JP2018508511A - ホルムアミド系化合物を製造する方法 - Google Patents
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- -1 formamide compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 44
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N formamide Substances NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 98
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 71
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 71
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 46
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 62
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical group CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 41
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 36
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 28
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 27
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 24
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 24
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 210000000080 chela (arthropods) Anatomy 0.000 claims description 11
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims description 11
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000004765 (C1-C4) haloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 8
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 8
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000000027 (C1-C10) alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 claims description 3
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 20
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 7
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000012327 Ruthenium complex Substances 0.000 description 72
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 61
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 52
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 43
- 238000006170 formylation reaction Methods 0.000 description 38
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 36
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 230000022244 formylation Effects 0.000 description 30
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 25
- LCEDQNDDFOCWGG-UHFFFAOYSA-N morpholine-4-carbaldehyde Chemical compound O=CN1CCOCC1 LCEDQNDDFOCWGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 19
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002585 base Substances 0.000 description 7
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 7
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- 150000003948 formamides Chemical class 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical group [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 5
- LQJMZBWXJVRNHA-UHFFFAOYSA-N C(=O)=O.CNC Chemical compound C(=O)=O.CNC LQJMZBWXJVRNHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- ZVENKBGRIGHMRG-UHFFFAOYSA-M carbon monoxide chloro(hydrido)ruthenium triphenylphosphane Chemical compound [C-]#[O+].[H][Ru]Cl.c1ccc(cc1)P(c1ccccc1)c1ccccc1.c1ccc(cc1)P(c1ccccc1)c1ccccc1.c1ccc(cc1)P(c1ccccc1)c1ccccc1 ZVENKBGRIGHMRG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000000816 matrix-assisted laser desorption--ionisation Methods 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOXFMYVTSLAQMO-UHFFFAOYSA-N 2-Pyridinemethanamine Chemical compound NCC1=CC=CC=N1 WOXFMYVTSLAQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethanamine Chemical compound COCCN ASUDFOJKTJLAIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N Heptylamine Chemical compound CCCCCCCN WJYIASZWHGOTOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IIBOGKHTXBPGEI-UHFFFAOYSA-N N-benzylformamide Chemical compound O=CNCC1=CC=CC=C1 IIBOGKHTXBPGEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCOGKXLOEWLIDC-UHFFFAOYSA-N N-methylbutylamine Chemical compound CCCCNC QCOGKXLOEWLIDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQCGPNRIAFVNBY-UHFFFAOYSA-N [ethenyl(phenyl)phosphoryl]benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(C=C)C1=CC=CC=C1 CQCGPNRIAFVNBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- OWSUFPNEINDECW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;n-methylmethanamine Chemical compound C[NH2+]C.OC([O-])=O OWSUFPNEINDECW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N methyl formate Chemical compound COC=O TZIHFWKZFHZASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-phenylmethanamine Chemical compound CNCC1=CC=CC=C1 RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- HBENZIXOGRCSQN-VQWWACLZSA-N (1S,2S,6R,14R,15R,16R)-5-(cyclopropylmethyl)-16-[(2S)-2-hydroxy-3,3-dimethylpentan-2-yl]-15-methoxy-13-oxa-5-azahexacyclo[13.2.2.12,8.01,6.02,14.012,20]icosa-8(20),9,11-trien-11-ol Chemical compound N1([C@@H]2CC=3C4=C(C(=CC=3)O)O[C@H]3[C@@]5(OC)CC[C@@]2([C@@]43CC1)C[C@@H]5[C@](C)(O)C(C)(C)CC)CC1CC1 HBENZIXOGRCSQN-VQWWACLZSA-N 0.000 description 1
- VCLJHQJVQXAFIB-UHFFFAOYSA-P CP(C)(C)[Ru](P(C)(C)C)(P(C)(C)C)(P(C)(C)C)(Cl)Cl Chemical compound CP(C)(C)[Ru](P(C)(C)C)(P(C)(C)C)(P(C)(C)C)(Cl)Cl VCLJHQJVQXAFIB-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 229910004664 Cerium(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 1
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQGNLKJAIVSNCO-UHFFFAOYSA-N N-butylformamide Chemical compound CCCCNC=O QQGNLKJAIVSNCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWGXDLRCJNEEGZ-UHFFFAOYSA-N N-cyclohexylformamide Chemical compound O=CNC1CCCCC1 SWGXDLRCJNEEGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000034809 Product contamination Diseases 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K cerium trichloride Chemical compound Cl[Ce](Cl)Cl VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N dimethyl carbonate Chemical compound COC(=O)OC IEJIGPNLZYLLBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIYXHCMRGZVYMA-UHFFFAOYSA-N dimethylcarbamic acid;n-methylmethanamine Chemical compound C[NH2+]C.CN(C)C([O-])=O JIYXHCMRGZVYMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- QKDVBBQDDNJDSH-UHFFFAOYSA-N ethanol;formamide Chemical compound CCO.NC=O QKDVBBQDDNJDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000005431 greenhouse gas Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N n',n'-diethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCN(CC)CCN UDGSVBYJWHOHNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZMAJUHVSZBJHL-UHFFFAOYSA-N n,n-dibutylformamide Chemical compound CCCCN(C=O)CCCC NZMAJUHVSZBJHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAMUPQJDKBGDPU-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)formamide Chemical compound OCCNC=O BAMUPQJDKBGDPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KERBAAIBDHEFDD-UHFFFAOYSA-N n-ethylformamide Chemical compound CCNC=O KERBAAIBDHEFDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIRVEOCOAHGVJV-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-pyridin-2-ylformamide Chemical compound O=CN(C)C1=CC=CC=N1 DIRVEOCOAHGVJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000012450 pharmaceutical intermediate Substances 0.000 description 1
- CBLGQEBXWDKYDI-UHFFFAOYSA-N piperazine-1,4-dicarbaldehyde Chemical compound O=CN1CCN(C=O)CC1 CBLGQEBXWDKYDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- PLAHHVUZRZZLQN-UHFFFAOYSA-N pyrrole-1-carbaldehyde Chemical compound O=CN1C=CC=C1 PLAHHVUZRZZLQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
(a) 触媒IIIの作用下において、一般式がIのアミン系化合物を二酸化炭素および水素ガスと反応させ、一般式がIIのホルムアミド系化合物を形成させる。
R1は水素、置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC4-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25のアリールアルキル基、-(CH2)n-OR3または-(CH2)n-NR4R5から選ばれ、ここで、n=1〜8である。
R2は置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC4-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25のアリールアルキル基、-(CH2)n-OR3または-(CH2)n-NR4R5から選ばれ、ここで、n=1〜8である。
ここで、R3、R4、R5はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25アリールアルキル基またはヘテロアリール基から選ばれ、ここで、R4とR5は連結して置換または無置換のC3-C10シクロアルキシ基、C4-C24アリール基またはヘテロアリール基になってもよい。
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。)
MはVIIIB族遷移金属:Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、またはこれらの組み合わせから選ばれる。
X、Y、Y'はそれぞれ独立に一酸化炭素、トリフェニルホスフィン、ピリジン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは水素マイナスイオン、水酸化物イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、BH4 -、BH3CN-、BH(Et)3 -、BH(sec-Bu)3 -またはAlH4 -からなる群から選ばれる。
Lは一般式IVで表される三座ピンサー型配位子である。
m1およびm2はそれぞれ独立に1〜3の正整数から選ばれる。
D1’およびD2’は金属原子と配位する電子供与原子で、それぞれ独立にP、N、またはSから選ばれる。
R0は水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25アリールアルキル基、置換または無置換のC4-C20ヘテロアリール基から選ばれる。
R1’、R2’、R11’、R12’はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC4-C24アリール基またはヘテロアリール基から選ばれ、ここで、R1’とR2’の間、R11’とR12’の間は連結してC3-C10シクロアルキシ基、C4-C24アリール基またはヘテロアリール基になってもよい。
R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC1-C10アルコキシ基またはC6-C36アリール基から選ばれ、ここで、R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’の各基の間は連結してC3-C10脂肪族シクロアルキシ基、C4-C24芳香環基またはヘテロアリール基になってもよい。)
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。)
もう一つの好適な例において、好適なR0はH、C1-C4アルキル基(たとえばメチル基)またはフェニル基から選ばれる。
もう一つの好適な例において、好適なR1’、R2’、R11’、R12’は独立にフェニル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基またはアダマンチル基から選ばれる。
もう一つの好適な例において、MはRuまたはIrである。
もう一つの好適な例において、前記の有機アミン系化合物と触媒のモル比は1000〜5600000:1である。
もう一つの好適な例において、前記の有機アミン系化合物と触媒のモル比は10000〜4000000:1、好ましくは50000〜2500000:1である。
もう一つの好適な例において、前記工程a)では、さらに、アルコールのアルカリ金属塩、アルコールのアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、またはこれらの組み合わせから選ばれる塩基添加物が使用される。
もう一つの好適な例において、前記工程a)では、塩基添加物は使用されていない。
もう一つの好適な例において、前記方法の反応時間は0.1〜1000時間である。
もう一つの好適な例において、前記方法の反応時間は2〜160時間、好ましくは2〜120時間である。
二酸化炭素の圧力は1〜100大気圧である。
もう一つの好適な例において、前記反応における水素ガスの圧力は5〜40大気圧、好ましくは35大気圧である。
もう一つの好適な例において、前記反応における二酸化炭素ガスの圧力は5〜40大気圧、好ましくは35大気圧である。
もう一つの好適な例において、前記反応は60〜200℃の温度範囲で行われる。
もう一つの好適な例において、前記反応の温度は80〜150℃、好ましくは80〜140℃である。
もう一つの好適な例において、前記反応は無溶媒の条件で行われる。
もう一つの好適な例において、R0、R1、R2、R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’、R1’、R2’、R11’、R12’基の好適な例は本発明の実施例に記載の具体的な化合物の相応する基である。
ここで、前記の触媒IIIは以下のような一般式で表される構造を有するピンサー型触媒である、工程を含む方法を提供する。
MはVIIIB族遷移金属:Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、またはこれらの組み合わせから選ばれる。
X、Y、Y'はそれぞれ独立に一酸化炭素、トリフェニルホスフィン、ピリジン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは水素マイナスイオン、水酸化物イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、BH4 -、BH3CN-、BH(Et)3 -、BH(sec-Bu)3 -またはAlH4 -からなる群から選ばれる。
m1およびm2はそれぞれ独立に1〜3の正整数から選ばれる。
D1’およびD2’は金属原子と配位する電子供与原子で、それぞれ独立にP、N、またはSから選ばれる。
R0は水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25アリールアルキル基、置換または無置換のC4-C20ヘテロアリール基から選ばれる。
R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC1-C10アルコキシ基またはC6-C36アリール基から選ばれ、ここで、R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’の各基の間は連結してC3-C10脂肪族シクロアルキシ基、C4-C24芳香環基またはヘテロアリール基になってもよい。
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。))
もう一つの好適な例において、好適なR0はH、C1-C4アルキル基(たとえばメチル基)またはフェニル基から選ばれる。
もう一つの好適な例において、好適なR1’、R2’、R11’、R12’は独立にフェニル基、エチル基、イソプロピル基、t-ブチル基、シクロヘキシル基またはアダマンチル基から選ばれる。
もう一つの好適な例において、MはRuまたはIrである。
R1は水素、置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC4-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25のアリールアルキル基、-(CH2)n-OR3または-(CH2)n-NR4R5から選ばれ、ここで、n=1〜8である。
R2は置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC4-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25のアリールアルキル基、-(CH2)n-OR3または-(CH2)n-NR4R5から選ばれ、ここで、n=1〜8である。
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。)
本発明の第三の側面では、以下のような構造式で表される構造を有することを特徴とする三座ピンサー型配位子を提供する。
MはVIIIB族遷移金属:Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptまたはこれらの組み合わせから選ばれる。
X、Y、Y'はそれぞれ独立に一酸化炭素、トリフェニルホスフィン、ピリジン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは水素マイナスイオン、水酸化物イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、BH4 -、BH3CN-、BH(Et)3 -、BH(sec-Bu)3 -またはAlH4 -からなる群から選ばれる。
Lは請求項12に記載の三座ピンサー型配位子である。)
もちろん、本発明の範囲内において、本発明の上記の各技術特徴および下記(たとえば実施例)の具体的に記述された各技術特徴は互いに組合せ、新しい、または好適な技術方案を構成できることが理解される。紙数に限りがあるため、ここで逐一説明しない。
ここで用いられる用語「転化効率」(効率と呼ぶこともある)とは、化学反応における消耗された反応物の量と最初に仕込んだ当該反応物の総量の百分率である。本発明の転化効率はジメチルアミンで計算される。
ここで用いられる用語「転化数」とは、ある時間内で、転化された反応物のモル数と触媒のモル数の比である。本発明の転化数はジメチルアミンで計算される。
本発明において、転化効率および転化数の計算はガスクロマトグラフィーまたは分離法の二つの手段で行われる。
本発明に使用されるピンサー型遷移金属錯体触媒は下記1a-1h、2a-2dおよび3aで表される構造を有する。ここで、1g、2c-2dの製造は実施例1、2および3を参照する。
本発明に係るホルムアミド系化合物の製造方法は、以下の工程を含む。
(a) 触媒IIIの作用下において、一般式がIのアミン系化合物を二酸化炭素および水素ガスと反応させ、一般式がIIのホルムアミド系化合物を形成させる。
R1は水素、置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC4-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25のアリールアルキル基、-(CH2)n-OR3または-(CH2)n-NR4R5から選ばれ、ここで、n=1〜8である。
ここで、R3、R4、R5はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25アリールアルキル基またはヘテロアリール基から選ばれ、ここで、R4とR5は連結して置換または無置換のC3-C10シクロアルキシ基、C4-C24アリール基またはヘテロアリール基になってもよい。
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。)
1.本発明は、初めて、二酸化炭素、水素ガスと有機アミン系化合物を利用してピンサー型遷移金属錯体触媒の作用下において反応させ、効率的にホルムアミド系化合物を製造する。従来のホルムアミド系を製造する方法と比べ、本発明の方法はCO2の効率的な化学的転化および利用を実現し、かつ二酸化炭素は安値で獲得しやすく、使用が安全で、ホルムアミドの産業化大規模生産で有効に生産コストを低下させることができ、直接二酸化炭素を炭素源として有用な化合物に転化させる新規な技術で、優れた応用の将来性がある。
2.本発明の方法による唯一の副産物は水で、ほかの廃棄物が生じず、環境にやさしい、持続可能な発展の社会という長期的な技術の目標に合致する。
4.本発明の方法は二酸化炭素、水素ガスおよびジメチルアミンを原料とし、穏やかな反応条件において効率的に触媒してN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)を製造し、一つの反応器あたりの触媒転化数は600000以上に達する。そして、使用される触媒が非常に安定しているため、便利に触媒の複数回の循環使用(12回超)が実現でき、触媒の使用効率を大きく向上させ、反応コストを大幅に低下させる。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.45-7.32 (m, 10H), 2.79-2.74 (m, 2H), 2.65 (t, J = 6.4 Hz, 2H), 2.52-2.47 (m, 6H), 2.29 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 2.00 (br, 1H, NH), 1.00 (t, J = 6.8 Hz, 6H) ppm。31P NMR (161.9 MHz, CDCl3) δ-20.40 ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 138.64, 138.52, 132.72, 132.54, 128.45, 128.38, 128.32, 52.62, 47.40, 47.02, 46.90, 46.68, 29.18, 29.06, 11.92. ppm。
M.P. 2000C;1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.72-7.25 (m, 10H), 4.53 (s,1H), 3.63-3.39 (m, 3H), 3.24-3.20 (m, 1H), 3.13-3.11 (m, 1H), 2.97-2.92 (m, 3H), 2.78-2.67 (m, 2H), 2.55 (br, 1H), 2.23 (t, J = 14.4 Hz, 1H), 1.20 ( t, J= 5.6 Hz, 3H), 1.11 (t, J= 6.4 Hz, 3 H), -16.2 (d, J = 28 Hz, 1H) ppm;
31P NMR (161.9 MHz, CDCl3) δ 71.5 (d, J = 23.2 Hz) ppm;
HRMS (MALDI) m/z calcd. for [C21H30N2OP96Ru]+: 453.1166, Found: 453.1167 [M-Cl]+; IR (film) 1976, 1908, 1891 cm-1。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 7.54-7.44 (m, 15H), 5.31 (br, 2H), 5.05 (br, 1H), 3.38 (s, 1H), 3.17 (s, 2H), 3.98-2.85 (m, 2H), 2.62 (s, 1H), 2.30 (s, 1H), 1.86-1.79 (m, 2H), -12.7 (d, J = 25.2, 1H) ppm。
31P NMR (161.9 MHz, CDCl3) δ 67.9 ppm。
HRMS (MALDI) m/z calcd. for [C23H29N3OP96Ru]+: 490.1119, Found: 490.1117 [M-Cl]+. IR (film) 1918 cm-1。
Agilent 6890ガスクロマトグラフ、DM-Waxカラム(60 m × 0.32 mm × 1 μm). GC条件: DM-waxカラム、キャリアガス: N2、注入温度: 250℃、検出器温度: 3000℃、流速: 1 mL/min、オーブン温度: 40℃、1 min、10℃/min、230℃、30 min.
表1から、温度の変化は反応の結果に顕著な影響があったことがわかる。60℃未満の場合、反応は基本的に進行しなかったが、140℃超の場合、産物の収率も若干低下した。そのため、反応に使用される温度は110℃〜130℃の間、好ましくは120℃である。
表2から、異なる反応溶媒も産物の収率に顕著な影響があったことがわかる。アセトニトリル、メタノールまたはTHFのような極性溶媒で反応し、産物の収率は中等から良好で、トルエンにおける収率がやや低く、無溶媒の場合反応が生じなかった。そのため、さらなる条件の選択ではTHFまたはメタノールを反応溶媒とする。
表3から、CO2およびH2の圧力の変化は反応の結果に大きな影響があったことがわかる。表における試された圧力条件では、CO2およびH2の圧力がそれぞれ35大気圧の場合化合物1bの触媒効果が最も優れ、N-ホルミルモルホリンの収率は75%に達した。
表4から、考察された異なる種類の三座ピンサー型金属触媒1a-1h、2a-2d、3aでは、同様の反応条件でPNP三座配位子錯体1a-1hはPNNおよびSNS座配位子錯体(2a-2c、3a)よりも効率的にモルホリンのホルミル化反応を触媒することができたことがわかる。そのため、触媒としてPNP三座配位子錯体が好ましく、ピンサー型三座配位子ルテニウム錯体1aがより好ましい。
表5から、当該反応において塩基(カリウム-t-ブトキシド)の使用量は触媒効果に顕著な影響がなかったことがわかる。反応基質であるモルホリン自身が強塩基性の有機塩基で、ルテニウム錯体1bはさらに塩基を添加して活性化させる必要がないため、後続の好適な例ではアミン系基質以外、塩基が添加されなかった。
実施例9に類似する工程を使用し、触媒のモル使用量を2万分の1、4万分の1および10万分の1に下げ、120℃で、CO2およびH2の圧力がそれぞれ35大気圧の条件でモルホリン(20 mmol)と2時間反応させ、その結果を表6に示す。
表6から、触媒の使用量の減少は触媒1aの触媒効率の向上に有利であったことがわかる。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.06 (s, 1H), 3.71 (t, J = 4.8 Hz, 2H), 3.67 (t, J = 4.8 Hz, 2H), 3.58 (t, J = 4.8 Hz, 2H), 3.41 (t, J = 4.8 Hz, 2H) ppm。
表7から、温度の変化は反応の結果に顕著な影響があったことがわかる。60℃未満の場合、反応は基本的に進行しなかったが、120℃超の場合、産物の収率も若干低下した。そのため、好適な例で使用される反応温度は110℃〜120℃の間、好ましくは110℃である。
表8から、CO2およびH2の圧力の変化は反応の結果に大きな影響があったことがわかる。表におけるテストされた条件では、CO2およびH2の最適な圧力がそれぞれ35大気圧で、DMFの収率は59%に達した。
反応系に内部基準としてp-キシレン(50μL)を入れ、ガスクロマトグラフィーで測定されたDMFの収率は84%であった。得られた液体を2 cmのシリカゲルカラムにかけてろ過し、酢酸エチルで洗浄して得られた溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、回転蒸発で溶媒を除去し、無色の液体であるDMFを得、収率は59%であった。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.02 (s, 1H), 2.96 (s, 3H), 2.89 (s, 3H) ppm。
得られた無色透明の液体を減圧で蒸留して(80℃,3.1 torr)無色の液体6.89 gを得、含水DMF(1H NMR分析では含水量は通常7%〜16%の間にあるが、収率を計算する時含水量20%計算した)で、収率は76%であった。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.05 (s, 1H), 3.37 (q, J = 6.8 Hz, 2H), 3.28 (q, J = 6.8 Hz, 2H), 1.20 (t, J = 7.2 Hz, 3H) 1.14 (t, J = 6.8 Hz, 3H) ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.04 (s, 1H) 3.29 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 3.19 (t, J = 7.2 Hz, 2H), 1.54-1.47 (m, 4H), 1.35-1.28 (m, 4H), 0.96-0.92 (m, 6H) ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ8.13 (s, 1H), 3.88 (t, J = 4.8 Hz, 2H), 3.76 (t, J = 4.8 Hz, 2H), 3.52 (t, J = 4.8 Hz, 2H), 3.42 (t, J = 4.8 Hz, 2H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ164.9, 60.0, 59.9, 52.0, 47.1 ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.17 (major isomer, s, 0.73H), 8.05 (minor isomer, d, J = 12.0 Hz, 0.20H), 5.64 (s, br, 1H), 3.33-3.28 (major isomer, m, 1.55H), 3.23-3.21 (minor isomer, m, 0.41H), 1.55-1.48 (m, 2H), 1.41-1.34 (m, 2H), 0.95-0.91 (m, 3H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 164.9 (minor isomer,), 161.2 (major isomer), 41.5 (minor isomer), 37.8 (major isomer), 33.1 (minor isomer), 31.3 (major isomer), 19.9, 13.6 ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.16 (major isomer, s, 0.75H), 8.04 (minor isomer, d, J = 12.0 Hz, 0.25H), 5.69 (s, br, 1H), 3.32-3.27 (m, major isomer, 1.52H), 3.24-3.19 (m, minor isomer, 0.48H), 1.58-1.47 (m, 2H), 1.37-1.22 (m, 8H), 0.92-0.84 (m, 3H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 161.1, 38.2, 31.7, 29.5, 28.9, 26.8, 22.5, 14.0 ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.14 (major isomer, s, 0.68H), 8.02 (minor isomer, 0.18H) 3.28-3.19 (major isomer, m 1.83H), 2.77 (minor isomer, 0.44H), 1.59-1.46 (m, 2H), 1.37-1.18 (m, 18H), 0.92-0.80 (m, 3H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 164.7 (major isomer) 161.3 (minor isomer), 41.8 (minor isomer), 38.2 (major isomer), 31.9 (major isomer), 31.2 (minor isomer), 29.61, 29.59, 29.54, 29.51, 29.45, 29.31, 29.22, 29.11, 26.8 (major isomer), 26.4 (minor isomer), 22.6, 14.1 ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.23 (major isomer, s, 0.77H), 8.14 (minor isomer, d, J = 6.0 Hz, 0.14H), 7.37-7.24 (m, 5H), 6.10 (br, 1H), 4.48-4.45 (major isomer, m, 1.62H), 4.41-4.38 (minor isomer, m, 0.30H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 165.0 (minor isomer), 161.6 (major isomer), 137.8, 128.8, 128.6, 127.6, 127.5, 127.0, 45.7 (minor isomer), 41.9 (major isomer) ppm。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 7.96 (major isomer, s, 0.64H), 7.85 (minor isomer, s, 0.12H), 3.56-3.49 (m, 2H), 3.24 (t, J = 4.8 Hz, 2H) ppm。
13C NMR (100 MHz, D2O) 164.5, 59.7, 39.9 ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.14 (minor isomer, s, 0.18H), 8.11 (major isomer, s, 0.68H), 5.54 (br, 1H), 3.93-3.82 (major isomer, m, 0.74H), 3.36-3.27 (minor isomer, m, 0.30H), 2.00-1.84 (m, 2H), 1.75-1.70 (m, 2H), 1.65-1.60 (m, 1H), 1.43-1.21 (m, 5H) ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.52 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 8.28 (major isomer, s, 0.86H), 8.25 (minor isomer, d, J = 12.0 Hz, 0.1H), 7.71-7.67 (m, 1H), 7.30-7.20 (m, 2H), 4.61 (major isomer, d, J = 6.0 Hz, 1.8H), 4.55 (minor isomer, d, J = 6.0 Hz, 0.2H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 165.5 (minor isomer), 161.1 (major isomer), 156.1, 148.9, 137.0, 122.5, 122.1, 47.1 (minor isomer), 43.0 (major isomer) ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.18 (major isomer, s, 0.75H), 8.05 (minor isomer, d, J = 12.0 Hz, 0.12H), 6.93 (br, 1H), 3.50-3.44 (m, 4H), 3.36 (s, 3H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 165.2 (minor isomer), 161.6 (major isomer), 72.0 (minor isomer), 70.8 (major isomer), 58.5, 41.7 (minor isomer), 37.6 (major isomer) ppm。
1H NMR (400 MHz, CDCl3) δ 8.26 (s, 1H), 3.50 (t, J = 6.4 Hz, 2H), 3.43 (t, J = 6.4 Hz, 2H), 1.95-1.89 (m, 4H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ 160.9, 46.0, 43.1, 24.9, 24.2 ppm。
1H NMR (400 MHz, D2O) δ 7.92 (s, 2H), 3.45-3.34(m, 8H) ppm。
13C NMR (100 MHz, CDCl3) δ163.6,163.5, 46.2, 46.1, 40.3, 39.3 ppm。
Claims (14)
- ホルムアミド系化合物を製造する方法であって、以下の工程を含むことを特徴とする方法。
(a) 触媒IIIの作用下において、一般式がIのアミン系化合物を二酸化炭素および水素ガスと反応させ、一般式がIIのホルムアミド系化合物を形成させる。
R1は水素、置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC4-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25のアリールアルキル基、-(CH2)n-OR3または-(CH2)n-NR4R5から選ばれ、ここで、n=1〜8である。
R2は置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC4-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25のアリールアルキル基、-(CH2)n-OR3または-(CH2)n-NR4R5から選ばれ、ここで、n=1〜8である。
ここで、R3、R4、R5はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C20アルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25アリールアルキル基またはヘテロアリール基から選ばれ、ここで、R4とR5は連結して置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、C4-C24アリール基またはヘテロアリール基になってもよい。
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。) - 前記触媒は一般式IIIで表される構造を有するピンサー型触媒であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
MはVIIIB族遷移金属:Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、P、またはこれらの組み合わせから選ばれる。
X、Y、Y'はそれぞれ独立に一酸化炭素、トリフェニルホスフィン、ピリジン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは水素陰イオン、水酸化物イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、BH4 -、BH3CN-、BH(Et)3 -、BH(sec-Bu)3 -またはAlH4 -からなる群から選ばれる。
Lは一般式IVで表される三座ピンサー型配位子である。
m1およびm2はそれぞれ独立に1〜3の正の整数から選ばれる。
D1’およびD2’は金属原子と配位する電子供与原子で、それぞれ独立にP、N、またはSから選ばれる。
R0は水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25アリールアルキル基、置換または無置換のC4-C20ヘテロアリール基から選ばれる。
R1’、R2’、R11’、R12’はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC4-C24アリール基またはヘテロアリール基から選ばれ、ここで、R1’とR2’の間、R11’とR12’の間は連結してC3-C10シクロアルキル基、C4-C24アリール基またはヘテロアリール基になってもよい。
R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC1-C10アルコキシ基またはC6-C36アリール基から選ばれ、ここで、R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’の各基の間は連結して置換または無置換のC3-C10脂肪族シクロアルキル基、C4-C24アリール基またはヘテロアリール基になってもよい。)
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。) - 前記触媒は以下のような構造式を有する錯体であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記の有機アミン系化合物と触媒のモル比は1000〜5600000:1であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記工程a)では、さらに、アルコールのアルカリ金属塩、アルコールのアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属水酸化物、またはこれらの組み合わせから選ばれる塩基性添加物が使用されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記塩基性添加物と触媒のモル比は1〜100:1、好ましくは1〜20:1、より好ましくは1〜5:1であることを特徴とする請求項4に記載の方法。
- 前記方法の反応時間は0.1〜1000時間であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記方法における水素ガスの圧力は1〜100大気圧で、かつ/または二酸化炭素の圧力は1〜100大気圧であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記反応は60〜200℃の温度範囲内で行われることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記反応は有機溶媒において行われ、ここで、前記の有機溶媒はDMF、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、t-ブチルメチルエーテル、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、t-ブタノール、またはこれらの組み合わせから選ばれることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- ホルムアミド系化合物を製造する方法であって、ピンサー型遷移金属触媒IIIの作用下において、(i)有機1級アミンまたは有機2級アミン系化合物を(ii)二酸化炭素および(iii)水素ガスと反応させることによって、ホルムアミド系化合物を形成させ、
ここで、前記の触媒IIIは以下のような一般式で表される構造を有するピンサー型触媒である、工程を含むことを特徴とする方法。
MはVIIIB族遷移金属:Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Ptまたはこれらの組み合わせから選ばれる。
X、Y、Y'はそれぞれ独立に一酸化炭素、トリフェニルホスフィン、ピリジン、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドまたは水素陰イオン、水酸化物イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、BH4 -、BH3CN-、BH(Et)3 -、BH(sec-Bu)3 -またはAlH4 -からなる群から選ばれる。
Lは一般式IVで表される三座ピンサー型配位子である。
m1およびm2はそれぞれ独立に1〜3の正の整数から選ばれる。
D1’およびD2’は金属原子と配位する電子供与原子で、それぞれ独立にP、N、またはSから選ばれる。
R0は水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC6-C24アリール基、置換または無置換のC7-C25アリールアルキル基、置換または無置換のC4-C20ヘテロアリール基から選ばれる。
R1’、R2’、R11’、R12’はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC4-C24アリール基またはヘテロアリール基から選ばれ、ここで、R1’とR2’の間、R11’とR12’の間は連結して置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、C4-C24アリール基またはヘテロアリール基になってもよい。
R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’はそれぞれ独立に水素、置換または無置換のC1-C10アルキル基、置換または無置換のC3-C10シクロアルキル基、置換または無置換のC1-C10アルコキシ基またはC6-C36アリール基から選ばれ、ここで、R3’、R4’、R5’、R6’、R7’、R8’、R9’、R10’の各基の間は連結して置換または無置換のC3-C10脂肪族シクロアルキル基、C4-C24アリールまたはヘテロアリール基になってもよい。)
ここで、前記「置換」とは基における一つまたは複数の水素原子がハロゲン、C1-C4アルキル、C1-C4ハロアルキル基、C2-C6アルケニル基、C2-C6アルキニル基、C1-C6アルコキシ基、アミン基からなる群から選ばれる置換で置換されることをいう。) - 以下のような構造式で表される構造を有することを特徴とする三座ピンサー型配位子。
- 請求項12に記載の配位子を含むことを特徴とする触媒。
- 式IIIで表される触媒の使用であって、有機1級アミンまたは有機2級アミン系化合物を二酸化炭素および水素ガスと反応させることによってホルムアミド系化合物を形成させる反応の触媒に使用されることを特徴とする使用。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510086625.9A CN105985254B (zh) | 2015-02-17 | 2015-02-17 | 一种制备甲酰胺类化合物的方法 |
CN201510086625.9 | 2015-02-17 | ||
PCT/CN2016/072342 WO2016131371A1 (zh) | 2015-02-17 | 2016-01-27 | 一种制备甲酰胺类化合物的方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018508511A true JP2018508511A (ja) | 2018-03-29 |
JP6516856B2 JP6516856B2 (ja) | 2019-05-22 |
Family
ID=56688645
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017544675A Active JP6516856B2 (ja) | 2015-02-17 | 2016-01-27 | ホルムアミド系化合物を製造する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10745367B2 (ja) |
EP (1) | EP3260441B1 (ja) |
JP (1) | JP6516856B2 (ja) |
CN (1) | CN105985254B (ja) |
WO (1) | WO2016131371A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR112013010157B1 (pt) | 2010-11-08 | 2020-02-04 | Albireo Ab | iinibidores do ibat, seus usos, e composição e combinações farmacêuticas |
CN106659726A (zh) | 2014-06-25 | 2017-05-10 | Ea制药株式会社 | 固体制剂及其着色防止或着色减少方法 |
US10786529B2 (en) | 2016-02-09 | 2020-09-29 | Albireo Ab | Oral cholestyramine formulation and use thereof |
US10441604B2 (en) | 2016-02-09 | 2019-10-15 | Albireo Ab | Cholestyramine pellets and methods for preparation thereof |
US10441605B2 (en) | 2016-02-09 | 2019-10-15 | Albireo Ab | Oral cholestyramine formulation and use thereof |
CN107011200B (zh) * | 2017-04-10 | 2019-03-15 | 武汉理工大学 | 一种甲酰胺类化合物的合成方法 |
CN108947937B (zh) * | 2017-05-18 | 2023-05-16 | 深圳有为技术控股集团有限公司 | 丙烯酰胺和甲酰胺型化合物的联产制备方法 |
JP2020530448A (ja) | 2017-08-09 | 2020-10-22 | アルビレオ・アクチボラグ | コレスチラミン顆粒、経口コレスチラミン製剤、及びそれらの使用 |
CN109553641B (zh) * | 2017-09-25 | 2023-05-12 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 新型钳形金属络合物及其应用 |
EP3495345A1 (en) * | 2017-12-06 | 2019-06-12 | Covestro Deutschland AG | Process for the preparation of di- or polyformamides |
CN108424359B (zh) * | 2018-03-21 | 2020-11-13 | 大连理工大学 | 一种水相中钌配合物催化co2加氢还原制备甲酸盐/甲酸的方法 |
CN110357923B (zh) * | 2018-04-11 | 2022-02-18 | 浙江中科创越药业有限公司 | 二氨基二膦四齿配体、其钌络合物及上述两者的制备方法和应用 |
US10793534B2 (en) | 2018-06-05 | 2020-10-06 | Albireo Ab | Benzothia(di)azepine compounds and their use as bile acid modulators |
CN108623493B (zh) * | 2018-06-20 | 2021-01-19 | 大连理工大学 | 一种温和条件下以co2为碳源的n-甲酰化合成方法 |
CN112262130A (zh) | 2018-06-20 | 2021-01-22 | 阿尔比里奥公司 | 奥德昔巴特的结晶修饰物 |
US10722457B2 (en) | 2018-08-09 | 2020-07-28 | Albireo Ab | Oral cholestyramine formulation and use thereof |
US11549878B2 (en) | 2018-08-09 | 2023-01-10 | Albireo Ab | In vitro method for determining the adsorbing capacity of an insoluble adsorbant |
US11007142B2 (en) | 2018-08-09 | 2021-05-18 | Albireo Ab | Oral cholestyramine formulation and use thereof |
US10975045B2 (en) | 2019-02-06 | 2021-04-13 | Aibireo AB | Benzothiazepine compounds and their use as bile acid modulators |
US10941127B2 (en) | 2019-02-06 | 2021-03-09 | Albireo Ab | Benzothiadiazepine compounds and their use as bile acid modulators |
CN110368989B (zh) * | 2019-07-09 | 2022-04-05 | 上海应用技术大学 | 一种钯配合物在脂肪胺甲酰化反应中的应用 |
CN112892604B (zh) * | 2019-12-03 | 2022-09-20 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种有机胺和co2多相催化制甲酰胺的方法 |
CN112892603B (zh) * | 2019-12-03 | 2022-04-12 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种用于氮甲酰化反应的固体多相催化剂及其制备和应用 |
CN111205198B (zh) * | 2020-01-24 | 2023-08-01 | 复旦大学 | 一种多孔材料催化二氧化碳氢化制备甲酰胺类化合物的方法 |
CN115028544B (zh) * | 2022-05-29 | 2024-04-26 | 复旦大学 | 一种芳香甲酰胺催化去甲酰化的方法及其应用 |
CN116143659A (zh) * | 2022-12-20 | 2023-05-23 | 陕西延长石油(集团)有限责任公司 | 一种由二氧化碳和二甲胺制备二甲基胺n,n-二甲氨基甲酸酯的系统和方法 |
CN116354841A (zh) * | 2023-03-27 | 2023-06-30 | 中国科学院兰州化学物理研究所 | 聚合物基催化剂催化低级胺与二氧化碳合成甲酰胺的方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001506644A (ja) * | 1996-12-17 | 2001-05-22 | シュトゥディエンゲゼルシャフト・コーレ・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 遷移金属化合物および4,5−ジホスフィノアクリジン配位子から作製される新規触媒 |
US20120253042A1 (en) * | 2007-10-30 | 2012-10-04 | Yeda Research And Development Co. Ltd. | Use of ruthenium complexes for formation and/or hydrogenation of amides and related carboxylic acid derivatives |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5236617A (en) * | 1975-09-17 | 1977-03-22 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Process for preparation of formamide derivatives |
US5639910A (en) * | 1993-11-04 | 1997-06-17 | Research Development Corporation Of Japan | Method for producing formic acid or its derivatives |
US8178723B2 (en) * | 2007-10-30 | 2012-05-15 | Yeda Research And Development Co. Ltd. | Process for preparing amides from alcohols and amines |
US8524915B2 (en) | 2010-04-20 | 2013-09-03 | Syngenta Crop Protection Llc | Process for the preparation of pyrazole carboxylic acid amides |
US20120071690A1 (en) * | 2010-09-17 | 2012-03-22 | Basf Se | Production of formamides |
JP5628613B2 (ja) | 2010-09-21 | 2014-11-19 | 高砂香料工業株式会社 | アミド化合物からアルコール及び/又はアミンを製造する方法 |
WO2012144650A1 (en) | 2011-04-22 | 2012-10-26 | Takasago International Corporation | Method for producing compound with carbonyl group by using ruthenium carbonyl complex having tridentate ligand as dehydrogenation oxidation catalyst |
CN102247890B (zh) * | 2011-05-18 | 2013-07-24 | 东华理工大学 | 一种氮配位的磁性纳米复合微球负载钯催化剂及制备方法和应用 |
CN103702968A (zh) * | 2011-07-27 | 2014-04-02 | 巴斯夫欧洲公司 | 制备甲酰胺和甲酸酯的方法 |
DE102012019441A1 (de) * | 2011-10-11 | 2013-04-11 | Basf Se | Verfahren zur Herstellung von Formamidverbindungen |
DE102011087302A1 (de) * | 2011-11-29 | 2013-05-29 | Bayer Technology Services Gmbh | Verfahren zur Umsetzung von Kohlendioxid und Bikarbonaten zu Ameisensäurederivaten unter Verwendung eines katalytischen Systems |
CN103864852A (zh) * | 2012-12-11 | 2014-06-18 | 中国科学院上海有机化学研究所 | 新型铱络合物以及利用伯醇α-烷基化酰胺的方法和应用 |
-
2015
- 2015-02-17 CN CN201510086625.9A patent/CN105985254B/zh active Active
-
2016
- 2016-01-27 JP JP2017544675A patent/JP6516856B2/ja active Active
- 2016-01-27 US US15/551,705 patent/US10745367B2/en active Active
- 2016-01-27 WO PCT/CN2016/072342 patent/WO2016131371A1/zh active Application Filing
- 2016-01-27 EP EP16751902.4A patent/EP3260441B1/en active Active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001506644A (ja) * | 1996-12-17 | 2001-05-22 | シュトゥディエンゲゼルシャフト・コーレ・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 遷移金属化合物および4,5−ジホスフィノアクリジン配位子から作製される新規触媒 |
US20120253042A1 (en) * | 2007-10-30 | 2012-10-04 | Yeda Research And Development Co. Ltd. | Use of ruthenium complexes for formation and/or hydrogenation of amides and related carboxylic acid derivatives |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
ANGEW. CHEM. INT. ED., vol. 53, JPN6018030147, 2014, pages 11813 - 11817, ISSN: 0003852243 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3260441A4 (en) | 2018-09-05 |
US10745367B2 (en) | 2020-08-18 |
CN105985254A (zh) | 2016-10-05 |
EP3260441A1 (en) | 2017-12-27 |
JP6516856B2 (ja) | 2019-05-22 |
WO2016131371A1 (zh) | 2016-08-25 |
CN105985254B (zh) | 2018-03-16 |
EP3260441B1 (en) | 2021-03-03 |
US20180030009A1 (en) | 2018-02-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180726 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |