JP2018142694A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110534452B (zh) * 2018-11-08 2022-06-14 北京北方华创微电子装备有限公司 用于清洗工艺腔室的漏液监控装置及清洗工艺腔室
JP7364460B2 (ja) 2019-12-25 2023-10-18 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP7487006B2 (ja) * 2020-05-19 2024-05-20 東京エレクトロン株式会社 基板液処理装置及び基板液処理方法
JP7509657B2 (ja) * 2020-10-29 2024-07-02 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
TWI762072B (zh) * 2020-12-08 2022-04-21 力晶積成電子製造股份有限公司 晶圓清洗機台
DE102021100754A1 (de) * 2021-01-15 2022-07-21 Marco Systemanalyse Und Entwicklung Gmbh Dosierventil
JP2024120202A (ja) 2023-02-24 2024-09-05 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置及び基板処理方法
JP2024158822A (ja) * 2023-04-28 2024-11-08 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2010521C3 (de) 1969-03-11 1974-05-09 Snam Progetti S.P.A., Mailand (Italien) Vorrichtung zur gleichzeitigen und quantitativen Bestimmung der Detonation und Frühzündung
JPH0770507B2 (ja) * 1989-07-05 1995-07-31 三菱電機株式会社 半導体ウエハ用洗浄装置
JP3577580B2 (ja) * 1998-03-17 2004-10-13 東京エレクトロン株式会社 空気駆動式液体供給装置
JP3730079B2 (ja) * 2000-03-21 2005-12-21 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
CN101436001B (zh) * 2003-07-28 2012-04-11 株式会社尼康 曝光装置、器件制造方法
JP2006156672A (ja) * 2004-11-29 2006-06-15 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 基板処理装置
JP5073310B2 (ja) * 2007-02-13 2012-11-14 武蔵エンジニアリング株式会社 漏液検知機構およびそれを備えた液体材料塗布装置
JP5030767B2 (ja) * 2007-12-25 2012-09-19 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置、および基板処理装置の異常処理方法
KR20100046784A (ko) * 2008-10-28 2010-05-07 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 방법
CN103295938B (zh) * 2013-05-29 2017-10-10 上海华虹宏力半导体制造有限公司 半导体处理设备
JP6059087B2 (ja) * 2013-05-31 2017-01-11 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法および記憶媒体
CN109037111B (zh) * 2015-02-25 2022-03-22 株式会社思可林集团 基板处理装置
JP6534578B2 (ja) * 2015-08-03 2019-06-26 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
JP6624599B2 (ja) * 2015-08-05 2019-12-25 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および処理液吐出方法

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