JP2018204106A - 真空蒸着装置及びそれを用いたデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】真空チャンバーを構成する面の変形による垂直方向の荷重が大気アーム部に及ぼす影響を低減する。【解決手段】本発明は、被蒸着体に対する蒸着工程が行われる蒸着空間を定義し、真空状態で維持できる真空チャンバーと、前記真空チャンバー内に移動可能に設置され、前記被蒸着体に蒸着される蒸着物質が収容される蒸発源を含む蒸発源ユニットと、前記真空チャンバーを構成する面と前記蒸発源ユニットの間に配置されて、一端部が前記蒸発源ユニットに回動可能に連結され、他端部が前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される回転移動部を含み、前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される前記回転移動部の前記他端部は、前記真空チャンバーを構成する面において、前記真空チャンバーを構成する面に対して相対変位可能に連結される真空蒸着装置を提供する。【選択図】図３

Description

本発明は真空蒸着装置及びそれを用いてデバイスを製造する方法に関するものであり、具体的には、真空チャンバー内の蒸発源ユニットに対して真空チャンバーの外部から連結される電気的配線や配管などを収容する回転移動部を、真空チャンバーを構成する面と接続させるための接続構造に関するものである。

最近、フラットパネルディスプレイとして有機電界発光ディスプレイ（ＯＬＥＤ）が脚光を浴びている。有機電界発光ディスプレイは自発光ディスプレイで、応答速度、視野角、薄型化などの特性が液晶パネルディスプレイより優れており、モニタ、テレビ、スマートフォンに代表される各種の携帯端末などで、既存の液晶パネルディスプレイを急速に代替している。また、自動車用のディスプレイ等にも、その応用分野が広がっている。

有機電界発光ディスプレイは、２つの向かい合う電極（カソード電極、アノード電極）の間に発光を起こす有機物層が形成された基本構造を有し、有機電界発光ディスプレイの有機物層は、真空状態の真空チャンバー内で蒸発源に収容されている蒸着物質を蒸発させて真空チャンバー内の被蒸着体に蒸着させることで形成される。有機物質の蒸着に使用されるこのような真空蒸着装置においては、真空チャンバー内の蒸発源を含む蒸発源ユニットに含まれた各種部品及び装置に電源を供給するための配線及び配管（蒸発源を冷却させるための冷却水配管など）が、真空チャンバーの外部から連結されなければならない。

このため、従来技術においては、真空チャンバーを構成する底面と蒸発源ユニットの間に大気アーム部を設けていた。大気アーム部は２つのアーム（第１のアーム及び第２のアーム）で構成され、第１のアームは真空チャンバーを構成する底面に回動可能に連結され、第２のアームは蒸発源ユニットに回動可能に連結される。第１のアームと第２のアームも回動可能に連結される。大気アーム部の内部は各種の配線及び配管が通る中空部となっており、その内部を大気圧状態に維持するために、特許文献１及び２に開示されたように、各連結部、つまり、第１のアームと真空チャンバーを構成する底面間の連結部、第１のアームと第２のアームの連結部及び第２のアームと蒸発源ユニット間の連結部は、真空チャンバー内部の真空をシール（ｓｅａｌ）する磁性流体シールによって接続される。

韓国公開特許第１０−２００９−０１３０５５９号公報 韓国登録特許第１０−１６６５３８０号公報

真空蒸着装置において、有機物の蒸着を行うため真空チャンバーの内部を減圧状態にすると、真空チャンバーを構成する面が真空チャンバー内外の圧力差によって変形される問題がある。

従来の真空蒸着装置においては、大気アーム（真空チャンバーを構成する面側に接続される第１のアーム）が、磁性流体シールを通じて真空チャンバーを構成する面に固定されているため、真空チャンバー内部を真空排気する時に、真空チャンバーを構成する面に変形がおこると、その変形力が大気アームと真空チャンバーを構成する面との間である連結部にそのまま伝えられていた。すなわち、真空排気時の真空チャンバーの変形力は主に真
空チャンバーを構成する面に対して垂直な方向に発生するが、大気アームと真空チャンバーを構成する底面とがお互い固定されるよう連結されていたため、真空チャンバーを構成する底面に垂直方向の変形力が大きく作用した場合、その変形力が大気アームの各連結部にそのまま伝えられ、大気アームの各連結部に真空シールのため設けられていた磁性流体シールが破損したり、寿命が短縮され、また、大気アームの回転時に振動が発生したり、騒音が発生する場合があった。

本発明の目的は、真空チャンバーを構成する面の変形による垂直方向の荷重が大気アーム部に及ぼす影響を低減し、大気アーム部と真空チャンバーを構成する面との間の連結部の磁性流体シールの破損や寿命が短縮される問題を防止する真空蒸着装置を提供することである。

本発明の一様態による真空蒸着装置は、被蒸着体に対する蒸着が行われる真空チャンバーと、前記真空チャンバー内に移動可能に設置され、前記被蒸着体に蒸着される蒸着物質が収容される蒸発源を含む蒸発源ユニットと、前記真空チャンバーを構成する面と前記蒸発源ユニットの間に配置されて、一端部が前記蒸発源ユニットに回動可能に連結され、他端部が前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される回転移動部を含み、前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される前記回転移動部の前記他端部は、前記真空チャンバーを構成する面において、前記真空チャンバーを構成する面に対して相対変位可能に連結されることを特徴とする。

本発明の他の一様態による真空蒸着装置は、前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される前記回転移動部の前記他端部が、傾くことを規制するための傾斜規制部をさらに含むことを特徴とする。

本発明によると、真空チャンバーを構成する面と蒸発源ユニットとの間に設置された回転移動部が真空チャンバーを構成する面に対して相対変位可能に（つまり、フローティング状態で）設置されるため、真空チャンバー内部を真空排気する時に発生する真空チャンバーを構成する面の変形に基づく回転移動部における連結部に及ぼす影響を低減することができ、磁性流体シールの破損や回転移動部の回転時の騒音／振動を低減させることができる。

また、本発明によると、傾斜規制部を設けることによって、回転移動部と真空チャンバーを構成する面との間の連結部が真空チャンバーを構成する面に対して傾くことを抑制でき、真空リークの抑制及び回転移動部の回転時の騒音／振動を低減させることができる。

図１は、本発明の一実施例による真空蒸着装置の構成を概略的に示した図面である。 図２は、図１の真空蒸着装置の蒸発源ユニットを移動させるための蒸発源移動機構及び回転移動部を概略的に示した図面である。 図３は、図２の回転移動部と真空チャンバーを構成する底面との連結部分を示す断面図である。 図４は、本発明の他の実施例による回転移動部と真空チャンバーを構成する底面との連結部分を示した断面図である。 図５は、本発明によるデバイス製造方法を説明するためのフローチャートである。

以下、図面を参照し、本発明の実施例を詳しく説明する。本発明には多様な変更ができ、多様な実施例を有することができる。特定の実施例を図面に基づき例示して説明するが、本発明はこの特定の実施例に限定されるのではなく、本発明の思想および技術範囲に含まれるすべての変更、均等物乃至代替物を含むものと理解されるべきである。

（第１の実施例）
図１は本発明の一実施例による真空蒸着装置の全体的な構成を概略的に示す図面である。図１（ａ）に示されたとおり、本発明の一実施例による真空蒸着装置（１）は、減圧雰囲気の下で被蒸着体（例えば、基板）に対して蒸着が行われる空間を定義する真空チャンバー（３）及び、蒸着物質を蒸発させ放出する蒸発源ユニット（２）を含む。

蒸発源ユニット（２）は、蒸着物質を収容する収容部と、蒸着物質を加熱し蒸発させるための加熱部などで構成される蒸発源（２１）を含む。蒸発源（２１）は、被蒸着体（４，５）の蒸着面に向いて蒸着材料を放出する放出孔或いはノズルを複数備える構造を持つが、これに限らず、被蒸着体（４，５）、マスクのパターン、蒸着物質の種類等に合わせて、適宜選定すればよく、例えば、ポイントソースや、リニアーソース、あるいは、小型の蒸着物質収容部に、蒸着材料を放出する複数の放出孔を持つ拡散室を接続した構造の蒸発源等を用いても良い。

また、本発明の真空蒸着装置（１）は、図１（ｂ）に示されたように、蒸発源（２１）から蒸発し被蒸着体（４）に向けて噴射される蒸着物質を遮断ないし通過させる開閉シャッター（不図示）と、蒸発源（２１）から放出された蒸着材料の蒸発レートをモニタする膜厚モニタ（２１８）と、膜厚モニタ（２１８）からの入力信号を受け膜厚を計測する膜厚計（２１７）と、蒸発源（２１）に設けられた加熱装置を制御する電源（２１６）と、被蒸着体（４，５）を保持し、被蒸着体をマスク（２１４）や蒸発源に対して相対的に移動させることができる被蒸着体ホルダー（２１３）と、マスク（２１４）を保持し、マスクを被蒸着体や蒸発源（２１）に対して相対的に移動させることができるマスクホルダー（２１５）などの他の構成部品を更に含む。

このような構成を持つ真空蒸着装置（１）は、真空チャンバー（３）内を減圧雰囲気にした状態で蒸発源ユニット（２）の蒸発源（２１）内に収容されている蒸着物質を加熱・蒸発させ、蒸発された蒸着物質を所定のパターンが形成されているマスク（２１４）或いはパターンシートを通じて、被蒸着体（４または５）上に求められるパターンの蒸着物質の薄膜を形成する。本発明の真空蒸着装置（１）を用いて有機ＥＬディスプレイデバイスを製造する具体的な方法については、後述する。

蒸発源（２１）を含む蒸発源ユニット（２）は、通常、真空チャンバー（３）の下方に一つが配置され、一つの蒸発源ユニットで被蒸着体全体に対して均一な厚さの薄膜を蒸着するために、蒸発源ユニット（２）を被蒸着体の長手方向にスライド移動させながら蒸着を行う。

図１（ａ）の真空蒸着装置（１）は、一つの真空チャンバー（３）内に２つの被蒸着体が搬入され、その中の一つの被蒸着体（４）に対して蒸着が行われる間（例えば、Ａ側ステージ）に、他の被蒸着体（５）に対しては（例えば、Ｂ側ステージ）、マスクと被蒸着体間の整列（アライメント）が行われる、いわゆる、「デュアルステージ」で蒸着可能な真空蒸着装置を図示している。

このようなデュアルステージの真空蒸着装置においては、それぞれのステージ内で蒸着工程が行われる時の、被蒸着体の長手方向に蒸発源ユニット（２）を移動させる前述した
スライド移動に加え、蒸発源ユニット（２）を各ステージ間に移動させる動作も行われる。以下では、デュアルステージの真空蒸着装置の例を挙げて本発明の構成を説明するが、この限りではなく、本発明は真空チャンバー内での蒸発源ユニットの移動が伴う場合には適用可能である。

このような蒸発源（２１）を含む蒸発源ユニット（２）は、真空チャンバー（３）の下方に設けられた蒸発源移動機構（６）に沿って、被蒸着体（４）に対向する面内で水平移動しながら、被蒸着体（４）に対するスキャン蒸着を行う。蒸発源移動機構（６）は、蒸発源（２１）に対して、この線形移動の駆動力を提供し、またその移動をガイドするための機構で、駆動力を提供するリニアモーターと、モーターの駆動によって移動をガイドするラック・ピニオン結合構造などで構成される。駆動力を生成するリニアモーターなどの構成部品は蒸発源（２１）の下部に設けられる大気ボックス内に収納配置されることができる。

このように構成される真空蒸着装置（１）においては、前述したように、蒸着工程が行われる間に蒸着物質を加熱・蒸発させる蒸発源（２１）の加熱部、蒸発源（２１）に移動駆動力を提供するリニアモーターなどに対して電源の供給が行われなければならず、そのために、真空チャンバーの外部から電源供給のための電気配線が連結されなければならない。また、蒸発源ユニット（２）には、このような電気配線以外にも、加熱された蒸発源（２１）を冷却させる冷却水を循環させるための配管なども真空チャンバー（３）の外部から連結され得る。

蒸発源ユニット（２）に真空チャンバー（３）外部からの電気配線や配管を提供するための構成として、本発明では中空内部を有する回転移動部（７）を使用する。回転移動部（７）は真空チャンバー（３）を構成する底面に形成された入り口（３１）と蒸発源ユニット（２）の間に設置され、その内部は大気圧で維持される中空部（７１）になっている。回転移動部（７）の中空部（７１）には真空チャンバー外部から蒸発源ユニット（２）に連結される各種の電気配線及び配管が配設される。蒸発源ユニット（２）は、このような回転移動部（７）を通じて電気配線及び配管が連結された状態で、真空チャンバー（２）内を移動しながら、蒸着工程を行うことになる。

以下、回転移動部（７）の構成を詳細に説明する。

回転移動部（７）は前述したように真空チャンバー（３）を構成する底面と蒸発源ユニット（２）の間に配置されて、一端部は蒸発源ユニット（２）に回動可能に連結され、他端部は真空チャンバー（３）を構成する底面に回動可能に連結される。具体的に、回転移動部（７）は、図２に示されたように、真空チャンバー（３）を構成する底面と蒸発源ユニット（２）側にそれぞれ回動可能に接続された２つのアーム（７２、７３）が相互リンク構造で連結された構成を有する。つまり、回転移動部（７）は、一端が真空チャンバー（３）を構成する底面の入り口（３１）側に回動可能に連結されている第１のアーム（７２）と、一端が蒸発源ユニット（２）の大気ボックスの下部に回動可能に連結されている第２のアーム（７３）を含む。第１のアーム（７２）の他端と第２のアーム（７３）の他端も回動可能に連結され、第１のアームと第２のアームが真空チャンバー（３）を構成する底面と蒸発源ユニット（２）の間で全体的にリンク構造の連結構造を形成する。このような構造を通じて、回転移動部（７）は蒸発源ユニット（２）に対して電気配線及び配管連結を提供しながら、蒸発源ユニット（２）の移動に従動して移動する。

回転移動部（７）と、蒸発源ユニット（２）及び真空チャンバー（３）を構成する底面ハウジングとの間の各連結部（つまり、蒸発源ユニット（２）と第２のアーム（７３）との連結部、第２のアーム（７３）と第１のアーム（７２）との連結部、第１のアーム（７
２）と真空チャンバー（３）を構成する底面との連結部）は、大気圧で維持される回転移動部（７）内部の中空部（７１）と、真空状態にある回転移動部（７）外部の真空チャンバー（３）内の空間を、それぞれの大気圧・真空状態を維持しながら連結するように、基本的には磁性流体シールなどの接続部材を使って真空シール（ｓｅａｌ）する。磁性流体シールは、連結部材間の相対回転は許容しながら真空シールができるため、回転移動部（７）の基本的な連結部として使用するのに適している。

本発明の真空蒸着装置（１）において、回転移動部（７）或いは第１のアーム（７２）と、真空チャンバー（３）を構成する底面とを、蒸発源ユニット（２）の方に向かう方向、すなわち、真空チャンバー（３）を構成する底面に垂直な方向である第１方向に相対移動ができるように接続する（つまり、真空チャンバーを構成する底面に対してフローティングさせる）。これにより、真空チャンバーの変形による真空チャンバーを構成する面に垂直方向（第１方向）の荷重を吸収し、回転移動部（７）に伝えられる変形力を低減させることができる。

具体的に、図３に示されたように、本発明の一実施例による真空蒸着装置（１）では、第１のアーム（７２）の回転軸（７２１）を、真空チャンバー（３）を構成する底面に垂直な第１方向に相対的に移動可能な（つまり、フローティング状態である）接続部（８）を介して、真空チャンバー（３）を構成する底面の入り口（３１）に入れて連結する。この際、第１のアームの回転軸（７２１）と接続部（８）との間はフェロシール（ｆｅｒｒｏｓｅａｌ）などの磁性流体シール（９）を通じて相対回転が許容される形で真空シールを行い、真空チャンバーを構成する面側に接続される接続部（８）の他端側の連結部位、すなわち、接続部（８）と真空チャンバーを構成する底面の入り口（３１）の内壁との間にはオーリング（Ｏ−ｒｉｎｇ；１０）で真空シールを行う。磁性流体シール（９）は第１のアームと接続部（８）と間のシールを確実にしながら、摩擦損失なく第１のアーム（７２）の回転軸（７２１）の接続部（８）に対する相対回転を許容する。一方、接続部（８）の他端側、つまり、接続部（８）と真空チャンバーを構成する底面の入り口（３１）の内壁との間は、第１方向への相対移動が許容されるオーリング（Ｏ−ｒｉｎｇ；１０）を使って真空シールを行うため、接続部（８）を含む第１のアーム（７２）は、全体的に、真空チャンバー（３）を構成する面に対して回動が可能で、第１方向（図３では、上下方向）に真空チャンバー（３）を構成する面に対してフローティングされた状態で、つまり、相対的動きが可能な状態で、真空チャンバーを構成する面側に連結されている。したがって、前述のような真空排気時の真空チャンバーを構成する面に対して変形が発生する場合であっても、そのような変形による第１方向の荷重が回転移動部（７）を構成する第１のアーム（７２）側に直接的に作用されなくなるか、少なくとも相対的に低減されて作用するようになり、従来技術における蒸着工程中の磁性流体シールの破損などの問題を防止できるようになる。

以上、実施例の構成に基づいて本発明を説明したが、本発明は、多様な変形例の構成を有することができる。

例えば、以上説明した実施例では、回転移動部（７）の第１のアーム（７２）と真空チャンバー（３）を構成する底面との間に接続部（８）を介在させ、第１のアーム（７２）と接続部（８）との間の接続は磁性流体シールによってシールを行い、接続部（８）と真空チャンバー（３）を構成する底面との間の接続はオーリングでシールを行っているが、第１のアーム（７２）と真空チャンバー（３）を構成する底面が第１方向にフローティングされた状態で真空シールされることができれば、これに限定されない。例えば、接続部（８）を別途設けず、第１のアーム（７２）の回転軸（７２１）と真空チャンバー（３）を構成する底面の入り口（３１）の間をオーリング及び軸受を使用して接続させることも可能である。この場合にも、第１のアーム（７２）は真空チャンバー（３）を構成する底
面に対して回動可能で、第１方向への相対移動が許容される形で真空チャンバー（３）を構成する底面ハウジングに連結されるので、本発明の効果を達成できるようになる。ただし、前述の実施例のように、接続部（８）を介在させ、回動部位の真空シールは摩擦損失がほとんどない磁性流体シールで行って、第１方向への相対移動を許容するための部位にのみオーリングを通じて接続することがより望ましい。

また、本実施例では真空チャンバー（３）を構成する底面と蒸発源ユニット（２）との間に回転移動部（７）を設置する構成を中心に説明したが、本発明はこれに限定されず、蒸発源ユニット（２）が真空チャンバー（３）を構成する底面ではなく上面や側面等の壁面に隣接して設けられ、回転移動部（７）が蒸発源ユニット（２）と真空チャンバーを構成する上面或いは側面との間に設けられる場合や、回転移動部（７）が真空チャンバー内に設置される他の移動体に電源や配線を供給するため、真空チャンバーを構成する面と当該移動体との間に設置される場合にも適用されうる。

（第２の実施例）
以下、図４を参照して、本発明による第２の実施例の構成を説明する。

本発明の第２の実施例は、真空チャンバー（３）を構成する底面に回動可能に連結される回転移動部（７）、すなわち、第１のアーム（７２）が第１方向と交差する第２方向（例えば、図４において真空チャンバーを構成する底面に平行な方向）に傾くことを規制するための傾斜規制手段（１２）をさらに追加した点が第１の実施例と異なる。それ以外の構成は第１の実施例の構成と同様なので、同一の構成に対する説明は省略する。

第１の実施例の構成は、前述したように、真空チャンバー（３）内部の真空排気時に発生する真空チャンバーを構成する面の変形によって回転移動部（７）に作用する第１方向の荷重による影響を主に解決するための構成である。ところで、真空排気時、真空チャンバーが変形すると、回転移動部（７）には第１方向の荷重以外にも、第２方向の荷重も同時に作用することもありうる。

ここで、第２の実施例では、接続部（８）の第２方向への傾きを防止するため、傾斜規制手段（１２）を追加で設けている。具体的に、図４のように、本発明の傾斜規制手段（１２）は、一端が接続部（８）の上部に固定され、第２方向に伸びる嵌合部（１２１）及び真空チャンバー（３）を構成する底面から第１方向に延長するシャフト形状（例えば、円筒状）のチャンバー側固定部（１２２）を含む。嵌合部（１２１）とチャンバー側固定部（１２２）は、嵌合部（１２１）の他端がシャフト形状のチャンバー側固定部（１２２）に嵌合される形で設置される。すなわち、嵌合部（１２１）の他端はチャンバー側固定部（１２２）が嵌合される凹部を含み、チャンバー側固定部（１２２）は嵌合部（１２１）の凹部の形状に相応する形状をもつ突起を含む。嵌合部（１２１）とチャンバー側固定部（１２２）は、第１方向への相対的な動きが可能になるよう第１方向において所定の空間（１２３）を間に置いて嵌合する。このような空間（１２３）の第１方向の長さは、真空排気時の真空チャンバーを構成する面の第１方向への変形の大きさを考慮して決めることが望ましい。これにより、嵌合部（１２１）は第１方向には動きが規制されず（フローティング状態）、第２方向の動き（傾き）はチャンバー側固定部（１２２）によって規制される。

嵌合部（１２１）は、真空チャンバーを構成する底面に固定されたチャンバー側固定部（１２２）に嵌合される凹部の形で形成されることが、嵌合部（１２１）とチャンバー側固定部（１２２）との摩擦によって発生するパーティクルの被蒸着体側への飛散を低減でき望ましいが、これに限定されず、例えば、嵌合部（１２１）の他端が第１方向に伸びるシャフト形状に形成され、この嵌合部（１２１）のシャフトが真空チャンバーを構成する
底面に固定されたチャンバー側固定部としての凹部に嵌合されるようにしてもよい。ただし、この変形例の場合、嵌合部（１２１）とチャンバー側固定部（１２２）と間の摩擦によって生じた金属パーティクルが被蒸着体に影響を及ぼさないようにパーティクル飛散防止機構を設置するのが望ましい。例えば、金属パーティクルの飛散を防止するため、磁性物質からなる飛散防止機構を設けることができる。

このような構成により、接続部（８）の下部はブッシュ（不図示）によって、接続部（８）の上部は傾斜規制手段（１２）としての嵌合部（１２１）及びチャンバー側固定部（１２２）によって、それぞれ規制され、第２方向の傾きが防止できる。すなわち、接続部（８）の上下部でそれぞれ接続部を支持する支持点間の距離が大きくなって、接続部の全体的な第２方向の傾き角度が小さくなり、接続部（８）と真空チャンバー（３）を構成する底面の入り口（３１）を真空シールする複数のオーリングが効果的に作用することができる。

一方、嵌合部（１２１）及びチャンバー側固定部（１２２）を含む傾斜規制手段（１２）は、接続部（８）の周りに複数箇所、例えば、３箇所以上を配置することが望ましい。傾斜規制効果をあげるために、傾斜規制手段（１２）を接続部（８）周囲に連続して形成することもできる。

以上、本発明による第２の実施例の構成を説明したが、多様な追加的な変形例の構成も可能である。第２の実施例の構成において、嵌合部（１２１）とチャンバー側固定部（１２２）は前述したように基本的には第１方向にフローティング可能な形で設置されている。従って、この第１方向への相対動きによる摩擦によって金属パーティクルが発生して落下する可能性がある。このような金属パーティクルが被蒸着体に影響を及ぼすことを低減するために、チャンバー側固定部（１２２）の下部の周りに、この金属パーティクルの落下物を収集するトレイ（１３）をさらに設ければより望ましい。トレイ（１３）は金属パーティクルが真空チャンバー（３）の蒸着空間に飛散して被蒸着体に影響を及ぼすことを防止するため、”Ｌ”字形状の断面を持ち、チャンバー側固定部（１２２）の周りに連続して形成することが望ましい。トレイ（１３）の材質は特に限定されないが、金属パーティクルが収集し易くなることを考慮して磁性物質にすることができる。

（本発明の真空蒸着装置を用いるデバイスの製造方法）
以下では、図１、５を参照して、本発明の真空蒸着装置を用い、デバイスを製造する方法について具体的に説明する。

まず、制御部（不図示）は、蒸着材料を気化するために、蒸発源２１に設けられた加熱装置を電源２１６によって制御する。この時、蒸発源２１に設けられたシャッター（不図示）は閉じられており、気化された蒸着材料は真空チャンバー３内に放出しないようになっている。シャッターが閉じられた状態で、蒸発源２１に設けられた加熱装置の電源を入れる（Ｓ１）。被蒸着体に蒸着しようとするパターンが形成されたマスク２１４が、搬送手段（不図示）によって、真空チャンバー３内に搬入され、マスクを保持するマスクホルダー２１５に載置される。マスクホルダー２１５は、移動機構を有しており、マスク２１４の位置を所定の位置に移動させる（Ｓ２）。このとき、マスクを管理する制御部（不図示）は、マスク使用回数Ｍを１とする。

この状態で、蒸着材料が蒸着される対象である被蒸着体４は、搬送手段によって、真空チャンバー３内に搬入され、被蒸着体ホルダー２１３に載置される。続いて、マスク２１４に設けられたアライメントマークと被蒸着体４に設けられたアライメントマークに基づいて、マスク２１４を被蒸着体ホルダー２１３の移動機構によって移動させ、マスク２１４と被蒸着体４のアライメントを行う（Ｓ３）。被蒸着体ホルダー２１３を移動制御して
マスク２１４と被蒸着体４のアライメントを行う代わりに、被蒸着体４が、真空チャンバー３内に搬入され、被蒸着体ホルダー２１３によって所定の位置に配置された後に、マスク２１４をマスクホルダー２１５によって移動し、マスク２１４と被蒸着体４とのアライメントを行っても良い。

アライメント終了後、蒸発源２１のシャッターを開き、成膜材料を放出し、マスク２１４のパターンに沿って被蒸着体４に蒸着する（Ｓ４）。

被蒸着体４全体にわたって均一な厚さで蒸着を行うために、蒸発源２１は蒸発源移動機構によって図１（ｂ）の紙面に垂直な方向に移動（例えば、スライド移動）する。蒸発源２１などに電源などを供給するために、蒸発源２１と真空チャンバーを構成する底面との間に配置された回転移動部７と真空チャンバー３を構成する底面とは、真空チャンバー３を構成する底面に垂直な第１方向に相対的に移動可能に連結されるので、蒸発源２１が移動しながら蒸着が行われる際に真空チャンバーを構成する面の変形が蒸発源２１の移動に及ぼす影響を低減でき、被蒸着体４への均一な厚さの蒸着を可能にする
この際、水晶振動子等の膜厚モニタ２１８は、蒸発レートを計測し、膜厚計２１７で膜厚に換算している。膜厚計２１７で換算された膜厚が、目標膜厚になるまで蒸着を続ける（Ｓ５）。膜厚計２１７で換算した膜厚が目標膜厚に達した後、蒸発源２１のシャッターを閉じ蒸着を終了する。その後、搬送手段によって被蒸着体４を真空チャンバー３外に搬出する（Ｓ６）。マスク２１４は、前述のマスク使用回数Ｍが、所定の回数ｎ以上（ｎ≧２）になった場合に交換を行う。使用回数Ｍが所定回数ｎより小さい場合は、Ｍ＋１とし、次の被蒸着体４を搬入し同様の工程で蒸着を行う（Ｓ７）。マスク２１４の交換頻度は、マスク２１４への蒸着材料の堆積具合等により、適宜決めることができる。

このような工程を経て、有機ＥＬディスプレイデバイスのようなデバイスを製造することができるが、本発明のデバイス製造方法は、これに限るものではなく、各工程の具体的構成は適宜設計し得るものである。

以上説明した本発明によると、真空チャンバーの真空排気時に発生する真空チャンバーを構成する面の変形による第１及び／又は第２方向の荷重が回転移動部（７）に及ぼす影響を低減することができ、回転移動部（７）の連結部での磁性流体シールの破損や回転移動部の回転時の騒音・振動を防止し、また真空リークを抑制することができる。

１： 真空蒸着装置
２： 蒸発源ユニット
２１： 蒸発源
３： 真空チャンバー
３１： 入り口
４： 被蒸着体（Ａステージ）
５： 被蒸着体（Ｂステージ）
６： 蒸発源移動機構
７： 回転移動部
７１： 中空部
７２： 第１のアーム
７２１： 回転軸
７３： 第２のアーム
８： 接続部
９： 磁性流体シール
１０： オーリング
１２： 傾斜規制手段
１２１： 嵌合部
１２２： チャンバー側固定部
１２３： 空間
１３： パーティクル収集トレイ

Claims (16)

1. 真空蒸着装置において、
   被蒸着体に対する蒸着が行われる真空チャンバーと、
   前記真空チャンバー内に移動可能に設置され、前記被蒸着体に蒸着される蒸着物質が収容される蒸発源を含む蒸発源ユニットと、
   前記真空チャンバーを構成する面と前記蒸発源ユニットとの間に配置されて、一端部が前記蒸発源ユニットに回動可能に連結され、他端部が前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される回転移動部とを含み、
   前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される前記回転移動部の前記他端部は、前記真空チャンバーを構成する面において、前記真空チャンバーを構成する面に対して相対変位可能に連結される真空蒸着装置。
2. 前記回転移動部は、前記真空チャンバーを構成する面に一端が回動可能に連結された第１のアームと、前記第１のアームの他端に一端が回動可能に連結され且つ前記蒸発源ユニットに他端が回動可能に連結された第２のアームとを含み、
   前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結された前記第１のアームの前記一端は、前記真空チャンバーを構成する面において、前記真空チャンバーを構成する面に対して相対変位可能に連結される請求項１に記載の真空蒸着装置。
3. 前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される前記第１のアームの前記一端は、回転軸部と、前記回転軸部と回動可能に接続される接続部とを含み、
   前記接続部は、前記真空チャンバーを構成する面において、前記真空チャンバーを構成する面に対して相対変位可能に連結される請求項２に記載の真空蒸着装置。
4. 前記接続部と前記真空チャンバーを構成する面との間は、オーリング（Ｏ−ｒｉｎｇ）によってシールされる請求項３に記載の真空蒸着装置。
5. 前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結される前記回転移動部の前記他端部が、傾くことを規制するための傾斜規制部をさらに含む請求項１乃至４のいずれか１項に記載の真空蒸着装置。
6. 前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結された前記第１のアームの前記一端が、傾くことを規制するための傾斜規制部をさらに含む請求項２乃至４のいずれか１項に記載の真空蒸着装置。
7. 前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結された前記第１のアームの前記一端の前記接続部が、傾くことを規制するための傾斜規制部をさらに含む請求項３又は４に記載の真空蒸着装置。
8. 前記傾斜規制部は、前記真空チャンバーを構成する面から突出して形成されたチャンバー側固定部と、前記第１のアームの前記一端の前記接続部に連結され、前記チャンバー側固定部に嵌合される嵌合部を含み、前記チャンバー側固定部と前記嵌合部との嵌め込み結合によって前記第１のアームの前記一端の前記接続部が傾くことが規制される請求項７に記載の真空蒸着装置。
9. 前記チャンバー側固定部は前記真空チャンバーを構成する面から突出して形成されたシャフト形状の突起を含み、前記嵌合部は前記突起に嵌合可能な凹部を含む請求項８に記載の真空蒸着装置。
10. 前記チャンバー側固定部は凹部を有し、前記嵌合部は前記凹部内に嵌合可能なシャフト形状の突起を含む請求項８に記載の真空蒸着装置。
11. 前記傾斜規制部は、前記回転移動部と前記真空チャンバーを構成する面との間の連結部周囲に複数配置される請求項５乃至１０のいずれか１項に記載の真空蒸着装置。
12. 前記傾斜規制部は、前記回転移動部と前記真空チャンバーを構成する面との間の連結部周囲に３つ以上が配置される請求項１１に記載の真空蒸着装置。
13. 前記傾斜規制部は、前記回転移動部と前記真空チャンバーを構成する面との間の連結部周囲に連続して配置される請求項５乃至１０のいずれか１項に記載の真空蒸着装置。
14. 前記チャンバー側固定部の下部周辺に設置された、パーティクルを収集するトレイをさらに含む請求項８又は９に記載の真空蒸着装置。
15. 真空蒸着装置において、
    被蒸着体に対する蒸着工程が行われる蒸着空間を定義し、真空状態で維持できる真空チャンバーと、
    前記真空チャンバー内に移動可能に設置される移動体と、
    一端部が前記移動体に回動可能に連結され、他端部が前記真空チャンバーを構成する面に回動可能に連結され、その内部が大気圧で維持される中空部を含む回転移動部を含み、
    前記回転移動部の前記他端部は、前記真空チャンバーを構成する面において、前記真空チャンバーを構成する面に対して相対変位可能に連結される真空蒸着装置。
16. 請求項１乃至１５のいずれか１項に記載の真空蒸着装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。

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