JP2018207032A - ウエーハの加工方法及び加工装置 - Google Patents
ウエーハの加工方法及び加工装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018207032A JP2018207032A JP2017113375A JP2017113375A JP2018207032A JP 2018207032 A JP2018207032 A JP 2018207032A JP 2017113375 A JP2017113375 A JP 2017113375A JP 2017113375 A JP2017113375 A JP 2017113375A JP 2018207032 A JP2018207032 A JP 2018207032A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- size
- holding
- cassette
- robot hand
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 23
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 545
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 39
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 26
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 238000003708 edge detection Methods 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 241000021559 Dicerandra Species 0.000 description 1
- 235000010654 Melissa officinalis Nutrition 0.000 description 1
- JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N [3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-ylmethyl)-1-oxa-2,8-diazaspiro[4.5]dec-2-en-8-yl]-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]methanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CC1=NOC2(C1)CCN(CC2)C(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F JAWMENYCRQKKJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000865 liniment Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Constituent Portions Of Griding Lathes, Driving, Sensing And Control (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
棚110の底の中央領域は、+Z方向から見た場合に後述するロボットハンド200の外形と同じ平面形状で切り欠かれており、この切り欠かれた領域はロボットハンド200が進入可能な進入路110bとなっている。
例えば、図2に示すように、ロボットハンド200のウエーハ保持面である表面200aの先端側には、カセット進入時にウエーハの外周縁を検出するウエーハ外周縁検出センサ200bが配設されている。ウエーハ外周縁検出センサ200bは、たとえば、反射型光電センサであり、棚110に収容されたウエーハに対して下方から測定光を投光する投光部200cと、ウエーハで反射した反射光を受光する受光部200dとを備えている。
例えば、X軸方向移動手段202は、台部202dに沿ってX軸方向に延在する図示しないスケールと、可動部202cに固定されこのスケールに沿って可動部202cと共に移動しスケールの目盛りを読み取る図示しない読み取り部とを備えている。読み取り部は、スケールに形成された目盛りの反射光を読み取る光学式のものであり、ロボットハンド200が図1に示す第1のカセット11の開口11eに進入すると作動し、スケールの目盛りから可動部202cのX軸方向における移動距離、換言すれば、ロボットハンド200の第1のカセット11内でのX軸方向における位置情報を検出できる。
棚111の底の中央領域は、+Z方向から見た場合に後述するロボットハンド201の外形と同じ平面形状で切り欠かれており、この切り欠かれた領域はロボットハンド201が進入可能な進入路111dとなっている。
ロボットハンド201の表面201aの先端側には、表面201aに吸引力を伝達する吸引孔201eが開口している。吸引孔201eは、例えば、ロボットハンド201の内部を水平に延びるように形成された吸引路201fに連通しており、この吸引路201fは吸引源209に接続されている。ロボットハンド201の表面201aの端部(稜線)にはウエーハを傷付けないための面取りが施されていてもよい。
円板272は複数(図4においては6個)のアーム273の各一端をそれぞれ支持し、各アーム273は水平面上を旋回可能となっている。各アーム273の根元の枢軸273aは、円板272と同じ中心で周方向に等間隔を空けて位置するようにしてある。
仮置きテーブル21と位置合わせ機構27とは、図5に示すように一体になった状態で、図1に示すベース10に設置されている。
以下に、上記加工装置1を用いて本発明に係るウエーハの加工方法を実施する場合の、加工方法の各ステップについて説明する。
図1に示す第1のカセット11内には、図2に示す棚110が複数段配設されており、各棚110には、それぞれ、5インチのウエーハW5、6インチのウエーハW6、又は8インチのウエーハW8のいずれか1枚が収容されている。即ち、第1のカセット11には、複数の異なる3サイズのウエーハが混在して棚状に収納されている。
本実施形態においては、ウエーハのサイズを認識するサイズ認識工程を搬出工程に並行して実施するが、これに限定されるものではなく、搬出工程の開始から後述する保持工程の開始までの間に実施されればよい。
実施例1のサイズ認識手段7Aが棚110に収容されているウエーハのサイズを認識すると、例えば、ウエーハのサイズについての情報がX軸方向移動手段202にフィードバックされる。該情報を受けたX軸方向移動手段202によるロボットハンド200の移動距離の制御がなされ、例えば、ロボットハンド200の吸引孔200eとウエーハの中心とが略合致する位置までロボットハンド200がさらに−X方向へ送られた後停止する。即ち、棚110に収容されているウエーハが5インチウエーハW5であると認識された場合には、図11に示すように、ロボットハンド200の吸引孔200eと5インチウエーハW5の中心とが略合致する位置までロボットハンド200がさらに−X方向へ送られた後停止し、棚110に収容されているウエーハが6インチウエーハW6であると認識された場合には、図12に示すように、ロボットハンド200の吸引孔200eと6インチウエーハW6の中心とが略合致する位置までロボットハンド200がさらに−X方向へ送られた後停止し、棚110に収容されているウエーハが8インチウエーハW8であると認識された場合には、図13に示すように、ロボットハンド200の吸引孔200eと8インチウエーハW8の中心とが略合致する位置までロボットハンド200がさらに−X方向へ送られた後停止する。即ち、ウエーハのサイズ毎にロボットハンド200の停止位置が決まっている。
上記のようにサイズ認識工程が実施された後、認識されたウエーハサイズに応じてウエーハを保持する保持面を有する図1に示す保持テーブル30の保持面の面積が変更される。本実施形態においては、サイズ認識工程で認識されたウエーハのサイズは、例えば6インチであり、ロボット20により第1のカセット11から6インチウエーハW6が搬出された状態となっている。
図1に示すロボット20が、第1のカセット11から搬出した6インチウエーハW6を仮置きテーブル21に移動させる。次いで、図5に示す位置合わせ機構27によって、仮置きテーブル21上の6インチウエーハW6が所定の位置に位置決めされる。次に、搬入アーム機構22が、仮置きテーブル21上の6インチウエーハW6を吸着パッド220で吸着保持する。さらに、搬入アーム機構22のアーム移動手段222が、吸着パッド220で吸着保持されている6インチウエーハW6の中心が保持テーブル30の中心と略合致する位置まで、吸着パッド220を旋回移動させる。さらに、吸着パッド220が降下し、保持テーブル30の保持面、即ち、本実施形態においては図6に示す吸引領域300a及び吸引領域300bからなる保持面上に6インチウエーハW6が載置される。
次いで、6インチウエーハW6を吸引保持した保持テーブル30が、図1に示す搬入出領域Aから加工領域B内の加工手段15の下まで+X方向へ移動する。また、モータ152が回転軸150を回転駆動し、これに伴って加工具154も回転する。加工手段15が加工送り手段17により−Z方向へと送られ、回転する研削砥石154aが6インチウエーハW6に当接し研削を開始する。そして、保持テーブル30が回転するのに伴って、保持テーブル30で保持された6インチウエーハW6も回転するので、研削砥石154aが6インチウエーハW6の被研削面全面の研削加工を行う。また、研削水が研削砥石154aと6インチウエーハW6との接触部位に対して供給され、接触部位が冷却・洗浄される。
以下に、図1に示す加工装置1を用いて本発明に係るウエーハの加工方法を実施する場合の、加工方法の各ステップについて説明する。
図1に示す第1のカセット11内には、図3に示す棚111が複数段配設されており、各棚111には、それぞれ、5インチウエーハW5、6インチウエーハW6、又は8インチウエーハW8がいずれか1枚が収容されている。即ち、第1のカセット11には、複数の異なる3サイズのウエーハが混在して棚状に収納されている。また、図1に示すロボット20は、ロボットハンド200ではなく図3に示すロボットハンド201を備えている。
本実施形態においては、ウエーハのサイズを認識するサイズ認識工程を搬出工程に並行して実施する。
同様に、棚111に収容されているウエーハが6インチウエーハW6である場合においても、図16、17に示すようにロボットハンド201が6インチウエーハW6を吸引保持すると、Z軸方向移動手段203からその時点におけるロボットハンド201の高さ位置についての情報が、実施例2のサイズ認識手段7Bに送信される。また、棚111に収容されているウエーハが8インチウエーハW8である場合においても、図18、19に示すようにロボットハンド201が8インチウエーハW8を吸引保持すると、Z軸方向移動手段203からその時点におけるロボットハンド201の高さ位置についての情報が、実施例2のサイズ認識手段7Bに送信される。
図3に示すロボットハンド201が、棚111に1枚収容されている5インチウエーハW5〜8インチウエーハW8の内のいずれかのウエーハの中心と吸引孔201eとが略合致した位置に位置付けられた後、吸引源209が作動し、ロボットハンド201がウエーハを吸引保持可能な状態になる。次いで、Z軸方向移動手段203がロボットハンド201を上昇させて、例えば、図14及び図15に示す5インチウエーハW5の下面にロボットハンド201の表面201aを接触させ、ロボットハンド201による5インチウエーハW5の吸引保持がなされる。
棚111に収容されているウエーハが6インチウエーハW6である場合には、図16に示すように、ロボットハンド201がウエーハを吸引保持した状態において、6インチ用ウエーハ検出センサ201hの上方もウエーハによって遮られた状態となるため、6インチ用ウエーハ検出センサ201hが反応して、検出信号を実施例3のサイズ認識手段7Cに送信する。そして、実施例3のサイズ認識手段7Cは、棚111に収容されているウエーハが6インチウエーハW6であると認識する。
棚111に収容されているウエーハが8インチウエーハW8である場合には、図18に示すように、ロボットハンド201がウエーハを吸引保持した状態において、8インチ用ウエーハ検出センサ201iの上方もウエーハによって遮られた状態となるため、8インチ用ウエーハ検出センサ201iが反応して、検出信号を実施例3のサイズ認識手段7Cに送信する。そして、実施例3のサイズ認識手段7Cは、棚111に収容されているウエーハが8インチウエーハW8であると認識する。
実施例2のサイズ認識手段7B又は実施例3のサイズ認識手段7Cによって、棚111に収容されているウエーハのサイズが認識された後、ウエーハが棚111内から搬出される。例えば、図14に示す5インチウエーハW5を吸引保持したロボットハンド201が+X方向に移動し、5インチウエーハW5がロボット20により第1のカセット11の内部から搬出される。棚111に収容されているウエーハが6インチウエーハW6である場合においても同様に、図16に示す6インチウエーハW6を吸引保持したロボットハンド201が+X方向に移動し、6インチウエーハW6がロボット20により第1のカセット11の内部から搬出される。棚111に収容されているウエーハが8インチウエーハW8である場合においても同様に、図18に示す8インチウエーハW8を吸引保持したロボットハンド201が+X方向に移動し、8インチウエーハW8がロボット20により第1のカセット11の内部から搬出される。
上記のようにサイズ認識工程が実施された後、実施例2のサイズ認識手段7B又は実施例3のサイズ認識手段7Cによって認識されたウエーハサイズに応じて、ウエーハを保持する保持面を有する図6に示す保持テーブル30の保持面の面積が変更される。即ち、実施例2のサイズ認識手段7B又は実施例3のサイズ認識手段7Cからウエーハのサイズについての情報を受けた保持面面積変更手段8が、実施形態1のウエーハ加工方法における保持面面積変更工程と同様に、保持テーブル30の保持面の面積をウエーハサイズに応じた面積に変更する。
さらに、保持工程及び加工工程が、実施形態1のウエーハ加工方法における保持工程及び加工工程と同様に実施される。
以下に、図1に示す加工装置1を用いて本発明に係るウエーハの加工方法を実施する場合の、加工方法の各ステップについて説明する。
図1に示す第1のカセット11内には、例えば図2に示す棚110が複数段配設されており、各棚110には、それぞれ、5インチウエーハW5、6インチウエーハW6、又は8インチウエーハW8が1枚収容されている。即ち、第1のカセット11には、複数の異なる3サイズのウエーハが混在して棚状に収納されている。
本実施形態においては、ウエーハのサイズを認識するサイズ認識工程を搬出工程実施後に行う。また、サイズ認識手段は、例えば、図4、5に示すロータリエンコーダ276dに電気的に接続されており、ロータリエンコーダ276dからサイズ認識手段に送出されるモータ276aの回転数についての情報(パルス信号)から、ウエーハのサイズを認識することができる構成となっている。以下、本構成のサイズ認識手段7を、図4,5に示す実施例4のサイズ認識手段7Dとする。
そして、実施例4のサイズ認識手段7Dは、仮置きテーブル21上でウエーハの中心位置合わせがされた時点におけるパルス信号の計数(モータ276aの回転数)から、第1のカセット11から搬出されたウエーハがどのサイズのウエーハであるかを認識する。
上記のようにサイズ認識工程が実施された後、実施例4のサイズ認識手段7Dによって認識されたウエーハサイズに応じて、ウエーハを保持する保持面を有する保持テーブル30の保持面の面積が変更される。即ち、実施例4のサイズ認識手段7Dからウエーハのサイズについての情報を受けた保持面面積変更手段8が、実施形態1のウエーハ加工方法における保持面面積変更工程と同様に、保持テーブル30の保持面の面積をウエーハサイズに応じた面積に変更する。
さらに、保持工程及び加工工程が、実施形態1のウエーハ加工方法における保持工程及び加工工程と同様に実施される。
ウエーハサイズ認識テーブル4は、例えば、平面視で正方形状に形成された基台40と、基台40の中央領域に立設されたウエーハ載置部41と、基台40の上面に立設された2本の円柱状の第1固定ピン42A及び2本の円柱状の第2固定ピン42Bとを備えている。また、基台40上には、基台40の−X方向側の角から基台40の略中央まで直動移動可能な円柱状の突き当てピン43が配設されている。
突き当てピン43は、ボールネジ及びモータ等からなる突き当てピン進退手段44によってX軸方向に往復移動可能となっており、突き当てピン進退手段44は、X軸方向における突き当てピン43の進退位置を検出可能としている。
図1に示すロボット20が、ウエーハサイズ認識テーブル4のウエーハ載置部41上に第1のカセット11から搬出したウエーハを載せ、その後、ロボット20がウエーハサイズ認識テーブル4上から離間する。
実施例7のサイズ認識手段7Eは、ウエーハの上記スライド移動が停止するまでの突き当てピン43の移動距離から、第1のカセット11から搬出されウエーハ載置部41上に載置されたウエーハがどのサイズのウエーハであるかを認識する。
11:第1のカセット 11a:底板 11b:天板 11c:背板 11d:側板 11e:開口 131:第1のカセットステージ
12:第2のカセット 132:第2のカセットステージ
110:棚 110a:ウエーハ収容部 110b:進入路
111:棚 111a:5インチウエーハ用収容部 111b:6インチウエーハ用収容部 111c:8インチウエーハ用収容部 111d:進入路
2:搬入手段
20:ロボット
200:ロボットハンド 200a:表面 200b:ウエーハ外周縁検出センサ
200e:吸引孔 200f:吸引路 209:吸引源
202:X軸方向移動手段 202a:ホルダ 202b:ケーシング 202c:可動部 202d:台部 7A:実施例1のサイズ認識手段 8:保持面面積変更手段
201:ロボットハンド 201a:ロボットハンドの表面 201e:吸引孔 201f:吸引路
203:Z軸方向移動手段 203a:ホルダ
7B:実施例2のサイズ認識手段 7C:実施例3のサイズ認識手段
21:仮置きテーブル 210:台 219:プレート
27:位置合わせ機構 270:基台 272:円板 273:アーム 274:接触ピン 276:円板回転手段 276a:モータ 276d:ロータリエンコーダ 7D:実施例4のサイズ認識手段
22:搬入アーム機構 220:吸着パッド 221:アーム 222:アーム移動手段
16:搬出アーム機構 18:洗浄手段 19:厚み測定手段
15:加工手段 150:回転軸 151:ハウジング 152:モータ 153:マウント 154:加工具 154b:ホイール基台 154a:研削砥石
17:加工送り手段170:ボールネジ 171:ガイドレール 172:モータ 173:昇降板 174:ホルダ
30:保持テーブル 300:吸着部 301:枠体 300a〜300c:吸引領域 304a〜304c:ソレノイドバルブ 37:吸引源 39:カバー
4:ウエーハサイズ認識テーブル 40:基台 41:ウエーハ載置部 43:突き当てピン 42A:第1固定ピン 42B:第2固定ピン 44:突き当てピン進退手段
7E:実施例7のサイズ認識手段
Claims (2)
- サイズの異なる略円形のウエーハを加工するウエーハの加工方法であって、
異なるサイズの複数のウエーハを混在させ棚状に収納したカセットからウエーハを搬出する搬出工程と、
ウエーハのサイズを認識するサイズ認識工程と、
該サイズ認識工程で認識したウエーハサイズに応じてウエーハを保持する保持面を有する保持テーブルの該保持面の面積を変更する保持面面積変更工程と、
該保持面面積変更工程で変更された面積の該保持面でウエーハを吸引保持する保持工程と、
該保持テーブルが吸引保持したウエーハを加工具が装着された加工手段で加工する加工工程と、を備えるウエーハの加工方法。 - 請求項1記載のウエーハの加工方法を可能にする加工装置であって、
異なるサイズの複数のウエーハを混在させ棚状に収納したカセットが載置されるカセットステージと、ウエーハの各サイズに応じて面積を変更可能な保持面を有する保持テーブルと、ウエーハのサイズを認識するサイズ認識手段と、該保持テーブルの保持面の面積を該サイズ認識手段が認識したウエーハのサイズに応じて変更する保持面面積変更手段と、該カセットステージに載置した該カセットからウエーハを搬出して該保持テーブルに搬入する搬入手段と、を備える加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017113375A JP7045140B2 (ja) | 2017-06-08 | 2017-06-08 | ウエーハの加工方法及び加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017113375A JP7045140B2 (ja) | 2017-06-08 | 2017-06-08 | ウエーハの加工方法及び加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018207032A true JP2018207032A (ja) | 2018-12-27 |
JP7045140B2 JP7045140B2 (ja) | 2022-03-31 |
Family
ID=64958186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017113375A Active JP7045140B2 (ja) | 2017-06-08 | 2017-06-08 | ウエーハの加工方法及び加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7045140B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020138286A (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-03 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP2020183004A (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP2020185624A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
CN112420593A (zh) * | 2020-11-10 | 2021-02-26 | 芯米(厦门)半导体设备有限公司 | 多尺寸基板晶圆装载机构 |
CN112542411A (zh) * | 2019-09-20 | 2021-03-23 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07326657A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Korea Electron Telecommun | 半導体の製造装備のウエハ装着のカセット |
US5711647A (en) * | 1994-10-17 | 1998-01-27 | Aesop, Inc. | Method of and apparatus for locating and orientating a part on a gripper and transferring it to a tool while maintaining location and orientation on the tool |
JP2000040736A (ja) * | 1998-07-23 | 2000-02-08 | Seiko Epson Corp | ウェハ収納装置 |
JP2000183131A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 基板のアンロ―ディング装置及びアンロ―ディング方法 |
JP2001024051A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着パッド |
JP2002154648A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板カセット |
JP2003059872A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
JP2003186181A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Jeol Ltd | マスク板載置台及びマスク板判別装置 |
JP2006222132A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置,被加工物保持部のサイズ判別方法 |
JP2009164226A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板の芯合わせ方法 |
JP2011096843A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-05-12 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | ウェーハ搬送装置及びウェーハサイズの判別方法 |
JP2011228616A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Daihen Corp | 基板搬送ロボット |
JP2015170689A (ja) * | 2014-03-06 | 2015-09-28 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
-
2017
- 2017-06-08 JP JP2017113375A patent/JP7045140B2/ja active Active
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07326657A (ja) * | 1994-05-31 | 1995-12-12 | Korea Electron Telecommun | 半導体の製造装備のウエハ装着のカセット |
US5711647A (en) * | 1994-10-17 | 1998-01-27 | Aesop, Inc. | Method of and apparatus for locating and orientating a part on a gripper and transferring it to a tool while maintaining location and orientation on the tool |
JP2000040736A (ja) * | 1998-07-23 | 2000-02-08 | Seiko Epson Corp | ウェハ収納装置 |
JP2000183131A (ja) * | 1998-12-16 | 2000-06-30 | Samsung Electronics Co Ltd | 基板のアンロ―ディング装置及びアンロ―ディング方法 |
JP2001024051A (ja) * | 1999-07-09 | 2001-01-26 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着パッド |
JP2002154648A (ja) * | 2000-11-15 | 2002-05-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 基板カセット |
JP2003059872A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
JP2003186181A (ja) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Jeol Ltd | マスク板載置台及びマスク板判別装置 |
JP2006222132A (ja) * | 2005-02-08 | 2006-08-24 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置,被加工物保持部のサイズ判別方法 |
JP2009164226A (ja) * | 2007-12-28 | 2009-07-23 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板の芯合わせ方法 |
JP2011096843A (ja) * | 2009-10-29 | 2011-05-12 | Hitachi High-Tech Control Systems Corp | ウェーハ搬送装置及びウェーハサイズの判別方法 |
JP2011228616A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-11-10 | Daihen Corp | 基板搬送ロボット |
JP2015170689A (ja) * | 2014-03-06 | 2015-09-28 | 株式会社ディスコ | 切削装置 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020138286A (ja) * | 2019-02-28 | 2020-09-03 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP7201478B2 (ja) | 2019-02-28 | 2023-01-10 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP2020183004A (ja) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP7221785B2 (ja) | 2019-05-08 | 2023-02-14 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP2020185624A (ja) * | 2019-05-10 | 2020-11-19 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP7254611B2 (ja) | 2019-05-10 | 2023-04-10 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
CN112542411A (zh) * | 2019-09-20 | 2021-03-23 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置 |
JP2021048359A (ja) * | 2019-09-20 | 2021-03-25 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
JP7324667B2 (ja) | 2019-09-20 | 2023-08-10 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置 |
US11948823B2 (en) | 2019-09-20 | 2024-04-02 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate treating apparatus |
CN112542411B (zh) * | 2019-09-20 | 2024-09-27 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理装置 |
CN112420593A (zh) * | 2020-11-10 | 2021-02-26 | 芯米(厦门)半导体设备有限公司 | 多尺寸基板晶圆装载机构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7045140B2 (ja) | 2022-03-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7045140B2 (ja) | ウエーハの加工方法及び加工装置 | |
JP5484821B2 (ja) | 検出方法 | |
TWI463576B (zh) | 用於將半導體晶片置放在基板之設備 | |
JP2009123790A (ja) | 研削装置 | |
JP2006021264A (ja) | 研削装置 | |
JP5436876B2 (ja) | 研削方法 | |
US11945074B2 (en) | Processing apparatus | |
JP2010034249A (ja) | 半導体ウエーハの加工装置 | |
JP5117686B2 (ja) | 研削装置 | |
CN108573889B (zh) | 晶片的起伏检测方法和磨削装置 | |
JP4861061B2 (ja) | ウエーハの外周部に形成される環状補強部の確認方法および確認装置 | |
JP5554601B2 (ja) | 研削装置 | |
JP2002270674A (ja) | 搬出装置 | |
JP6574373B2 (ja) | 円板状ワークの研削方法 | |
JP2009302369A (ja) | 板状物の加工方法及び加工装置 | |
CN113199353B (zh) | 加工装置 | |
JP5473715B2 (ja) | ウエーハ搬送機構の調整方法 | |
JP2011218477A (ja) | 加工装置 | |
JP6192527B2 (ja) | 研削装置 | |
JP2015217449A (ja) | 研削装置 | |
JP7271181B2 (ja) | 診断方法 | |
JP7563898B2 (ja) | 透明部材又は半透明部材を貼り合わせた貼り合わせワークの研削方法、及び貼り合わせワークの研削装置 | |
JP2021132181A (ja) | 加工装置 | |
JP2023122739A (ja) | 搬送装置 | |
JP2024000153A (ja) | 加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200406 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210419 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210930 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220222 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220318 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7045140 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |