JP2018049728A - 対物レンズおよび透過電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】対物レンズ100は、第1磁界型レンズ10および第2磁界型レンズ20を含み、第1磁界型レンズ10および第2磁界型レンズ20は、第1磁界型レンズ10が発生させる磁場の光軸Lに沿った方向の成分および第2磁界型レンズ20が発生させる磁場の光軸Lに沿った方向の成分が、試料配置面2において互いに打ち消し合うように設けられ、第1磁界型レンズ10および第2磁界型レンズ20は、それぞれ、内側磁極15,25と、外側磁極16,26と、を有し、外側磁極16,26の先端部16a,26aと試料配置面2との間の距離は、内側磁極15,25の先端部15a,25aと試料配置面2との間の距離よりも小さく、外側磁極16,26の先端部16a,26aは、光軸Lに向かって張り出している。
【選択図】図2
Description
可能な対物レンズを提供することにある。また、本発明のいくつかの態様に係る目的の1つは、上記対物レンズを含む電子顕微鏡を提供することにある。
透過電子顕微鏡用の対物レンズであって、
試料が配置される試料配置面を挟んで、光軸に沿って配置された第1磁界型レンズおよび第2磁界型レンズを含み、
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズは、前記第1磁界型レンズが発生させる磁場の前記光軸に沿った方向の成分および前記第2磁界型レンズが発生させる磁場の前記光軸に沿った方向の成分が、前記試料配置面において互いに打ち消し合うように設けられ、
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズは、それぞれ、内側磁極と、外側磁極と、を有し、
前記外側磁極の先端部と前記試料配置面との間の距離は、前記内側磁極の先端部と前記試料配置面との間の距離よりも小さく、
前記外側磁極の先端部は、前記光軸に向かって張り出している。
前記第1磁界型レンズと前記第2磁界型レンズとは、前記試料配置面を含む仮想平面に関して対称に配置されていてもよい。
前記光軸に沿った方向から見て、前記外側磁極の先端部と試料移動可能領域とは、重なっていてもよい。
前記光軸に沿った方向から見て、前記外側磁極の先端部と前記内側磁極の先端部とは、
重なっていてもよい。
前記外側磁極の先端部に磁場を印加するための磁場印加部を含んでいてもよい。
前記磁場印加部は、前記試料配置面に前記光軸に沿った方向の磁場を発生させてもよい。
前記試料を導入するための経路を囲み、前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズで発生した磁場を遮蔽する防磁筒を含んでいてもよい。
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズの少なくとも一方の位置を調整するための位置調整部を含んでいてもよい。
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズの少なくとも一方を固定するための固定部を含んでいてもよい。
本発明に係る対物レンズを含む。
1.1. 対物レンズの構成
まず、本実施形態に係る対物レンズの構成について、図面を参照しながら説明する。図1は、本実施形態に係る対物レンズ100を模式的に示す断面図である。なお、図1では、試料ステージ(ゴニオメータステージ)1006に試料ホルダー1008が挿入されている状態を図示している。図2は、本実施形態に係る対物レンズ100を模式的に示す断面図であり、図1の領域IIの拡大図である。
磁コイル22を囲んでいる部分から試料配置面2に向かって延出している。同様に、外側磁極26は、第2励磁コイル22を囲んでいる部分から試料配置面2に向かって延出している。
の位置を調整するためのものである。位置調整部40は、例えば第2磁界型レンズ20を光軸Lに垂直な方向(水平方向)に押すための位置調整用のネジである。図示はしないが、当該ネジは、複数設けられており、互いに異なる方向から第2磁界型レンズ20を押すことができる。位置調整部40によって、第1磁界型レンズ10に対する第2磁界型レンズ20の位置を調整することができる。これにより、容易に、第1磁界型レンズ10と第2磁界型レンズ20とを仮想平面4に関して対称に配置することができる。また、位置調整部40を用いることで、透過電子顕微鏡において、電子線を照射した状態で、第2磁界型レンズ20の位置合わせを行うことが可能である。
(1)第1磁界型レンズおよび第2磁界型レンズの動作
図3は、第1磁界型レンズ10および第2磁界型レンズ20が発生させる磁場を説明するための図である。なお、図3には、互いに直交する3つの軸として、X軸、Y軸、およびZ軸を図示している。Z軸は光軸Lに沿った軸(光軸Lに平行な軸)であり、X軸およびY軸は光軸Lに垂直な軸である。図示の例では、Z方向は鉛直方向であり、X方向およびY方向は水平方向である。
束(磁路)が生じる。この磁束は、内側磁極15の先端部15aと外側磁極16の先端部16aとの間のギャップ18から漏洩し、光軸Lを中心とする回転対称な磁場B1が発生する。第1磁界型レンズ10の外側磁極16の先端部16aが光軸Lに向かって張り出していることにより、ギャップ18は、試料Sの方向(試料配置面2の方向、Z方向)を向いていない。そのため、磁場B1の光軸Lに垂直な方向の成分(X,Y成分)は、試料Sの試料原点位置のみならず、試料Sの近傍の広い範囲で小さい。
図5は、磁場印加部30の動作を説明するための図である。図6は、磁場印加部30の動作を説明するための図であり、図5の領域VIの拡大図である。図5および図6に示す矢印は、磁場印加部30が発生させる磁束の経路(磁路)を表している。
ていることによって、励磁を零にしても、残留磁場が生じてしまう場合がある。本実施形態に係る対物レンズ100では、第1磁界型レンズ10が発生させる磁場B1の光軸Lに沿った方向の成分と第2磁界型レンズ20が発生させる磁場B2の光軸Lに沿った方向の成分とを逆方向にして試料配置面2における光軸Lに沿った方向の磁場を小さくしている。
次に、本実施形態に係る対物レンズ100の変形例について説明する。図7は、本実施形態の変形例に係る対物レンズ200を模式的に示す断面図であり、図2に対応している。以下、本実施形態の変形例に係る対物レンズ200において、上述した対物レンズ100の構成部材と同様の機能を有する部材については同一の符号を付し、その詳細な説明を省略する。
次に、本実施形態に係る透過電子顕微鏡について、図面を参照しながら説明する。図8は、本実施形態に係る透過電子顕微鏡1000を模式的に示す図である。
する。照射レンズ1004は、図示はしないが、複数の電子レンズで構成されていてもよい。
び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
Claims (10)
- 透過電子顕微鏡用の対物レンズであって、
試料が配置される試料配置面を挟んで、光軸に沿って配置された第1磁界型レンズおよび第2磁界型レンズを含み、
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズは、前記第1磁界型レンズが発生させる磁場の前記光軸に沿った方向の成分および前記第2磁界型レンズが発生させる磁場の前記光軸に沿った方向の成分が、前記試料配置面において互いに打ち消し合うように設けられ、
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズは、それぞれ、内側磁極と、外側磁極と、を有し、
前記外側磁極の先端部と前記試料配置面との間の距離は、前記内側磁極の先端部と前記試料配置面との間の距離よりも小さく、
前記外側磁極の先端部は、前記光軸に向かって張り出している、対物レンズ。 - 請求項1において、
前記第1磁界型レンズと前記第2磁界型レンズとは、前記試料配置面を含む仮想平面に関して対称に配置されている、対物レンズ。 - 請求項1または2において、
前記光軸に沿った方向から見て、前記外側磁極の先端部と試料移動可能領域とは、重なっている、対物レンズ。 - 請求項1または2において、
前記光軸に沿った方向から見て、前記外側磁極の先端部と前記内側磁極の先端部とは、重なっている、対物レンズ。 - 請求項1ないし4のいずれか1項において、
前記外側磁極の先端部に磁場を印加するための磁場印加部を含む、対物レンズ。 - 請求項5において、
前記磁場印加部は、前記試料配置面に前記光軸に沿った方向の磁場を発生させる、対物レンズ。 - 請求項1ないし6のいずれか1項において、
前記試料を導入するための経路を囲み、前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズで発生した磁場を遮蔽する防磁筒を含む、対物レンズ。 - 請求項1ないし7のいずれか1項において、
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズの少なくとも一方の位置を調整するための位置調整部を含む、対物レンズ。 - 請求項8において、
前記第1磁界型レンズおよび前記第2磁界型レンズの少なくとも一方を固定するための固定部を含む、対物レンズ。 - 請求項1ないし9のいずれか1項に記載の対物レンズを含む、透過電子顕微鏡。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11450505B2 (en) * | 2020-12-22 | 2022-09-20 | Fei Company | Magnetic field free sample plane for charged particle microscope |
KR20230130374A (ko) * | 2022-03-03 | 2023-09-12 | 한국기초과학지원연구원 | 투과전자현미경 시스템 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57151159A (en) * | 1981-03-13 | 1982-09-18 | Internatl Precision Inc | Objective lens of electron beam device |
JPH0668829A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-03-11 | Hitachi Ltd | 磁気シールド |
JPH08321272A (ja) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡用対物レンズ |
JP2005032588A (ja) * | 2003-07-07 | 2005-02-03 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡用磁界型対物レンズ |
US20120091337A1 (en) * | 2010-10-14 | 2012-04-19 | Carl Zeiss Nts Limited | Charged particle beam devices |
WO2013065399A1 (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-10 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3008044A (en) * | 1960-02-25 | 1961-11-07 | Gen Electric | Application of superconductivity in guiding charged particles |
GB1238889A (ja) * | 1968-11-26 | 1971-07-14 | ||
DE2059781C3 (de) * | 1970-12-04 | 1979-08-16 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Magnetische Linsenanordnung |
DE2541245A1 (de) * | 1975-09-12 | 1977-03-24 | Siemens Ag | Korpuskularstrahl-rastermikroskop |
JPS60220541A (ja) * | 1984-04-17 | 1985-11-05 | Jeol Ltd | 透過電子顕微鏡 |
JPH0614458B2 (ja) * | 1987-05-28 | 1994-02-23 | 日本電子株式会社 | 磁区観察装置 |
JP2602287B2 (ja) * | 1988-07-01 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | X線マスクの欠陥検査方法及びその装置 |
JPH06283128A (ja) * | 1993-03-29 | 1994-10-07 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
US5981947A (en) * | 1997-02-03 | 1999-11-09 | Nikon Corporation | Apparatus for detecting or collecting secondary electrons, charged-particle beam exposure apparatus comprising same, and related methods |
US6452175B1 (en) * | 1999-04-15 | 2002-09-17 | Applied Materials, Inc. | Column for charged particle beam device |
JP2003187732A (ja) | 2001-12-13 | 2003-07-04 | Jeol Ltd | 磁界型レンズの消磁方法及び消磁回路 |
NL1026006C2 (nl) * | 2004-04-22 | 2005-10-25 | Fei Co | Deeltjes-optisch apparaat voorzien van lenzen met permanent magnetisch materiaal. |
JP4323376B2 (ja) * | 2004-05-21 | 2009-09-02 | 国立大学法人東北大学 | 磁性マイクロプローブを具備した電子顕微鏡 |
EP2267754B1 (en) * | 2005-11-28 | 2012-11-21 | Carl Zeiss SMT GmbH | Particle-optical inspection system |
EP2193360B1 (fr) * | 2007-09-25 | 2014-11-05 | Centre National De La Recherche Scientifique | Procede et systeme de mesure de deformations a l'echelle nanometrique |
JP5449679B2 (ja) * | 2008-02-15 | 2014-03-19 | 株式会社日立製作所 | 電子線観察装置および試料観察方法 |
JP5606723B2 (ja) * | 2008-12-25 | 2014-10-15 | 日本電子株式会社 | シリコンドリフト型x線検出器 |
JP2011003533A (ja) * | 2009-05-20 | 2011-01-06 | Jeol Ltd | 磁区観察装置 |
JP5860642B2 (ja) * | 2011-09-07 | 2016-02-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
DE112014002951B4 (de) * | 2013-08-02 | 2020-08-06 | Hitachi High-Technologies Corporation | Rasterelektronenmikroskop |
JP6285753B2 (ja) * | 2014-02-28 | 2018-02-28 | 日本電子株式会社 | 透過電子顕微鏡 |
JP6258474B2 (ja) * | 2014-04-28 | 2018-01-10 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子線装置 |
TWI502616B (zh) * | 2014-08-08 | 2015-10-01 | Nat Univ Tsing Hua | 桌上型電子顯微鏡以及其廣域可調式磁透鏡 |
CN104916516B (zh) * | 2015-05-26 | 2017-03-22 | 兰州大学 | 一种可加电、磁场的透射电子显微镜样品杆 |
-
2016
- 2016-09-21 JP JP2016183961A patent/JP6718782B2/ja active Active
-
2017
- 2017-09-19 EP EP17191913.7A patent/EP3309814B1/en active Active
- 2017-09-20 US US15/710,091 patent/US10224173B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57151159A (en) * | 1981-03-13 | 1982-09-18 | Internatl Precision Inc | Objective lens of electron beam device |
JPH0668829A (ja) * | 1992-06-19 | 1994-03-11 | Hitachi Ltd | 磁気シールド |
JPH08321272A (ja) * | 1995-05-24 | 1996-12-03 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡用対物レンズ |
JP2005032588A (ja) * | 2003-07-07 | 2005-02-03 | Jeol Ltd | 電子顕微鏡用磁界型対物レンズ |
US20120091337A1 (en) * | 2010-10-14 | 2012-04-19 | Carl Zeiss Nts Limited | Charged particle beam devices |
WO2013065399A1 (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-10 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3716309A2 (en) | 2019-03-28 | 2020-09-30 | Jeol Ltd. | Method of controlling transmission electron microscope and transmission electron microscope |
US11251016B2 (en) | 2019-03-28 | 2022-02-15 | Jeol Ltd. | Method of controlling transmission electron microscope and transmission electron microscope |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3309814B1 (en) | 2020-01-29 |
US20180130633A1 (en) | 2018-05-10 |
EP3309814A3 (en) | 2018-08-01 |
JP6718782B2 (ja) | 2020-07-08 |
EP3309814A2 (en) | 2018-04-18 |
US10224173B2 (en) | 2019-03-05 |
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