JP2018055054A - 回転冷却装置、波長変換装置、光拡散装置、光源装置及びプロジェクター - Google Patents

Abstract

【課題】騒音を低減できる回転冷却装置、波長変換装置、光拡散装置、光源装置及びプロジェクターを提供すること。
【解決手段】回転装置と、冷却対象が接続され、前記回転装置によって回転される基板と、前記基板における前記冷却対象が接続される第１面及び当該第１面とは異なる第２面のいずれかに位置する放熱部と、を有し、前記放熱部は、前記基板から起立する方向に沿う第１方向に突出し、かつ、前記基板の回転中心側から外周側に向かう第２方向に延出し、前記基板の回転方向に沿って配列された複数のフィンを有し、前記複数のフィンにおける前記第１方向の先端部のうち、前記基板が回転される際に前記複数のフィン間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する下流側端部は、前記基板の回転軸に交差し、かつ、前記下流側端部より上流側に位置する前記先端部を通る仮想面より前記第１方向とは反対方向側に位置している回転冷却装置。
【選択図】図７

Description

本発明は、回転冷却装置、波長変換装置、光拡散装置、光源装置及びプロジェクターに関する。

従来、光源装置と、当該光源装置から出射された光を変調して画像情報に応じた画像を形成する光変調装置と、形成された画像をスクリーン等の被投射面上に拡大投射する投射光学装置と、を備えたプロジェクターが知られている。
このようなプロジェクターに用いられる光源装置として、半導体レーザー及び反射型カラーホイールを有する光源装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。

この特許文献１に記載の光源装置では、反射型カラーホイールは、回転機構としてのモーターにより回転される基板を有し、当該基板において鏡面処理が施された片面は、２度毎に複数のセグメントに分けられている。これらセグメントには、半導体レーザーから入射される励起光によって励起されて赤色光、緑色光及び青色光をそれぞれ発する蛍光体層が、基板の回転方向に沿って順に形成されている。このような基板が回転され、励起光が入射される蛍光体層が順次切り替わることにより、各色光が順次出射される。

このような反射型カラーホイールにおける蛍光体層は、励起光の入射に応じて発熱する一方で、温度が高くなりすぎると励起光の波長変換効率が低下する。このため、上記反射型カラーホイールでは、基板における裏面に放熱部として機能する複数のフィンが一体的に形成されている。このようなフィンとして、基板の回転中心を中心とする同心円状に形成された複数のフィン、当該回転中心を中心として放射状に形成された複数のフィン、及び、当該回転中心を中心とする渦巻状に形成された複数のフィンが挙げられている。

特開２０１２−１３８９７号公報

ところで、上記反射型カラーホイールは、蛍光体層と、当該蛍光体層を冷却する冷却装置と、を備え、当該冷却装置は、例えば、上記基板に位置する放熱部及び当該放熱部を回転させるモーター等の回転装置を備える回転冷却装置により構成される。このような回転冷却装置では、基板の回転に伴って当該基板に位置する複数のフィン間に冷却気体が流通することによって、当該フィンを冷却し、ひいては、当該フィンに伝達された基板（冷却対象）の熱が放熱される。

しかしながら、上記基板が回転する際に当該複数のフィン間を流通する冷却気体の上流の部位側及び下流の部位での当該複数のフィンの基板から起立する方向の起立寸法が、略同じである場合、回転装置の駆動により基板が回転すると、複数のフィンにおける冷却気体の下流側端部と冷却気体とが衝突する際の空気抵抗が比較的高くなり、外力が生じやすい。このため、当該フィンにおける上記下流側端部により生じる当該フィンにおける回転方向側の圧力と、当該フィンにおける回転方向とは反対方向側の圧力との差（圧力差）が大きくなるので、当該フィン（特に上記下流側端部）による冷却気体の風切音が大きくなる。特に、冷却気体が基板の回転中心から外周方向に向かってフィン間を流通する場合、放熱部の外周側の周速が高いことから、当該複数のフィンにおける下流側端部と冷却気体とが衝突する際の空気抵抗が最も高くなり、上記風切音が最も大きくなる。

また、上記特許文献１に記載の反射型ホイールが有する基板においては、冷却気体は、当該基板の第２面に沿って上記下流側端部まで当該冷却気体が流通する。このように、下流側端部まで流通する冷却気体は、当該下流側端部において当該冷却気体が沿う面が無くなるため、当該第２面に沿って流通する冷却気体の流速が急激に低下する。このように、基板の下流側端部近傍において、冷却気体の流速が急激に変化するため、当該下流側端部近傍の領域において、圧力変動が生じ、当該基板の回転に伴う騒音が発生する。
すなわち、複数のフィン及び基板が上記のような形状である場合、上記基板の回転に伴って、騒音が生じるという課題がある。

本発明は、上記課題の少なくとも１つを解決することを目的とするものであり、騒音を低減できる回転冷却装置、波長変換装置、光拡散装置、光源装置及びプロジェクターを提供することを目的の１つとする。

本発明の第１態様に係る回転冷却装置は、回転装置と、冷却対象が接続され、前記回転装置によって回転される基板と、前記基板における前記冷却対象が接続される第１面及び当該第１面とは異なる第２面のいずれかに位置する放熱部と、を有し、前記放熱部は、前記基板から起立する方向に沿う第１方向に突出し、かつ、前記基板の回転中心側から外周側に向かう第２方向に延出し、前記基板の回転方向に沿って配列された複数のフィンを有し、前記複数のフィンにおける前記第１方向の先端部のうち、前記基板が回転される際に前記複数のフィン間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する下流側端部は、前記基板の回転軸に交差し、かつ、前記下流側端部より上流側に位置する前記先端部を通る仮想面より前記第１方向とは反対方向側に位置していることを特徴とする。

上記第１態様では、各フィンにおける上記下流側端部は、基板の回転軸に交差し、かつ、下流側端部より上流側に位置する先端部を通る仮想面より上記第１方向とは反対方向側に位置している、すなわち、各フィンにおける上記下流側端部の起立寸法は、各フィンにおける下流側端部よりも上流側の部位（上記先端部）の起立寸法より小さい。このため、基板の回転に伴って当該各フィンを備える放熱部が回転しても、上記上流側の部位及び下流側端部において上記寸法が略同じに設定されている放熱部が回転した場合に比べて、各フィンの下流側端部により生じる上記圧力差を小さくできる。これにより、上記フィンを備える放熱部が回転することにより生じる風切音を小さくできる。
また、冷却気体が基板の回転中心から外周方向に向かってフィン間を流通する際に、複数のフィンにおける外周側に位置する下流側端部と冷却気体とが衝突する際の空気抵抗を低減できるので、上記風切り音を小さくできる。従って、回転冷却装置の騒音を低減できる。

本発明の第２態様に係る回転冷却装置は、回転装置と、冷却対象が接続され、前記回転装置によって回転される基板と、前記基板における前記冷却対象が接続される第１面及び当該第１面とは異なる第２面のいずれかに位置する放熱部と、を有し、前記放熱部は、前記基板から起立する方向に沿う第１方向に突出し、かつ、前記基板の回転中心側から外周側に向かう第２方向に延出し、前記基板の回転方向に沿って配列された複数のフィンを有し、前記基板における前記第１方向の先端部のうち、前記基板が回転される際に前記複数のフィン間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する下流側端部は、前記基板の回転軸に交差し、かつ、前記下流側端部より上流側に位置する前記先端部を通る仮想面より前記第１方向とは反対方向側に位置していることを特徴とする。

上記第２態様によれば、基板における下流側端部は、当該基板の回転軸に交差し、かつ、下流側端部より上流側に位置する先端部を通る仮想面より第１方向とは反対方向側に位置しているので、基板を流通する冷却気体が当該基板の下流側端部に流通する際に、当該下流側端部に沿って第１方向とは反対方向に向けて流通する。これにより、基板の当該基板が回転された際に、上記下流側部位近傍において生じる冷却気体の流速の変化を小さくできる。換言すると、基板が回転した場合に、上記下流側端部が上記先端部を通る仮想面と同じ面に位置する基板、すなわち、上記先端部の部位の上記第１面及び上記第２面の法線に沿う方向の寸法及び下流側端部の上記寸法が略同じに設定されている基板が回転された場合に比べて、冷却気体の変化を小さくできる。従って、基板の下流側端部にて生じる基板による冷却気体の風切音を小さくできるので、回転冷却装置の騒音を低減できる。

上記第１及び第２態様では、前記下流側端部は、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、所定の曲率を有する曲面を有することが好ましい。
なお、上記下流側端部は、上記複数のフィンにおける下流側端部及び上記基板の下流側端部のそれぞれを意味する。
このような構成によれば、上記複数のフィンにおける下流側端部が上記曲面を有しているので、当該下流側端部が、例えば、階段状に形成されている場合に比べて、冷却気体と当該下流側端部との衝突により生じる上記圧力差を低減できる。
また、上記基板における下流側端部が上記曲面を有していることから、当該基板を流通する冷却気体が当該曲面を流通するので、当該基板の下流側端部近傍において生じる冷却気体の流速の変化を低減できる。従って、回転冷却装置の騒音をより低減できる。

上記第１及び第２態様では、前記下流側端部は、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、複数の鈍角を有する形状であることが好ましい。
上記複数の鈍角を有する形状としては、例えば、矩形板状のフィンの下流側端部、若しくは、基板の下流側端部が面取り加工（Ｃ面加工）された形状を例示できる。
このような構成によれば、上記複数のフィンの下流側端部が上記鈍角を有する形状であるため、当該下流側端部が、例えば、階段状に形成されている場合（複数の鋭角を有する形状である場合）に比べて、冷却気体と当該下流側端部との衝突により生じる上記圧力差を低減できる。
また、上記基板における下流側端部が上記鈍角を有する形状であることから、当該基板を流通する冷却気体が当該下流側端部を流通するので、当該基板の下流側端部近傍において生じる冷却気体の流速の変化を低減できる。従って、回転冷却装置の騒音をより低減できる。
また、上記複数の鈍角を有する形状は、例えば、矩形板状のフィンの下流側端部及び基板の下流側端部を面取り加工（Ｃ面加工）するのみで設けることができるので、放熱部をより容易に製造できる。

上記第１及び第２態様では、前記複数のフィンは、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、前記冷却気体の上流側から下流側に向かうに従って前記複数のフィンの起立方向とは反対方向に向けて傾斜する第１傾斜面を有することが好ましい。
このような構成によれば、上記複数のフィンが上記第１傾斜面を有するので、当該複数のフィンは、上記下流側に向かうに従って、上記冷却気体と衝突する面積が少なくなる。従って、上記複数のフィンの下流側の部位（下流側端部を含む）において冷却気体と衝突する面積が、上記上流側及び上記下流側において上記起立寸法が略同じであるフィンにおける下流側の部位において冷却気体と衝突する面積に比べてより小さくなるので、各フィンの下流側の部位により生じる上記圧力差を更に小さくできる。従って、回転冷却装置の騒音を更に低減できる。

上記第１及び第２態様では、前記第１面及び前記第２面は、略平坦状であり、前記放熱部は、前記複数のフィンが固定され、前記第１面及び前記第２面のいずれかに接続される略平坦状の面を有する基部を有し、前記基部の前記冷却気体の下流側の端部は、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、前記冷却気体の上流側から下流側に向かうに従って前記基板に向けて傾斜する第２傾斜面を有することが好ましい。
ここで、基板に上記第２傾斜面を有していない基部が取り付けられ、冷却気体が上流側から下流側に流通する際に、当該基板の第１面及び第２面のいずれかと基部との接合部位の段差により当該冷却気体の速度が変化することによって、冷却気体の圧力が変化する圧力変動が生じる。このため、上記基板と基部との接合部位（基板と基部との段差）により風切音が発生する。
これに対し、このような構成によれば、基部が上記第２傾斜面を有しているので、基部に固定された複数のフィン間を流通する冷却気体は、当該第２傾斜面に沿って基板にスムースに流通する。これによれば、基板と基部との接合部位における上記圧力変動の発生を抑制できるので、基板及び基部の接合部位において生じる風切音の発生を抑制できる。従って、回転冷却装置の騒音を低減できる。

本発明の第３態様に係る波長変換装置は、上記回転冷却装置と、前記冷却対象として前記基板に接続され、入射される光の波長を変換して出射する波長変換部と、を備えることを特徴とする。
上記第３態様によれば、上記第１及び第２態様に係る回転冷却装置と同様の効果を奏することができる。また、波長変換部において熱飽和の発生を抑制でき、安定して光を出射可能な波長変換装置を構成できる他、波長変換装置（波長変換部）の長寿命化を図ることができる。

本発明の第４態様に係る光拡散装置は、上記回転冷却装置と、前記冷却対象として前記基板に接続され、入射された光を拡散させて出射する光拡散部と、を備えることを特徴とする。
上記第４態様によれば、上記第１及び第２態様に係る回転冷却装置と同様の効果を奏することができる。また、光拡散部を効率よく冷却できるので、光拡散部において熱飽和の発生を抑制でき、安定して光を出射可能な光拡散装置を構成できる他、光拡散装置（光拡散部）の長寿命化を図ることができる。

本発明の第５態様に係る光源装置は、上記波長変換装置と、前記波長変換装置に入射される光を出射する光源と、を備えることを特徴とする。
上記第５態様によれば、上記第３態様に係る波長変換装置と同様の効果を奏することができる。また、光源から出射された光が波長変換部に入射された場合であっても、当該波長変換部を回転冷却装置により確実に冷却できる。従って、光源装置の冷却効率を高めることができるので、当該光源装置から安定して光を出射させることができる。

本発明の第６態様に係る光源装置は、上記光拡散装置と、前記光拡散装置に入射される光を出射する光源と、を備えることを特徴とする。
上記第６態様によれば、上記第４態様に係る光拡散装置と同様の効果を奏することができる。また、光源から出射された光が光拡散部に入射された場合であっても、当該光拡散部を回転冷却装置により確実に冷却できる。従って、光源装置の冷却効率を高めることができるので、当該光源装置から安定して光を出射させることができる。

本発明の第７態様に係るプロジェクターは、上記光源装置と、前記光源装置からの光を変調する光変調装置と、前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学装置と、を備えることを特徴とする。
上記第７態様によれば、上記第５及び第６態様に係る光源装置と同様の効果を奏することができる。また、上記光源装置から安定した光が光変調装置に入射されることから、投射光学装置から安定して投射画像が投射されるので、プロジェクターの信頼性を高めることができる。

本発明の第１実施形態に係るプロジェクターの外観を示す斜視図。 上記第１実施形態における装置本体の構成を示す模式図。 上記第１実施形態における照明装置の構成を示す模式図。 上記第１実施形態における波長変換装置を示す分解斜視図。 上記第１実施形態における放熱部を示す斜視図。 上記第１実施形態における波長変換装置を示す平面図。 上記第１実施形態における波長変換装置を示す断面図。 上記第１実施形態の第１変形例における放熱部を示す斜視図。 上記第１実施形態の第２変形例における放熱部を示す斜視図。 上記第１実施形態の第３変形例における放熱部を示す断面図。 本発明の第２実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置を示す分解斜視図。 上記第２実施形態における基板及び放熱部を示す斜視図。 上記第２実施形態における基板及び放熱部を示す拡大図。 上記第１実施形態における基板の端部を流通する冷却気体の速度差を示す図。 上記第２実施形態における基板の端部を流通する冷却気体の速度差を示す図。 上記第２実施形態の第１変形例における基板の一部を示す側面図。 上記第２実施形態の第２変形例における基板の一部を示す側面図。

［第１実施形態］
以下、本発明の第１実施形態について、図面に基づいて説明する。
［プロジェクターの概略構成］
図１は、本実施形態に係るプロジェクター１の外観を示す斜視図である。
本実施形態に係るプロジェクター１は、後述する光源装置５から出射された光を変調して画像情報に応じた画像を形成し、形成された画像をスクリーン等の被投射面上に拡大投射する投射型画像表示装置である。このプロジェクター１は、図１に示すように、外観を構成する外装筐体２と、当該外装筐体２内に収容配置される装置本体３（図２参照）と、を備える。
このようなプロジェクター１は、詳しくは後述するが、放熱部７が複数のフィン７２を有し、複数のフィン７２の下流側端部７２０が基板６３の回転中心ＲＡに交差し、かつ、下流側端部７２０より上流側に位置する先端部（平坦面７２１）を通る仮想面ＩＳより−Ｚ側に位置している点を特徴の１つとしている。すなわち、プロジェクター１は、基板６３（基部７１）から起立する方向の起立寸法が、当該基板６３が回転する際に当該複数のフィン７２間を流通する冷却気体の上流側に比べて下流側が小さい点を、特徴の１つとしている（図７参照）。
以下、プロジェクター１の構成について説明する。

［外装筐体の構成］
外装筐体２は、それぞれ合成樹脂により形成されたアッパーケース２Ａ、ロアーケース２Ｂ、フロントケース２Ｃ及びリアケース２Ｄが組み合わされて、略直方体形状に構成されている。このような外装筐体２は、天面部２１、底面部２２、正面部２３、背面部２４、左側面部２５及び右側面部２６を有する。

底面部２２には、プロジェクター１が載置面に載置される場合に当該載置面に接触する脚部２２１（図１では２つの脚部２２１のみ図示）が、複数箇所に設けられている。
正面部２３の中央部分には、後述する投射光学装置４６の端部４６１を露出させ、当該投射光学装置４６により投射される画像が通過する開口部２３１が形成されている。
また、正面部２３において左側面部２５側の位置には、外装筐体２内の熱を帯びた冷却気体が排出される排気口２３２が形成され、当該排気口２３２には、複数のルーバー２３３が設けられている。
一方、正面部２３において右側面部２６側の位置には、プロジェクター１の動作状態を示す複数のインジケーター２３４が設けられている。
右側面部２６には、外部の空気を冷却気体として内部に導入する導入口２６１が形成され、当該導入口２６１には、フィルター（図示省略）が設けられたカバー部材２６２が取り付けられている。

［装置本体の構成］
図２は、装置本体３の構成を示す模式図である。
装置本体３は、図２に示すように、画像投射装置４を備える。更に、図示を省略するが、装置本体３は、プロジェクター１の動作を制御する制御装置、プロジェクター１を構成する電子部品に電力を供給する電源装置、及び、冷却対象を冷却する冷却装置を備える。

［画像投射装置の構成］
画像投射装置４は、上記制御装置から入力される画像信号に応じた画像を形成して、上記被投射面ＰＳ上に投射する。この画像投射装置４は、照明装置４１、色分離装置４２、平行化レンズ４３、光変調装置４４、色合成装置４５及び投射光学装置４６を備える。
これらのうち、照明装置４１は、光変調装置４４を均一に照明する照明光ＷＬを出射する。この照明装置４１の構成については、後に詳述する。

色分離装置４２は、照明装置４１から入射される照明光ＷＬから青色光ＬＢ、緑色光ＬＧ及び赤色光ＬＲを分離する。この色分離装置４２は、ダイクロイックミラー４２１，４２２、反射ミラー４２３，４２４，４２５及びリレーレンズ４２６，４２７と、これらを内部に収容する光学部品用筐体４２８と、を備える。
ダイクロイックミラー４２１は、上記照明光ＷＬに含まれる青色光ＬＢを透過させ、緑色光ＬＧ及び赤色光ＬＲを反射させる。このダイクロイックミラー４２１を透過した青色光ＬＢは、反射ミラー４２３にて反射され、平行化レンズ４３（４３Ｂ）に導かれる。
ダイクロイックミラー４２２は、上記ダイクロイックミラー４２１にて反射された緑色光ＬＧ及び赤色光ＬＲのうち、緑色光ＬＧを反射させて平行化レンズ４３（４３Ｇ）に導き、赤色光ＬＲを透過させる。この赤色光ＬＲは、リレーレンズ４２６、反射ミラー４２４、リレーレンズ４２７及び反射ミラー４２５を介して、平行化レンズ４３（４３Ｒ）に導かれる。
平行化レンズ４３（赤、緑及び青の各色光用の平行化レンズを、それぞれ４３Ｒ，４３Ｇ，４３Ｂとする）は、入射される光を平行化する。

光変調装置４４（赤、緑及び青の各色光用の光変調装置を、それぞれ４４Ｒ，４４Ｇ，４４Ｂとする）は、それぞれ入射される上記色光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢを変調して、制御装置から入力される画像信号に応じた色光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに基づく画像を形成する。これら光変調装置４４のそれぞれは、例えば、入射される光を変調する液晶パネルと、当該液晶パネルの入射側及び出射側のそれぞれに配置される偏光板と、を備えて構成される。
色合成装置４５は、各光変調装置４４Ｒ，４４Ｇ，４４Ｂから入射される色光ＬＲ，ＬＧ，ＬＢに基づく画像を合成する。この色合成装置４５は、本実施形態では、クロスダイクロイックプリズムにより構成されているが、複数のダイクロイックミラーによって構成することも可能である。
投射光学装置４６は、色合成装置４５にて合成された画像を上記被投射面ＰＳに拡大投射する。このような投射光学装置４６として、例えば、鏡筒と、当該鏡筒内に配置される複数のレンズとにより構成される組レンズを採用できる。

［照明装置の構成］
図３は、照明装置４１の構成を示す模式図である。
照明装置４１は、上記のように、照明光ＷＬを色分離装置４２に向けて出射する。この照明装置４１は、図３に示すように、光源装置５及び均一化装置８を有する。

［光源装置の構成］
光源装置５は、均一化装置８に光束を出射する。この光源装置５は、光源部５１、アフォーカル光学素子５２、第１位相差素子５３、ホモジナイザー光学装置５４、光合成装置５５、第２位相差素子５６、第１集光素子５７、光拡散装置５８、第２集光素子５９及び波長変換装置６を備える。
これらのうち、光源部５１、アフォーカル光学素子５２、第１位相差素子５３、ホモジナイザー光学装置５４、第２位相差素子５６、第１集光素子５７及び光拡散装置５８は、第１照明光軸Ａｘ１上に配置されている。一方、第２集光素子５９及び波長変換装置６は、第１照明光軸Ａｘ１に交差する第２照明光軸Ａｘ２上に配置されている。そして、光合成装置５５は、第１照明光軸Ａｘ１と第２照明光軸Ａｘ２との交差部分に配置されている。

［光源部の構成］
光源部５１は、アフォーカル光学素子５２に向けて青色光である励起光を出射する光源である。この光源部５１は、第１光源部５１１、第２光源部５１２及び光合成部材５１３を有する。
第１光源部５１１は、ＬＤ（Laser Diode）である固体光源ＳＳがマトリクス状に複数配列された固体光源アレイ５１１１と、各固体光源ＳＳに応じた複数の平行化レンズ（図示省略）と、を有する。また、第２光源部５１２も同様に、固体光源ＳＳがマトリクス状に複数配列された固体光源アレイ５１２１と、各固体光源ＳＳに応じた複数の平行化レンズ（図示省略）と、を有する。これら固体光源ＳＳは、例えばピーク波長が４４０ｎｍの励起光を射出するが、ピーク波長が４４６ｎｍの励起光を出射してもよい。また、ピーク波長が４４０ｎｍ及び４４６ｎｍの励起光をそれぞれ出射する固体光源を、各光源部５１１，５１２に混在させてもよい。これら固体光源ＳＳから出射された励起光は、平行化レンズにより平行化されて光合成部材５１３に入射される。本実施形態では、各固体光源ＳＳから出射される励起光は、Ｓ偏光である。

光合成部材５１３は、第１光源部５１１から第１照明光軸Ａｘ１に沿って出射された励起光を透過し、第２光源部５１２から第１照明光軸Ａｘ１に交差する方向に沿って出射された励起光を第１照明光軸Ａｘ１に沿うように反射させて、各励起光を合成する。この光合成部材５１３は、本実施形態では、第１光源部５１１からの励起光を通過させる複数の通過部と、第２光源部５１２からの励起光を反射させる複数の反射部と、が交互に配列された板状体として構成されている。このような光合成部材５１３を介した励起光は、アフォーカル光学素子５２に入射される。

［アフォーカル光学素子の構成］
アフォーカル光学素子５２は、光源部５１から入射される励起光の光束径を調整する。具体的に、アフォーカル光学素子５２は、光源部５１から平行光として入射される励起光を集光して光束径を縮小させるレンズ５２１と、当該レンズ５２１から入射される励起光を平行化して出射するレンズ５２２と、を有する。

［第１位相差素子の構成］
第１位相差素子５３は、１／２波長板である。すなわち、アフォーカル光学素子５２から入射されるＳ偏光の励起光は、第１位相差素子５３を通過することによって一部がＰ偏光の励起光に変換されてＳ偏光とＰ偏光とが混在した励起光となり、ホモジナイザー光学装置５４に入射される。

［ホモジナイザー光学装置の構成］
ホモジナイザー光学装置５４は、第１集光素子５７及び第２集光素子５９とともに、光拡散装置５８及び波長変換装置６における被照明領域に入射される励起光の照度分布を均一化する。このホモジナイザー光学装置５４を通過した励起光は、光合成装置５５に入射される。このようなホモジナイザー光学装置５４は、第１マルチレンズ５４１及び第２マルチレンズ５４２を備える。

第１マルチレンズ５４１は、第１照明光軸Ａｘ１に対する直交面内に、複数の第１レンズ５４１１がマトリクス状に配列された構成を有し、入射される励起光を複数の部分光束に分割する。
第２マルチレンズ５４２は、第１照明光軸Ａｘ１に対する直交面内に、上記複数の第１レンズ５４１１に応じた複数の第２レンズ５４２１がマトリクス状に配列された構成を有する。そして、第２マルチレンズ５４２は、分割された複数の部分光束を、各第２レンズ５４２１及び各集光素子５７，５９と協同して、上記被照明領域に重畳させる。これにより、当該被照明領域に入射される励起光の中心軸に直交する面内の照度が均一化される。

［光合成装置の構成］
光合成装置５５は、略直角二等辺三角柱状に形成されたプリズム５５１を有するＰＢＳ（Polarizing Beam Splitter）であり、斜辺に応じた面５５２が、第１照明光軸Ａｘ１及び第２照明光軸Ａｘ２のそれぞれに対して略４５°傾斜し、各隣辺に応じた面５５３，５５４のうち、面５５３が、第２照明光軸Ａｘ２に交差し、面５５４が第１照明光軸Ａｘ１に交差する。そして、面５５２には、波長選択性を有する偏光分離層５５５が形成されている。

偏光分離層５５５は、励起光に含まれるＳ偏光とＰ偏光とを分離する特性を有する他、波長変換装置６にて生じる蛍光を、当該蛍光の偏光状態に依らずに通過させる特性を有する。すなわち、偏光分離層５５５は、青色光領域の波長の光についてはＳ偏光とＰ偏光とを分離するが、緑色光領域及び赤色光領域の波長の光についてはＳ偏光及びＰ偏光のそれぞれを通過させる、波長選択性の偏光分離特性を有する。
このような光合成装置５５により、ホモジナイザー光学装置５４から入射された励起光のうち、Ｐ偏光は、第１照明光軸Ａｘ１に沿って第２位相差素子５６側に通過され、Ｓ偏光は、第２照明光軸Ａｘ２に沿って第２集光素子５９側に反射される。
また、詳しくは後述するが、光合成装置５５は、第２位相差素子５６を介して入射される励起光（青色光）と、第２集光素子５９を介して入射される蛍光とを合成する。

［第２位相差素子の構成］
第２位相差素子５６は、１／４波長板であり、光合成装置５５から入射されるＰ偏光の励起光を円偏光に変換し、第１集光素子５７から入射される励起光（当該円偏光とは反対方向の円偏光）をＳ偏光に変換する。

［第１集光素子の構成］
第１集光素子５７は、第２位相差素子５６を通過した励起光を光拡散装置５８に集光（集束）させる光学素子であり、本実施形態では、３つのレンズ５７１〜５７３により構成されている。しかしながら、第１集光素子５７を構成するレンズの数は３に限らない。

［拡散素子］
光拡散装置５８は、波長変換装置６にて生成及び出射される蛍光光と同様の拡散角で、入射される励起光を拡散反射させる。この光拡散装置５８は、回転中心を中心とする環状の反射層が形成された円板状の拡散反射素子５８１（光拡散部）と、当該拡散反射素子５８１を回転させる回転装置５８２と、を有する。なお、反射層は、入射光をランバート反射させる。
このような光拡散装置５８にて拡散反射された励起光は、第１集光素子５７を介して再び第２位相差素子５６に入射される。この光拡散装置５８にて反射される時に、当該光拡散装置５８に入射された円偏光は逆廻りの円偏光となり、第２位相差素子５６を通過する過程にて、光合成装置５５から入射されたＰ偏光の励起光に対して偏光方向が９０°回転されたＳ偏光の励起光に変換される。このＳ偏光の励起光は、上記偏光分離層５５５によって反射され、第２照明光軸Ａｘ２に沿って均一化装置８に青色光として入射される。

［第２集光素子の構成］
第２集光素子５９には、ホモジナイザー光学装置５４を通過して上記偏光分離層５５５にて反射されたＳ偏光の励起光が入射される。この第２集光素子５９は、上記のように、入射される励起光を波長変換装置６の被照明領域（波長変換部６１の蛍光体層６１１）に集光（集束）させる他、当該波長変換装置６から出射された蛍光を平行化して、上記偏光分離層５５５に出射する。この第２集光素子５９は、本実施形態では、３つのピックアップレンズ５９１〜５９３により構成されているが、上記第１集光素子５７と同様に、当該第２集光素子５９が有するレンズの数は３に限らない。

［波長変換装置の構成］
図４は、波長変換装置６の分解斜視図である。
波長変換装置６は、入射された青色光の励起光を、緑色光及び赤色光を含む蛍光に波長変換する。この波長変換装置６は、図３及び図４に示すように、波長変換部６１と、回転冷却装置６２と、を備える。
なお、以下の説明では、波長変換装置６に向けて出射される上記励起光の進行方向を＋Ｚ方向とし、当該＋Ｚ方向とは反対方向を−Ｚ方向として説明する。

［波長変換部の構成］
波長変換部６１は、後述する基板６３において励起光の入射側の面である第１面６３Ａに熱伝達可能に接続される。この波長変換部６１は、蛍光体層６１１及び反射層６１２を有する。
蛍光体層６１１は、入射された励起光により励起されて非偏光光である蛍光（例えば５００〜７００ｎｍの波長域にピーク波長を有する蛍光）を出射する蛍光体を含む層であり、上記ホモジナイザー光学装置５４及び第２集光素子５９によって照明される被照明領域である。この蛍光体層６１１にて生じる蛍光の一部は、第２集光素子５９側に出射され、他の一部は、反射層６１２側に出射される。
反射層６１２は、蛍光体層６１１と基板６３との間に配置され、当該蛍光体層６１１から入射される蛍光を第２集光素子５９側に反射させる。

［回転冷却装置の構成］
回転冷却装置６２は、基板６３、放熱部７、スペーサー６４及び回転装置６５を備える。これらのうち、基板６３は、励起光の入射側から見て略円形状に形成された平板状の部材であり、上記波長変換部６１を支持する。この基板６３は、金属等により形成される。また、基板６３の略中央には、当該基板６３を貫通する略円形状の開口部６３１が形成されており、当該開口部６３１の開口径は、回転部６５１の外径と略一致している。この開口部６３１には、後述する回転装置６５の回転部６５１が挿通される。これにより、回転装置６５の駆動により回転部６５１が回転すると、基板６３は、−Ｚ方向側から見て基板６３（波長変換部６１）の中心を通り、かつ、＋Ｚ方向に沿う回転中心ＲＡを中心として＋Ｄ方向に回転される。

［放熱部の概略構成］
放熱部７は、基板６３の第２面６３Ｂに固定され、基板６３にて生じた熱を冷却気体へと伝達させて、波長変換部６１を冷却する。この放熱部７は、基部７１、複数のフィン７２及び突出部７３を有し、当該突出部７３の略中央には略円形状の開口部７３１が形成されている。この開口部７３１の開口径は、上記開口部６３１と同様に、回転部６５１の外径と略一致する。
なお、放熱部７の構成については、後に詳述する。

［スペーサーの構成］
スペーサー６４は、放熱部７と回転装置６５との間に配置され、波長変換部６１と回転装置６５との間の距離を調整する。スペーサー６４は、図４に示すように、回転装置６５の回転部６５１が挿通される開口部６４１を有し、当該開口部６４１の開口径は、上記開口部６３１と同様に、回転部６５１の外径と略一致する。
このように構成されたスペーサー６４は、＋Ｚ方向に沿って、開口部６４１が開口部６３１に重なるように、後述する放熱部７の基部７１の＋Ｚ方向側の面に固定される。

［回転装置の構成］
回転装置６５は、上記回転中心ＲＡを中心として、波長変換部６１を＋Ｄ方向に回転させる。この回転装置６５は、モーター等により構成され、−Ｚ方向側に突出し、当該回転中心ＲＡを中心に回転する回転部６５１を有する。
回転部６５１は、開口部６３１、開口部６４１及び、放熱部７の開口部７３１を挿通した状態で、接着剤等により波長変換部６１を支持する基板６３の第２面６３Ｂに固定される。

回転装置６５は、＋Ｚ方向側から見て、波長変換部６１を反時計回りの方向である＋Ｄ方向に回転させる。この波長変換部６１の回転により、蛍光体層６１１において上記励起光が入射される位置が変更されることにより、当該蛍光体層６１１にて熱が生じる部位が分散され、当該蛍光体層６１１において局所的に高熱が生じることが抑制される。また、波長変換部６１を支持する基板６３が回転されると、当該波長変換部６１に接続される放熱部７も回転し、これにより、放熱部７における冷却気体との熱交換が促進される。

このような波長変換部６１に励起光が照射されると、蛍光体層６１１及び反射層６１２によって、上記蛍光が第２集光素子５９側に拡散出射される。そして、当該蛍光は、第２集光素子５９を介して光合成装置５５の偏光分離層５５５に入射され、第２照明光軸Ａｘ２に沿って当該偏光分離層５５５を通過して、均一化装置８に入射される。すなわち、当該蛍光は、光合成装置５５を通過することにより、当該光合成装置５５にて反射された青色光である励起光とともに、照明光ＷＬとして均一化装置８に入射される。

［均一化装置の構成］
均一化装置８は、光源装置５から入射される照明光の中心軸に対する直交面（光軸直交面）における照度を均一化し、ひいては、上記光変調装置４４（４４Ｒ，４４Ｇ，４４Ｂ）における被照明領域である画像形成領域（変調領域）の照度分布を均一化する。この均一化装置８は、第１レンズアレイ８１、第２レンズアレイ８２、偏光変換素子８３及び重畳レンズ８４を備える。これら構成８１〜８４は、それぞれの光軸が第２照明光軸Ａｘ２と一致するように配置される。

第１レンズアレイ８１は、複数の小レンズ８１１が第２照明光軸Ａｘ２に対する直交面内にマトリクス状に配列された構成を有し、当該複数の小レンズ８１１により、入射される照明光ＷＬを複数の部分光束に分割する。
第２レンズアレイ８２は、第１レンズアレイ８１と同様に、複数の小レンズ８２１が第２照明光軸Ａｘ２に対する直交面内にマトリクス状に配列された構成を有し、各小レンズ８２１は、対応する小レンズ８１１と１対１の関係にある。これら小レンズ８２１は、各小レンズ８１１により分割された複数の部分光束を、重畳レンズ８４とともに各光変調装置４４の上記画像形成領域に重畳させる。
偏光変換素子８３は、第２レンズアレイ８２と重畳レンズ８４との間に配置され、入射される複数の部分光束の偏光方向を揃える機能を有する。

［波長変換装置の放熱部の構成］
図５は、放熱部７を＋Ｚ方向側から見た斜視図である。なお、図５及び当該図５より後の図においては、見易さを考慮して、フィン７２の一部にのみ符号を付す。
放熱部７は、熱伝導率が比較的高いアルミニウム等の金属材料により形成されている。この放熱部７は、図５に示すように、基部７１、複数のフィン７２及び突出部７３を有する。これらのうち、基部７１は、＋Ｚ方向から見た場合に、略円形状に形成される板状部である。このような基部７１の＋Ｚ方向側の面には、各フィン７２が位置し、当該基部７１の−Ｚ方向側の面は、上記基板６３の第２面６３Ｂに接着剤等により固定される。

複数のフィン７２は、基板６３から起立する方向に沿う方向（＋Ｚ方向）に突出し、かつ、基部７１の回転中心ＲＡから外周に向かう方向（第２方向）に沿ってそれぞれ延出している。具体的に、各フィン７２は、当該回転中心ＲＡから基板６３（基部７１）の外周側に向かって放射状に延出しており、円形状の基部７１の周方向、すなわち、当該基部７１が固定される基板６３の回転方向である＋Ｄ方向に沿って略等しい間隔にて配置されている。

図６は、波長変換装置６を＋Ｚ方向から見た平面図であり、図７は、波長変換装置６のＡ１−Ａ１断面を示す断面図である。
上記各フィン７２は、図６及び図７に示すように、平坦面７２１及び曲面７２２を有する。
平坦面７２１は、各フィン７２を＋Ｚ方向側から見た場合に、回転中心ＲＡ側から基部７１の外周側に向かって延びる略矩形状の面である。この平坦面７２１の基部７１の外周側の端部には、曲面７２２が連続している。
曲面７２２は、各フィン７２の外周側の端部（各フィン７２間を流通する冷却気体の流路における下流側に位置する下流側端部７２０）に位置する。この曲面７２２は、図７に示すように、当該各フィン７２を回転方向である＋Ｄ方向に沿う方向から見て、所定の曲率を有する曲面である。この曲面７２２は、矩形板状のフィンの基部７１の下流側端部７２０を、曲面（Ｒ面）加工することにより形成される。
具体的に、本実施形態では、下流側端部７２０は、複数のフィン７２における第１方向（＋Ｚ方向）の先端部（各フィン７２における平坦面７２１）のうち、基板６３が回転される際に複数のフィン７２間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する。また、下流側端部７２０は、基板６３の回転軸（回転中心ＲＡ）に直交（交差）し、かつ、下流側端部７２０より上流側に位置する先端部（平坦面７２１）を通る仮想面ＩＳより第１方向とは反対方向側（−Ｚ方向側）に位置している。
このため、各フィン７２における基部７１の＋Ｚ方向側の面から平坦面７２１までの距離（起立寸法Ｌ１）は、当該面から曲面７２２までの距離（起立寸法Ｌ２）よりも大きい。換言すると、各フィン７２における基部７１の外周側の起立寸法Ｌ２は、回転中心ＲＡ側の起立寸法Ｌ１よりも小さい。すなわち、各フィン７２の基板６３（基部７１）から起立する方向（＋Ｚ方向）の起立寸法は、当該各フィン７２間を流通する冷却気体の流路における上流側に比べて下流側が小さい。すなわち、各フィン７２は、基部７１の外周側（上記下流側）に向かうに従って、基部７１に近接する形状に形成されている。
なお、本実施形態では、各フィン７２の延出方向に対する交差方向（直交方向）の寸法（厚さ寸法）は、フィン７２全体で略一定である。

このような放熱部７が固定された基板６３が回転装置６５の駆動により＋Ｄ方向に回転すると、当該放熱部７と冷却気体とが衝突する。具体的に、放熱部７が＋Ｄ方向に回転すると、冷却気体は、図７に示すように、放熱部７近傍に位置する冷却気体の少なくとも一部が放熱部７に設けられた複数のフィン７２間を回転中心ＲＡ側から基部７１の外周側に向けて流通する。これにより、複数のフィン７２及び基部７１が冷却気体によってそれぞれ冷却されるので、基板６３から伝達された熱を放熱部７により放熱できる。

ここで、上記複数のフィン７２に代えて、矩形板状のフィンを複数（本実施形態と同数）備える放熱部が回転装置６５の駆動により回転すると、放熱部の回転中心ＲＡ側よりも外周側の周速が高いことから、当該複数のフィンにおける外周側の端部と冷却気体とが衝突する際の空気抵抗が最も高くなり、外力が生じる。このため、当該フィンにおける外周側の端部により生じる当該フィンにおける回転方向側の圧力と、当該フィンにおける回転方向とは反対方向側の圧力との差（圧力差）が大きくなる。このため、矩形板状のフィンを複数備える放熱部が回転すると、当該フィン（特に外周部側の端部）による冷却気体の風切音が大きくなる。
これに対し、本実施形態では、各フィン７２における基部７１の外周側の端部（下流側端部７２０）は、曲面７２２を有し、かつ、各フィン７２における回転中心ＲＡ側の起立寸法Ｌ１より、各フィン７２における外周側の起立寸法Ｌ２が小さく設定されている。このため、当該各フィン７２を備える放熱部７が回転する場合であっても、上記矩形板状のフィンが備える放熱部が回転した場合に比べて、各フィン７２の下流側端部７２０により生じる上記圧力差を小さくできる。これにより、上記矩形板状のフィンを複数備える放熱部の風切音よりも、当該各フィン７２を備える放熱部７の風切音を小さくできる。

［第１実施形態の効果］
以上説明した本実施形態に係るプロジェクター１は、以下の効果を奏する。
各フィン７２における上記下流側端部７２０は、基板６３の回転軸（回転中心ＲＡ）に直交（交差）し、かつ、下流側端部７２０より上流側に位置する先端部（平坦面７２１）を通る仮想面ＩＳより−Ｚ側に位置している、すなわち、各フィン７２における下流側端部７２０の起立寸法Ｌ２は、各フィン７２における下流側端部７２０よりも上流側の部位の起立寸法Ｌ１より小さい。このため、基板６３の回転に伴って当該各フィン７２を備える放熱部７が回転しても、上記上流側の部位及び下流側端部において上記寸法が略同じに設定されている放熱部が回転した場合に比べて、各フィン７２の下流側端部７２０により生じる上記圧力差を小さくできる。これにより、上記フィン７２を備える放熱部７が回転することにより生じる風切音を小さくできる。
特に、本実施形態では、冷却気体が基板６３の回転中心ＲＡから外周方向に向かってフィン７２間を流通するので、複数のフィン７２の下流側端部７２０の周速は回転中心ＲＡ側の部位（上流側の部位）に比べて周速が高い。これに対し、本実施形態では、複数のフィン７２が上記形状であるため、当該複数のフィン７２における外周側に位置する下流側端部７２０と冷却気体とが衝突する際の空気抵抗を低減できる。従って、上記風切り音を小さくでき、回転冷却装置６２の騒音を低減できる。

複数のフィン７２における下流側端部７２０が上記曲面７２２を有しているので、当該下流側端部７２０が、例えば、階段状に形成されている場合に比べて、冷却気体と当該下流側端部７２０との衝突により生じる上記圧力差を低減できる。従って、回転冷却装置６２の騒音をより低減できる。

また、波長変換装置６が上記回転冷却装置６２を有しているので、波長変換部６１において熱飽和の発生を抑制でき、安定して光を出射可能な波長変換装置６を構成できる他、波長変換装置６（波長変換部６１）の長寿命化を図ることができる。

光源装置５が上記波長変換装置６を有しているので、光源部５１から出射された光が波長変換部６１に入射された場合であっても、当該波長変換部６１を回転冷却装置６２により確実に冷却できる。従って、光源装置５の冷却効率を高めることができるので、当該光源装置５から安定して光を出射させることができる。
また、上記光源装置５から安定した光が光変調装置４４に入射されることから、投射光学装置４６から安定して投射画像が投射されるので、プロジェクター１の信頼性を高めることができる。

［第１実施形態の第１変形例］
図８は、第１実施形態の第１変形例に係る放熱部７Ａを示す斜視図である。なお、以下の説明では、第１実施形態の放熱部７と同一又は略同一の構成については、同番号を付し、説明を簡略化又は省略する。
上記第１実施形態では、波長変換装置６は、放熱部７を有することとしたが、これに限らず、例えば、放熱部７に代えて、図８に示す放熱部７Ａを有することとしてもよい。
放熱部７Ａは、図８に示すように、基部７１、突出部７３を有する他、複数のフィン７２に代えて、複数のフィン７２Ａを有する。これらのうち、複数のフィン７２Ａは、上記複数のフィン７２と同様に、当該回転中心ＲＡから基板６３（基部７１）の外周側に向かって放射状に延出しており、円形状の基部７１の周方向、すなわち、当該基部７１が固定される基板６３の回転方向である＋Ｄ方向に沿って略等しい間隔にて配置されている。

このような各フィン７２Ａは、図８に示すように、平坦面７２１Ａ、傾斜面７２２Ａ及び起立面７２３Ａを有する。
平坦面７２１Ａは、各フィン７２Ａを＋Ｚ方向側から見た場合に、回転中心ＲＡ側から基部７１の外周側に向かって延びる略矩形状の面である。この平坦面７２１Ａは、上記平坦面７２１と略同形状であり、当該平坦面７２１Ａの基部７１の外周側の端部には、傾斜面７２２Ａが連続している。
傾斜面７２２Ａは、各フィン７２Ａの外周側の端部（下流側端部７２０Ａ）に形成され、基部７１の外周側に向かうに従って、−Ｚ方向に傾斜する面である。換言すると、傾斜面７２２Ａは、各フィン７２Ａの起立方向（＋Ｚ方向）及び当該各フィン７２Ａの延出方向のそれぞれに対して傾斜している。この傾斜面７２２Ａは、矩形板状のフィンの基部７１の外周側の端部を、面取り（Ｃ面）加工することにより形成される。
起立面７２３Ａは、下流側端部７２０Ａに形成され、上記傾斜面７２２Ａの基部７１の外周側の端部から連続して−Ｚ方向に延びる面である。
このように、本変形例の各フィン７２Ａは、基板６３の回転方向である＋Ｄ方向から見た場合に、複数の鈍角を有する形状である。また、各フィン７２Ａにおける基部７１の＋Ｚ方向側の面から平坦面７２１Ａまでの距離（起立寸法Ｌ３）は、当該面から傾斜面７２２Ａまでの距離（起立寸法Ｌ４）よりも大きい。換言すると、各フィン７２Ａにおける基部７１の外周側の起立寸法Ｌ４は、回転中心ＲＡ側の起立寸法Ｌ３よりも小さい。すなわち、各フィン７２Ａの基板６３（基部７１）から起立する方向（＋Ｚ方向）の起立寸法は、当該各フィン７２Ａ間を流通する冷却気体の上流側に比べて下流側が小さい。

このような構成によれば、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と同様の効果を奏することができる。また、本変形例では、フィン７２Ａの下流側端部７２０Ａが上記鈍角を有する形状であるため、当該下流側端部７２０Ａが、例えば、階段状に形成されている場合（複数の鋭角を有する形状である場合）に比べて、冷却気体と当該下流側端部７２０Ａとの衝突により生じる上記圧力差を低減できる。従って、回転冷却装置の騒音をより低減できる。更に、フィン７２Ａの外周側の端部に形成された傾斜面７２２Ａは、Ｃ面加工により形成できるので、下流側端部７２０Ａに上記第１実施形態に係る曲面７２２を形成するよりも容易に当該フィン７２Ａを製造できる。

［第１実施形態の第２変形例］
図９は、第１実施形態の第２変形例に係る放熱部７Ｂを示す斜視図である。なお、以下の説明では、第１及び第２実施形態の放熱部７，７Ａと同一又は略同一の構成については、同番号を付し、説明を簡略化又は省略する。
上記第１実施形態では、波長変換装置６は、放熱部７を有することとしたが、これに限らず、例えば、放熱部７に代えて、図９に示す放熱部７Ｂを有することとしてもよい。
放熱部７Ｂは、図９に示すように、基部７１、突出部７３を有する他、複数のフィン７２に代えて、複数のフィン７２Ｂを有する。これらのうち、複数のフィン７２Ｂは、上記複数のフィン７２と同様に、当該回転中心ＲＡから基板６３（基部７１）の外周側に向かって放射状に延出しており、円形状の基部７１の周方向、すなわち、当該基部７１が固定される基板６３の回転方向である＋Ｄ方向に沿って略等しい間隔にて配置されている。

このような各フィン７２Ｂは、図９に示すように、平坦面７２１Ｂ、傾斜面７２２Ｂ及び起立面７２３Ｂを有する。
平坦面７２１Ｂは、各フィン７２Ｂを＋Ｚ方向側から見た場合に、回転中心ＲＡ側から基部７１の外周側に向かって延びる略矩形状の面である。この平坦面７２１Ｂは、上記平坦面７２１より当該平坦面７２１Ｂの延出方向の寸法が小さい。この平坦面７２１Ｂの基部７１の外周側の端部には、傾斜面７２２Ｂが連続している。
傾斜面７２２Ａは、本発明の第１傾斜面に相当し、フィン７２Ｂの延出方向における略中央の部位よりも回転中心ＲＡ側の位置から、当該各フィン７２Ｂの起立方向とは反対方向（−Ｚ方向）に向けて傾斜する面である。換言すると、傾斜面７２２Ｂのフィン７２Ｂの＋Ｚ方向に沿う方向の寸法は、基部７１の外周側に向かうに従って小さくなっている。
また、この傾斜面７２２Ｂは、上記傾斜面７２２Ａよりもフィン７２Ｂの延出方向の寸法が大きい。具体的に、傾斜面７２２Ｂの上記フィン７２Ｂの延出方向の寸法は、フィン７２Ｂを＋Ｚ方向側から見た場合に、平坦面７２１Ｂの上記フィン７２Ｂの延出方向の寸法の略５〜７倍に設定されている。
起立面７２３Ｂは、上記傾斜面７２２Ｂの基部７１の外周側の端部から連続して−Ｚ方向に延びる面である。

また、本変形例では、各フィン７２Ｂにおける基部７１の＋Ｚ方向側の面から平坦面７２１Ｂまでの距離（起立寸法Ｌ５）は、当該面から傾斜面７２２Ｂまでの距離（起立寸法Ｌ６）よりも大きい。換言すると、各フィン７２Ｂにおける基部７１の外周側の起立寸法Ｌ６は、回転中心ＲＡ側の起立寸法Ｌ５よりも小さい。すなわち、本変形例においても、各フィン７２Ｂの基板６３（基部７１）から起立する方向（＋Ｚ方向）の起立寸法は、当該各フィン７２Ｂ間を流通する冷却気体の上流側に比べて下流側が小さい。
また、起立寸法Ｌ５は、上記第１変形例の起立寸法Ｌ３よりも大きく、起立寸法Ｌ６は、上記第１変形例の起立寸法Ｌ４よりも小さい。すなわち、本変形例では、上記第１変形例に比べて、フィン７２Ｂにおける上記冷却気体の上流側の起立寸法Ｌ５と、上記冷却気体の下流側の起立寸法Ｌ６と、の差が大きい。

このような構成によれば、複数のフィン７２Ｂが傾斜面７２２Ｂを有するので、当該複数のフィン７２Ｂは、上記下流側（基板６３の外周側）に向かうに従って、上記冷却気体と衝突する面積が少なくなる。従って、上記複数のフィン７２Ｂの下流側の部位において冷却気体と衝突する面積が、上記上流側及び上記下流側において上記起立寸法が略同じであるフィンにおける下流側の部位において冷却気体と衝突する面積に比べてより小さくなるので、各フィン７２Ｂの下流側の部位により生じる上記圧力差を更に小さくできる。
また、本変形例では、上記第１変形例に比べて、フィン７２Ｂにおける上記冷却気体の上流側の起立寸法Ｌ５と、上記冷却気体の下流側の起立寸法Ｌ６との差が大きい。これによれば、フィン７２Ｂの外周側において上記風切音の発生を抑制しつつ、フィン７２Ｂの回転中心ＲＡ側の部位により冷却気体を十分に各フィン７２Ｂ間に流入させることができる。従って、波長変換部６１を確実に冷却しつつ、第１実施形態及び第１変形例に比べて、上記騒音を低減できる。

［第１実施形態の第３変形例］
図１０は、第１実施形態の第３変形例に係る放熱部７Ｃを示す断面図である。なお、以下の説明では、第１実施形態の放熱部７と同一又は略同一の構成については、同番号を付し、説明を簡略化又は省略する。
上記第１実施形態では、波長変換装置６は、放熱部７を有することとしたが、これに限らず、例えば、放熱部７に代えて、図１０に示す放熱部７Ｃを有することとしてもよい。
放熱部７Ｃは、図１０に示すように、基部７１、突出部７３を有する他、複数のフィン７２に代えて、複数のフィン７２Ｃを有する。これらのうち、複数のフィン７２Ｃは、上記複数のフィン７２と同様に、当該回転中心ＲＡから基板６３（基部７１）の外周側に向かって放射状に延出しており、円形状の基部７１の周方向、すなわち、当該基部７１が固定される基板６３の回転方向である＋Ｄ方向に沿って略等しい間隔にて配置されている。

このような各フィン７２Ｃは、図１０に示すように、本体部７２Ｃ１及び屈曲部７２Ｃ２、平坦面７２１Ｃ及び曲面７２２Ｃを有する。
本体部７２Ｃ１は、上記第１実施形態のフィン７２と略同形状の部位である。この本体部７２Ｃ１は、上記フィン７２とは逆に回転中心ＲＡに向かうに従って＋Ｚ方向の寸法が小さくなる形状である。
屈曲部７２Ｃ２は、本体部７２Ｃ１の上記外周側の端部に連続して設けられ、上記回転方向（＋Ｄ１方向）に屈曲する部位である。この屈曲部７２Ｃ２は、上記基板６３が＋Ｄ１方向に回転した場合に、冷却気体を上記フィン７２Ｃ間に流通させる。すなわち、本変形例では、屈曲部７２Ｃ２を有しているので、回転装置６５の駆動により基板６３が回転すると、図１０に示すように、冷却気体は、基部７１の外周側から回転中心ＲＡに向けて各フィン７２Ｃ間を流通する。

平坦面７２１Ｃは、各フィン７２Ｃを＋Ｚ方向側から見た場合に、基部７１の外周側から回転中心ＲＡ側に向かって延びる略Ｌ字状の面である。この平坦面７２１Ｃは、当該平坦面７２１Ｃの回転中心ＲＡ側の端部には、曲面７２２Ｃが連続している。
曲面７２２Ｃは、各フィン７２Ｃの回転中心ＲＡ側の端部（各フィン７２Ｃ間を流通する冷却気体の流路における下流側に位置する下流側端部７２０Ｃ）に位置する。この曲面７２２Ｃは、図１０に示すように、当該各フィン７２Ｃを回転方向である＋Ｄ方向に沿う方向から見て、所定の曲率を有する曲面である。この曲面７２２は、矩形板状のフィンの基部７１の回転中心ＲＡ側の端部（下流側端部７２０Ｃ）を、曲面（Ｒ面）加工することにより形成される。
このように、本変形例では、複数のフィン７２Ｃにおける＋Ｚ方向の先端部（各フィン７２Ｃにおける平坦面７２１Ｃ）のうち、基板６３が回転される際に複数のフィン７２間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する下流側端部７２０Ｃは、基板６３の回転軸（回転中心ＲＡ）に直交（交差）し、かつ、下流側端部７２０Ｃより上流側に位置する先端部（平坦面７２１Ｃ）を通る仮想面ＩＳより−Ｚ方向側に位置している。このため、各フィン７２Ｃにおける基部７１の＋Ｚ方向側の面から平坦面７２１Ｃまでの距離（起立寸法Ｌ７）は、当該面から曲面７２２Ｃまでの距離（起立寸法Ｌ８）よりも大きい。換言すると、各フィン７２Ｃにおける基部７１の内周側の起立寸法Ｌ７は、回転中心ＲＡ側の起立寸法Ｌ８よりも大きい。すなわち、各フィン７２Ｃの基板６３（基部７１）から起立する方向（＋Ｚ方向）の起立寸法は、当該各フィン７２Ｃ間を流通する冷却気体の上流側に比べて下流側が小さい。

このような構成によれば、フィン７２Ｃにおける冷却気体の下流側の起立寸法Ｌ８が上流側の起立寸法Ｌ７よりも小さいので、上記第１実施形態、第１変形例及び第２変形例と同様の効果を奏することができる。すなわち、冷却気体が基板６３の外周側から回転中心ＲＡ側に向けて流通する場合であっても、波長変換部６１を冷却しつつ、上記騒音を低減できる。

［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態について、図面を用いて説明する。
本実施形態に係るプロジェクターは、上記プロジェクター１と同様の構成を備える。ここで、当該プロジェクター１は、基板６３及び放熱部７を有する波長変換装置６を備えていた。これに対し、本実施形態に係るプロジェクターは、上記基板６３及び放熱部７とは異なる基板及び放熱部を有する波長変換装置を備える。具体的に、本実施形態の基板及び放熱部は、これらの外周縁の形状が上記基板６３及び放熱部７の外周縁の形状と異なる。これらの点で、本実施形態に係るプロジェクターと、上記プロジェクター１とは相違する。なお、以下の説明では、既に説明した部分と同一又は略同一である部分については、同一の符号を付して説明を省略する。

図１１は、本実施形態に係るプロジェクターの波長変換装置６Ｄの分解斜視図であり、図１２は、基板６３Ｄ及び放熱部７Ｄを示す斜視図であり、図１３は、図１２に示す基板６３Ｄ及び放熱部７Ｄの拡大図である。なお、図１３においては、放熱部７Ｄの基部７１Ｄの傾斜面７１１Ｄの説明を分かりやすくするため、当該傾斜面７１１Ｄを斜線にて示している。
波長変換装置６Ｄは、図１１に示すように、波長変換装置６Ｄは、波長変換部６１及び回転冷却装置６２Ｄを備え、当該回転冷却装置６２Ｄは、放熱部７Ｄ、スペーサー６４及び回転装置６５を備える。これらのうち、放熱部７Ｄは、基部７１及び複数のフィン７２に代えて基部７１Ｄ及び複数のフィン７２Ｄを有する。
これらのうち、複数のフィン７２Ｄは、基板６３Ｄの回転中心ＲＡから外周に向かう方向に沿ってそれぞれ延出し、基板６３Ｄの外周（換言すると＋Ｄ方向）に沿って略等しい間隔にて配置され、かつ、回転軸ＡＲ側から外周側に向かうに従って−Ｄ方向側に反る湾曲形状（円弧形状）を有する。

基部７１Ｄは、基板６３Ｄの略平坦状の第２面６３Ｄ２に接続される。
この基部７１Ｄの外周側の端部７１０Ｄは、図１２及び図１３に示すように、傾斜面７１１Ｄが形成されている。換言すると、基部７１Ｄは、当該基部７１Ｄにおける冷却気体の下流側の端部７１０Ｄに傾斜面７１１Ｄを有する。
この傾斜面７１１Ｄは、本発明の第２傾斜面に相当し、基部７１Ｄの＋Ｚ方向側の面における所定位置から当該基部７１Ｄの外周側に向かうに従って、−Ｚ方向に傾斜する面である。換言すると、傾斜面７１１Ｄは、基部７１Ｄの冷却気体が流通する側の面における所定位置から当該基部７１Ｄの外周側に向かうに従って、＋Ｚ方向の寸法が小さくなっている。

ここで、上記第１実施形態における基部７１の構成では、冷却気体が上流側から下流側（回転中心ＲＡから基板６３の外周側）に流通する際に、当該基板６３の第２面６３Ｂと基部７１との接合部位の段差により当該冷却気体の速度が変化することによって、冷却気体の圧力が変化する圧力変動が生じる。このため、上記基板６３と基部７１との接合部位（基板６３と基部７１との段差）により風切音が発生する。
これに対し、本実施形態では、基部７１Ｄの外周側の端部７１０Ｄには、傾斜面７１１Ｄが形成されているので、基部７１Ｄの＋Ｚ方向側の面を回転中心ＲＡから当該基部７１Ｄの外周に向けて流通する冷却気体は、当該傾斜面７１１Ｄに沿って、当該基部７１Ｄが接続される基板６３Ｄの第２面６３Ｄ２にスムースに流通する。

［基板の構成］
また、回転冷却装置６２Ｄは、図１２及び図１３に示すように、基板６３に代えて基板６３Ｄを有する。この基板６３Ｄは、上記基板６３と略同一の構成を有する他、当該基板６３Ｄは、第１斜面６３２Ｄ及び第２斜面６３３Ｄを有する。
具体的に、＋Ｚ方向側に位置する第２面６３Ｄ２の外周側の端部（冷却気体の流路における下流側に位置する下流側端部６３０Ｄ）には、回転中心ＲＡから離れるに従って−Ｚ方向に傾斜する第１斜面６３２Ｄが形成されている。一方、基板６３Ｄの−Ｚ方向側に位置する第１面６３Ｄ１の外周側の端部には、回転中心ＲＡから離れるに従って＋Ｚ方向側に傾斜する第２斜面６３３Ｄが形成されている。
このように、基板６３Ｄにおける第１方向（＋Ｚ方向）の先端部（基板６３Ｄにおける第２面６３Ｄ２）のうち、基板６３Ｄが回転される際に複数のフィン７２Ｄ間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する下流側端部６３０Ｄは、基板６３の回転軸（回転中心ＲＡ）に直交（交差）し、かつ、下流側端部６３０Ｄより上流側に位置する第２面６３Ｄ２を通る仮想面ＩＳより第１方向とは反対方向側（−Ｚ方向側）に位置している。このため、基板６３Ｄの下流側端部６３０Ｄに上記第１斜面６３２Ｄ及び第２斜面６３３Ｄが形成されているので、当該基板６３Ｄの下流側端部６３０Ｄにおける＋Ｚ方向に沿う方向の寸法Ｌ１０は、当該基板６３Ｄの回転中心ＲＡ側の＋Ｚ方向に沿う方向の寸法Ｌ９よりも小さくなっている（図１５参照）。換言すると、基板６３Ｄの法線方向（＋Ｚ方向に沿う方向）の寸法は、複数のフィン７２Ｄ間を流通する冷却気体の流路における上流側（回転中心ＲＡ側）よりも下流側が小さい。

［基板を流通する冷却気体の流速］
図１４は、第１実施形態に係る基板６３の端部（外周側の端部）を流通する冷却気体の速度差を示す図であり、図１５は、本実施形態に係る基板６３Ｄの端部を流通する冷却気体の流速の差（速度差）を示す図である。なお、図１４及び図１５では、速度差が最も大きい領域を領域Ａｒ１とし、速度差が最も小さい領域を領域Ａｒ３とし、速度差が上記領域Ａｒ１より低く上記領域Ａｒ３より高い領域を領域Ａｒ２として説明する。すなわち、基板６３，６３Ｄ近傍における冷却気体の速度差は、Ａｒ１＞Ａｒ２＞Ａｒ３である。
第１実施形態に係る基板６３は、略矩形板状であるため、当該基板６３の外周側の端部を流通する冷却気体の速度差は、図１４に示すようになる。
具体的に、基板６３の第１面６３Ａ及び第２面６３Ｂの近傍は、領域Ａｒ２であり、基板６３の外周側の端部近傍は、領域Ａｒ１である。この基板６３では、冷却気体は、第２面６３Ｂに沿って流通しているため、当該基板６３の端部において当該冷却気体が沿う面が無くなるため、当該第２面６３Ｂに沿って流通する冷却気体の流速が急激に低下する。このように、基板６３の外周側の端部近傍において、冷却気体の流速が急激に変化するため、冷却気体の速度差が最も大きい領域Ａｒ１の範囲が大きくなる。このため、当該領域Ａｒ１において、圧力変動Ｐｆ１が生じ、当該基板６３の回転に伴う騒音が発生する。

一方、本実施形態に係る基板６３Ｄでは、当該基板６３Ｄの外周側の端部に第１斜面６３２Ｄ及び第２斜面６３３Ｄが形成されているので、第２面６３Ｄ２を流通する冷却気体は、当該基板６３の端部においてスムースに第１斜面６３２Ｄを流通する。また、基板６３Ｄの外周側の端部における＋Ｚ方向に沿う方向の寸法Ｌ１０が、当該基板６３Ｄの回転中心ＲＡ側の＋Ｚ方向に沿う方向の寸法Ｌ９よりも小さくなっているので、基板６３Ｄの外周側の端部近傍において、冷却気体の流速の変化は、上記基板６３の外周側の端部近傍に比べて、小さくなる。具体的に、基板６３Ｄの外周側の端部近傍における領域Ａｒ１は、上記基板６３の外周側の端部近傍における領域Ａｒ１に比べて小さくなる。このため、当該基板６３Ｄの外周側の端部における領域Ａｒ１において生じる圧力変動Ｐｆ２は、上記圧力変動Ｐｆ１よりも小さい。
このように、基板６３Ｄの外周側の端部に第１斜面６３２Ｄ及び第２斜面６３３Ｄが形成され、かつ、上記寸法Ｌ１０が上記寸法Ｌ９よりも小さくなっているので、当該基板６３Ｄの外周側の端部にて生じる騒音は、上記第１実施形態に係る基板６３の外周側の端部に基づいて生じる騒音よりも小さくなる。

［第２実施形態の効果］
以上説明した本実施形態に係るプロジェクターは、上記第１実施形態に係るプロジェクター１と同様の効果を奏する他、以下の効果を奏する。
基板６３Ｄにおける下流側端部６３０Ｄは、当該基板６３Ｄの回転軸（回転中心ＲＡ）に直交し、かつ、下流側端部６３０Ｄより上流側に位置する先端部（第２面６３Ｄ２）を通る仮想面ＩＳより−Ｚ方向側に位置しているので、基板６３Ｄの第２面６３Ｄ２を流通する冷却気体が当該基板６３Ｄの下流側端部６３０Ｄに流通する際に、当該下流側端部６３０Ｄに沿って−Ｚ方向に向けて流通する。これにより、当該基板６３Ｄが回転された際に当該基板６３Ｄの上記下流側端部６３０Ｄ近傍において生じる冷却気体の流速の変化を小さくできる。換言すると、基板６３Ｄが回転した場合に、上記第１実施形態に係る基板６３が回転された場合に比べて、冷却気体の変化を小さくできる。従って、基板６３Ｄの下流側端部６３０Ｄにて生じる基板による冷却気体の風切音を小さくできるので、回転冷却装置６２Ｄの騒音を低減できる。

ここで、上記第１実施形態に係る基板６３に冷却気体が上流側から下流側に流通する際に、当該基板６３の第２面６３Ｂと基部７１との接合部位の段差により当該冷却気体の速度が変化することによって、冷却気体の圧力が変化する圧力変動が生じる。このため、上記基板６３と基部７１との接合部位（基板６３と基部７１との段差）により風切音が発生する。
これに対し、本実施形態によれば、基部７１Ｄが上記傾斜面７１１Ｄを有しているので、基部７１Ｄに固定された複数のフィン７２Ｄ間を流通する冷却気体は、当該傾斜面７１１Ｄに沿って基板６３Ｄにスムースに流通する。これによれば、基板６３Ｄと基部７１Ｄとの接合部位における上記圧力変動の発生を抑制できるので、基板６３Ｄ及び基部７１Ｄの接合部位において生じる風切音の発生を抑制できる。従って、回転冷却装置６２Ｄの騒音を低減できる。

［第２実施形態の第１変形例］
図１６は、第２実施形態の第１変形例に係る基板６３Ｅの外周側の端部を示す側面図である。なお、以下の説明では、第２実施形態の基板６３Ｄと同一又は略同一の構成については、同番号を付し、説明を簡略化又は省略する。
上記第２実施形態では、第１斜面６３２Ｄ及び第２斜面６３３Ｄを有する基板６３Ｄを有することとしたが、これに限らず、例えば、基板６３Ｄに代えて、基板６３Ｅを備えることとしてもよい。
基板６３Ｅは、上記基板６３Ｄと略同一の構成を有し、第１斜面６３２Ｄ及び第２斜面６３３Ｄに代えて、曲面６３４Ｅを有する。具体的に、基板６３Ｅの外周側の端部（下流側端部６３０Ｅ）は、＋Ｚ方向側に位置する第２面６３Ｅ２から−Ｚ方向側に位置する第１面６３Ｅ１まで所定の曲率を有する曲面６３４Ｅを有する。このような曲面６３４Ｅは、例えば、曲面加工（Ｒ面加工）により形成される。

このように、基板６３Ｅの下流側端部６３０Ｅに曲面６３４Ｅが形成されているので、当該基板６３Ｅの下流側端部６３０Ｅにおける＋Ｚ方向に沿う方向の寸法は、当該基板６３Ｅの回転中心ＲＡ側の＋Ｚ方向に沿う方向の寸法よりも小さくなっている。換言すると、基板６３Ｅの＋Ｚ方向に沿う方向の寸法は、複数のフィン７２Ｄ間を流通する冷却気体の流路における上流側（回転中心ＲＡ側）よりも下流側が小さい。
このように、基板６３Ｅにおける下流側端部６３０Ｅが上記曲面６３４Ｅを有していることから、当該基板６３Ｅを流通する冷却気体が当該曲面６３４Ｅを流通する際に、当該基板６３Ｅの下流側端部６３０Ｅ近傍において生じる冷却気体の流速の変化を低減でき、回転冷却装置６２の騒音をより低減できる。従って、本変形例においても、上記第２実施形態と同様の効果を奏することができる。

［第２実施形態の第２変形例］
図１７は、第２実施形態の第２変形例に係る基板６３Ｆの下流側端部を示す側面図である。なお、以下の説明では、第２実施形態の基板６３Ｄと同一又は略同一の構成については、同番号を付し、説明を簡略化又は省略する。
上記第２実施形態では、第１斜面６３２Ｄ及び第２斜面６３３Ｄを有する基板６３Ｄを有することとしたが、これに限らず、例えば、基板６３Ｄに代えて、基板６３Ｆを備えることとしてもよい。
基板６３Ｆは、上記基板６３Ｄと略同一の構成を有し、第１面６３Ｆ１及び第２面６３Ｆ２のそれぞれが傾斜している。具体的に、基板６３Ｆの＋Ｚ方向側に位置する第２面６３Ｆ２は、当該基板６３Ｆの外周側に向かうに従って、−Ｚ方向に傾斜し、当該基板６３Ｆの−Ｚ方向側に位置する第１面６３Ｆ１は、上記外周側に向かうに従って、＋Ｚ方向に傾斜している。

このように、基板６３Ｆの第１面６３Ｆ１及び第２面６３Ｆ２がそれぞれ対向する面に向けて傾斜しているので、当該基板６３Ｆの＋Ｚ方向に沿う方向の寸法は、外周側に向かうに従って小さくなっている。換言すると、基板６３Ｆの第１面６３Ｆ１及び第２面６３Ｆ２の法線に沿う方向（＋Ｚ方向に沿う方向）の寸法は、複数のフィン７２Ｄ間を流通する冷却気体の流路における上流側（回転中心ＲＡ側）よりも下流側が小さい。
従って、本変形例においても、上記第２実施形態と同様の効果を奏することができる。

［実施形態の変形］
本発明は、上記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
上記各実施形態では、基板６３，６３Ｄ〜６３Ｆ及び放熱部７，７Ａ〜７Ｆを備える回転冷却装置６２を波長変換装置６，６Ａ，６Ｄに適用した例を示したが、これに限らず、例えば、光拡散装置５８の回転装置５８２に代えて、当該回転冷却装置６２を適用してもよい。このような構成によれば、光源部５１から出射された光が拡散反射素子５８１（光拡散部）に入射された場合であっても、当該拡散反射素子５８１を回転冷却装置６２により確実に冷却でき、かつ、安定して入射された光を拡散できる。従って、光源装置５の冷却効率を高めることができるので、当該光源装置５から安定して光を出射させることができる。

上記第１実施形態では、基板６３の第１面６３Ａ及び第２面６３Ｂは、略平坦状であることとしたが、これに限らず、第２実施形態における基板６３Ｄ，６３Ｅ，６３Ｆのように冷却気体の上流側よりも下流側における＋Ｚ方向に沿う方向の寸法が小さくなる形状であってもよい。
同様に、上記第２実施形態では、放熱部７Ｄは、上記複数のフィン７２Ｄを有することとしたが、これに限らず、例えば、上記第１実施形態に係る複数のフィン７２，７２Ａ〜７２Ｃを有することとしてもよい。このような場合であっても、上記第１実施形態に係る回転冷却装置６２に比べて、基板６３の回転により生じる騒音を低減できる。

上記第１実施形態では、各フィン７２の延出方向に対する直交方向の寸法（厚さ寸法）は、フィン７２全体で略一定であることとしたが、これに限らず、回転中心ＲＡ側から外周側に向かうに従って大きくなってもよいし、小さくなってもよい。すなわち、各フィンの延出方向に直交する方向の寸法は、適宜設定可能である。

上記第１実施形態の第２変形例において、複数のフィン７２Ｂは、傾斜面７２２Ｂを有することとしたが、これに限らず、例えば、当該傾斜面７２２Ｂの上記下流側端部が更に面取り加工されていてもよいし、曲面加工されていてもよい。この場合、下流側端部がＣ面又は曲面にて構成されるので、上記第１実施形態の第２変形例に比べて、基板６３の回転により生じる各フィン７２Ｂの風切音（騒音）を低減できる。

上記各実施形態では、各フィン７２，７２Ａ〜７２Ｄは、基板６３，６３Ｄ〜６３Ｆの第２面６３Ｂ，６３Ｄ２〜６３Ｆ２に位置することとしたが、これに限らず、複数のフィン７２，７２Ａ〜７２Ｄは、光入射面である第１面６３Ａ，６３Ｄ１〜６３Ｆ１に位置してもよいし、いずれの面に配置することとしてもよい。

上記各実施形態では、放熱部７，７Ａ〜７Ｄは、複数のフィン７２，７２Ａ〜７２Ｄが固定される基部７１，７１Ｄを有することとしたが、これに限らず、例えば、複数のフィン７２，７２Ａ〜７２Ｄが直接基板６３，６３Ｄ〜６３Ｆに固定されることとしてもよい。この場合であっても、上記各実施形態と同様の効果を奏することができる。

上記各実施形態では、光学素子としての波長変換部６１，６１Ａ〜６１Ｃは、励起光の入射によって生じる蛍光を当該励起光の入射側に出射する反射型の波長変換部として構成した。しかしながら、これに限らず、第２面６３Ｂから蛍光を出射する透過型の波長変換部として構成してもよい。この場合、基板６３を透光性部材とし、反射層６１２に代えて、励起光を透過し、蛍光を反射させる波長選択性反射層を、蛍光体層６１１に対して基板６３とは反対側に配置することにより、当該透過型の波長変換素子を構成できる。
また、蛍光体層６１１及び反射層６１２は、回転中心ＲＡを中心とする環状に配置されるとした。しかしながら、これに限らず、少なくとも蛍光体層６１１は、回転中心ＲＡを中心とする円形状に形成されてもよい。

上記各実施形態では、画像投射装置４は、上記図２に示した構成を有し、照明装置４１及び光源装置５は、上記図３に示した構成及び配置を有するとした。しかしながら、これに限らず、画像投射装置４、照明装置及び光源装置５の構成及び配置は、適宜変更してよい。例えば、光源装置５は、光源部５１から出射された励起光のうち、一部を光拡散装置５８にて拡散反射させ、他の一部を波長変換装置６に入射させて蛍光を生成させた後、これら励起光及び蛍光を合成して出射する構成でなくてもよい。具体的に、光源装置５は、青色光及び蛍光を含む光を出射する波長変換装置６を備える構成としてもよい。また、光源装置５は、波長変換装置にて生成される蛍光と合成される青色光を出射する光源部を、上記光源部５１とは別に有する構成としてもよい。更に、光源装置５が出射する光は、白色光でなくてもよい。

上記各実施形態では、プロジェクター１は、それぞれ液晶パネルを含む３つの光変調装置４４（４４Ｒ，４４Ｇ，４４Ｂ）を備えるとした。しかしながら、これに限らず、２つ以下、或いは、４つ以上の光変調装置４４を備えたプロジェクターに本発明を適用してもよい。
上記各実施形態では、プロジェクター１は、光入射面と光出射面とが異なる透過型の液晶パネルを有する光変調装置４４を備えるとした。しかしながら、これに限らず、光入射面と光出射面とが同一となる反射型の液晶パネルを有する光変調装置を採用してもよい。また、入射光束を変調して画像情報に応じた画像を形成可能な光変調装置であれば、マイクロミラーを用いたデバイス、例えば、ＤＭＤ（Digital Micromirror Device）等を利用したものなど、液晶以外の光変調装置を採用してもよい。

上記各実施形態では、光源装置５をプロジェクター１に適用した例を挙げた。しかしながら、これに限らず、光源装置５を照明機器等の電子機器に採用してもよい。
また、上記フィン７２，７２Ａ〜７２Ｃは、波長変換装置６に適用することとしたが、これに限らず、その他の各種装置、例えば、タービン等に適用してもよい。

１…プロジェクター、２…外装筐体、４…画像投射装置、５…光源装置、６，６Ａ，６Ｄ…波長変換装置、７，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７Ｄ，７Ｅ，７Ｆ…放熱部、８…均一化装置、４４…光変調装置、４６…投射光学装置、５１…光源部（光源）、５８…光拡散装置、６１，６１Ａ，６１Ｂ，６１Ｃ…波長変換部、６２，６２Ｄ…回転冷却装置、６３，６３Ｄ，６３Ｅ，６３Ｆ…基板、６３Ａ，６３Ｄ１，６３Ｅ１，６３Ｆ１…第１面、６３Ｂ，６３Ｄ２，６３Ｅ２，６３Ｆ２…第２面、６４…スペーサー、６５…回転装置、７１，７１Ｄ…基部、７２，７２Ａ，７２Ｂ，７２Ｃ，７２Ｄ…フィン、７２Ｃ１…本体部、７２Ｃ２…屈曲部、７３…突出部、５８１…拡散反射素子（光拡散部）、６３０Ｄ…下流側端部，６３０Ｅ…下流側端部、６３４Ｅ…曲面、７１０Ｄ…端部（下流側の端部）、７１１Ｄ…傾斜面（第２傾斜面），７２０，７２０Ａ，７２０Ｃ…下流側端部、７２１，７２１Ａ，７２１Ｂ，７２１Ｃ…平坦面、７２２，７２２Ｃ…曲面、７２２Ｂ…傾斜面（第１傾斜面）、ＩＳ…仮想面、ＲＡ…回転中心（回転軸）。

Claims (11)

1. 回転装置と、
   冷却対象が接続され、前記回転装置によって回転される基板と、
   前記基板における前記冷却対象が接続される第１面及び当該第１面とは異なる第２面のいずれかに位置する放熱部と、を有し、
   前記放熱部は、前記基板から起立する方向に沿う第１方向に突出し、かつ、前記基板の回転中心側から外周側に向かう第２方向に延出し、前記基板の回転方向に沿って配列された複数のフィンを有し、
   前記複数のフィンにおける前記第１方向の先端部のうち、前記基板が回転される際に前記複数のフィン間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する下流側端部は、前記基板の回転軸に交差し、かつ、前記下流側端部より上流側に位置する前記先端部を通る仮想面より前記第１方向とは反対方向側に位置していることを特徴とする回転冷却装置。
2. 回転装置と、
   冷却対象が接続され、前記回転装置によって回転される基板と、
   前記基板における前記冷却対象が接続される第１面及び当該第１面とは異なる第２面のいずれかに位置する放熱部と、を有し、
   前記放熱部は、前記基板から起立する方向に沿う第１方向に突出し、かつ、前記基板の回転中心側から外周側に向かう第２方向に延出し、前記基板の回転方向に沿って配列された複数のフィンを有し、
   前記基板における前記第１方向の先端部のうち、前記基板が回転される際に前記複数のフィン間を流通する冷却気体の流路において下流側に位置する下流側端部は、前記基板の回転軸に交差し、かつ、前記下流側端部より上流側に位置する前記先端部を通る仮想面より前記第１方向とは反対方向側に位置していることを特徴とする回転冷却装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の回転冷却装置において、
   前記下流側端部は、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、所定の曲率を有する曲面を有することを特徴とする回転冷却装置。
4. 請求項１又は請求項２に記載の回転冷却装置において、
   前記下流側端部は、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、複数の鈍角を有する形状であることを特徴とする回転冷却装置。
5. 請求項１又は請求項２に記載の回転冷却装置において、
   前記複数のフィンは、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、前記冷却気体の上流側から下流側に向かうに従って前記複数のフィンの起立方向とは反対方向に向けて傾斜する第１傾斜面を有することを特徴とする回転冷却装置。
6. 請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の回転冷却装置において、
   前記第１面及び前記第２面は、略平坦状であり、
   前記放熱部は、前記複数のフィンが固定され、前記第１面及び前記第２面のいずれかに接続される略平坦状の面を有する基部を有し、
   前記基部の前記冷却気体の下流側の端部は、前記基板の回転方向に沿って見た場合に、前記冷却気体の上流側から下流側に向かうに従って前記基板に向けて傾斜する第２傾斜面を有することを特徴とする回転冷却装置。
7. 請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の回転冷却装置と、
   前記冷却対象として前記基板に接続され、入射される光の波長を変換して出射する波長変換部と、を備えることを特徴とする波長変換装置。
8. 請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の回転冷却装置と、
   前記冷却対象として前記基板に接続され、入射された光を拡散させて出射する光拡散部と、を備えることを特徴とする光拡散装置。
9. 請求項７に記載の波長変換装置と、
   前記波長変換装置に入射される光を出射する光源と、を備えることを特徴とする光源装置。
10. 請求項８に記載の光拡散装置と、
    前記光拡散装置に入射される光を出射する光源と、を備えることを特徴とする光源装置。
11. 請求項９又は請求項１０に記載の光源装置と、
    前記光源装置からの光を変調する光変調装置と、
    前記光変調装置により変調された光を投射する投射光学装置と、を備えることを特徴とするプロジェクター。

Images