KR20140140139A - 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름 - Google Patents

반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름에 관한 것이다.

Description

반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름{ANTI-RELRECTION COMPOSITION AND OPTICAL FILM USING THEREOF}
본 발명은 반사방지용 코팅조성물 및 이를 이용한 광학 필름에 관한 것이다.
액정 디스플레이(LCD), 플라스마 디스플레이(PDP), 브라운관(CRT), 전자 발광 디스플레이(EL) 등의 각종 표시장치에는 반사광에 의한 눈부심과 디스플레이 전면의 반사로 인해 화질이 떨어지는 문제를 해소하기 위하여 방현(Anti-Glare)필름이 일반적으로 사용된다. 그러나, 일반적인 방현 필름은 해상도가 떨어진다는 단점이 있다.
그에 따라 최근에는 해상도가 좋고 반사 방지 기능이 우수한 저 반사 방지 필름(Low Reflectance Film)의 수요가 증가되고 있는 추세이다.
종래에는 이러한 저굴절층 형성을 위한 저굴절 조성물로 불소함유 아크릴 공중합체나 불소함유 올레핀 공중합체 또는 불소함유 에폭시 개환 공중합체 등 불소함유 공중합체와 단순한 함불소 아크릴레이트 타입의 불소화합물을 사용하여왔다. 통상 불소계 화합물은 저굴절, 방수성, 방오염성 등은 우수하나, 경도, 슬립성, 내스크래치성, 내마모성 등이 약한 단점이 있다. 따라서 불소계 화합물의 단점을 보완하고자 하는 연구가 지속되어 왔으며, 투명성이 우수하며, 박막 형성 시 경도가 강하며, 내스크래치 및 내마모성이 우수한 광경화형 코팅조성물 및 이를 포함하는 반사방지필름으로 우리나라 공개특허 제10-2009-0041854호(2009.04.29) 등이 있다. 그러나, 상기 발명은 굴절율을 낮추기 위하여 불소계 화합물 및 UV 관능기를 갖는 실록산 화합물을 포함한 박막의 굴절율이 1.45이하의 값을 가지는 것이 기재되어 있다. 본 발명은 불소계 화합물 및 아크릴기가 포함된 입체적인 구조의 실록산 화합물을 사용하여 충분한 굴절율의 개선 효과뿐 아니라 반사율 제어 특성의 향상 및 투과율 개선이 가능하며 상기 발명 대비 우수한 내찰상성과 연필경도를 달성할 수 있다.
우리나라 공개특허 제10-2009-0041854호(2009.04.29)
본 발명은 전체 코팅액의 굴절율 저하를 유발하지 않는 화합물을 사용하여 전체 코팅액의 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 범위를 유지하도록 함으로써, 투명성이 우수한 코팅층을 형성할 수 있는 반사방지용 코팅조성물을 제공하고자 한다. 또한, 내찰상성이 우수하고, 연필경도가 3H 이상으로 향상된 반사 방지용 코팅조성물을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명은 반사방지용 코팅조성물을 도포한 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름을 제공하고자 한다.
또한 본 발명은 상기 광학필름을 포함하는 편광판 및 상기 편광판을 포함하는 표시장치를 제공하고자 한다.
본 발명은 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 반사방지용 코팅조성물에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure pat00001
(상기 식에서,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로
Figure pat00002
,
Figure pat00003
에서 선택되고,
상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고,
상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
상기 화학식 1의 화합물은 굴절율이 1.3 ~ 1.42인 것일 수 있으며, 전체 조성물의 굴절율은 1.39 ~ 1.43인 것일 수 있다.
또한 본 발명은 기재필름의 적어도 일면에, 상기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산을 사용함으로써 내찰상성, 밀착성 및 연필경도 등의 기계적 물성을 향상시키는 효과가 있다.
또한, 상기 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름은 전광선투과율이 95%이상으로 우수하고, 헤이즈가 0.3이하로 낮으며, 연필경도가 3H이상으로 높고, 기재필름에 대한 밀착성이 우수하며, 내찰상성이 우수한 효과가 있다.
이하는 본 발명의 구성에 대하여 보다 구체적으로 설명한다.
본 발명의 발명자들은 표면의 내찰상성이 우수하며, 기재필름과의 밀착성이 우수한 반사방지용 코팅조성물을 개발하기 위하여 연구한 결과, 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물을 사용함으로써 목적으로 하는 물성을 달성할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
또한, 하기 화학식 1의 화합물과 함께 자외선 경화형 화합물로써, 불소계 (메타)아크릴레이트 단량체와 중공 실리카 미립자를 혼합하여 사용함으로써, 연필경도가 상승하는 것을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
본 발명의 일 양태는 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 반사방지용 코팅조성물에 관한 것이다.
[화학식 1]
Figure pat00004
(상기 식에서,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로
Figure pat00005
,
Figure pat00006
에서 선택되고,
상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고,
상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
본 발명의 일 양태에서 상기 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 것일 수 있다.
구체적으로 상기 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산 화합물 0.1 ~ 10 중량%, 자외선 경화형 화합물 0.5 ~ 10 중량%, 무기입자 0.1 ~ 5 중량%, 광개시제 0.01 ~ 2 중량%, 계면활성제 0.01 ~ 0.1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 것일 수 있다.
본 발명에 따른 반사방지용 코팅조성물은 광학필름의 저굴절 코팅층을 형성하는데 사용되는 것일 수 있다.
또한, 본 발명의 일 양태는 기재필름의 적어도 일면에, 상기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름에 관한 것이다.
또한 본 발명의 일 양태는 상기 광학필름을 포함하는 편광판에 관한 것이다.
또한 본 발명의 일 양태는 상기 편광판을 포함하는 표시장치에 관한 것이다.
이하는 본 발명의 반사방지용 코팅조성물에 사용될 수 있는 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.
[실세스퀴옥산 화합물]
본 발명의 실세스퀴옥산 화합물은 하기 화학식 1에서 선택된다.
[화학식 1]
Figure pat00007
(상기 식에서,
R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로
Figure pat00008
,
Figure pat00009
에서 선택되고,
상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고,
상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
본 발명의 일 양태에서, 알킬은 직쇄 또는 분쇄 형태를 모두 포함한다.
구체적으로, 상기 화학식 1의 화합물에서,
상기 R1, R2, R3 및 R4는
Figure pat00010
이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수인 것일 수 있다.
또한, 상기 화학식 1의 화합물에서,
상기 R1, R2, R3 및 R4는
Figure pat00011
과
Figure pat00012
이 5 ~ 9 : 1 ~ 5 몰비로 치환되며, R5는 (C1-C5)알킬에서 선택되고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수인 것일 수 있다.
또한, 상기 화학식 1의 화합물에서,
상기 R1, R2, R3 및 R4는
Figure pat00013
과
Figure pat00014
이 5 ~ 9 : 1 ~ 5 몰비로 치환되며, R6는 (C1-C5)알킬에서 선택되고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수인 것일 수 있다.
본 발명의 일 양태에서, 실세스퀴옥산 화합물은 조성물의 굴절율을 조절하기 위하여 사용되는 것으로, 굴절율이 1.3 ~ 1.42인 범위이며, 불소 및 아크릴기가 치환되어 전체 반사방지 코팅조성물의 굴절율이 낮은 조성물을 제조할 수 있으며, UV경화 시 다른 경화성 화합물과 광경화를 하게 되어 연필경도가 더욱 개선되는 효과가 있다.
본 발명의 일 양태에서 상기 실세스퀴옥산 화합물은 중량평균분자량이 3,000 ~ 30,000인 것을 사용하는 것이 CTA와의 상용성이 우수하므로 바람직하다. 본 발명의 일 양태에서 상기 실세스퀴옥산 화합물은 조성물 내 0.1 ~ 10 중량%, 보다 바람직하게는 1 ~ 5 중량%로 사용하는 것이 바람직하다. 고형분 함량이 0.1 중량% 미만인 경우는 그 효과가 미미하고, 10 중량%를 초과하는 경우는 광경화가 느리게 진행될 수 있다. 상기 함량범위로 사용함으로써 전체 코팅조성물의 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 반사방지용 코팅조성물을 제조할 수 있다.
[자외선 경화형 화합물]
본 발명의 일 양태에서 상기 자외선 경화형 화합물은 (메타)아크릴계 수지, 불소계 (메타)아크릴레이트에서 선택되는 하나 이상인 것일 수 있다. 바람직하게는 불소계 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 최종 조성물의 저굴절을 구현할 수 있으며, 상기 실세스퀴옥산 화합물과의 혼화성이 우수하므로 바람직하다.
조성물 내 상기 자외선 경화형 화합물의 고형분 함량은 0.5 ~ 10 중량%, 보다 구체적으로 0.6 ~ 8 중량%를 사용할 수 있다. 상기 자외선 경화형 화합물의 함량이 0.5 중량% 미만인 경우는 코팅막의 내스크래치성, 내마모성이 저하되고 코팅액의 점도가 코팅기계와 기재에 전사되지 않을 정도로 지나치게 낮아질 수 있고, 10 중량%를 초과하여 사용하는 경우는 점도가 높아져서 코팅막의 평탄화도 및 코팅성이 나빠지는 등의 문제점이 발생할 수 있다.
상기 (메타)아크릴계 수지는 (메타)아크릴레이트 모노머, 우레탄 아크릴레이트 올리고머, 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 에스테르 아크릴레이트 올리고머 등이 사용될 수 있으며, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라아크릴레이트, 트리메틸렌프로판트리아크릴레이트, 에틸렌글리콜다이아크릴레이트, 9,9-비스(4-(2-아크릴록시에톡시페닐)플루오렌, 비스(4-메타크릴록시티오페닐)설파이드, 비스(4-비닐티오페닐)설파이드 등을 1종 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 (메타)아크릴계 모노머의 구체적인 예로는 메틸 (메타)아크릴레이트, 에틸 (메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸 (메타)아크릴레이트, 에틸헥실 (메타)아크릴레이트, 라우릴 (메타)아크릴레이트, 스타일릭 (메타)아크릴레이트, 도데실 (메타)아크릴레이트, 벤질 (메타)아크릴레이트, 2-페녹시 에틸 (메타)아크릴레이트, 나프톨에틸 (메타)아크릴레이트, 2-페닐페놀 에틸 (메타)아크릴레이트, 2-사이오페놀에틸 (메타)아크릴레이트, 불소 변성 (메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜 (메타)아크릴레이트, 이소보네올 (메타)아크릴레이트, 노보넨 (메타)아크릴레이트, 테트라히드로퓨란올 (메타)아크릴레이트, 시클로펜텐 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸 (메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필 (메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸 (메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 히드록시 (메타)아크릴레이트, (메타)아크릴로 모폴린 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 불소계 (메타)아크릴레이트는 저굴절률 향상, 막의 균일성 향상 등을 위하여 사용될 수 있으며, 하기 화학식 2 내지 화학식 4에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있다.
[화학식 2]
Figure pat00015
(상기 식에서, a는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
[화학식 3]
Figure pat00016
[화학식 4]
Figure pat00017
(상기 식에서, R7은 수소 또는 (C1-C6)알킬이고, b는 0 ~ 4에서 선택되는 정수이고, c는 1 ~ 3에서 선택되는 정수이다.)
[무기입자]
본 발명의 일 양태에서, 상기 무기입자는 굴절률을 낮추어 반사 방지 특성을 높이고, 내스크래치성을 높이기 위하여 사용된다.
그 함량은 0.1 ~ 5 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 ~ 3 중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 범위로 사용함으로써 코팅조성물의 굴절률 조절이 가능하고, 반사방지 특성이 양호하게 발휘될 수 있다.
상기 무기입자는 형성하고자 하는 저굴절 코팅층의 두께에 대하여 30 ~ 150% 범위인 것이 바람직하다. 가시광선의 산란 및 확산 없이 투명한 필름을 얻고, 상기 무기입자에 의해 표면 상에 미세한 요철을 형성시켜 슬립성이 우수하도록 하기 위해서는 평균입경이 1 ~ 1000 nm인, 보다 구체적으로는 2 ~ 100 nm, 더욱 바람직하게는 10 ~ 80nm인 것을 사용하는 것이 좋다. 평균입경이 10nm 미만인 경우는 입자 내 공기 함유가 적어 굴절율의 개선 효과가 미미하고, 1000nm를 초과하는 경우는 표면 요철이 형성되어 입사광의 산란이 발생할 수 있다.
상기 무기입자의 일 예로는 중공 또는 다공성 실리카입자인 것일 수 있다.
보다 바람직하게는 중공 실리카입자를 사용하는 것일 수 있으며, 상기 중공 실리카 입자는 굴절률을 낮추어 반사 방지 특성을 높이고, 내스크래치성을 더욱 높일 수 있다.
상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 바람직하게는 1.17 ~ 1.40이고, 더 바람직하게는 1.17 ~ 1.35이며, 가장 바람직하게는 1.17 ~ 1.30이다. 여기서 굴절률은 실리카의 굴절률, 즉 중공 입자를 형성하는 외곽의 굴절률을 의미하는 것이 아니라, 입자 전체의 굴절률을 의미하는 것이다.
이때 중공 실리카 입자 내의 공극률은 바람직하게는 10 ~ 60%의 범위이고, 더 바람직하게는 20 ~ 60%의 범위이며, 가장 바람직하게는 30 ~ 60%의 범위이다.
중공 실리카 입자의 저 굴절률 및 이의 고 공극률을 달성하려고 하는 경우, 외곽의 두께는 감소되고 입자의 강도는 약해진다. 따라서, 내스크래치성의 관점에서, 중공 실리카 입자의 굴절률이 1.17 미만인 경우는 내스크래치성이 떨어질 수 있다. 아울러 중공 실리카 입자의 굴절률이 1.40을 초과하는 경우 굴절률이 높아 반사 방지특성이 떨어질 수 있다. 상기 중공 실리카 입자의 굴절률은 Abbe 굴절률계(ATAGO사 제품)를 사용하여 측정한다.
상기 중공 실리카 입자는 결정질 입자이거나 비결정질 입자일 수 있고, 단분산입자가 바람직하다. 형태를 고려 시, 구형 입자가 가장 바람직하나, 부정형의 입자도 문제 없이 사용 가능하다. 상기 중공 실리카 미립자의 평균 입자직경은 또한 전자 현미경 사진을 사용함으로써 측정한다.
상기 중공 실리카 입자는 실란커플링제로 표면 처리를 행한 것을 사용할 수 있으며, 이 경우 용매와의 분산성이 향상되고 경화 공정시 경화에 참여하여 바인더와의 네트워크 형성을 통해 코팅층의 내구성을 향상시키게 된다.
상기 실란커플링제는 구체적으로 메틸트리메톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 디페닐디메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 이소부틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 3,3,3-트리플루오로프로필트리메톡시실란, 메틸-3,3,3-트리플루오로프로필디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리메톡시실란, γ-글리시독시메틸트리에톡시실란, γ-글리시독시에틸트리메톡시실란, γ-글리시독시에틸트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-(β-글리시독시메톡시)프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시메틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시에틸트리에톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리메톡시실란, γ-(메타)아크릴로옥시프로필트리에톡시실란, 부틸트리메톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실라옥틸트리에톡시실란, 데실트리에톡시실란, 부틸트리에톡시실란, 이소부틸트리에톡시실란, 헥실트리에톡시실란, 옥틸트리에톡시실란, 3-우레이도이소프로필프로필트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리메톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리에톡시실란, 퍼플루오로옥틸에틸트리이소프로폭시실란, 트리플우로오프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-머캅토프로필트리메톡시실란, 트리메틸실란올, 메틸트리클로로실란로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 1종을 사용 할 수 있다.
상기 무기입자의 분산성을 더욱 향상시키기 위해서는 상기 무기입자를 (메타)아크릴계 단량체, 올리고머 등에 분산시킨 분산액 상태로 사용하는 것일 수 있다. 이때 상기 무기입자의 고형분 함량은 10 ~ 30 중량%인 것이 바람직하다.
[광개시제]
본 발명의 일 양태에서 상기 광개시제는 자외선에 분해 가능한 화합물을 사용하는 것이 바람직하며, 그 예로는 α-아미노 아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴린프로판온-1, 디페닐케톤 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 벤조페논에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있다. 그러나 이에 한정되는 것은 아니며, 당해 분야에서 사용되는 것을 제한 없이 사용할 수 있다.
그 함량은 0.01 ~ 2 중량%, 보다 구체적으로 0.05 ~ 1 중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 0.01 중량% 미만으로 사용하는 경우는 미경화가 발생할 수 있으며, 2 중량부를 초과하여 사용하는 경우는 코팅막의 내스크래치성, 내마모성이 저하될 수 있다.
[계면활성제]
본 발명의 일 양태에서 상기 계면활성제는 상기 무기입자와 실세스퀴옥산화합물 및 자외선 경화형 화합물 간의 결합을 더욱 향상시키기 위하여 사용되는 것이다. 상기 계면활성제는 레벨링제 또는 습윤제 등이 사용될 수 있으며, 불소계 화합물 또는 폴리실록산계 화합물을 사용하는 것이 바람직하다.
그 함량은 0.01 ~ 0.1 중량%, 보다 바람직하게는 0.02 ~ 0.05 중량%를 사용하는 것이 바람직하다. 그 함량이 0.01 중량% 미만인 경우는 효과가 미미하며, 0.1 중량%를 초과하여 사용하는 경우는 기재필름과의 밀착력이 저하될 수 있고, 코팅막의 내스크래치성 및 내마모성이 저하될 수 있다.
[용매]
본 발명의 일 양태에서, 상기 용매는 각 성분을 균일하게 용해시키며, 이러한 성분들과 반응하지 않는 것을 고려하여 사용하는 것이 바람직하다.
구체적으로는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브, 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논, 헥산, 헵탄, 옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 용매는 상기 전체 코팅조성물의 고형분 함량이 2 ~ 10 중량%인 범위로 조절하기 위하여 그 함량이 조절될 수 있다.
본 발명의 반사방지용 코팅조성물은 상기 성분들 이외에도 필요에 따라 항산화제, UV 흡수제, 광안정제, 열적고분자화 금지제, 레벨링제, 계면활성제, 윤활제 등이 함께 사용될 수 있다.
본 발명은 상기 반사방지용 코팅조성물을 이용하여 형성된 저굴절층을 포함하는 광학필름을 제공한다.
본 발명의 일 양태는 기재필름의 적어도 일면에, 상기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름이다.
본 발명의 일 양태에서, 상기 기재필름은 셀룰로오스아실레이트, 폴리노보넨, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리메틸메타아크릴레이트 및 폴리에테르케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택되는 단독 또는 이들의 혼합물로 이루어진 것일 수 있다.
바람직하게는 상기 예시한 기재필름 중 셀룰로오스아실레이트 필름인 것일 수 있으며, 본 발명의 반사방지용 코팅조성물은 셀룰로오스아실레이트 수지와의 혼화성이 우수하므로, 기재필름과의 밀착성이 더욱 우수한 필름을 제공할 수 있다.
상기 셀룰로오스아실레이트수지는 셀룰로오스와 아세트산의 에스테르로서, 셀룰로오스를 구성하는 글루코오스 단위의 2위, 3위 및 6위에 존재하는 히드록실기의 수소원자의 전부 또는 일부가 아세틸기, 프로피로닐기, 부티릴기에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상으로 치환될 수 있다. 보다 바람직하게는 셀룰로오스를 구성하는 글루코오스 단위의 2위, 3위 및 6위에 존재하는 히드록실기의 수소원자의 전부 또는 일부가 아세틸기로 치환된 것을 사용할 수 있다. 구체적으로 예를 들면, 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등을 포함한다.
셀룰로오스아실레이트 수지의 치환도는 제한되는 것은 아니나, 바람직하게는 2.7 이상이고, 보다 바람직하게는 2.7 ~ 3.0이다. 상기 치환도는 ASTM 의 D-817-91 에 준하여 측정할 수 있다.
셀룰로오스아실레이트 수지의 분자량 범위는 제한되는 것은 아니나, 중량평균분자량이 200,000 ~ 350,000범위인 것이 바람직하다. 또한, 셀룰로오스아실레이트 수지의 분자량분포도 Mw/Mn(Mw는 중량평균분자량, Mn은 수평균분자량)가 1.4 ~ 1.8 인 것이 바람직하고, 1.5 ~ 1.7인 것이 더욱 바람직하다.
본 발명의 일 양태에서, 상기 반사방지용 코팅조성물의 도포방법은 공지된 방법이라면 제한되지 않고 사용될 수 있으며, 구체적으로 예를 들면, 다이코터, 에어 나이프, 리버스 롤, 스프레이, 블레이드, 캐스팅, 그라비아, 마이크로 그라비아 또는 스핀코팅 등의 적당한 방식으로 도공(Coating Process)이 가능하다. 상기 도공 후 UV를 조사하여 경화시키는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 양태에서, 상기 저굴절 코팅층은 건조도포두께가 10 ~ 200nm인 것이 바람직하며, 상기 두께에서 우수한 반사방지 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 일 양태에서, 상기 저굴절 코팅층은 굴절율이 1.39~1.43인 것일 수 있다.
본 발명의 일 양태에서, 상기 광학필름은 상기 기재필름과 저굴절 코팅층의 사이에 하드코팅층을 더 포함하는 것일 수 있다.
상기 하드코팅층은 표면경도를 구현하기 위한 것으로 굴절율이 1.49 ~ 1.53인 것이 바람직하다. 굴절율이 상기 범위에서 우수한 반사방지 효과를 얻을 수 있다.
상기 하드코팅층을 형성하기 위한 하드코팅층 형성용 조성물은 통상적으로 해당분야에서 사용되는 것이라면 제한되지 않고 사용 가능하다.
본 발명에 따른 광학필름은 반사방지 필름일 수 있으며, 본 발명은 상기 반사방지필름을 포함하는 편광판을 제공한다. 구체적으로, 본 발명에 따른 편광판은 편광막, 상기 편광막의 적어도 일면에 구비된, 본 발명에 따른 반사방지필름을 포함한다. 상기 편광막과 반사방지 필름 사이에는 보호필름이 구비될 수 있다. 또한, 상기 보호필름은 상기 반사방지 필름의 제조 시 단일코팅층을 형성하기 위한 기재가 그대로 사용될 수도 있다. 상기 편광막과 상기 반사방지층이 구비된 기재는 접착제에 의하여 합지될 수 있다. 상기 편광막으로는 당해 기술분야에 알려져 있는 것을 사용할 수 있다.
본 발명은 상기 반사방지 필름 또는 편광판을 포함하는 표시장치를 제공한다. 상기 표시장치는 액정 표시장치나 플라즈마 디스플레이 장치일 수 있다. 본 발명에 따른 표시장치는 본 발명에 따른 반사방지필름이 구비된 것을 제외하고는 해당 기술분야에 알려져 있는 구조를 가질 수 있다. 예컨대 본 발명에 따른 디스플레이 장치에서, 상기 반사방지 필름은 디스플레이 패널의 관측자측 또는 백라이트측의 최외각 표면에 구비될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 디스플레이 장치는 디스플레이 패널, 상기 패널의 적어도 일면에 구비된 편광막 및 상기 편광막의 패널과 접하는 반대측 면에 구비된 반사방지 필름을 포함할 수 있다.
이하는 본 발명의 구체적인 설명을 위하여 일 예를 들어 설명하는 바, 본 발명이 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.
이하 필름의 물성은 다음의 측정방법에 의하여 측정하였다.
1) 내찰상성
#0000의 스틸 울(Steel wool)을 사용하여 500g의 하중으로 코팅막을 20번 왕복하여 스크래치를 주었다. 스크래치의 정도에 따라 1 ~ 5로 표시하였다.
1: 코팅막이 완전히 벗겨졌을 경우
2: 스크래치가 20개 이상
3: 스크래치가 10 ~ 20개
4: 스크래치가 1 ~ 10개
5: 스크래치 없음
2) 연필 경도
연필경도 측정기(충북테크사제)를 이용하여 500g의 추를 올리고 미쯔비시 연필을 이용하여 테스트 하였다
3) 전광선 투과율
전광선 투과율은 ASTM D1003 Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics 규격을 적용하여 투과율 측정기(Haze Meter HM-150, Murakami Color Research Laboratory 제조)에서 측정하였다.
4) 헤이즈
필름 시료 40mm × 40mm를 25℃ 상대습도 60%로 헤이즈 미터(Murakami Color Research Laboratory, HM-150)에서 측정하였다.
5) 반사율(%)
분광 광도계 UV2450 (시마주사)에 어댑터 MPC2200를 장착하여, 380 내지 780nm의 파장 영역에서 입사각 5°에서의 출사각 5°에 대한 경면 반사율을 측정하고, 450 내지 650nm의 평균 반사율을 산출하였다.
6) 밀착성
칼로 100개의 바둑판 무늬 (1 ㎜ × 1 ㎜)의 흠집을 낸 후 셀로판 테이프를 이용하여 박리실험을 하였다. 무늬가 전혀 박리 되지 않은 것을 ○로 표시하고, 1~10 개의 박리가 된 것은 △ 로 표시하였으며, 10 개 이상의 무늬가 박리된 것은 ×로 표시하였다.
[실시예 1]
1) 저굴절 코팅액(1)의 제조
실세스퀴옥산 화합물 1(동진쎄미켐사제, 300S, 굴절율 1.4, 중량평균분자량 3000) 1g과 불소계 아크릴레이트 1(Kyoeisha사제, Linc-162A) 2g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(1)을 제조하였다.
[실세스퀴옥산 화합물 1]
Figure pat00018
(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4는
Figure pat00019
이고, j는 6이다.)
[불소계 아크릴레이트 1]
Figure pat00020
(상기 식에서, a는 8이다.)
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(1)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[실시예 2]
1) 저굴절 코팅액(2)의 제조
실세스퀴옥산 화합물 1(동진쎄미켐사제, 300S, 굴절율 1.4, 중량평균분자량 3000) 2g과 불소계 아크릴레이트(Kyoeisha사제, Linc-162A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(2)을 제조하였다.
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(2)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[실시예 3]
1) 저굴절 코팅액(3)의 제조
실세스퀴옥산 화합물 1(동진쎄미켐사제, 300S, 굴절율 1.4, 중량평균분자량 3000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(3)을 제조하였다.
[불소계 아크릴레이트 2]
Figure pat00021
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(3)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[실시예 4]
1) 저굴절 코팅액(4)의 제조
실세스퀴옥산 화합물 2(동진쎄미켐사제, 300S-7, 굴절율 1.45, 중량평균분자량 10,000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(4)을 제조하였다.
[실세스퀴옥산 화합물 2]
Figure pat00022
(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4는
Figure pat00023
이고, j는 6이다.)
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(4)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[실시예 5]
1) 저굴절 코팅액(5)의 제조
실세스퀴옥산 화합물 3(동진쎄미켐사제, 300S-P, 굴절율 1.32, 중량평균분자량 4,000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(5)을 제조하였다.
[실세스퀴옥산 화합물 3]
Figure pat00024
(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4는
Figure pat00025
과
Figure pat00026
이 7 : 3 몰비로 치환되며, 상기 R5는 CH3이고 m은 6이다.)
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(5)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[실시예 6]
1) 저굴절 코팅액(6)의 제조
실세스퀴옥산 화합물 4(동진쎄미켐사제, 300S-FM55, 굴절율 1.35, 중량평균분자량 5,000) 2g과 불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 1g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(6)을 제조하였다.
[실세스퀴옥산 화합물 4]
Figure pat00027
(상기 식에서, R1, R2, R3 및 R4는
Figure pat00028
과
Figure pat00029
이 5 : 5 몰비로 치환되며, 상기 R6는 CH3이고 k은 2이다.)
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(6)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[비교예 1]
1) 저굴절 코팅액(7)의 제조
불소계 아크릴레이트 1(Kyoeisha사제, Linc-162A) 3g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(7)을 제조하였다.
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(7)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[비교예 2]
1) 저굴절 코팅액(8)의 제조
불소계 아크릴레이트 2(Kyoeisha사제, Linc-5A) 3g과 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(NK화학, PETA) 2.5g을 메틸이소부틸케톤(MIBK) 224g에 혼합하여 완전히 용해시켰다.
이후, 중공실리카 (일휘촉매화성, 고형분 20 중량% 분산액, 실리카 평균입경 40nm)를 6g을 혼합하고, 광개시제로 α-아미노 아세토페논(BASF, Irgacure 907) 0.3g과 계면활성제로 BYK-3570 0.05g 첨가하여 저굴절 코팅액(8)을 제조하였다.
2) 광학필름의 제조
두께 80㎛의 투명기재 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 표면 위에, 하드코팅 코팅액(Kyoeisha, HX-610UV)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 5㎛가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
상기 하드코팅층의 상부에 상기 저굴절 코팅액(8)을 와이어바 (wire bar)를 이용하여 건조도포두께가 100nm가 되도록 도포한 후, 건조 및 경화하였다. 건조는 90℃에서 1분 동안 수행하였으며, 경화는 120W/cm의 고압수은램프를 이용해서 10초간 질소분위기 하에서 UV경화를 하였다.
제조된 필름의 물성을 측정하여 하기 표 1에 기재하였다.
[표 1]
Figure pat00030
상기 표 1에서 보이는 바와 같이, 본 발명의 실시예는 전광선투과율이 95%이상으로 우수하며, 헤이즈가 낮은 것을 알 수 있고, 내찰상성, 밀착성이 우수함을 알 수 있다. 또한, 비교예 1~2와 실시예 1~ 6을 비교하면, 본 발명의 실세스퀴옥산 화합물을 첨가하는 경우 비교예에 비하여 연필경도 및 내찰상성이 더욱 향상됨을 알 수 있었다.

Claims (18)

  1. 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물을 포함하는 반사방지용 코팅조성물.
    [화학식 1]
    Figure pat00031

    (상기 식에서,
    R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로
    Figure pat00032
    ,
    Figure pat00033
    에서 선택되고,
    상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고,
    상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 실세스퀴옥산 화합물의 굴절율이 1.3 ~ 1.42이고, 전체 코팅조성물의 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 반사방지용 코팅조성물.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 반사방지용 코팅조성물은 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 것인 반사방지용 코팅조성물.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 자외선 경화형 화합물은 (메타)아크릴계 수지, 불소계 (메타)아크릴레이트에서 선택되는 하나 이상인 반사방지용 코팅조성물.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 불소계 (메타)아크릴레이트는 하기 화학식 2 내지 화학식 4에서 선택되는 어느 하나 이상인 반사방지용 코팅조성물.
    [화학식 2]
    Figure pat00034

    (상기 식에서, a는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
    [화학식 3]
    Figure pat00035

    [화학식 4]
    Figure pat00036

    (상기 식에서, R7은 수소 또는 (C1-C6)알킬이고, b는 0 ~ 4에서 선택되는 정수이고, c는 1 ~ 3에서 선택되는 정수이다.)
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 무기입자는 평균입경이 1 ~ 1000 nm인 중공 또는 다공성 실리카입자인 반사방지용 코팅조성물.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 무기입자는 평균입경이 10 ~ 80nm인 중공실리카인 반사방지용 코팅조성물.
  8. 제 3항에 있어서,
    상기 광개시제는 α-아미노 아세토페논, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모폴린프로판온-1, 디페닐케톤 벤질디메틸케탈, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-1-온, 4-히드록시시클로페닐케톤, 디메톡시-2-페닐아테토페논, 안트라퀴논, 플루오렌, 트리페닐아민, 카바졸, 3-메틸아세토페논, 4-크놀로아세토페논, 4,4-디메톡시아세토페논, 4,4-디아미노벤조페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 및 벤조페논에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 반사방지용 코팅조성물.
  9. 제 3항에 있어서,
    상기 계면활성제는 불소계 화합물 또는 폴리실록산계 화합물인 반사방지용 코팅조성물.
  10. 제 3항에 있어서,
    상기 용매는 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸셀루소브, 에틸솔루소브, 메틸에틸케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디에틸케톤, 디프로필케톤, 시클로헥사논, 헥산, 헵탄, 옥탄, 벤젠, 톨루엔, 자일렌에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물인 반사방지용 코팅조성물.
  11. 제 3항에 있어서,
    상기 반사방지용 코팅조성물은 상기 실세스퀴옥산 화합물 0.1 ~ 10 중량%, 자외선 경화형 화합물 0.5 ~ 10 중량%, 무기입자 0.1 ~ 5 중량%, 광개시제 0.01 ~ 2 중량%, 계면활성제 0.01 ~ 0.1 중량% 및 잔량의 용매를 포함하는 것인 반사방지용 코팅조성물.
  12. 제 1항 내지 제 11항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
    상기 반사방지용 코팅조성물은 광학필름의 저굴절 코팅층을 형성하는데 사용되는 것인 반사방지용 코팅조성물.
  13. 기재필름의 적어도 일면에, 하기 화학식 1의 실세스퀴옥산 화합물, 자외선 경화형 화합물, 무기입자, 광개시제, 계면활성제 및 용매를 포함하는 반사방지용 코팅조성물이 도포된 저굴절 코팅층을 갖는 광학필름.
    [화학식 1]
    Figure pat00037

    (상기 식에서,
    R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로
    Figure pat00038
    ,
    Figure pat00039
    에서 선택되고,
    상기 R5 및 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 (C1-C5)알킬에서 선택되고,
    상기 n은 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, m은 2 ~ 12에서 선택되는 정수이고, k는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이고, j는 1 ~ 10에서 선택되는 정수이다.)
  14. 제 13항에 있어서,
    상기 기재필름은 셀룰로오스아실레이트, 폴리노보넨, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리올레핀, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리아릴레이트, 폴리에테르이미드, 폴리메틸메타아크릴레이트 및 폴리에테르케톤, 폴리비닐알코올 및 폴리염화비닐로 이루어진 군으로부터 선택되는 단독 또는 이들의 혼합물로 이루어진 것인 광학필름.
  15. 제 13항에 있어서,
    상기 저굴절 코팅층은 건조도포두께가 10 ~ 200nm이고, 굴절율이 1.39 ~ 1.43인 광학필름.
  16. 제 13항에 있어서,
    상기 기재필름과 저굴절 코팅층의 사이에 하드코팅층을 더 포함하는 광학필름.
  17. 제 13항 내지 제 16항에서 선택되는 어느 한 항의 광학필름을 포함하는 편광판.
  18. 제 17항의 편광판을 포함하는 표시장치.
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