CN111663099A - 向真空腔室内的多功能管线导入机构、成膜装置和系统 - Google Patents

Abstract

本发明提供向真空腔室内的多功能管线导入机构、成膜装置和系统，即使腔室变形、支承机构变形、臂姿势变化，也能维持臂连结部的真空密封性能。管线导入机构具备：蒸镀源，能在内部能减压的真空腔室内部移动；第1转动部，能使第1臂部绕第1轴转动地与真空腔室内壁连接；第2转动部，能使第2臂部绕第2轴转动地与第1臂部连接；第3转动部，能使第2臂部绕第3轴转动地与蒸镀源连接，使蒸镀源动作的多功能管线经将第1转动部～第3转动部内部连通并与真空腔室外相连的气密构造的导入路导入并与蒸镀源连接，第1转动部能绕与第1轴交叉的轴摆动地将第1臂部连接于真空腔室的内壁，第3转动部能绕与第3轴交叉的轴摆动地将第2臂部连接于蒸镀源。

Description

向真空腔室内的多功能管线导入机构、成膜装置和系统

技术领域

本发明涉及将以电气配线、冷却介质的配管等为代表的多功能管线(日文：ユーティリティライン)从真空腔室外导入在真空腔室内能够移动地被支承的蒸镀源等的机构。进而涉及具备多功能管线导入机构的成膜装置以及成膜系统。

背景技术

近年来，在自发光型中，视角、对比度、响应速度优异的有机EL元件被广泛地应用于以壁挂式电视机为代表的各种显示装置。

通常，有机EL元件通过将基板搬入真空腔室内并在基板上形成规定图案的有机膜的方法来制造。更详细而言，经过向维持真空的成膜室内搬入基板的工序、使基板与掩模高精度地位置对合(对准)的工序、成膜有机材料的工序、和将成膜完毕的基板从成膜腔室搬出的工序等来制造。

在对有机材料进行成膜的工序中，使用设置在真空腔室内的蒸镀源来蒸镀有机材料，但需要将传递电力、信号的电气配线、供给冷却介质的配管等多功能管线从真空腔室外导入并连接于蒸镀源。但是，这些电气配线、配管通常真空耐压小，因此，经由真空气氛内与蒸镀源连接可以说是不现实的。

另一方面，蒸镀源需要在真空腔室内能够移动地被支承。例如，为了在基板面均匀地成膜，有时以扫描基板面的方式使蒸镀源移动。另外，在为了提高生产率而在真空腔室内设置多个基板载置台的情况下，为了使蒸镀源能够在基板载置台之间循回，有时能够移动地支承蒸镀源。

为了将多功能管线连接于能够移动的蒸镀源，已知有在蒸镀源上连接可动臂，将可动臂的壳体形成为气密构造，将其内部维持在大气压，将多功能管线导入真空腔室内的方法。即，将多功能管线经由维持为大气压的可动臂的内部空间导入真空腔室并与蒸镀源连接。

在专利文献1中，记载了具备通过第1连结部连结于真空腔室的底面的第1臂、通过第2连结部连结于第1臂的第2臂、以及通过第3连结部连结于第2臂的蒸镀源的装置。第1连结部、第2连结部以及第3连结部分别将连结的对方的第1臂、第2臂以及蒸镀源支承为能够在水平面内旋转。而且，使第1臂、第2臂、第1连结部、第2连结部、第3连结部以气密构造连通而将内部空间维持为大气压，经由该内部空间而将多功能管线与蒸镀源连接。

另外，在专利文献2中，记载了具备连接第1连接臂和第2连接臂的旋转连结部，将它们形成为气密构造而使内部成为大气压的装置。在该装置中，通过使旋转连结部能够相对地进行球面运动，能够防止在第1连接臂与第2连接臂之间施加有伴随偏角的径向载荷时连结部的磁性流体密封件破损而导致真空密封性能降低。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-299176号公报

专利文献2：日本特开2015-121265号公报

近年来，随着处理的基板尺寸的大型化，存在成膜装置的真空腔室大型化的倾向。若真空腔室大型化，则对腔室内进行减压时的腔室的变形也变大。

另外，随着基板尺寸的大型化，增加了蒸镀材料的存积量的蒸镀源的重量增加，并且真空腔室内的蒸镀源的移动距离有变大的倾向。因此，在使蒸镀源移动时，有时移动机构产生变形。

另外，若蒸镀源的移动距离变大，则用于将多功能管线导入真空腔室内的可动臂也大型化，因此可动臂的重量增加。于是，在可动臂的姿势伴随着蒸镀源的移动而变化时，重量平衡发生变化，有时会对可动臂的局部施加较大的力，或者由于自重而使可动臂变形。

在专利文献1所记载的装置中，若在减压时真空腔室的底面变形，则在配置于底面的第1连结部的附近施加应力，无法维持第1连结部的气密密封，或者无法使第1臂在水平面内顺畅地旋转。

另外，若在专利文献1的装置中移动机构产生变形，则无法维持将蒸镀源与第2臂连结的第3连结部的气密密封，或者无法使第3连结部顺畅地旋转。

另外，在可动臂的姿势伴随着蒸镀源的移动而变化时，重量平衡变化而对第1连结部、第3连结部施加较大的力，有时无法维持气密密封。

在专利文献2所记载的装置中，能够防止连结第1连接臂和第2连接臂的连结部的真空密封性能降低。但是，关于真空腔室底面的连结部、与蒸镀源的连结部的真空密封性能的降低，在专利文献2中没有研究。

因此，寻求一种即使在减压时真空腔室变形、或在蒸镀源移动时蒸镀源的移动机构变形、或者在可动臂的姿势发生变化时对可动臂的局部施加较大的力，也能够维持连结可动臂的连结部的真空密封性能的多功能管线的导入机构。

发明内容

用于解决课题的技术方案

本发明是一种向真空腔室内的多功能管线导入机构，其特征在于，具备：真空腔室，内部能够减压；蒸镀源，能够在所述真空腔室的内部移动；第1转动部，以能够使第1臂部绕第1轴转动的方式与所述真空腔室的内壁连接，并具有磁性流体密封件；第2转动部，以能够使第2臂部绕第2轴转动的方式与所述第1臂部连接，并具有磁性流体密封件；以及第3转动部，以能够使所述第2臂部绕第3轴转动的方式与所述蒸镀源连接，并具有磁性流体密封件，用于使所述蒸镀源动作的多功能管线经由将所述第1转动部、所述第1臂部、所述第2转动部、所述第2臂部、所述第3转动部的内部连通并与所述真空腔室之外的大气压空间相连的气密构造的导入路，从所述真空腔室之外导入并与所述蒸镀源连接，所述第1转动部以能够绕与所述第1轴交叉的轴摆动的方式将所述第1臂部连接于所述真空腔室的内壁，所述第3转动部以能够绕与所述第3轴交叉的轴摆动的方式将所述第2臂部连接于所述蒸镀源。

发明效果

根据本发明，能够提供一种即使在减压时真空腔室变形、或者在蒸镀源移动时蒸镀源的移动机构变形、或者在可动臂的姿势发生变化时对可动臂的局部施加较大的力，也能够维持连结可动臂的连结部的真空密封性能的多功能管线的导入机构。

附图说明

图1是实施方式1的成膜装置的示意性的剖视图。

图2(a)是表示实施方式1中的臂的外观的主视图。(b)是实施方式1中的第1万向架机构的主视图。(c)是实施方式1中的第1万向架机构的侧视图。

图3(a)是表示实施方式1中的臂的外观的主视图。(b)是沿着图3(a)的(T)-(T)线切开的第1转动部的剖视图。

图4(a)是表示实施方式1中的臂的外观的俯视图。(b)是真空腔室内为大气压且蒸镀源位于可动范围的端部附近时的主视图。(c)是真空腔室内被减压而蒸镀源位于可动范围的中央附近时的主视图。

图5是实施方式4的成膜系统的示意性的结构图。

图6是实施方式3的成膜装置的示意性的剖视图。

附图标记的说明

1 真空腔室；2 基板；3 基板支承体；4 掩模；5 掩模支承体；6 蒸镀源；7 引导构件；8 对准机构；9 第1臂部；10 第2臂部；11 磁性流体密封件；12a 第1万向架机构；12b 第2万向架机构；13 多功能管线；16 箱体；17 臂；18 臂的Z轴方向的规定高度；19 真空密封构件；23 摆动Y轴；28 摆动X轴；31 臂高度变动的距离；100 成膜装置；300 成膜系统；RC1第1轴；RC2 第2轴；RC3 第3轴。

具体实施方式

参照附图对作为本发明的实施方式的多功能管线导入机构、具备该多功能管线导入机构的成膜装置、成膜系统进行说明。另外，在以下的说明所参照的附图中，对于功能相同的构成要素，只要没有特别说明，则标注相同的附图标记进行图示。

[实施方式1]

(成膜装置的基本结构)

图1是表示作为实施方式1的成膜装置100的整体结构的示意性的剖视图。在图1中图示的X轴、Y轴、Z轴为3轴正交的坐标系，由X轴和Y轴规定水平面，由Z轴规定与重力方向相反的方向。但是，在实施本发明上，不需要X轴、Y轴、Z轴为3轴正交的坐标系，另外，不需要X轴以及Y轴规定水平面，Z轴规定与重力方向相反的方向。在将X轴设为第1轴、将Y轴设为第2轴、将Z轴设为第3轴时，只要第1轴、第2轴和第3轴处于相互交叉的关系即可。另外，在以下的说明中，例如在记作X轴正方向的情况下，是指沿着图示的X轴的箭头的方向，在记作X轴负方向的情况下，是指与图示的X轴的箭头相反的方向。对于Y轴、Z轴也是同样的。

成膜装置100具备作为气密容器的真空腔室1，真空腔室1的内部通过未图示的真空泵能够减压至例如10^-3Pa以下的压力区域。在真空腔室1中配置有用于支承基板2的基板支承体3、支承掩模4的掩模支承体5和使有机材料蒸发的蒸镀源6。

掩模4是具有用于规定在基板上成膜的薄膜的形状的开口的薄板形状的构件，在大型基板用中，大多使用由如殷钢等那样刚性高且热膨胀率小的材料形成的金属掩模。掩模4被掩模支承体5从两侧(或4边)支承。

作为基板2，根据要制造的对象产品，适当选择使用玻璃基板或塑料基板等。基板2被基板支承体3从两侧(或4边)支承。

基板支承体3的轴在借助波纹管等真空密封构件19而确保气密性的状态下，与设置在真空腔室1外的对准机构8连接。在对准基板2和掩模4时，对准机构8使基板支承体3移动，使基板2沿X轴方向移动、Y轴方向移动及θ旋转，进行与掩模4的相对位置对合。

另外，为了从真空腔室1之外对基板2和掩模4的对准标记进行拍摄而设置有对准照相机15和视口14。该视口14是用于从外部对真空腔室1内进行拍摄的窗，由能够承受压力差的透明材料构成。

在蒸镀源6的内部存储作为成膜材料的有机材料，有机材料被温度调节后的加热器加热而蒸发或升华。在蒸镀源6上设置有用于将气化了的有机材料朝向基板放出的开口部、和根据需要为了遮挡开口部而能够进行开闭驱动的挡板。

蒸镀源6与设置在真空腔室1的底面的臂17连接。臂17能够从动于蒸镀源6在真空腔1内沿水平方向移动地改变姿势。蒸镀源6被线性引导件等引导构件7支承，以使蒸镀源6在移动时沿着X轴方向被引导。

臂17的壳体被气密密封，壳体内部被保持为大气压。这是为了将用于使蒸镀源6动作的作为配线、冷却介质的配管的多功能管线13从真空腔室1外的大气压空间通过臂17的内部导入，并与蒸镀源6连接。经由了与真空腔室之外的大气压空间相连的气密构造的导入路(即臂17的壳体内部)的多功能管线13进一步经由内部被保持为大气压的气密构造的箱体16而与蒸镀源6连接。

作为多功能管线导入机构的臂17具备第1臂部9、第2臂部10、第1转动部、第2转动部、第3转动部。

第1臂部9的一端通过包括第1万向架机构12a的第1转动部与真空腔室1的底面连接。第1臂部9能够绕与Z轴平行的第1轴RC1转动。

第1臂部9的另一端与第2臂部10的一端连接，第2臂部10能够以该连接部为中心相对于第1臂部9绕与Z轴平行的第2轴RC2相对转动。该连接部可以说是将第1臂部9和第2臂部10以能够绕第2轴转动的方式连接的关节部，将该部分称为第2转动部。

另外，在图1所示的实施方式中，在沿第2轴RC2的轴向观察时，相对于第1臂部在第1转动部的一侧(即Z轴负方向的一侧)配置第2臂部10，但也可以在与第1转动部相反侧(即Z轴正方向的一侧)配置第2臂部10。但是，前者的配置与后者相比，能够减小施加于第1万向架机构12a的力矩，且能够抑制真空腔室1的总高度，因此，优选前者。

第2臂部10的另一端通过包括第2万向架机构12b的第3转动部与箱体16连接。相对于箱体16以及固定于箱体16的蒸镀源6，第2臂部10能够绕与Z轴平行的第3轴RC3相对转动。

如上所述，将第1臂部9连接于真空腔室1的底面的第1转动部、连接第1臂部9和第2臂部的第2转动部、连接第2臂部10和箱体16(蒸镀源6)的第3转动部分别构成为能够绕与Z轴平行的轴转动。在第1转动部～第3转动部分别设置有用于以能够绕与Z轴平行的轴转动的方式进行支承的轴承和磁性流体密封件11。磁性流体密封件11维持各转动部的壳体内部的压力(大气压)与真空腔室1内空间的压力(真空)之间的气密性。

在箱体16内配置有用于使蒸镀源6沿着引导构件7移动的驱动源即马达(未图示)。马达的旋转轴经由磁性流体密封件与箱体16外的辊连结，通过驱动马达，与引导构件7相向地配置的辊旋转。通过辊的旋转，蒸镀源6和箱体16沿着引导构件7移动。臂17的各转动部从动于蒸镀源6和箱体16的移动而旋转，各臂部进行回旋运动。

也可以不将用于使蒸镀源6移动的马达设置在箱体16的内部，而是设置在真空腔室1的外部，从外部传递驱动力。但是，若将马达设置于箱体16内，则经由多功能管线13导入马达用电源线等而与马达连接即可。另外，用于使蒸镀源6移动的驱动机构不限于接触式辊驱动方式，也可以使用齿条和小齿轮、基于磁力的线性马达方式等。

(成膜装置的基本动作)

图1所示的成膜装置100利用对准照相机15对设置于掩模支承体5的掩模4的对准标记(未图示)与基板2的对准标记(未图示)的相对位置进行拍摄。成膜装置100的控制部基于拍摄到的图像对对准机构8指示对准校正量而进行对准处理，在掩模4上设置基板2。使蒸镀源6沿着引导构件7以恒定速度移动，隔着掩模在基板2之上均匀地成膜有机材料。在进行该成膜处理的期间，从多功能管线13向蒸镀源6供给必要的电力、控制信号、冷却介质等。

(关于转动部的详细说明)

臂17通过第1转动部能够转动地与蒸镀源6的可动范围的中央附近、即真空腔室1的底面的中央附近连接。若对真空腔室1内进行减压，则由于与大气压的压力差而对真空腔室1的壁面施加力，真空腔室1的壁面变形为朝向被减压了的一侧突出的形状。因此，在固定有臂17的第1转动部附近的位置，真空腔室1的底面与减压前相比向Z轴正方向移动。

另一方面，沿着X轴方向引导蒸镀源6的引导构件7在蒸镀源6的可动范围的两端附近被支承，但在使作为重物的蒸镀源6移动到从两端离开的位置时，引导构件7产生挠曲。因自重而产生的挠曲在蒸镀源6位于可动范围的中央附近的情况下最大，引导构件7的中央部变形成向重力的方向突出。因此，与位于可动范围的两端附近的情况相比，在位于可动范围的中央附近时，由第3转动部支承的蒸镀源6向Z轴负方向移动。

另外，当臂17的姿势从动于蒸镀源6的移动而变化时，臂17的自重平衡发生变化，能够对第1转动部和/或第3转动部施加力矩载荷。

为了防止由于这样的Z轴方向的位置变动、臂17的姿势变化，对第1转动部、第3转动部施加过大的力矩负载而在磁性流体密封件11产生压力的泄漏或破损，在本实施方式中，设置有第1万向架机构12a及第2万向架机构12b。

第1万向架机构12a以在第1转动部能够绕X轴以及绕Y轴摆动的方式在真空腔室1的底面上支承第1臂部9。换言之，第1转动部以能够绕与第1轴RC1交叉的摆动轴摆动的方式将第1臂部9与真空腔室1的内壁连接。即使真空腔室1的底面变形，或者臂17的自重平衡变化而对第1转动部施加力矩载荷，第1臂部9也能够通过第1万向架机构12a摆动，因此，能够在第1转动部的磁性流体密封件11处不产生泄漏地使第1臂部9顺畅地绕第1轴RC1转动。

图2(a)是表示臂17的外观的主视图，图2(b)是第1万向架机构12a的主视图，图2(c)是第1万向架机构12a的侧视图。

第1万向架机构12a具备用于将中间环24支承为能够绕与X轴平行的轴摆动的摆动X轴28、和用于将中间环24支承为能够绕与Y轴平行的轴摆动的摆动Y轴23。

摆动X轴28经由X轴轴承箱27支承在位于第1臂部9的一侧的X轴底座26之下。摆动Y轴23经由Y轴轴承壳体22支承在位于真空腔室1的底面侧的Y轴基座21之上。中间环24的绕与X轴平行的轴的摆动角度被X轴止动件29和中间环24的间隙量限制，绕与Y轴平行的轴的摆动角度被Y轴止动件25和中间环24的间隙量限制。摆动X轴28和摆动Y轴23被配置成距真空腔室1的底面位于相同的高度的位置。

图3(a)是表示臂17的外观的主视图，图3(b)是沿图3(a)的(T)-(T)线切开的第1转动部的剖视图。为了使臂17的内部成为大气压而使多功能管线13通过，第1转动部具备气密构造。如图3(b)所示，在中间环24的内侧，将焊接波纹管30的一端与Y轴基座21连接，另一端与X轴基座26连接。通过以上的结构，能够进行模拟的球面运动，且能够保持真空密封性。另外，当对真空腔室1内进行减压时，导入多功能管线所需的开口面积部分的大气压33在推力方向(Z轴正方向)上作用于第1转动部。在本实施方式中，由于成为由图2(b)及图2(c)所示的摆动Y轴23和摆动X轴28承受该推力方向的力的构造，因此，摆动Y轴23和摆动X轴28使用具有足够支承该力的强度的轴构件。

接着，第2万向架机构12b以相对于箱体16及固定于该箱体16的蒸镀源6能够绕与X轴平行的轴以及与Y轴平行的轴摆动的方式在真空腔室内支承第2臂部10。即使蒸镀源6由于引导构件7的挠曲而在Z轴方向上移动，或者臂17的自重平衡变化而对第3转动部施加力矩载荷，由于第2臂部9利用第2万向架机构12b而能够摆动，因此，能够在第3转动部的磁性流体密封件11处不产生泄漏地使第3臂部9顺畅地绕第3轴转动。

第2万向架机构12b的结构是与在Z轴方向上将第1万向架机构12a反向配置的结构相同的结构，与第1万向架机构12a同样地具备用于使多功能管线13通过的气密构造。

图4(a)是表示臂17的外观的俯视图，图4(b)是真空腔室1内是大气压且蒸镀源6位于可动范围的端部附近时的主视图，图4(c)是真空腔室1内被减压且蒸镀源6位于可动范围的中央附近时的主视图。在此，为了便于图示和说明，以第1万向架机构12a的摆动X轴28和第2万向架机构12b的摆动X轴28在轴线32上排列的状态为例进行说明。

在表示真空腔室内为大气压的状态的图4(b)中，作为臂17的Z轴方向的规定尺寸而确保了高度18，但在真空腔室1内被减压且蒸镀源6位于可动范围的中央附近时，如图4(c)所示，臂17从真空腔室的底面受到Z轴正方向的力，从蒸镀源6受到Z轴负方向的力。即使受到力的臂17的Z轴方向的高度变动距离31，也能够通过使第1臂部9和第2臂部10绕第1万向架机构12a和第2万向架机构12b的摆动Y轴23倾斜来应对高度变动。即，即使臂17的Z轴方向的高度变动或者臂17的自重平衡变化，对第1转动部和/或第3转动部施加力矩负载，由于第1万向支架机构12a和第2万向支架机构12b在摆动而吸收变动、力矩负载的同时进行支承，因此，不会对第1转动部～第3转动部的磁性流体密封件11施加过大的负载而产生泄漏或破损。

在本实施方式中，用于使蒸镀源动作的多功能管线经由将第1转动部、第1臂部、第2转动部、第2臂部、第3转动部的内部连通并与真空腔室之外的大气压空间相连的气密构造的导入路，从真空腔室之外导入并与蒸镀源连接。由于第1转动部～第3转动部顺畅地转动，因此能够使蒸镀源6以规定的速度移动，能够进行均匀的成膜，并且能够使臂长寿命化。

[实施方式2]

在实施方式1中，在第1转动部和第3转动部设置有万向架机构，该万向架机构具备用于以能够绕与X轴平行的轴摆动的方式进行支承的摆动X轴和用于以能够绕与Y轴平行的轴摆动的方式进行支承的摆动Y轴23。

与此相对，实施方式2代替万向架机构，在第1转动部和第3转动部配置具备能够相对地进行球面运动的旋转连结部的磁性流体轴承。即，在日本特开2015-121265号公报所记载的装置中，在第1转动部和第3转动部配置配置于第2转动部的能够进行球面运动的磁性流体轴承。能够进行球面运动的磁性流体轴承既可以仅配置于第1转动部和第3转动部，也可以进一步配置于第2转动部。以下，对于与实施方式1共同的事项，省略说明。

在本实施方式中，在真空腔室内被减压且蒸镀源位于可动范围的中央附近时，当臂受到Z轴正方向和Z轴负方向的力时，配置于第1转动部和第3转动部的磁性流体轴承进行球面运动，从而应对高度变动。所谓球面运动，也可以改称为绕与X轴平行的轴及绕与Y轴平行的轴摆动。

即使臂的Z轴方向的高度发生变动，或者臂的自重平衡发生变化，对第1转动部和/或第3转动部施加力矩负载，由于磁性流体轴承进行球面运动而吸收变动，因此，不会对第1转动部～第3转动部的密封部施加过大的负载而产生泄漏或破损。由于第1转动部～第3转动部顺畅地转动，因此能够使蒸镀源以规定的速度移动，能够进行均匀的成膜，并且能够使臂长寿命化。

[实施方式3]

实施方式1以及实施方式2的成膜装置是以使基板的主面成为水平的方式支承基板并使蒸镀源在水平面内方向上移动的成膜装置。与此相对，实施方式3的成膜装置是在蒸镀时一边以使基板的主面成为沿着铅垂方向的朝向的方式支承基板，一边使蒸镀源沿着基板的主面在铅垂方向上移动的成膜装置。对于与实施方式1共同的部分，省略说明。

图6是表示本实施方式的成膜装置100的示意性的剖视图。需要注意的是，对具有与实施方式1相同的功能的构件标注与实施方式1相同的附图标记，但关于设置有构件的位置、朝向，不一定与实施方式1相同。

在真空腔室1的内部，在蒸镀时，以主面成为沿着铅垂方向的朝向的方式支承基板2和掩模4。蒸镀源6以能够沿着基板2的主面的长度方向(图中的Z轴方向)移动的方式被引导构件7支承。

构成本实施方式的臂17的第1臂部9、第2臂部10、磁性流体密封件11、第1万向架机构12a、第2万向架机构12b是与实施方式1相同的构件。但是，臂17不是与真空腔室1的底面而是与侧壁连接。

即使伴随着使真空腔室1的内部减压而侧壁变形，或者在使蒸镀源6移动时引导构件7变形、或者伴随着臂的姿势变化而臂的自重平衡产生变化，由于第1万向架机构12a以及第2万向架机构12b能够摆动地支承臂，因此，在磁性流体密封件11处也不会发生泄漏。

即，本实施方式的成膜装置也可以说具备能够维持真空密封性能且可靠性高的多功能导入机构。

另外，在第1转动部以及第3转动部中，以能够绕与转动轴交叉的摆动轴摆动的方式连接臂部的机构不限于与实施方式1相同的万向架机构。也可以在第1转动部、第3转动部中的任意一方或双方，代替万向架机构而设置与实施方式2同样的能够进行球面运动的旋转连结部。

[实施方式4]

接着，对实施了本发明的成膜系统进行说明。图5是实施了本发明的成膜系统的示意性的结构图，例示了制造有机EL面板的成膜系统300。

成膜系统300具备多个成膜装置100，还具备搬送室1101、搬送室1102、搬送室1103、基板供给室1105、掩模存储室1106、交接室1107、玻璃供给室1108、贴合室1109、取出室1110等。

成膜装置100能够用于有机EL面板的发光层、空穴注入层、空穴输送层、电子输送层、电极层等不同的功能层的成膜，因此，有时成膜材料、掩模等按每个成膜装置而不同。各成膜装置100具备实施方式1或实施方式2中说明的臂和多功能管线导入机构，能够在维持连结部的真空密封性能的同时在真空腔室内使蒸镀源顺畅地移动。各成膜装置100能够实施在将基板设置于掩模后，隔着掩模在基板上形成成膜图案的成膜方法。各成膜装置100既可以是一个成膜腔室具备一个对准装置的装置，也可以是一个成膜腔室具备两个以上对准装置的装置。在具备两个对准装置的情况下，能够在一方的对准装置侧对基板进行蒸镀的期间，在另一方的对准装置侧进行蒸镀完毕的基板的搬出和未蒸镀的基板的搬入，对搬入的基板进行对准动作。这样，在为了提高生产率而在真空腔室内设置多个对准装置的情况下，以蒸镀源能够在对准装置间巡回的方式设定臂的可动范围。

从外部向基板供给室1105供给基板。在搬送室1101、搬送室1102、搬送室1103中配置有作为搬送机构的机器人1120。通过机器人1120进行各室间的基板的搬送。本实施方式的成膜系统300所具备的多台成膜装置100中的、至少一台具备有机材料的蒸镀源。成膜系统300所包含的多个成膜装置100既可以是相互成膜同一材料的装置，也可以是成膜不同材料的装置。例如，在各成膜装置中，也可以蒸镀相互不同的发光颜色的有机材料。在成膜系统300中，在从基板供给室1105供给的基板上蒸镀有机材料或者形成金属材料等无机材料的膜，制造有机EL面板。

在掩模存储室1106中，在各成膜装置100中使用且堆积了膜的掩模由机器人1120输送。通过回收被搬送到掩模存储室1106的掩模，能够清洗掩模。另外，也能够在掩模存储室1106收纳清洗完毕的掩模，由机器人1120设置于成膜装置100。

从外部向玻璃供给室1108供给密封用的玻璃材料。在贴合室1109中，通过在成膜后的基板上贴合密封用的玻璃材料来制造有机EL面板。制造出的有机EL面板从取出室1110取出。

本成膜系统所包含的成膜装置如在实施方式1～实施方式3中说明的那样，具备即使减压时的腔室壁面的变形、蒸镀源移动时的移动机构的变形、臂的自重平衡的变化，也能够维持臂的转动部的真空密封性能的多功能导入机构。

在真空密封的可靠性提高且成膜动作极其稳定的本成膜系统中，由于能够在大面积基板上高精度且高速地成膜，因此，能够以高成品率且高的生产率制造高画质的有机EL面板。

[其他实施方式]

本发明并不限定于以上说明的实施方式，在本发明的技术思想内能够进行多种变形。

例如，在上述实施方式中，在第1转动部和第3转动部配置有能够绕X轴以及绕Y轴摆动的同一种类的机构，但也可以在第1转动部配置万向架机构且在第3转动部配置能够进行球面运动的旋转连结部那样地配置不同种类的机构。

另外，在上述实施方式中，将用于使蒸镀源移动的移动机构与作为多功能管线的导入机构的臂分开设置，但只要对臂本身设置驱动机构而能够如机器人臂那样动作，就能够使臂具有移动机构和多功能管线导入机构这两者的功能。

另外，本发明能够在对有机EL元件的有机膜进行成膜的成膜装置中适当地实施，但也可以用于除此以外的成膜装置。

Claims (7)

1.一种向真空腔室内的多功能管线导入机构，其特征在于，

具备：

真空腔室，内部能够减压；

蒸镀源，能够在所述真空腔室的内部移动；

第1转动部，以能够使第1臂部绕第1轴转动的方式与所述真空腔室的内壁连接，并具有磁性流体密封件；

第2转动部，以能够使第2臂部绕第2轴转动的方式与所述第1臂部连接，并具有磁性流体密封件；以及

第3转动部，以能够使所述第2臂部绕第3轴转动的方式与所述蒸镀源连接，并具有磁性流体密封件，

用于使所述蒸镀源动作的多功能管线经由将所述第1转动部、所述第1臂部、所述第2转动部、所述第2臂部、所述第3转动部的内部连通并与所述真空腔室之外的大气压空间相连的气密构造的导入路，从所述真空腔室之外导入并与所述蒸镀源连接，

所述第1转动部以能够绕与所述第1轴交叉的轴摆动的方式将所述第1臂部连接于所述真空腔室的内壁，

所述第3转动部以能够绕与所述第3轴交叉的轴摆动的方式将所述第2臂部连接于所述蒸镀源。

2.根据权利要求1所述的向真空腔室内的多功能管线导入机构，其特征在于，

所述第1转动部具有以与所述第1轴交叉的轴为摆动轴的万向架机构或能够进行球面运动的旋转连结部。

3.根据权利要求1或2所述的向真空腔室内的多功能管线导入机构，其特征在于，

所述第3转动部具有以与所述第3轴交叉的轴为摆动轴的万向架机构或能够进行球面运动的旋转连结部。

4.根据权利要求1或2所述的向真空腔室内的多功能管线导入机构，其特征在于，

当沿着所述第2轴的轴向观察时，所述第2臂部隔着所述第2转动部配置在比所述第1臂部靠所述第1转动部的一侧的位置。

5.一种成膜装置，其特征在于，

具有权利要求1～4中任一项所述的向真空腔室内的多功能管线导入机构。

6.根据权利要求5所述的成膜装置，其特征在于，

所述蒸镀源是形成有机EL元件的有机膜的蒸镀源。

7.一种成膜系统，其特征在于，

具备多个权利要求6所述的成膜装置。

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