CN108977771B - 真空蒸镀装置及使用了该真空蒸镀装置的设备制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种真空蒸镀装置，所述真空蒸镀装置包括：真空腔室，所述真空腔室定义对被蒸镀体进行蒸镀工序的蒸镀空间，并能够维持成真空状态；蒸发源单元，所述蒸发源单元能够移动地设置在所述真空腔室内，包含收容有向所述被蒸镀体蒸镀的蒸镀物质的蒸发源；及旋转移动部，所述旋转移动部配置在构成所述真空腔室的面与所述蒸发源单元之间，一端部能够转动地连结于所述蒸发源单元，另一端部能够转动地连结于构成所述真空腔室的面，所述旋转移动部的能够转动地与构成所述真空腔室的面连结的所述另一端部与构成所述真空腔室的面连结成能够在朝向所述蒸发源单元的方向即第一方向上相对移动。

Description

真空蒸镀装置及使用了该真空蒸镀装置的设备制造方法

技术领域

本发明涉及真空蒸镀装置及使用该真空蒸镀装置来制造设备的方法，具体而言，涉及用于使旋转移动部与构成真空腔室的面连接的连接结构，该旋转移动部收容有从真空腔室的外部向真空腔室内的蒸发源单元连结的电气性的配线或配管等。

背景技术

最近，作为平板显示器，有机电场发光显示器(OLED)显露头角。有机电场发光显示器是自发光显示器，其响应速度、视场角、薄型化等特性比液晶面板显示器优异，正在以监视器、电视机、智能手机为代表的各种便携终端等中快速地取代既存的液晶面板显示器。而且，在机动车用的显示器等中，其应用领域也在不断扩展。

有机电场发光显示器具有在两个面对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有产生发光的有机物层的基本结构，有机电场发光显示器的有机物层通过在真空状态的真空腔室内使收容于蒸发源的蒸镀物质蒸发而向真空腔室内的被蒸镀体蒸镀来形成。在有机物质的蒸镀所使用的这样的真空蒸镀装置中，必须从真空腔室的外部连结用于向真空腔室内的包含蒸发源的蒸发源单元所包含的各种部件及装置供给电源的配线及配管(用于使蒸发源冷却的冷却水配管等)。

因此，在现有技术中，在构成真空腔室的底面与蒸发源单元之间设有大气臂部。大气臂部由2个臂(第一臂及第二臂)构成，第一臂能够转动地连结于构成真空腔室的底面，第二臂能够转动地连结于蒸发源单元。第一臂与第二臂也能够转动地连结。大气臂部的内部为供各种配线及配管通过的中空部，为了将该内部维持成大气压状态，如专利文献1及2公开所示，各连结部、即第一臂与构成真空腔室的底面之间的连结部、第一臂与第二臂的连结部及第二臂与蒸发源单元之间的连结部通过对真空腔室内部的真空进行密封(seal)的磁性流体密封而连接。

【专利文献1】日本公开专利2009-130559

【专利文献2】日本登记专利1665380

发明内容

【要解决的课题】

在真空蒸镀装置中，当为了进行有机物的蒸镀而使真空腔室的内部成为减压状态时，存在构成真空腔室的面由于真空腔室内外的压力差而变形的问题。

在以往的真空蒸镀装置中，大气臂(与构成真空腔室的面侧连接的第一臂)通过磁性流体密封而固定于构成真空腔室的面，因此在对真空腔室内部进行真空排气时，如果发生变形，则其变形力直接向大气臂与构成真空腔室的面之间即连结部传递。即，真空排气时的真空腔室的变形力主要在与构成真空腔室的面垂直的方向上产生，但是由于大气臂与构成真空腔室的底面相互固定地连结，因此在真空腔室产生较大的垂直方向的变形力的情况下，该变形力直接向大气臂的各连结部传递，存在如下情况：在大气臂的各连结部为了真空密封而设置的磁性流体密封破损或寿命缩短，而且，在大气臂的旋转时产生振动或产生噪音。

本发明的目的在于提供一种降低由构成真空腔室的面的变形产生的垂直方向的负载对大气臂部造成的影响，防止大气臂部与构成真空腔室的面之间的连结部的磁性流体密封的破损或寿命缩短的问题的真空蒸镀装备。

【课题的解决方案】

本发明的一形态的真空蒸镀装置的特征在于，包括：真空腔室，所述真空腔室对被蒸镀体进行蒸镀；蒸发源单元，所述蒸发源单元能够移动地设置在所述真空腔室内，并包含收容有向所述被蒸镀体蒸镀的蒸镀物质的蒸发源；及旋转移动部，所述旋转移动部配置在构成所述真空腔室的面与所述蒸发源单元之间，一端部能够转动地连结于所述蒸发源单元，另一端部能够转动地连结于构成所述真空腔室的面，所述旋转移动部的能够转动地与构成所述真空腔室的面连结的所述另一端部与构成所述真空腔室的面连结成能够在朝向所述蒸发源单元一侧的方向即第一方向上相对移动。

本发明的另一形态的真空蒸镀装置的特征在于，还包括倾斜限制部，所述倾斜限制部用于限制所述旋转移动部的能够转动地与构成所述真空腔室的面连结的所述另一端部向与所述第一方向交叉的第二方向倾斜。

【发明效果】

根据本发明，设置在构成真空腔室的面与蒸发源单元之间的旋转移动部设置成能够在与构成真空腔室的面垂直的方向(第一方向)上相对移动(即，浮动状态)，因此能够吸收在对真空腔室内部进行真空排气时产生的与构成真空腔室的面垂直的方向(第一方向)上的变形，能够减少磁性流体密封的破损或旋转移动部在旋转时的噪音/振动。

另外，根据本发明，通过设置倾斜限制部，能够抑制旋转移动部与构成真空腔室的面之间的连结部向与构成真空腔室的面平行的方向(第二方向)的倾斜，能够减少真空漏泄的问题及旋转移动部在旋转时的噪音/振动。

附图说明

图1是概略性地表示本发明的一实施例的真空蒸镀装置的结构的附图。

图2是概略性地表示用于使图1的真空蒸镀装置的蒸发源单元移动的蒸发源移动机构及旋转移动部的附图。

图3是表示图2的旋转移动部与构成真空腔室的底面的连结部分的剖视图。

图4是表示本发明的另一实施例的旋转移动部与构成真空腔室的底面的连结部分的剖视图。

图5是用于说明本发明的设备制造方法的流程图。

【附图标记说明】

1：真空蒸镀装置

2：蒸发源单元

21：蒸发源

3：真空腔室

31：入口

4：被蒸镀体(A台)

5：被蒸镀体(B台)

6：蒸发源移动机构

7：旋转移动部

71：中空部

72：第一臂

721：旋转轴

73：第二臂

8：连接部

9：磁性流体密封

10：O形密封圈

11：衬套

12：倾斜限制机构

121：嵌合部

122：腔室侧固定部

123：空间

13：微粒收集托盘

具体实施方式

以下，参照附图，详细说明本发明的实施例。本发明可以进行多种变更，可以具有多种实施例。虽然基于附图而例示说明特定的实施例，但是本发明没有限定为该特定的实施例，应理解为包括本发明的思想及技术范围中所包含的全部的变更、等同物或替代物。

(第一实施例)

图1是概略性地表示本发明的一实施例的真空蒸镀装置的整体的结构的附图。如图1的(a)所示，本发明的一实施例的真空蒸镀装置(1)包括定义在减压气氛下对被蒸镀体(例如，基板)进行蒸镀的空间的真空腔室(3)及使蒸镀物质蒸发并使其放出的蒸发源单元(2)。

蒸发源单元(2)包括蒸发源(21)，该蒸发源(21)由收容蒸镀物质的收容部和用于对蒸镀物质进行加热而使其蒸发的加热部等构成。蒸发源(21)是具备朝向被蒸镀体(4、5)的蒸镀面放出蒸镀材料的多个放出孔或喷嘴的结构，但是并不局限于此，只要与被蒸镀体(4、5)、掩模的图案、蒸镀物质的种类等相适应地适当选定即可，例如可以在点源、线源、或小型的蒸镀物质收容部中使用与具有放出蒸镀材料的多个放出孔的扩散室连接的构造的蒸发源等。

另外，如图1的(b)所示，本发明的真空蒸镀装置(1)还包括将从蒸发源(21)蒸发并朝向被蒸镀体(4)喷射的蒸镀物质隔断或使其通过的开闭挡板(未图示)、对从蒸发源(21)放出的蒸镀材料的蒸发率进行监视的膜厚监视器(218)、接受来自膜厚监视器(218)的输入信号并计测膜厚的膜厚计(217)、对设置于蒸发源(21)的加热装置进行控制的电源(216)、保持被蒸镀体(4、5)并能够使被蒸镀体相对于掩模(214)或蒸发源相对地移动的被蒸镀体保持架(213)、保持掩模(214)并能够使掩模相对于被蒸镀体或蒸发源(21)相对地移动的掩模保持架(215)等其他的结构部件。

具有这样的结构的真空蒸镀装置(1)在使真空腔室(3)内成为减压气氛的状态下对蒸发源单元(2)的蒸发源(21)内收容的蒸镀物质进行加热、使其蒸发，使蒸发后的蒸镀物质通过形成有规定图案的掩模(214)或图案片，在被蒸镀体(4或5)上形成要求图案的蒸镀物质的薄膜。关于使用本发明的真空蒸镀装置(1)制造有机EL显示器设备的具体的方法，在后文叙述。

包含蒸发源(21)的蒸发源单元(2)通常在真空腔室(3)的下方配置一个，为了利用一个蒸发源单元对被蒸镀体整体蒸镀厚度均匀的薄膜，一边使蒸发源单元(2)沿被蒸镀体的长度方向滑动移动，一边进行蒸镀。

图1的(a)的真空蒸镀装置(1)图示出所谓“双机系统”结构的真空蒸镀装置，在该真空蒸镀装置中，向一个真空腔室(3)内送入2个被蒸镀体，在对其中的一个被蒸镀体(4)进行蒸镀期间(例如，A侧台)，对另一个被蒸镀体(5)(例如，B侧台)进行掩模与被蒸镀体之间的整齐排列(对准)。

在这样的双机系统结构的真空蒸镀装置中，除了在各个台内进行蒸镀工序时的、使蒸发源单元(2)沿被蒸镀体的长度方向移动的上述滑动移动之外，也进行使蒸发源单元(2)在各台间移动的动作。以下，列举双机系统结构的真空蒸镀装置的例子来说明本发明的结构，但是并不局限于此，本发明能够适用于在真空腔室内伴有蒸发源单元移动的情况。

这样的包含蒸发源(21)的蒸发源单元(2)一边沿着在真空腔室(3)的下方设置的蒸发源移动机构(6)在与被蒸镀体(4)相向的面内进行水平移动，一边对被蒸镀体(4)进行扫描蒸镀。蒸发源移动机构(6)是对蒸发源(21)提供其线性移动的驱动力且用于引导其移动的机构，由提供驱动力的线性马达和通过马达的驱动而对移动进行引导的齿条齿轮结合结构等构成。生成驱动力的线性马达等结构部件可以收纳配置于在蒸发源(21)的下部设置的大气箱内。

在这样构成的真空蒸镀装置(1)中，如前所述，对于在进行蒸镀工序期间将蒸镀物质加热而使其蒸发的蒸发源(21)的加热部、向蒸发源(21)提供移动驱动力的线性马达等必须进行电源的供给，因此，必须从真空腔室的外部连结供给电源用的电气配线。而且，在蒸发源单元(2)，除了这样的电气配线以外，也可以从真空腔室(3)的外部连结用于使对被加热后的蒸发源(21)进行冷却的冷却水循环的配管等。

作为向蒸发源单元(2)提供来自真空腔室(3)外部的电气配线或配管的结构，在本发明中使用具有中空内部的旋转移动部(7)。旋转移动部(7)设置于在构成真空腔室(3)的底面形成的入口(31)与蒸发源单元(2)之间，其内部为维持大气压的中空部(71)。在旋转移动部(7)的中空部(71)配设有从真空腔室外部向蒸发源单元(2)连结的各种电气配线及配管。蒸发源单元(2)在通过这样的旋转移动部(7)连结有电气配线及配管的状态下，一边在真空腔室(2)内移动，一边进行蒸镀工序。

以下，详细说明旋转移动部(7)的结构。

旋转移动部(7)如前所述配置在构成真空腔室(3)的底面与蒸发源单元(2)之间，一端部能够转动地连结于蒸发源单元(2)，另一端部能够转动地连结于构成真空腔室(3)的底面。具体而言，如图2所示，旋转移动部(7)具有将2个臂(72、73)相互以连杆构造连结的结构，该2个臂(72、73)分别能够转动地连接于构成真空腔室(3)的底面与蒸发源单元(2)侧。即，旋转移动部(7)包括：一端能够转动地与构成真空腔室(3)的底面的入口(31)侧连结的第一臂(72)；以及一端能够转动地与蒸发源单元(2)的大气箱的下部连结的第二臂(73)。第一臂(72)的另一端与第二臂(73)的另一端也能够转动地连结，第一臂和第二臂在构成真空腔室(3)的底面与蒸发源单元(2)之间整体性地形成连杆构造的连结构造。通过这样的构造，旋转移动部(7)一边对蒸发源单元(2)提供电气配线及配管连结，一边随动于蒸发源单元(2)的移动而移动。

旋转移动部(7)与蒸发源单元(2)及构成真空腔室(3)的底面壳体之间的各连结部(即，蒸发源单元(2)与第二臂(73)的连结部、第二臂(73)与第一臂(72)的连结部、第一臂(72)与构成真空腔室(3)的底面的连结部)基本上使用磁性流体密封等连接构件对维持成大气压的旋转移动部(7)内部的中空部(71)和处于真空状态的旋转移动部(7)外部的真空腔室(3)内的空间进行真空密封(seal)，以便在维持各自的大气压/真空状态的同时进行连结。磁性流体密封能够在容许连结构件间的相对旋转的同时进行真空密封，因此适合作为旋转移动部(7)的基本的连结部进行使用的情况。

在本发明的真空蒸镀装置(1)中，将旋转移动部(7)或第一臂(72)与构成真空腔室(3)的底面连接成，能够在朝向蒸发源单元(2)一侧的方向、即作为与构成真空腔室(3)的底面垂直的方向的第一方向上相对移动(即，相对于构成真空腔室的底面而浮动)。由此，能够吸收由真空腔室的变形引起的、与构成真空腔室的面垂直的方向(第一方向)上的负载，减少向旋转移动部(7)传递的变形力。

具体而言，如图3所示，在本发明的一实施例的真空蒸镀装置(1)中，第一臂(72)的旋转轴(721)经由连接部(8)进入构成真空腔室(3)的底面的入口(31)而连结，该连接部(8)在与构成真空腔室(3)的底面垂直的第一方向上能够相对移动(即，浮动状态)。此时，第一臂的旋转轴(721)与连接部(8)之间通过铁磁密封(ferroseal)等磁性流体密封(9)以仅容许相对旋转的方式进行真空密封，在与构成真空腔室的面侧连接的连接部(8)的另一端侧的连结部位、即连接部(8)与构成真空腔室的底面的入口(31)的内壁之间通过O形密封圈(O-ring；10)进行真空密封。磁性流体密封(9)使第一臂与连接部(8)之间的密封可靠，并且没有摩擦损失地容许第一臂(72)的旋转轴(721)相对于连接部(8)相对旋转。另一方面，连接部(8)的另一端侧、即连接部(8)与构成真空腔室的底面的入口(31)的内壁之间使用容许第一方向上的相对移动的O形密封圈(O-ring；10)进行真空密封，因此包含连接部(8)的第一臂(72)以整体上能够相对于构成真空腔室(3)的面转动、且沿第一方向(在图3中，上下方向)相对于构成真空腔室(3)的面浮动的状态、即能够相对移动的状态，连结于构成真空腔室的面侧。因此，即使在如前述那样真空排气时相对于构成真空腔室的面发生变形的情况下，这样的变形产生的第一方向上的负载也不会直接作用或者至少相对降低地作用于构成旋转移动部(7)的第一臂(72)侧，能够防止现有技术的蒸镀工序中的磁性流体密封的破损等问题。

以上，基于实施例的结构而说明了本发明，但是本发明可以具有多种变形例的结构。

例如，在以上说明的实施例中，在旋转移动部(7)的第一臂(72)与构成真空腔室(3)的底面之间夹设连接部(8)，第一臂(72)与连接部(8)之间的连接通过磁性流体密封进行密封，连接部(8)与构成真空腔室(3)的底面之间的连接通过O形密封圈进行密封，但只要是能够将第一臂(72)与构成真空腔室(3)的底面以沿第一方向浮动的状态进行真空密封即可，并不限定于上述结构。例如，也可以不另行设置连接部(8)，而是使用O形密封圈及轴承将第一臂(72)的旋转轴(721)与构成真空腔室(3)的底面的入口(31)之间连接。这种情况下，第一臂(72)也以相对于构成真空腔室(3)的底面能够转动且容许第一方向上的相对移动的方式连结于构成真空腔室(3)的底面壳体，因此能够达成本发明的效果。但是，更优选的是，如前述的实施例那样，夹设连接部(8)，利用几乎没有摩擦损失的磁性流体密封进行转动部位的真空密封，仅在用于容许第一方向上的相对移动的部位通过O形密封圈进行连接。

另外，在本实施例中，以在构成真空腔室(3)的底面与蒸发源单元(2)之间设置旋转移动部(7)的结构为中心进行了说明，但是本发明没有限定于此，也可以适用于蒸发源单元(2)不是与构成真空腔室(3)的底面而是与上表面或侧面等壁面相邻设置，旋转移动部(7)设置在蒸发源单元(2)与构成真空腔室的上表面或侧面之间的情况，或者旋转移动部(7)为了向设置在真空腔室内的其他移动体供给电源或配线而设置在构成真空腔室的面与该移动体之间的情况。

(第二实施例)

以下，参照图4，说明本发明的第二实施例的结构。

本发明的第二实施例与第一实施例的不同点在于，还追加有倾斜限制机构(12)，该倾斜限制机构(12)用于限制能够转动地与构成真空腔室(3)的底面连结的旋转移动部(7)、即第一臂(72)向与第一方向交叉的第二方向(例如，在图4中，与构成真空腔室的底面平行的方向)倾斜。除此以外的结构与第一实施例的结构相同，因此省略对相同结构的说明。

如前所述，第一实施例的结构主要用于解决由于在真空腔室(3)内部的真空排气时产生的、构成真空腔室的面的变形而作用于旋转移动部(7)的第一方向上的负载造成的影响。然而，在真空排气时，如果真空腔室发生变形，则在旋转移动部(7)上，除了作用有第一方向的负载以外，还同时作用有第二方向的负载。

在此，在第二实施例中，为了防止连接部(8)向第二方向的倾斜而追加地设有倾斜限制机构(12)。具体而言，如图4所示，本发明的倾斜限制机构(12)包括一端固定于连接部(8)的上部并沿第二方向延伸的嵌合部(121)及从构成真空腔室(3)的底面沿第一方向延长的轴形状(例如圆筒状)的腔室侧固定部(122)。嵌合部(121)与腔室侧固定部(122)以嵌合部(121)的另一端嵌合于轴形状的腔室侧固定部(122)的方式设置。即，嵌合部(121)的另一端包括与腔室侧固定部(122)嵌合的凹部，腔室侧固定部(122)包括具有与嵌合部(121)的凹部的形状相应的形状的突起。嵌合部(121)与腔室侧固定部(122)在第一方向上在双方之间空出规定的空间(123)地进行嵌合，以便能够进行第一方向上的相对移动。这样的空间(123)在第一方向上的长度优选考虑真空排气时构成真空腔室的面在第一方向上的变形的大小来决定。由此，嵌合部(121)在第一方向上动作未受限制(浮动状态)，而第二方向上的动作(倾斜)由腔室侧固定部(122)限制。

嵌合部(121)以与构成真空腔室的底面上固定的腔室侧固定部(122)嵌合的凹部的方式形成的结构由于能够减少由于嵌合部(121)与腔室侧固定部(122)的摩擦而产生的微粒的向被蒸镀体侧的飞散，因此优选，但是没有限定于此，也可以例如是嵌合部(121)的另一端形成为沿第一方向延伸的轴形状，该嵌合部(121)的轴嵌合于在构成真空腔室的底面上固定的作为腔室侧固定部的凹部。但是，在该变形例的情况下，为了避免由于嵌合部(121)与腔室侧固定部(122)之间的摩擦而产生的金属性微粒对被蒸镀体造成影响，优选设置微粒飞散防止机构。例如，为了防止金属性微粒的飞散而可以设置由磁性物质构成的飞散防止机构。

通过这样的结构，连接部(8)的下部由衬套(11)限制，连接部(8)的上部由作为倾斜限制机构(12)的嵌合部(121)及腔室侧固定部(122)限制，从而能够防止第二方向的倾斜。即，在连接部(8)的上下部分别支承连接部的支承点间的距离变大，连接部整体的第二方向上的倾斜角度减小，对连接部(8)与构成真空腔室(3)的底面的入口(31)进行真空密封的多个O形密封圈能够有效地发挥作用。

另一方面，包含嵌合部(121)及腔室侧固定部(122)的倾斜限制机构(12)优选在连接部(8)的周围配置多个，例如3个以上。为了提高倾斜限制效果，也可以将倾斜限制机构(12)在连接部(8)的周围连续地形成。

以上，说明了本发明的第二实施例的结构，但是也可以是多种追加的变形例的结构。在第二实施例的结构中，嵌合部(121)和腔室侧固定部(122)如前所述基本上以能够沿第一方向浮动的方式设置。因此，由于该第一方向上的相对移动引起的摩擦，可能会产生金属性微粒且金属性微粒落下。为了减少这样的金属性微粒对被蒸镀体造成的影响，更优选在腔室侧固定部(122)的下部的周围还设置收集该金属性微粒的落下物的托盘(13)。微粒收集托盘(13)为了防止金属性微粒向真空腔室(3)的蒸镀空间飞散而对被蒸镀体造成影响，优选具有“L”字形状的端面且在腔室侧固定部(122)的周围连续地形成。微粒收集托盘的材质没有特别限定，但是考虑到金属性微粒的收集容易性，可以设为磁性物质。

(使用本发明的真空蒸镀装置的设备的制造方法)

以下，参照图1、5，具体说明使用本发明的真空蒸镀装置来制造设备的方法。

首先，蒸发源21为了使蒸镀材料气化而通过电源216对设置于蒸发源21的加热装置进行控制。此时，设置于蒸发源21的挡板(未图示)关闭，避免气化后的蒸镀材料向真空腔室3内放出。在挡板关闭的状态下，接通设置于蒸发源21的加热装置的电源(S1)。形成有要向被蒸镀体蒸镀的图案的掩模214由传送机构(未图示)送入真空腔室3内，载置于保持掩模的掩模保持架215。掩模保持架215具有移动机构，使掩模214的位置移动到规定的位置(S2)。此时，管理掩模的控制部(未图示)将掩模使用次数M设为1。

在该状态下，作为被蒸镀蒸镀材料的对象的被蒸镀体4由传送机构向真空腔室3内送入，载置于被蒸镀体保持架213。接下来，基于设置于掩模214的对准标记和设置于被蒸镀体4的对准标记，通过被蒸镀体保持架213的移动机构使掩模214移动，进行掩模214与被蒸镀体4的对准(S3)。也可以将被蒸镀体4送入真空腔室3内，通过被蒸镀体保持架213配置在规定的位置之后，通过掩模保持架215使掩模214移动，进行掩模214与被蒸镀体4的对准，以此取代对被蒸镀体保持架213进行移动控制来进行掩模214与被蒸镀体4的对准的情况。

在对准结束后，将蒸发源21的挡板打开，将成膜材料放出，按照掩模214的图案在被蒸镀体4上进行蒸镀(S4)。

为了在被蒸镀体4整体以均匀的厚度进行蒸镀，通过蒸发源移动机构使蒸发源21沿着与图1的(b)的纸面垂直的方向移动(例如滑动移动)。为了向蒸发源21等供给电源等，将配置在蒸发源21和构成真空腔室的底面之间的旋转移动部7与构成真空腔室3的底面连结成能够相对于与构成真空腔室3的底面垂直的第一方向相对移动，因此在蒸发源21一边移动一边进行蒸镀时，能够降低构成真空腔室的面的变形对蒸发源21的移动造成的影响，能够向被蒸镀体4进行厚度均匀的蒸镀。

此时，晶体振子等膜厚监视器218计测蒸发率，通过膜厚计217换算成膜厚。使蒸镀持续至通过膜厚计217换算后的膜厚成为目标膜厚为止(S5)。在通过膜厚计217换算后的膜厚达到目标膜厚之后，将蒸发源21的挡板关闭并结束蒸镀。然后，通过传送机构将被蒸镀体4向真空腔室3外送出(S6)。掩模214在前述的掩模使用次数M成为规定次数以上(n≥2)时进行更换。在使用次数M小于规定次数n时，设为M+1，送入下一被蒸镀体4并以同样的工序进行蒸镀(S7)。掩模214的更换频度可以根据蒸镀材料向掩模214的堆积状况等而适当决定。

经由这样的工序，能够制造出有机EL显示器设备那样的设备，但是本发明的设备方法并不局限于此，各工序的具体构成可以适当设计。

根据以上说明的本发明，能够降低构成真空腔室的面在真空腔室的真空排气时产生的变形引起的第一及/或第二方向的负载对旋转移动部(7)造成的影响，能够防止旋转移动部(7)的连结部处的磁性流体密封的破损或旋转移动部在旋转时的噪音/振动，而且能够解决真空漏泄的问题。

Claims (15)

1.一种真空蒸镀装置，其中，

所述真空蒸镀装置包括：

真空腔室，所述真空腔室对被蒸镀体进行蒸镀；

蒸发源单元，所述蒸发源单元能够移动地设置在所述真空腔室内，并包含收容有向所述被蒸镀体蒸镀的蒸镀物质的蒸发源；

旋转移动部，所述旋转移动部配置在构成所述真空腔室的面与所述蒸发源单元之间，一端部能够转动地连结于所述蒸发源单元，另一端部插入被设置在构成所述真空腔室的面上的开口中并能够转动地进行连结；及

连接部，所述连接部能够转动地与所述旋转移动部的旋转轴部连接，

所述连接部与所述旋转轴部之间通过磁性流体密封进行真空密封，并且所述连接部与所述开口之间通过O形密封圈进行真空密封，以使所述开口与插入该开口内的所述旋转移动部的所述另一端部在与构成所述真空腔室的面垂直的第一方向上能够相对移动。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其中，

所述旋转移动部包括：一端插入被设置在构成所述真空腔室的面上的所述开口中并能够转动地进行连结的第一臂；以及各端部能够转动地分别与所述第一臂的另一端及所述蒸发源单元连结的第二臂，

所述开口与插入该开口内的所述第一臂的所述一端以在所述第一方向上能够相对移动的方式被真空密封。

3.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其中，

插入所述开口内的所述第一臂的所述一端包括所述旋转轴部，

所述连接部与所述开口以在所述第一方向上能够相对移动的方式被真空密封。

4.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其中，

所述真空蒸镀装置还包括倾斜限制部，所述倾斜限制部用于限制插入所述开口内的所述旋转移动部的所述另一端部向与所述第一方向交叉的第二方向倾斜。

5.根据权利要求2所述的真空蒸镀装置，其中，

所述真空蒸镀装置还包括倾斜限制部，所述倾斜限制部用于限制插入所述开口内的所述第一臂的所述一端向与所述第一方向交叉的第二方向倾斜。

6.根据权利要求3所述的真空蒸镀装置，其中，

所述真空蒸镀装置还包括倾斜限制部，所述倾斜限制部用于限制插入所述开口内的所述第一臂的所述一端的所述连接部向与所述第一方向交叉的第二方向倾斜。

7.根据权利要求6所述的真空蒸镀装置，其中，

所述倾斜限制部包括从构成所述真空腔室的面沿所述第一方向突出而形成的腔室侧固定部、以及连结于所述第一臂的所述一端的所述连接部并沿所述第一方向与所述腔室侧固定部嵌合的嵌合部，通过所述腔室侧固定部与所述嵌合部的嵌入结合来限制所述第一臂的所述一端的所述连接部向所述第二方向倾斜。

8.根据权利要求7所述的真空蒸镀装置，其中，

所述腔室侧固定部包括从构成所述真空腔室的面沿所述第一方向突出而形成的轴形状的突起，所述嵌合部包括能够收容所述突起的凹部。

9.根据权利要求7所述的真空蒸镀装置，其中，

所述腔室侧固定部具有从构成所述真空腔室的面沿所述第一方向突出而形成的凹部，所述嵌合部包括能够收容于所述凹部内的轴形状的突起。

10.根据权利要求4～9中任一项所述的真空蒸镀装置，其中，

所述倾斜限制部在所述旋转移动部与构成所述真空腔室的面之间的连结部周围配置多个。

11.根据权利要求10所述的真空蒸镀装置，其中，

所述倾斜限制部在所述旋转移动部与构成所述真空腔室的面之间的连结部周围配置三个以上。

12.根据权利要求4～9中任一项所述的真空蒸镀装置，其中，

所述倾斜限制部在所述旋转移动部与构成所述真空腔室的面之间的连结部周围连续地配置。

13.根据权利要求7或8所述的真空蒸镀装置，其中，

所述真空蒸镀装置还包括设置在所述腔室侧固定部的下部周边的微粒收集托盘。

14.一种真空蒸镀装置，其中，

所述真空蒸镀装置包括：

真空腔室，所述真空腔室定义对被蒸镀体进行蒸镀工序的蒸镀空间，能够维持成真空状态；

移动体，所述移动体能够移动地设置在所述真空腔室内；

旋转移动部，所述旋转移动部的一端部能够转动地连结于所述移动体，另一端部插入被设置在构成所述真空腔室的面上的开口中并能够转动地进行连结，所述旋转移动部的内部包括维持成大气压的中空部；及

连接部，所述连接部能够转动地与所述旋转移动部的旋转轴部连接，

所述连接部与所述旋转轴部之间通过磁性流体密封进行真空密封，并且所述连接部与所述开口之间通过O形密封圈进行真空密封，以使所述开口与插入该开口内的所述旋转移动部的所述另一端部在与构成所述真空腔室的面垂直的第一方向上能够相对移动。

15.一种设备制造方法，其特征在于，使用权利要求1～9、14中任一项所述的真空蒸镀装置来制造设备。

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