子の和を意味する。

１）ＰＥＴＡ：Ｐｅｎｔａｅｒｙｔｈｒｉｔｏｌ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ（分子量２９８ｇ／ｍｏｌ）
２）ＴＭＰＴＡ：Ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｏｌｐｒｏｐａｎｅ ｔｒｉａｃｒｙｌａｔｅ（分子量２９６ｇ／ｍｏｌ）
３）８ＢＲ−５００：ウレタン系アクリルオリゴマー、分子量２５０、０００ｇ／ｍｏｌ、Ｔａｉｓｅｉ Ｆｉｎｅ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製品。
４）ＵＡ−３０６Ｔ：ウレタン系アクリルオリゴマー、分子量１、０００ｇ／ｍｏｌ、ｋｙｏｅｉｓｈａ社製品。
５）Ｉ１８４（Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４）：光開始剤、Ｃｉｂａ社製品。
６）ＢＹＫ−３００：レベリング剤、Ｔｅｇｏ社製品。
７）ＩＰＡ（Ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）
８）ＥｔＯＨ（Ｅｔｈｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）
９）微粒子１：体積平均粒径２μｍであり、屈折率が１．５５５である球状有機微粒子のアクリル−スチレン共重合樹脂、Ｔｅｃｈｐｏｌｙｍｅｒ、Ｓｅｋｉｓｕｉ Ｐｌａｓｔｉｃ社製品。
１０）シリカ１：体積平均粒径１００ｎｍのシリカ粒子、Ｘ２４−９６００Ａ、Ｓｈｉｎｅｔｓｕ社製品。
１１）シリカ２：メタノールに３０ｗｔ％の比率で分散した体積平均粒径１２ｎｍのナノシリカの分散液、ＭＡ−ＳＴ、Ｎｉｓｓａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製品。

（２）低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物の製造
前記表２の成分を混合し、ＭＩＢＫ（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）およびジアセトンアルコール（ＤＡＡ）の１：１混合溶液（重量比）に固形分が５ｗｔ％となるように薄めて、低屈折層形成用光硬化性コーティング組成物を製造した。表２で使用されているすべての成分の含有量はｇ単位で示した。

１）ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、分子量５２４．５１ｇ／ｍｏｌ、Ｋｙｏｅｉｓｈａ社製品。
２）ＴＨＲＵＬＹＡ ４３２０：中空シリカ分散液、ＭＩＢＫ溶媒中の固形分２０ｗｔ％、日揮触媒化成社製品。
３）ＲＳ９０７：光反応性作用基を含むフッ素系化合物、ＭＩＢＫ溶媒中の固形分３０重量％に希釈、ＤＩＣ社製品。
４）ＥＰ０４０８：ポリシルセスキオキサン、Ｈｙｂｒｉｄ Ｐｌａｓｔｉｃｓ社製品

<実施例および比較例：反射防止フィルムの製造>
下記表３に示されているように、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルムにＭｅｙｅｒ Ｂａｒで前記製造例でそれぞれ製造されたハードコーティング組成物を塗布し、９０℃で１分間乾燥した以後、１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射してハードコーティング層を製造した。

以後、前記製造例でそれぞれ製造された低屈折層製造用樹脂組成物をＭｅｙｅｒ Ｂａｒ＃３でハードコーティング層上に塗布し、９０℃で１分間乾燥した。そして、窒素パージング下で、前記乾燥物に１８０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して１１０ｎｍの厚さを有する低屈折層を形成することによって、眩しさ／反射防止フィルムを製造した。

<実験例：ハードコーティング層および反射防止フィルムの物性測定>
前記製造されたハードコーティング層の物性およびこれを含む反射防止フィルムの物性を下記の方法により測定し、これを表４に示した。

１．反射防止フィルムの内部ヘイズおよび外部ヘイズの測定
反射防止フィルムの全ヘイズは内部ヘイズと外部ヘイズとの和であり、次の方法で全ヘイズおよび内部ヘイズを測定した後、外部ヘイズは、全ヘイズから内部ヘイズを引くことで求められる。具体的に、ヘイズ測定器（ＨＭ−１５０、Ａ光源、村上色彩技術研究所社）を使用して、ＪＩＳ Ｋ ７３６１規格によって透過率を３回測定し、ＪＩＳ Ｋ ７１０５規格によってヘイズを３回測定した後、それぞれの平均値を計算して全ヘイズを求めた。また、製造されたコーティング層の表面を扁平にするためにヘイズが０である接着剤を表面に貼り付けて外部凹凸が接着剤に埋められるようにした後、前記ヘイズ測定器でヘイズを３回測定した後、平均値を計算して内部ヘイズを求めた。以降、求められた全ヘイズ値から内部ヘイズ値を引いて外部ヘイズを求めた。

２．反射防止フィルムの平均線以上のピークの凸部の体積の和および平均線以下のバレーの凹部の体積の和の測定
ハードコーティング層表面の平均線以上のピークの凸部の体積の和および平均線以下のバレーの凹部の体積の和は、白色光３次元光学干渉プロファイラー（３Ｄ ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒ、モデル名：ＮｅｗＶｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社）装備を利用して測定する。この時、使用するレンズ倍率は１０倍、０．５倍ズーム測定条件にして１．４０×１．０５ｍｍ^２領域を測定した。

製造された反射防止フィルムをサンプルステージに平らな状態にのせて、ｏｐｔｉｃａｌ ｐｒｏｆｉｌｅｒイメージを得た後、分析を進行した。この時、表面積１．４７ｍｍ^２での平均線以上のピークの凸部の体積の和および平均線以下のバレーの凹部の体積の和を、それぞれ測定した。

３．反射防止フィルムの平均反射率測定
ＳＨＩＭＡＤＺＵ社のＳｏｌｉｄＳｐｅｃ ３７００を利用して平均反射率を測定した。

具体的に、基材フィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過しないようにブラックテープ（３Ｍ）を貼り付け、ｓａｍｐｌｉｎｇ ｉｎｔｅｒｖａｌ １ ｎｍ、ｔｉｍｅ ｃｏｎｓｔａｎｔ ０．１ ｓｅｃ、ｓｌｉｔ ｗｉｄｔｈ ２０ｎｍ、ｍｅｄｉｕｍ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｓｐｅｅｄで測定条件を固定した後、１００Ｔモードを適用して常温で前記反射防止フィルムに３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ波長領域の光を照射して測定した。

４．反射防止フィルムの光沢度測定
ＢＹＫ Ｇａｒｄｎｅｒ社のｍｉｃｒｏ−ＴＲＩ−ｇｌｏｓｓを利用して２０゜／６０゜ｇｌｏｓｓを測定した。

具体的に、基材フィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過しないようにブラックテープ（Ｖｉｎｙｌ ｔａｐｅ ４７２ Ｂｌａｃｋ、３Ｍ社製造）を貼り付け、光の入射角を２０゜、６０゜に対してそれぞれ５回以上測定したデータ平均値と定義した。

５．耐スクラッチ性測定
スチールウール（＃００００）に荷重をかけて２７ｒｐｍの速度で１０回往復し、実施例および比較例から得られた反射防止フィルムの表面を擦った。肉眼で観察される１ｃｍ以下のスクラッチが一つ以下となる最大荷重を確認して、耐スクラッチ性を評価した。

６．反射防止フィルムの不良凹凸評価
実施例および比較例で製造された反射防止フィルムの不良凹凸の有無を確認するために、反射防止フィルムのハードコーティング層が形成されない面に光が透過しないようにブラックテープ（Ｖｉｎｙｌ ｔａｐｅ ４７２ Ｂｌａｃｋ、３Ｍ社製造）を貼り付けた後、光学顕微鏡（ＢＸ−５１、Ｏｌｙｍｐｕｓ社製造）を使って反射イメージを撮影した。撮影したイメージの大きさは６４０×４８０ｐｉｘｅｌであり、倍率は１０倍あるいは２０倍の中から選択することができる。光量は、光学顕微鏡上部から出る最大光量の５０％乃至１００％の範囲内で調整された。

使用されたイメージで反射防止フィルム表面に存在するレインボーしみの有無を観察して、下記基準により評価した。このようなレインボーしみが反射防止フィルムに存在する場合、後続工程で不良画素を誘発できる原因となるため、存在しないのが望ましい。評価結果のうち実施例１および比較例３の反射防止フィルムに対する光学顕微鏡写真をそれぞれ図２および図３に示した。

<測定基準>
×：レインボーしみが存在しない。
△：レインボーしみが１つないし３つ以下に存在する（倍率２０倍基準）。
○：レインボーしみが３つ超過して存在する（倍率２０倍基準）。

前記表４からわかるように、同一のハードコーティング層組成物を使っても、ハードコーティング層の厚さが５μｍ以下である反射防止フィルム（比較例１および２）およびハードコーティング層組成物内１２ｎｍ直径を有するナノシリカ（無機ナノ粒子）の含有量が高すぎたりあるいは低い反射防止フィルム（比較例３ないし５）の場合、本発明の体積パラメータの範囲を満足しないことが分かる。

反面、実施例の反射防止フィルムは、０．０３ｍｍ^３未満の平均線以上のピークの凸部の体積の和および０．０３ｍｍ^３未満の平均線以下のバレーの凹部の体積の和を同時に満足しながら、低い外部ヘイズを表すと同時に向上した耐スクラッチ性を確保できることが確認できる。

また、光反応性作用基を含むフッ素系化合物および反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンを同時に含まない低屈折層組成を有する参考例１の場合、本発明の体積パラメータの範囲は満足できるが、実施例に比べて耐スクラッチ性は低下することが分かる。

さらに、図２および３を参照すれば、前記のような物性を有する実施例の反射防止フィルムは、均一な表面の凹凸形状を示し、かつ比較例の反射防止フィルムとは異なり、レインボーしみが存在しなくて、不良画素が存在しない液晶ディスプレイ装置を実現することができる。

Claims (22)

1. ハードコーティング層と、前記ハードコーティング層に形成された低屈折層と、を含み、
   表面積１．４７ｍｍ^２のうち平均線以上のピーク（ｐｅａｋ）の凸部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満であり、平均線以下のバレー（ｖａｌｌｅｙ）の凹部の体積の和が０．０３ｍｍ^３未満である、反射防止フィルム。
2. 前記平均線以上のピークの凸部の体積の和および平均線以下のバレーの凹部の体積の和は、それぞれ非接触表面形状測定器（３Ｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ｐｒｏｆｉｌｅｒ）を利用して測定した結果である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
3. 前記反射防止フィルムの平均反射率は３８０ｎｍ乃至７８０ｎｍ波長領域で５％未満である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
4. 前記反射防止フィルムの内部ヘイズは０超過１０％未満である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
5. 前記反射防止フィルムの外部ヘイズは０超過０．５％未満である、請求項１に記載の反射防止フィルム。
6. 前記ハードコーティング層は、光重合性化合物の（共）重合体を含むバインダー樹脂および前記バインダー樹脂に分散した有機または無機微粒子を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
7. 前記ハードコーティング層は、前記光重合性化合物の（共）重合体１００重量部対比前記有機または無機微粒子０．１ないし２０重量部を含む、請求項６に記載の反射防止フィルム。
8. 前記ハードコーティング層は、前記有機または無機微粒子および無機ナノ粒子の総重量を基準にして１ｎｍ乃至５０ｎｍの直径を有する無機ナノ粒子３ないし１０重量％をさらに含む、請求項６に記載の反射防止フィルム。
9. 前記ハードコーティング層は、５０ｎｍ超過１２０ｎｍ以下の直径を有する無機ナノ粒子をさらに含む、請求項８に記載の反射防止フィルム。
10. 前記低屈折層は、光重合性化合物；光反応性作用基を含むフッ素系化合物；および反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）；の間の架橋重合体を含むバインダー樹脂と前記バインダー樹脂に分散した無機微細粒子を含む、請求項１に記載の反射防止フィルム。
11. 前記ポリシルセスキオキサンに置換される反応性作用基はアルコール、アミン、カルボン酸、エポキシド、イミド、（メタ）アクリレート、ニトリル、ノルボルネン、オレフィン、ポリエチレングリコール、チオールおよびビニル基からなる群より選択された１種以上の作用基を含む、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
12. 前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンは炭素数１ないし３０の直鎖または分枝鎖のアルキル基、炭素数６ないし３０のシクロヘキシル基および炭素数６ないし３０のアリール基からなる群より選択された１種以上の未反応性作用基が１つ以上さらに置換される、請求項１１に記載の反射防止フィルム。
13. 前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサンは反応性作用基が１つ以上置換され籠型（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン（Ｐｏｌｙｈｅｄｒａｌ Ｏｌｉｇｏｍｅｒｉｃ Ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）を含む、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
14. 前記籠型（ｃａｇｅ）構造を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンのシリコーンのうちの少なくとも１つ以上には反応性作用基が置換され、前記反応性作用基が置換されない残りのシリコーンには非反応性作用基が置換される、請求項１３に記載の反射防止フィルム。
15. 前記ポリシルセスキオキサンに置換された非作用性反応器対比反応性作用基のモル比（ｍｏｌａｒ ｒａｔｉｏ）は０．２０以上である、請求項１４に記載の反射防止フィルム。
16. 前記光重合性化合物は、（メタ）アクリレートまたはビニル基を含む単量体またはオリゴマーを含む、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
17. 前記フッ素系化合物に含まれる光反応性作用基は（メタ）アクリレート基、エポキシ基、ビニル（Ｖｉｎｙｌ）基およびチオール（Ｔｈｉｏｌ）基からなる群より選択された１種以上である、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
18. 前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物は１重量％乃至２５重量％のフッ素含有量を有し、
    ｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つの炭素に１以上のフッ素が置換された脂肪族化合物または脂肪族環化合物；ｉｉ）１以上の光反応性作用基に置換され、少なくとも一つの水素がフッ素に置換され、一つ以上の炭素がケイ素に置換されたヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族化合物またはヘテロ（ｈｅｔｅｒｏ）脂肪族環化合物；ｉｉｉ）一つ以上の光反応性作用基が置換され、少なくとも一つのシリコーンに１以上のフッ素が置換されたポリジアルキルシロキサン系高分子；およびｉｖ）１以上の光反応性作用基に置換され、少なくとも一つの水素がフッ素に置換されたポリエーテル化合物；からなる群より選択された１種以上を含む、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
19. 前記無機微細粒子は、１０ないし１００ｎｍの数平均粒径を有する中空シリカ粒子である、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
20. 前記低屈折層は、前記光重合性化合物１００重量部に対して前記光反応性作用基を含むフッ素系化合物１ないし７５重量部、前記反応性作用基が１つ以上置換されたポリシルセスキオキサン（ｐｏｌｙｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）０．５ないし２５重量部および前記無機微細粒子１０ないし３２０重量部を含む、請求項１０に記載の反射防止フィルム。
21. 前記ハードコーティング層は５μｍ超過１０μｍ未満の厚さを有し、
    前記低屈折層は１ｎｍ乃至３００ｎｍの厚さを有する、請求項１に記載の反射防止フィルム。
22. 請求項１乃至２１のいずれか一項に記載の反射防止フィルムを含む、ディスプレイ装置。

Images