JP2018500157A - 半導体用ガスを低減および精製するための、ならびに炭化水素流から水銀を除去するための多孔質高分子 - Google Patents
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- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4412—Details relating to the exhausts, e.g. pumps, filters, scrubbers, particle traps
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
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Abstract
Description
本出願は、2014年12月4日に出願された米国仮特許出願第62/087,395号の優先権の利益を主張し、前述の出願の全内容は、参照によりここに組み込まれる。
一実施形態において、本発明は、酸化、還元、加水分解、または配位結合形成、およびそれらの組み合わせから構成される反応機構を通して、半導体用ガス含有流出物中の半導体用ガスと反応する、MOFまたはPOPに関する。目的に合わせて設計される、MOFおよびPOPへのボトムアップアプローチの利点により、反応性官能基を構成要素として備える、有機配位子、または有機単量体を選択することで、半導体用ガスと反応する官能基を多孔質材料に導入することが可能となる。このアプローチを通して、高密度な反応部位を達成することができ、その結果、高い反応性、効率、および好ましい拡散特性を備える半導体用ガス低減材料がもたらされる。
一実施形態において、本発明は、酸化、還元、加水分解、配位結合形成、およびそれらの組み合わせから構成される反応機構を通して、半導体用ガス流中の汚染物質と反応する、MOFまたはPOPに関する。目的に合わせて設計される、MOF、およびPOPへのボトムアップアプローチの利点は、反応性官能基を構成要素として備える、有機配位子、または有機単量体を選択することにより、半導体用ガスと反応する官能基を多孔質材料に容易に導入することを可能とする。高い反応性、効率、および好ましい拡散特性を備える半導体用ガス低減材料をもたらすであろうこのアプローチを通して、高密度な反応部位を達成することができる。
一実施形態において、本発明は、炭化水素流中の微量水銀汚染物質と反応するMOFに関し、ここでMOF内の少なくとも1つの有機配位子は、セレン、テルル、およびそれらの組み合わせから選択されるカルコゲンを、少なくとも1つ含有する。水銀は、硫黄、セレン、およびテルルといった重カルコゲンと強く結合することが理解される。その全てが、参照によりここに組み込まれる、Yee,K.ら、Effective Mercury Sorption by Thiol−Laced Metal−Organic Frameworks:in Strong Acid and the Vapor Phase、Journal of American Chemical Society、2013、135(21)、p.7795−7798に開示されるように、Yeeらは、隣接する金属クラスターを接続する2,5−ジメルカプト−1,4−ベンゼンジカルボン酸配位子から構成されるチオ修飾MOFによる水銀の取り込みを記載し、ここで金属イオンは、Al3+またはZr4+金属イオンである。セレン、およびテルルといった、より重いカルコゲンは、硫黄よりも強い結合親和性を示すが、セレン含有MOF、およびテルル含有MOFに関する報告は限られており、炭化水素流からの水銀除去におけるそれらの役割は、いまだに説明されていない。同様に、本発明は、炭化水素流中の微量水銀汚染物質と反応するPOPにも関し、ここでPOPの構造を定める有機単量体の少なくとも1つは、硫黄、セレン、テルル、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されるカルコゲンを、少なくとも1つ含有する。
1 Li,H.ら、Design and synthesis of an exceptionally stable and highly porous metal−organic framework、Nature、1999、402(6759):p.276−279。
2 Ferey,G.、Hybrid porous solids:past,present,future、Chemical Society Reviews、2008、37(1):p.191−214。
3 Wilmer,C.E.ら、Large−scale screening of hypothetical metal−organic frameworks、Nature Chemistry、2012、4(2):p.83−89。
4 Farha,O.K.ら、De novo synthesis of a metal−organic framework material featuring ultrahigh surface area and gas storage capacitties、Nature Chemistry、2010、2(11):p.944−948。
5 Furukawa,H.ら、Ultrahigh Porosity in Metal−Organic Frameworks、Science、2010、329(5990):p.424−428。
6 Ferey,G.ら、A Chromium terephthalate−based solid with unusually large pore volumes and surface area、Science、2005、309(5743):p.2040−2042。
7 Chae,H.K.ら、A route to high surface area,porosity and inclusion of large molecules in crystals、Nature、2004、427(6974):p.523−527。
8 Wilmer,C.E.ら、Structure−property relationships of porous materials for carbon dioxide separation and capture、Energy&Environmental Science、2012、5(12):p.9849−9856。
9 Wu,D.ら、Design and preparation of porous polymers、Chemical Review、2012、112(7):p.3959。
10 Farha,O.K.ら、Metal−Organic Framework Materials with Ultrahigh Surface Areas:Is the Sky the Limit?、Journal of the American Chemical Society、2012、134(36):p.15016−15021。
11 Nelson,A.P.ら、Supercritical Processing as a Route to High Internal Surface Areas and Permanent Microporosity in Metal−Organic Framework Materials、Journal of the American Chemical Society、2009、131(2):p.458。
12 Li,J.ら、Selective gas adsorption and separation in metal−organic frameworks、Chemical Society Review、2009、38:p.1477−1504。
13 Lu,W.ら、Porous Polymer Networks:Synthesis,Porosity,and Applications in Gas Storage/Separation、Chemistry of Materials、2010、22(21):p.5964−5972。
14 Yee,K.ら、Effective Mercury Sorption by Thiol−Laced Metal−Organic Frameworks:in Strong Acid and the Vapor Phase、Journal of American Chemical Society、2013、135(21)、p.7795−7798。
15 Weston,M.H.ら、Phosphine Gas Adsorption in a Series of Metal−Organic Frameworks、Inorganic Chemistry、2015、54(17):p.8162−8164。
Claims (92)
- 各金属クラスターが1つまたは複数の金属イオンを含む複数の金属クラスターと、隣接する金属クラスターを接続する複数の多座有機配位子との配位生成物であって、前記1つまたは複数の金属イオン、および前記有機配位子は、半導体用ガスとの反応性または半導体用ガスに対する吸着親和性を付与して、半導体用ガス含有流出物中の半導体用ガスを実質的に除去または低減するよう選択される、配位生成物を含む金属有機構造体(MOF)、または
少なくとも複数の有機単量体由来の重合生成物であって、前記有機単量体は、半導体用ガスとの反応性または半導体用ガスに対する吸着親和性を付与して、半導体用ガス含有流出物中の半導体用ガスを実質的に除去または低減するよう選択される、重合生成物を含む多孔質有機高分子(POP)
を含む、半導体用ガスを低減するために構成される材料。 - 前記MOFまたは前記POPは、酸化、還元、加水分解、または配位結合形成、およびそれらの組み合わせの少なくとも1つの反応機構を通して半導体用ガスと反応する、請求項1に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、前記半導体用ガスに対し高い反応性を有する化学種を包接する、請求項1に記載の材料。
- 前記化学種は、塩基性種、酸性種、加水分解性種、酸化体、還元体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項3に記載の材料。
- 前記塩基性種は、金属水酸化物、金属炭酸塩、およびそれらの組み合わせから選択される、請求項4に記載の材料。
- 前記金属は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、イットリウム、ジルコニウム、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、アルミニウム、インジウム、タリウム、鉛、ビスマス、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項5に記載の材料。
- 前記酸化体は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、レニウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、錫、鉛、ビスマス、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、1つまたは複数の金属を含む金属酸化物である、請求項4に記載の材料。
- 各金属クラスターは、1つまたは複数の金属イオンを含み、ここで各金属クラスターは、完全に飽和し、空位の配位部位を有さない、請求項1に記載の材料。
- 各金属クラスターは、1つまたは複数の金属イオンを含み、かつ前記クラスター内の少なくとも1つの金属イオンは、結合していない配位部位を有する、請求項1に記載の材料。
- 前記結合していない配位部位を有する、前記少なくとも1つの金属イオンは、配位結合形成を通して前記半導体用ガスと反応する、請求項9に記載の材料。
- 前記金属クラスターおよび前記有機配位子は、MOFであって、前記加水分解性種と反応して前記半導体用ガスと反応する反応生成物を生成するMOFを提供するよう選択され、または
前記有機単量体は、POPであって、加水分解性種と反応して前記半導体用ガスと反応する反応生成物を生成するPOPを提供するよう選択される、請求項1に記載の材料。 - 前記加水分解性種は、水、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項11に記載の材料。
- 前記金属イオンは、Li+、Na+、K+、Rb+、Be2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sc3+、Y3+、Ti4+、Zr4+、Hf4+、V5+、V4+、V3+、Nb3+、Ta3+、Cr3+、Cr2+、Mo3+、W3+、Mn3+、Fe3+、Fe2+、Ru3+、Ru2+、Os3+、Os2+、Co3+、Co2+、Ni2+、Ni+、Pd2+、Pd+、Pt2+、Pt+、Cu2+、Cu+、Ag+、Au+、Zn2+、Al3+、Ga3+、In3+、Si4+、Si2+、Ge4+、Ge2+、Sn4+、Sn2+、Bi5+、Bi3+、Cd2+、Mn2+、Tb3+、Gd3+、Ce3+、La3+、およびCr4+、ならびにそれらの組み合わせから選択される、請求項1に記載の材料。
- 前記半導体用ガスは、アンモニア、アルシン、三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素、硫化カルボニル、塩素、重水素、ジボラン、ジクロロシラン、ジクロロシラン、ジフルオロメタン、ジシラン、フッ素、ゲルマン、四フッ化ゲルマニウム、ヘキサフルオロエタン、臭化水素、塩化水素、フッ化水素、セレン化水素、テルル化水素、硫化水素、フッ化メチル、メチルシラン、ネオン、有機窒素化合物、三フッ化窒素、ペルフルオロプロパン、ホスフィン、シラン、四塩化ケイ素、テトラフルオロメタン、テトラメチルシラン、四フッ化ケイ素、スチビン、六フッ化硫黄、トリクロロシラン、トリフルオロメタン、トリメチルシラン、六フッ化タングステン、アセチレン、有機金属ガス状試薬、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項1に記載の材料。
- 前記MOFは、少なくとも1つの金属イオンを含み、かつ少なくとも1つの前記有機配位子は、2,5−ジヒドロキシテレフタル酸(DOBDC)前駆体によって規定される、請求項1に記載の材料。
- 前記MOFは、結合していない配位部位を有するCu2+金属イオンを少なくとも含有するパドルホイール型の金属クラスターを少なくとも1つ含み、かつ少なくとも1つの前記有機配位子は、トリメシン酸前駆体を用いて形成される、請求項1に記載の材料。
- 650トル、25℃で測定される前記MOFまたは前記POPのホスフィンに対する重量法による取り込み能は、少なくともMOF1グラム当たりホスフィン0.1グラムであり、かつ最大でMOF1グラム当たりホスフィン2グラムである、請求項1に記載の材料。
- 650トル、25℃で測定される前記MOFまたは前記POPのアルシンに対する重量法による取り込み能は、少なくともMOF1グラム当たりアルシン0.35グラムであり、かつ最大でMOF1グラム当たりアルシン2グラムである、請求項1に記載の材料。
- 650トル、25℃で測定される前記MOFまたは前記POPの三フッ化ホウ素に対する重量法による取り込み能は、少なくともMOF1グラム当たり三フッ化ホウ素0.2グラムであり、かつ最大でMOF1グラム当たり三フッ化ホウ素2グラムである、請求項1に記載の材料。
- 650トル、25℃で測定される前記MOFの四フッ化ゲルマニウムに対する重量法による取り込み能は、少なくともMOF1グラム当たり四フッ化ゲルマニウム0.1グラムであり、かつ最大でMOF1グラム当たり四フッ化ゲルマニウム2グラムである、請求項1に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、高温、減圧下、またはそれらの組み合わせで、吸着した半導体用ガスを放出することができる、請求項1に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPの半導体用ガスに対する取り込み能は、高温、減圧下、またはそれらの組み合わせで、少なくとも部分的に再生される、請求項21に記載の材料。
- 前記MOF材料または前記POP材料は、半導体用ガス含有流出物が前記MOF材料と接触して通過する容器内に備えられ、前記流出物中の前記半導体用ガスの濃度を実質的に低減する、請求項1に記載の材料。
- 前記半導体用ガス含有流出物は、前記MOF材料または前記POP材料と接触して流れ、前記流出物中の前記半導体用ガスの濃度は、1ppm未満まで実質的に低減される、請求項23に記載の材料。
- 前記半導体用ガス含有流出物は、前記MOF材料または前記POP材料と接触して流れ、前記流出物中の前記半導体用ガスの濃度は、10ppb未満まで実質的に低減される、請求項23に記載の材料。
- 前記半導体用ガス含有流出物は、前記MOF材料または前記POP材料と接触して流れ、前記流出物中の前記半導体用ガスの濃度は、1ppb未満まで実質的に低減される、請求項23に記載の材料。
- 前記MOF材料または前記POP材料は、半導体用ガスとの反応性または半導体用ガスに対する吸着親和性を付与して半導体用ガス含有流出物中の前記半導体用ガスを実質的に除去または低減するようよう選択される他の材料と共に、積層床中に備えられる、請求項23に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、ペレット、ディスク、またはモノリシック体に形成される、請求項23に記載の材料。
- 請求項1に記載のMOFまたはPOPで充填された容器、
半導体製造装置、および
前記容器と前記半導体製造装置の出口を接続する導管を含む、システム。 - 前記MOFまたは前記POPは、床中に構成される、請求項29に記載のシステム。
- 前記半導体製造装置は、化学蒸着装置、原子層堆積装置、またはイオン注入装置のうちの少なくとも1つを含む、請求項29に記載のシステム。
- 各金属クラスターが1つまたは複数の金属イオンを含む複数の金属クラスターと、隣接する金属クラスターを接続する複数の多座有機配位子との配位生成物であって、前記1つまたは複数の金属イオン、および前記有機配位子は、半導体用ガス流中の汚染物質との反応性または半導体用ガス流中の汚染物質に対する吸着親和性を付与して、半導体用ガス流から前記汚染物質を実質的に除去し、かつ前記半導体用ガスの純度を高めるよう選択される、配位生成物を含む金属有機構造体(MOF)、または
少なくとも複数の有機単量体由来の重合生成物であって、前記有機単量体は、半導体用ガス流中の汚染物質との反応性または半導体用ガス流中の汚染物質に対する吸着親和性を付与して、半導体用ガス流から前記汚染物質を実質的に除去し、かつ前記半導体用ガスの純度を高めるよう選択される、重合生成物を含む多孔質有機高分子(POP)
を含む、半導体用ガスを精製するために構成される材料。 - 前記MOFまたは前記POPは、酸化、還元、加水分解、配位結合形成、およびそれらの組み合わせから構成される反応機構を通して汚染物質と反応する、請求項32に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、汚染物質に対し高い反応性を有する化学種を包接する、請求項32に記載の材料。
- 前記化学種は、塩基性種、酸性種、加水分解性種、酸化体、還元体、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項34に記載の材料。
- 各金属クラスターは、1つまたは複数の金属イオンを含み、ここで各金属イオンは、完全に飽和し、空位の配位部位を有さない、請求項32に記載の材料。
- 各金属クラスターは、1つまたは複数の金属イオンを含み、かつ前記クラスター内の少なくとも1つの金属イオンは、結合していない配位部位を有する、請求項32に記載の材料。
- 前記結合していない配位部位を有する、前記少なくとも1つの金属イオンは、配位結合形成を通して汚染物質と反応する、請求項37に記載の材料。
- 前記金属クラスターおよび前記有機配位子は、加水分解性種と反応して前記汚染物質と反応する反応生成物を生成するMOFを提供するよう選択され、または
前記有機単量体は、POPであって、前記加水分解性種と反応して前記汚染物質と反応する反応生成物を生成するPOPを提供するよう選択される、請求項32に記載の材料。 - 前記加水分解性種は、水、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項39に記載の材料。
- 前記金属イオンは、Li+、Na+、K+、Rb+、Be2+、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Sc3+、Y3+、Ti4+、Zr4+、Hf4+、V5+、V4+、V3+、Nb3+、Ta3+、Cr3+、Cr2+、Mo3+、W3+、Mn3+、Fe3+、Fe2+、Ru3+、Ru2+、Os3+、Os2+、Co3+、Co2+、Ni2+、Ni+、Pd2+、Pd+、Pt2+、Pt+、Cu2+、Cu+、Ag+、Au+、Zn2+、Al3+、Ga3+、In3+、Si4+、Si2+、Ge4+、Ge2+、Sn4+、Sn2+、Bi5+、Bi3+、Cd2+、Mn2+、Tb3+、Gd3+、Ce3+、La3+、およびCr4+、ならびにそれらの組み合わせから選択される、請求項32に記載の材料。
- 前記汚染物質は、酸、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせが例として挙げられる、1つまたは複数の気体化合物を含む、請求項32に記載の材料。
- 前記半導体用ガスは、アンモニア、アルシン、三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素、硫化カルボニル、塩素、重水素、ジボラン、ジクロロシラン、ジクロロシラン、ジフルオロメタン、ジシラン、フッ素、ゲルマン、四フッ化ゲルマニウム、ヘキサフルオロエタン、臭化水素、塩化水素、フッ化水素、セレン化水素、テルル化水素、硫化水素、フッ化メチル、メチルシラン、ネオン、有機窒素化合物、三フッ化窒素、ペルフルオロプロパン、ホスフィン、シラン、四塩化ケイ素、テトラフルオロメタン、テトラメチルシラン、四フッ化ケイ素、スチビン、六フッ化硫黄、トリクロロシラン、トリフルオロメタン、トリメチルシラン、六フッ化タングステン、アセチレン、有機金属ガス状試薬、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項32に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、高温、減圧下、またはそれらの組み合わせで、吸着した汚染物質を放出することができる、請求項32に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPの汚染物質に対する取り込み能は、高温、減圧下、またはそれらの組み合わせで、少なくとも部分的に再生される、請求項44に記載の材料。
- 前記MOF材料または前記POP材料は、半導体用ガス流が前記MOF材料または前記POP材料と接触して通過する容器内に備えられ、前記半導体用ガス流から前記汚染物質を実質的に除去し、かつ前記半導体用ガスの純度を高める、請求項32に記載の材料。
- 前記容器から注出される前記半導体用ガスが含有する、酸、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせを含む微量汚染物質は、1ppm未満である、請求項46に記載の材料。
- 前記容器から注出される前記半導体用ガスは、酸、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせを含む微量汚染物質を100ppb未満で含む、請求項46に記載の材料。
- 前記容器から注出される前記半導体用ガスは、酸、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせを含む微量汚染物質を10ppb未満で含む、請求項46に記載の材料。
- 前記容器から注出される前記半導体用ガスは、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせを含む微量汚染物質を1ppb未満で含む、請求項46に記載の材料。
- 前記容器から注出される前記半導体用ガスは、酸、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせを含む微量汚染物質を100ppt未満で含む、請求項46に記載の材料。
- 前記容器から注出される前記半導体用は、酸、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせを含む微量汚染物質を10ppt未満で含む、請求項46に記載の材料。
- 前記容器から注出される前記半導体用ガスは、酸、アンモニア、アミン、アルコール、二酸化炭素、一酸化炭素、炭化水素、水素、硫化水素、酸化窒素、酸素、シロキサン、二酸化硫黄、酸化硫黄、水蒸気、およびそれらの組み合わせを含む微量汚染物質を1ppt未満で含む、請求項46に記載の材料。
- 前記MOF材料または前記POP材料は、前記半導体用ガス中の前記汚染物質との反応性または前記半導体用ガス中の前記汚染物質に対する吸着親和性を付与して前記半導体用ガスの純度を高めるよう選択される他の材料と共に、多重床内に備えられる、請求項46に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、ペレット、ディスク、またはモノリシック体に形成される、請求項46に記載の材料。
- 請求項32に記載のMOFまたはPOPで充填された容器、
半導体製造装置、および
前記容器と前記半導体製造装置の入口を接続する導管を含む、システム。 - 前記MOFまたは前記POPは、床中に構成される、請求項56に記載のシステム。
- 前記半導体製造装置は、化学蒸着装置、原子層堆積装置、またはイオン注入装置の少なくとも1つを含む、請求項56に記載のシステム。
- 各金属クラスターが1つまたは複数の金属イオンを含む複数の金属クラスターと、隣接する金属クラスターを接続する複数の多座有機配位子との配位生成物であって、前記金属イオン、および前記有機配位子は、炭化水素流中の微量水銀汚染物質との反応性または炭化水素流中の微量水銀汚染物質に対する吸着親和性を付与して、前記水銀汚染物質を実質的に除去し、かつ前記炭化水素流の純度を高めるよう選択される、配位生成物を含む金属有機構造体(MOF)、または
少なくとも複数の有機単量体由来の重合生成物であって、前記有機単量体は、炭化水素流中の微量水銀汚染物質との反応性または炭化水素流中の微量水銀汚染物質に対する吸着親和性を付与して、前記水銀汚染物質を実質的に除去し、かつ前記炭化水素流の純度を高めるよう選択される、重合生成物を含む多孔質有機高分子(POP)
を含む、炭化水素流から水銀を除去するために構成される材料。 - 前記有機配位子の少なくとも1つは、セレン、テルル、およびそれらの組み合わせから選択されるカルコゲンを少なくとも1つ含有する、請求項59に記載の材料。
- 前記有機配位子の少なくとも1つは、1つ以下のカルボキシ基、ならびに硫黄、セレン、テルル、およびそれらの組み合わせから選択される少なくとも1つのカルコゲンを含む、請求項59に記載の材料。
- 前記有機配位子の少なくとも1つは、チオグリコール酸前駆体、チオグリコール酸塩、およびそれらの組み合わせを用いて生成される、請求項61に記載の材料。
- 前記MOFは、少なくとも1つのZr4+金属イオンを含み、前記有機配位子の少なくとも1つは、チオグリコール酸前駆体を用いて生成され、かつ少なくとも1つの有機配位子は、1つ以下のカルボキシ基を含み、かつ硫黄、セレン、テルル、およびそれらの組み合わせから選択されるカルコゲンを含有する、請求項61に記載の材料。
- 前記有機配位子の少なくとも1つは、チオグリコール酸前駆体、チオグリコール酸塩、およびそれらの組み合わせを用いて生成される、請求項63に記載の材料。
- 有機配位子を組み込むことにより、硫黄含有量は、前記MOFまたは前記POPの2から22重量パーセントとなる、請求項63に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、Brunauer−Emmett−Teller(BET)法で規定される、重量法による表面積が800から2000m2/gの範囲内となることを特徴とする、請求項63に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPの水銀取り込み能は、前記MOFまたは前記POPの0.5から15重量パーセントである、請求項63に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、水銀蒸気にさらされ、Brunauer−Emmett−Teller(BET)法で規定される、重量法による表面積が500から2000m2/gの範囲内となることを特徴とする多孔質材料をもたらす、請求項63に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、水銀と共にアマルガムを形成可能な化学種を包接する、請求項59に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPの、吸着する水銀の最大量と包接される化学種の総量の間の原子比率は、0.2から1.0の範囲内となる、請求項69に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、吸着した水銀を高温で放出し、炭化水素流から微量水銀を除去する目的で、水銀取り込み能を再生することができる、請求項69に記載の材料。
- 包接される前記化学種の少なくとも1つは、アルミニウム、バリウム、銅、インジウム、金、カリウム、銀、ナトリウム、ストロンチウム、ルビジウム、錫、亜鉛、およびそれらの組み合わせから成る群から選択されるが、それらに限定されない金属である、請求項69に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、酸化、還元、およびそれらの組み合わせから構成される反応機構を通して水銀と反応する、請求項59に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、酸化、還元、およびそれらの組み合わせから構成される反応機構を通して水銀と反応可能な化学種を包接する、請求項59に記載の材料。
- 前記化学種は、硫黄、セレン、テルル、およびそれらの組み合わせからなる群から選択されるカルコゲンである、請求項74に記載の材料。
- 前記MOFは、少なくとも1つのZr4+金属イオンを含み、前記有機配位子の少なくとも1つは、テレフタル酸前駆体を用いて生成され、かつ水銀と共にアマルガムを形成可能な銀を包接する、請求項75に記載の材料。
- 前記MOFは、銀含有量が前記MOFの5から20重量パーセントであることを特徴とする、請求項76に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、Brunauer−Emmett−Teller(BET)法で規定される、重量法による表面積が600から2000m2/gの範囲内となることを特徴とする、請求項76に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPの水銀取り込み能は、前記MOFまたは前記POPの、少なくとも5重量パーセントである、請求項76に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、水銀蒸気にさらされ、Brunauer−Emmett−Teller(BET)法で規定される、重量法による表面積が500から2000m2/gの範囲内となることを特徴とする多孔質材料をもたらす、請求項76に記載の材料。
- 銀は、前駆体MOFと銀溶液の合成後反応を通してMOF内に包接される、請求項76に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、硫黄と反応可能な化学種を包接する、請求項59に記載の材料。
- 前記化学種の少なくとも1つは、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、スカンジウム、イットリウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、レニウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀、金、亜鉛、カドミウム、水銀、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム、錫、鉛、ビスマス、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される金属を含む金属酸化物である、請求項82に記載の材料。
- 前記MOF材料または前記POP材料は、炭化水素流が前記MOF材料と接触して通過する容器内に備えられ、前記炭化水素流から前記水銀汚染物質を実質的に除去し、かつ前記炭化水素流の純度を高める、請求項59に記載の材料。
- 前記MOFまたは前記POPは、ペレット、ディスク、またはモノリシック体に形成される、請求項59に記載の材料。
- 各金属クラスターが少なくとも1つのZr4+金属イオンを含む複数の金属クラスターの配位生成物を含む金属有機構造体(MOF)であって、有機配位子の少なくとも1つは、チオグリコール酸前駆体を用いて生成され、かつ他の有機配位子の少なくとも1つは、チオグリコール酸前駆体、チオグリコール酸塩、およびそれらの組み合わせを用いて生成される、金属有機構造体。
- 各金属クラスターが少なくとも1つのZr4+金属イオンを含む複数の金属クラスターの配位生成物を含む金属有機構造体(MOF)であって、有機配位子の少なくとも1つは、チオグリコール酸前駆体を用いて生成され、かつ前記MOFは、その細孔内に銀を包接する、金属有機構造体。
- 請求項59に記載のMOFまたはPOPで充填された容器、
前記容器へ、水銀で汚染された炭化水素流を含む流入流を供給するよう構成される流入路、および
前記容器から、前記流入流よりも水銀濃度の低い流出炭化水素流を提供するよう構成される流出路
を含む、炭化水素流から水銀を除去するシステム。 - 前記MOFまたは前記POPは、床中に存在する、請求項88に記載のシステム。
- 半導体ガス含有流出物中の半導体ガスを低減するか、または半導体ガス含有流出物から半導体ガスを除去する方法であって、
半導体製造装置から、請求項1に記載の材料を通過するよう前記半導体ガス流出物を流し、前記半導体ガスを前記材料上に吸着させる工程を含む、方法。 - 請求項32に記載の材料を通過するよう不純な半導体ガスを流し、不純物を前記材料上に吸着させる工程、および精製された半導体用ガスを半導体製造装置に提供する工程を含む、半導体ガスを精製する方法。
- 請求項59に記載の材料を通過するよう水銀含有炭化水素流を流し、前記水銀を前記材料上に吸着させる工程、および精製された炭化水素流を提供する工程を含む、炭化水素流から水銀を除去する方法。
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