JP2018018097A - 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 - Google Patents
近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018018097A JP2018018097A JP2017200169A JP2017200169A JP2018018097A JP 2018018097 A JP2018018097 A JP 2018018097A JP 2017200169 A JP2017200169 A JP 2017200169A JP 2017200169 A JP2017200169 A JP 2017200169A JP 2018018097 A JP2018018097 A JP 2018018097A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carbon atoms
- group
- infrared
- transmittance
- infrared absorbing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 96
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 95
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 85
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 claims abstract description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 122
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 110
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 71
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 55
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 54
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 34
- -1 cyanine compound Chemical class 0.000 claims description 24
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 23
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 13
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 10
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 8
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 120
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 85
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 42
- 239000000463 material Substances 0.000 description 38
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 23
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 19
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 19
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 18
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 16
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 16
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 10
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 9
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 9
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical class [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 6
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BKQXUNGELBDWLS-UHFFFAOYSA-N 9,9-diphenylfluorene Chemical group C1=CC=CC=C1C1(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21 BKQXUNGELBDWLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 5
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 5
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 5
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 3
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 3
- PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N squaric acid Chemical compound OC1=C(O)C(=O)C1=O PWEBUXCTKOWPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 3
- PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N tungstate Chemical compound [O-][W]([O-])(=O)=O PBYZMCDFOULPGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 102100031650 C-X-C chemokine receptor type 4 Human genes 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000922348 Homo sapiens C-X-C chemokine receptor type 4 Proteins 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N benzylamine Chemical compound NCC1=CC=CC=C1 WGQKYBSKWIADBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N binap Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C(=C2C=CC=CC2=CC=1)C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MUALRAIOVNYAIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N julolidine Chemical compound C1CCC2=CC=CC3=C2N1CCC3 DZFWNZJKBJOGFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000037361 pathway Effects 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N triflic anhydride Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)OS(=O)(=O)C(F)(F)F WJKHJLXJJJATHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUFWGUZSDHANBX-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-9h-fluorene Chemical class C=12CC3=CC=CC=C3C2=CC=CC=1C1=CC=CC=C1 PUFWGUZSDHANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 1
- WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 2-benzofuran-1(3H)-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)OCC2=C1 WNZQDUSMALZDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRUDMHNAMZFNEK-UHFFFAOYSA-N 3-iodo-4-methylaniline Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1I RRUDMHNAMZFNEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOFUWJNBAQJABO-UHFFFAOYSA-N 8-hydroxyjulolidine Chemical compound C1CCN2CCCC3=C2C1=CC=C3O FOFUWJNBAQJABO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910016036 BaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCC*c(c(*)c(C(C1=O)=C(*)C1=C1C(*)=C(*CCCCI)C(**CI)C(*)=C1*)c(*)c1*)c1N(*CCCC*)*(CCC)CIC Chemical compound CCC*c(c(*)c(C(C1=O)=C(*)C1=C1C(*)=C(*CCCCI)C(**CI)C(*)=C1*)c(*)c1*)c1N(*CCCC*)*(CCC)CIC 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001651 Cyanoacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N Methyl cyanoacrylate Chemical compound COC(=O)C(=C)C#N MWCLLHOVUTZFKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVNRSQASUCMHGX-UHFFFAOYSA-N O[Si](O)(O)O.OP(O)(O)=O Chemical compound O[Si](O)(O)O.OP(O)(O)=O XVNRSQASUCMHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004419 Panlite Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 206010037660 Pyrexia Diseases 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- YSVZGWAJIHWNQK-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)-2-bicyclo[2.2.1]heptanyl]methanol Chemical compound C1CC2C(CO)C(CO)C1C2 YSVZGWAJIHWNQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 229910052789 astatine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000003502 gasoline Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical class [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N indophenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1N=C1C=CC(=O)C=C1 RSAZYXZUJROYKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenyloxamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)C(=O)NC1=CC=CC=C1 FTWUXYZHDFCGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002815 nickel Chemical class 0.000 description 1
- TXIYCNRKHPXJMW-UHFFFAOYSA-N nickel;1-octyl-2-(2-octylphenyl)sulfanylbenzene Chemical compound [Ni].CCCCCCCCC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1CCCCCCCC TXIYCNRKHPXJMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L zinc dibutyldithiocarbamate Chemical compound [Zn+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC BOXSVZNGTQTENJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/10—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from different wavelengths
- H04N23/11—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from different wavelengths for generating image signals from visible and infrared light wavelengths
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/17—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing aluminium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/19—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/23—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron
- C03C3/247—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron containing fluorine and phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
- C03C4/082—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for infrared absorbing glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
- C08K5/3432—Six-membered rings
- C08K5/3437—Six-membered rings condensed with carbocyclic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/12—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/226—Glass filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N25/00—Circuitry of solid-state image sensors [SSIS]; Control thereof
- H04N25/60—Noise processing, e.g. detecting, correcting, reducing or removing noise
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
Abstract
【解決手段】CuO含有フツリン酸塩ガラスからなる近赤外線吸収ガラス基材と、該近赤外線吸収ガラス基材の少なくとも一方の主面上に近赤外線吸収色素(A)および透明樹脂(B)を含有する近赤外線吸収層と、を有し、前記近赤外線吸収ガラス基材は、650〜720nmの波長域における平均透過率が18%以上であり、前記近赤外線吸収層は、450〜550nmの波長域における透過率が80%以上であり、400〜550nmの波長域における透過率の平均値が80%以上であり、かつ650〜720nmの波長域における透過率の平均値が15%以下であることを特徴とする近赤外線カットフィルタ。
【選択図】図1
Description
しかし、このような近赤外線吸収色素は、近赤外線吸収波長域が狭く、他の遮蔽部材と組合せても吸収が十分でない波長域が出現する場合が多く問題であった。このため、近赤外線吸収波長域が広く、かつ、波長630〜700nmの光の吸収曲線の傾斜が急峻である光学フィルタが求められていた。
[1] CuO含有フツリン酸塩ガラスからなる近赤外線吸収ガラス基材と、
該近赤外線吸収ガラス基材の少なくとも一方の主面上に近赤外線吸収色素(A)および透明樹脂(B)を含有する近赤外線吸収層と、を有し、
前記近赤外線吸収ガラス基材は、650〜720nmの波長域における平均透過率が18%以上であり、
前記近赤外線吸収層は、450〜550nmの波長域における透過率が80%以上であり、
400〜550nmの波長域における透過率の平均値が80%以上であり、かつ650〜720nmの波長域における透過率の平均値が15%以下であることを特徴とする近赤外線カットフィルタ。
[4] 前記透明樹脂(B)の屈折率は1.45以上である[1]〜[3]のいずれかに記載の近赤外線カットフィルタ。
[5] 前記近赤外線吸収色素(A)が、透明樹脂(B)に分散して作製した樹脂膜の400〜850nmの波長域の吸収スペクトルにおいて、650〜750nmの波長域内に吸収極大波長を有する[1]〜[4]のいずれかに記載の近赤外線カットフィルタ。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基もしくは炭素数6〜11のアリール基または、置換基を有していてもよく、炭素原子間に酸素原子を有していてもよい炭素数7〜18のアルアリール基))を示す。
R1は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基もしくはアリル基、または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基を示し、
R6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または炭素数1〜10のアシルオキシ基を示し、
X1は、それぞれ独立して、下記式(1x)または(2x)で示される基であり、
Y1は、それぞれ独立して、下記式(1y)〜(5y)で示されるいずれかの基または単結合である。
[11] 前記近赤外線カットフィルタの、入射角0°の透過率から入射角30°の透過率を差し引いたときに得られる差スペクトルにおける、波長550〜750nmの範囲の面積と、前記近赤外線カットフィルタが前記近赤外線吸収層を有しないときの、入射角0°の透過率から入射角30°の透過率を差し引いたときに得られる差スペクトルにおける、波長550〜750nmの範囲の面積と、の比の値が0.9以下である[10]に記載の近赤外線カットフィルタ。
(ii−1)420〜650nmの波長域において透過率が90%以上
(ii−2)750〜1100nmの波長域における透過率が10%以下
(ii−3)600nmよりも長波長側の波長域において透過率が50%となる最も短波長側の波長が650nm超730nm以下の波長域内に存在する。
本発明の近赤外線カットフィルタ(以下、NIRフィルタともいう)は、
CuO含有フツリン酸塩ガラスまたはCuO含有リン酸塩ガラスからなる近赤外線吸収ガラス基材と、前記近赤外線吸収ガラス基材の少なくとも一方の主面上に配設される、近赤外線吸収色素(A)および透明樹脂(B)を含有する近赤外線吸収層を有するとともに、
下記光学特性を有するNIRフィルタである。
(i−1)400〜550nmの波長域における透過率の平均値が80%以上
(i−2)650〜720nmの波長域における透過率の平均値が15%以下
また、本発明のNIRフィルタが、上記近赤外線吸収ガラス基材と上記近赤外線吸収層のみから構成される場合には、特に該NIRフィルタの400〜550nmの波長域における透過率の平均値は83%以上が好ましく、85%以上がより好ましい。本発明のNIRフィルタが、上記近赤外線吸収ガラス基材と、上記近赤外線吸収層と、さらに他の構成要素とから構成される場合には、上記近赤外線吸収ガラス基材に上記近赤外線吸収層が積層された積層体において、400〜550nmの波長域における透過率の平均値は83%以上が好ましく、85%以上がより好ましい。
近赤外線吸収ガラス基材1(以下、近赤外線吸収ガラス基材を単に「ガラス基材」ともいう)は、CuO含有フツリン酸塩ガラスまたはCuO含有リン酸塩ガラス(以下、これらをまとめて「CuO含有ガラス」ともいう。)で構成される。ガラス基材1は、CuO含有ガラスで構成されることで、可視光に対し高い透過率を有するとともに近赤外線に対しても高い遮蔽性を有する。なお、「リン酸塩ガラス」には、ガラスの骨格の一部がSiO2で構成されるケイリン酸塩ガラスも含むものとする。ガラス基材1に使用されるCuO含有ガラスとしては、例えば、以下の組成のものが挙げられる。
近赤外線吸収層2は、近赤外線吸収色素(A)と透明樹脂(B)とを含有する層であり、典型的には、透明樹脂(B)に近赤外線吸収色素(A)が均一に分散してなる層である。
近赤外線吸収色素(A)(以下、「色素(A)」という。)は、可視波長領域(450〜600nm)の光を透過し、近赤外波長領域(700〜1100nm)の光を吸収する能力を有する近赤外線吸収色素であれば特に制限されない。なお、本発明における色素は顔料、すなわち分子が凝集した状態であってもよい。以下、近赤外線吸収色素を必要に応じて「NIR吸収色素」という。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基もしくは炭素数6〜11のアリール基または、置換基を有していてもよく、炭素原子間に酸素原子を有していてもよい炭素数7〜18のアルアリール基))を示す。
以下、複素環Aは単に環Aということもある。複素環B、複素環Cについても同様である。
なお、化合物(F1)は、上記一般式(F1)で示される構造の共鳴構造を有する式(F1−1)で示される化合物(F1−1)を含む。
化合物(F13)として、例えば、下記式(F13−1)、式(F13−2)でそれぞれ示される化合物等が挙げられる。
R1およびR2は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基もしくはアリル基、または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基を示す。R3およびR5は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基もしくは炭素数6〜11のアリール基または、置換基を有していてもよく、炭素原子間に酸素原子を有していてもよい炭素数7〜18のアルアリール基))を示す。
化合物(F6)として、例えば、式(F6−1)、式(F6−2)で示される化合物等が挙げられる。
化合物(F11−1)等の化合物(F11)は、例えば、米国特許第5,543,086号明細書に記載された方法で製造できる。
また、化合物(F12)は、例えば、J.Org.Chem.2005,70(13),5164−5173に記載の方法で製造できる。
反応式(F3)によれば、1−メチル−2−ヨード−4−アミノベンゼンのアミノ基に所望の置換基R9を有するカルボン酸塩化物を反応させてアミドを形成する。次いで、ピロリジンを反応させ、さらに3,4−ジヒドロキシ−3−シクロブテン−1,2−ジオン(以下、スクアリン酸という。)と反応させることで、化合物(F12−1)、化合物(F12−2)等が得られる。
反応式(F4)では、まず、8−ヒドロキシジュロリジンにトリフルオロメタンスルホン酸無水物(Tf2O)を反応させ、8−トリフルオロメタンスルホン酸ジュロリジンとし、次いで、これにベンジルアミン(BnNH2)を反応させ8−ベンジルアミノジュロリジンを得、さらにこれを還元して8−アミノジュロリジンを製造する。次いで、8−アミノジュロリジンのアミノ基に所望の置換基R9(化合物(F13−1)の場合−(CH2)6−CH3、化合物(F13−2)の場合−CH(CH(CH3)−CH2−C(CH3)3)−(CH2)2−CH(CH3)−CH2−C(CH3)3)を有するカルボン酸塩化物を反応させてジュロリジンの8位に−NH−C(=O)R9を有する化合物を得る。次いで、この化合物の2モルをスクアリン酸1モルと反応させることで、化合物(F13−1)、化合物(F13−2)等が得られる。
R11は、それぞれ独立して、炭素数1〜20のアルキル基、アルコキシ基もしくはアルキルスルホン基、またはそのアニオン種を示す。
R12およびR13は、それぞれ独立して、水素原子または炭素数1〜20のアルキル基を示す。
R14、R15、R16およびR17は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜6のアルキル基を示す。
nは1〜6の整数を示す。
色素(A)は、好ましくは色素(A1)の1種または2種以上を含有する。なお、色素(A)は、色素(A1)以外に、必要に応じてその他のNIR吸収色素を含有してもよい。色素(A)として複数のNIR吸収色素を用いる場合、これらを透明樹脂(B)に分散して作製した樹脂膜に対して測定される400〜850nmの波長域の吸収スペクトルにおいて、650〜750nmの波長域内に吸収極大波長を発現するようにNIR吸収色素を組合せて用いることが好ましい。さらには、該吸収スペクトルにおいて、可視光域の吸収が少なく、λmaxの吸収ピークの可視光側の傾きが急峻であり、長波長側では傾きは緩やかとなるように、NIR吸収色素を組合せて用いることが好ましい。
透明樹脂(B)としては、屈折率が、1.45以上の透明樹脂が好ましい。屈折率は1.5以上がより好ましく、1.6以上が特に好ましい。透明樹脂(B)の屈折率の上限は特にないが、入手のしやすさ等から1.72程度が好ましい。
本明細書において屈折率とは、20℃において波長589nmにおける屈折率をいい、特に断りのない限り、屈折率とは該屈折率をいう。
近赤外線吸収層2は、色素(A)と透明樹脂(B)を含有する層である。
(a1)450〜550nmの波長域において透過率が80%以上である。
(a2)650〜750nmの波長域において吸収極大波長(λmax)を有する。
紫外線吸収剤の含有量は、透明樹脂(B)100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.05〜5質量部である。これにより、近赤外線吸収層に求められる他の物性を確保しながら、紫外線吸収剤がその機能を発揮できる。
本発明のNIRフィルタは、図1に示すNIRフィルタ10Aのように近赤外線吸収層2とガラス基材1を各1個ずつ有する構成でもよいが、近赤外線吸収層2を2枚のガラス基材1が挟み込む構成や、ガラス基材1の両方の主面に近赤外線吸収層2が形成または貼着された構成でもよい。また、近赤外線吸収層2およびガラス基材1の積層体が、他の構成要素とともにNIRフィルタを構成してもよい。他の構成要素としては、反射防止膜、特定の波長域の光を反射する反射膜、特定の波長域の光の透過と遮蔽を制御する選択波長遮蔽層、α線等の放射線を遮蔽する放射線遮蔽膜等が挙げられる。本発明のNIRフィルタが、これら各種機能膜や機能層を有する場合、これらは誘電体多層膜で構成されることが好ましい。
(ii−1)420〜650nmの波長域において透過率が90%以上
(ii−2)750〜1100nmの波長域における透過率が10%以下
(ii−3)600nmよりも長波長側の波長域において透過率が50%となる最も短波長側の波長が650nm超730nm以下の波長域内に存在する。
以下に図3を参照しながら、本発明のNIRフィルタを撮像レンズと固体撮像素子との間に配置して用いた本発明の固体撮像装置の一例を説明する。
図3は、上記近NIRフィルタ10Bを用いた固体撮像装置の一例の要部を概略的に示す断面図である。この固体撮像装置20は、図3に示すように、固体撮像素子21と、その前面に以下の順に、NIRフィルタ10Bと、撮像レンズ23を有し、さらにこれらを固定する筐体24とを有する。撮像レンズ23は、筐体24の内側にさらに設けられたレンズユニット22により固定されている。NIRフィルタ10Bは固体撮像素子21側に第1の誘電体多層膜3が、撮像レンズ23側に第2の誘電体多層膜4が位置するように配置されている。固体撮像素子21と、撮像レンズ23とは、光軸Xに沿って配置されている。このようにNIRフィルタを装置に設置する際の方向については、設計に応じて適宜選択される。
(例1)
ポリエステル樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:B−OKP2、屈折率1.63)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(化合物(F11−2))を、ポリエステル樹脂100質量部に対して0.6質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚2.3μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ1を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ1の透過率(400〜550nmの平均透過率および650〜720nmの平均透過率)の結果を表2に示す。
ポリエステル樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:B−OKP2、屈折率1.63)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(化合物(F11−3))を、ポリエステル樹脂100質量部に対して0.6質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚2.3μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ2を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ2の透過率の結果を表2に示す。
ポリエステル樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:B−OKP2、屈折率1.63)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(化合物(F12−1))を、ポリエステル樹脂100質量部に対して1.0質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚2.3μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ3を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ3の透過率の結果を表2に示す。
ポリイソブチルメタクリレート樹脂(東京化成社製、屈折率1.48、以下「PIBM」と省略する。)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(化合物(F11−3))を、アクリル樹脂100質量部に対して0.6質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚2.3μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ4を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ4の透過率の結果を表2に示す。
ポリカーボネート樹脂(帝人化成社製、商品名:SP3810、屈折率1.64、以下「SP3810」と省略する。)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(化合物(F11−4))を、ポリカーボネート樹脂100質量部に対して2.0質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚1.1μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ5を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ5の透過率の結果を表2に示す。
ポリエステル樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:B−OKP2、屈折率1.63)の7質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(化合物(F11−5))を、ポリエステル樹脂100質量部に対して3.0質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.23mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−EX)板上にスピンコート法により塗布し、150℃で60分間加熱乾燥させ、膜厚1μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ6を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ6の透過率の結果を表2に示す。
NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(S2084(商品名、FEWケミカルズ社製))と、アクリルモノマー(大阪ガスケミカル社製、商品名:オグソールEA−F5003、屈折率1.59)の50質量%テトラヒドフラン溶液とを、アクリルモノマー(得られるアクリル樹脂と同量である)100質量部に対して上記スクアリリウム系色素が2.5質量部、光重合開始剤としてIRGACURE184(商品名、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、BASF社製)を2.0質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させた。その後、塗膜に波長365nmの紫外線を360mJ/cm2照射して硬化させ、フツリン酸ガラス板上に膜厚8μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ7を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ7の透過率の結果を表2に示す。
ポリエステル樹脂(東洋紡績社製、商品名:バイロン103、屈折率1.58)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてフタロシアニン系色素(FB22(商品名、山田化学工業社製))を、ポリエステル樹脂100質量部に対して0.5質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚2.3μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ8を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ8の透過率の結果を表2に示す。
NIR吸収色素としてシアニン系色素(ADS680HO(商品名、American dye社製))と、アクリルモノマー(大阪ガスケミカル社製、商品名:オグソールEA−F5003、屈折率1.59)の50質量%テトラヒドフラン溶液とを、アクリルモノマー(得られるアクリル樹脂と同量である)100質量部に対して上記シアニン系色素が2.0質量部、光重合開始剤としてIRGACURE184(商品名、BASF社製)を2.0質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させた。その後、塗膜に波長365nmの紫外線を360mJ/cm2照射して硬化させ、フツリン酸ガラス板上に膜厚8μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ9を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ9の透過率の結果を表2に示す。
ポリエステル樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:B−OKP2、屈折率1.63)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素としてスクアリリウム系色素(化合物(F13−2))を、ポリエステル樹脂100質量部に対して0.6質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚2.3μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ10を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ10の透過率の結果を表2に示す。
ポリエステル樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:B−OKP2、屈折率1.63)の15質量%シクロヘキサノン溶液に、NIR吸収色素として化合物(F12−1)と化合物(F11−2)を、ポリエステル樹脂100質量部に対して各々4.5質量部と0.9質量部となる割合で混合した後、室温にて撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液を、基材として厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板上にギャップ30μmのアプリケーターを用いてダイコート法により塗布し、100℃で5分間加熱乾燥させ、膜厚2.3μmの近赤外線吸収層が形成されたNIRフィルタ11を得た。日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定されたNIRフィルタ11の透過率の結果を表2に示す。
比較例として例1〜11(例6を除く)において基材として用いた厚さ0.56mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−E)板の分光透過率を、日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定された結果を表2に示す。なお、このフツリン酸ガラス板の750〜1000nmの波長域における透過率は10%以下であった。
さらに、別の比較例として例6において基材として用いた厚さ0.23mmのフツリン酸ガラス(旭硝子社製、商品名:NF50−EX)板の分光透過率を、日立製作所社製分光光度計(商品名:U4100)を用いて測定された結果を表2に示す。なお、このフツリン酸ガラス板の750〜1000nmの波長域における透過率は15%以下であった。
(例14〜例26)
上記例1〜11で得られたNIRフィルタ1〜11の両側にさらに誘電体多層膜を有するNIRフィルタ、すなわち、図2に示す第1の誘電体多層膜(反射防止膜)3、近赤外線吸収層2、ガラス基材1、第2の誘電体多層膜4の順に積層された構成の例14〜24のNIRフィルタを、それぞれNIRフィルタ14〜24として作製した。同様にして、例25、例26として、例12、例13のフツリン酸ガラスの両側にさらに誘電体多層膜、すなわち第1の誘電体多層膜(反射防止膜)3および第2の誘電体多層膜4を有するNIRフィルタ25、26を作製した。なお、第1の誘電体多層膜(反射防止膜)3および第2の誘電体多層膜4としては、例14〜例26の全ての例において、以下のとおりに設計し成膜した同一の誘電体多層膜を用いた。
第2の誘電体多層膜4は、高屈折率誘電体膜であるTiO2膜と低屈折率誘電体膜であるSiO2膜を交互に積層する構成において、蒸着法により成膜した。
第2の誘電体多層膜4の積層数、TiO2膜の膜厚およびSiO2膜の膜厚をパラメータとして、所望の光学特性を有するようにシミュレーションして構成を決定した。
得られたNIRフィルタ14〜26について、入射角0°のときの透過率(T0)と、入射角30°の透過率(T30)を測定し、T0からT30を差し引いたときに得られる差スペクトルにおける、波長550〜750nmの範囲の面積(「T0−T30の面積(550〜750nm)」と示す。)を算出した。また、NIRフィルタ14〜18およびNIRフィルタ20〜24については、得られたT0−T30の面積(550〜750nm)を、NIRフィルタ25のT0−T30の面積(550〜750nm)で除して、NIR吸収層を有しないフィルタに対する面積比を算出した。同様にNIRフィルタ19については、NIRフィルタ26に対するT0−T30の面積(550〜750nm)の面積比を算出した。これらの結果をNIRフィルタの構成および平均透過率(透過率(T0)における、400〜550nmの平均透過率および650〜720nmの平均透過率)とともに表3に示す。
Claims (13)
- CuO含有フツリン酸塩ガラスからなる近赤外線吸収ガラス基材と、
該近赤外線吸収ガラス基材の少なくとも一方の主面上に近赤外線吸収色素(A)および透明樹脂(B)を含有する近赤外線吸収層と、を有し、
前記近赤外線吸収ガラス基材は、650〜720nmの波長域における平均透過率が18%以上であり、
前記近赤外線吸収層は、450〜550nmの波長域における透過率が80%以上であり、
400〜550nmの波長域における透過率の平均値が80%以上であり、かつ650〜720nmの波長域における透過率の平均値が15%以下であることを特徴とする近赤外線カットフィルタ。 - 前記近赤外線吸収ガラス基材は、400〜550nmの波長域における透過率が80%以上である請求項1に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記近赤外線吸収ガラス基材は、750〜1000nmの波長域における透過率が40%以下である請求項1または2に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記透明樹脂(B)の屈折率は1.45以上である請求項1〜3のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記近赤外線吸収色素(A)が、透明樹脂(B)に分散して作製した樹脂膜の400〜850nmの波長域の吸収スペクトルにおいて、650〜750nmの波長域内に吸収極大波長を有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記近赤外線吸収色素(A)が、シアニン系化合物、フタロシアニン系化合物、およびスクアリリウム系化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項5に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 前記スクアリリウム系化合物が、下記式(F1)で示されるスクアリリウム系化合物から選ばれる少なくとも1種である請求項6に記載の近赤外線カットフィルタ。
R4およびR6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、炭素数1〜10のアシルオキシ基、または−NR7R8(R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基もしくは炭素数6〜11のアリール基または、置換基を有していてもよく、炭素原子間に酸素原子を有していてもよい炭素数7〜18のアルアリール基))を示す。
R1とR2、R2とR5、およびR1とR3のうち少なくとも1組は、互いに連結して窒素原子と共に員数が5または6のそれぞれ複素環A、複素環B、および複素環Cを形成し、R1およびR2は複素環を形成していない場合、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基もしくはアリル基、または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基を示し、R3およびR5は複素環を形成していない場合、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。 - 前記スクアリリウム系化合物が、下記式(F11)で示されるスクアリリウム系化合物から選ばれる少なくとも1種である請求項6または7に記載の近赤外線カットフィルタ。
R1は、それぞれ独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基もしくはアリル基、または炭素数6〜11のアリール基もしくはアルアリール基を示し、
R3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基を示し、
R6は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基もしくはアルコキシ基、または炭素数1〜10のアシルオキシ基を示し、
R7およびR8は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または−C(=O)−R9(R9は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基もしくは炭素数6〜11のアリール基または、置換基を有していてもよく、炭素原子間に酸素原子を有していてもよい炭素数7〜18のアルアリール基)を示し、
X1は、それぞれ独立して、下記式(1x)または(2x)で示される基であり、
Y1は、それぞれ独立して、下記式(1y)〜(5y)で示されるいずれかの基または単結合である。
- 前記透明樹脂(B)100質量部に対する前記近赤外線吸収色素(A)の割合が0.1〜20質量部である請求項1〜8のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルタ。
- 屈折率が1.45以上1.55未満の誘電体膜と屈折率が2.2以上2.5以下の誘電体膜とを交互に積層した誘電体多層膜を、
前記近赤外線吸収層の表面および前記近赤外線吸収ガラス基材の表面の少なくとも一方に有する請求項1〜9のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルタ。 - 前記近赤外線カットフィルタの、入射角0°の透過率から入射角30°の透過率を差し引いたときに得られる差スペクトルにおける、波長550〜750nmの範囲の面積と、
前記近赤外線カットフィルタが前記近赤外線吸収層を有しないときの、入射角0°の透過率から入射角30°の透過率を差し引いたときに得られる差スペクトルにおける、波長550〜750nmの範囲の面積と、の比の値が0.9以下である請求項10に記載の近赤外線カットフィルタ。 - 前記誘電体多層膜の少なくとも一方が、下記特性を備える請求項10または11に記載の近赤外線カットフィルタ。
(ii−1)420〜650nmの波長域において透過率が90%以上
(ii−2)750〜1100nmの波長域における透過率が10%以下
(ii−3)600nmよりも長波長側の波長域において透過率が50%となる最も短波長側の波長が650nm超730nm以下の波長域内に存在する。 - 被写体側または光源の光が入射する側から順に、請求項1〜12のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルタと固体撮像素子が配置された固体撮像装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012184420 | 2012-08-23 | ||
JP2012184420 | 2012-08-23 | ||
JP2013001694 | 2013-01-09 | ||
JP2013001694 | 2013-01-09 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014531628A Division JP6233308B2 (ja) | 2012-08-23 | 2013-08-20 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018018097A true JP2018018097A (ja) | 2018-02-01 |
JP6504226B2 JP6504226B2 (ja) | 2019-04-24 |
Family
ID=50149937
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014531628A Active JP6233308B2 (ja) | 2012-08-23 | 2013-08-20 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
JP2017200169A Active JP6504226B2 (ja) | 2012-08-23 | 2017-10-16 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014531628A Active JP6233308B2 (ja) | 2012-08-23 | 2013-08-20 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9445017B2 (ja) |
JP (2) | JP6233308B2 (ja) |
KR (1) | KR102056613B1 (ja) |
CN (2) | CN108761612B (ja) |
WO (1) | WO2014030628A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210030526A (ko) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | 킹레이 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 적외선 협대역 통과 필터링 구조 및 이를 이용한 적외선 협대역 통과 여파기 |
Families Citing this family (70)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014084289A1 (ja) * | 2012-11-30 | 2014-06-05 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いたイメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
WO2014088063A1 (ja) | 2012-12-06 | 2014-06-12 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
JP6281395B2 (ja) * | 2013-11-26 | 2018-02-21 | ソニー株式会社 | 撮像素子 |
TWI682190B (zh) * | 2014-03-19 | 2020-01-11 | 日商豪雅冠得光電股份有限公司 | 光學元件 |
JP6535979B2 (ja) | 2014-04-16 | 2019-07-03 | ソニー株式会社 | 撮像素子及び撮像装置 |
WO2016043166A1 (ja) * | 2014-09-19 | 2016-03-24 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
JP6383980B2 (ja) * | 2014-09-26 | 2018-09-05 | Agc株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
JP6771880B2 (ja) * | 2014-12-18 | 2020-10-21 | 株式会社日本触媒 | 樹脂組成物及び積層体 |
WO2016114362A1 (ja) | 2015-01-14 | 2016-07-21 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
CN106062592B (zh) * | 2015-01-14 | 2018-11-23 | Agc株式会社 | 近红外线截止滤波器和摄像装置 |
KR101780913B1 (ko) | 2015-02-18 | 2017-09-21 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
WO2016158818A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線カットフィルタ、キット、および固体撮像素子 |
JP6202229B2 (ja) | 2015-04-23 | 2017-09-27 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
CN107533171B (zh) | 2015-05-12 | 2020-07-24 | Agc株式会社 | 光学滤波器以及摄像装置 |
JP6721578B2 (ja) | 2015-05-20 | 2020-07-15 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収組成物、赤外線カットフィルタ、積層体、パターン形成方法、および固体撮像素子 |
JP6281023B2 (ja) * | 2015-07-09 | 2018-02-14 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法 |
TWI709767B (zh) * | 2015-07-28 | 2020-11-11 | 日商Jsr股份有限公司 | 光學濾波器、環境光感測器及電子設備 |
KR101887846B1 (ko) | 2015-09-25 | 2018-08-10 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
US10996105B2 (en) * | 2015-11-30 | 2021-05-04 | Jsr Corporation | Optical filter having low incident angle dependence of incident light, ambient light sensor, sensor module and electronic device |
WO2017094858A1 (ja) | 2015-12-01 | 2017-06-08 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
JP6626905B2 (ja) | 2016-01-15 | 2019-12-25 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 固体撮像素子用近赤外線吸収性組成物およびフィルタ |
CN108603038A (zh) * | 2016-02-02 | 2018-09-28 | Agc株式会社 | 近红外线吸收色素、光学滤波器和摄像装置 |
KR101904500B1 (ko) | 2016-02-24 | 2018-11-28 | 주식회사 엘엠에스 | 광학물품 및 이를 포함하는 광학필터 |
WO2017146413A2 (ko) * | 2016-02-24 | 2017-08-31 | 주식회사 엘엠에스 | 광학물품 및 이를 포함하는 광학필터 |
WO2017164024A1 (ja) * | 2016-03-22 | 2017-09-28 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 |
US11325354B2 (en) | 2016-03-28 | 2022-05-10 | Kuraray Co., Ltd. | Interlayer film for laminated glass |
US20170307797A1 (en) * | 2016-04-21 | 2017-10-26 | Magna Electronics Inc. | Vehicle camera with low pass filter |
KR102615941B1 (ko) * | 2016-07-29 | 2023-12-20 | 삼성전자 주식회사 | 적외선 차단 필터 및 이를 구비하는 카메라 또는 전자 장치 |
JP2018054766A (ja) * | 2016-09-28 | 2018-04-05 | 日本電気硝子株式会社 | デバイス用の透明カバー部材 |
US10464840B2 (en) * | 2016-10-05 | 2019-11-05 | Corning Incorporated | Near infrared shielding and laser-resistant window |
US10310298B2 (en) * | 2016-10-25 | 2019-06-04 | GM Global Technology Operations LLC | Smart sensor-cover apparatus and methods and computer products for implementing same |
CN106630601A (zh) * | 2016-11-08 | 2017-05-10 | 南通瑞森光学元件科技有限公司 | 一种透可见截红外玻璃 |
WO2018101189A1 (ja) * | 2016-11-30 | 2018-06-07 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散液、硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ |
JPWO2018123705A1 (ja) * | 2016-12-26 | 2019-10-31 | Agc株式会社 | 紫外線透過フィルタ |
CN109478005B (zh) * | 2017-02-24 | 2021-11-09 | 光驰股份有限公司 | 摄像机构造、摄像装置 |
JP6758478B2 (ja) * | 2017-03-09 | 2020-09-23 | 富士フイルム株式会社 | 構造体、キットおよび光センサ |
WO2018180269A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | Agc株式会社 | 光学素子および光学素子の製造方法 |
CN110678785B (zh) * | 2017-05-29 | 2022-04-05 | Jsr株式会社 | 环境光传感器用光学滤波器、环境光传感器以及电子机器 |
CN110741288A (zh) | 2017-06-30 | 2020-01-31 | Jsr株式会社 | 固体摄像装置 |
WO2019021767A1 (ja) | 2017-07-27 | 2019-01-31 | Agc株式会社 | 近赤外線吸収色素、光学フィルタおよび撮像装置 |
WO2019044505A1 (ja) | 2017-08-31 | 2019-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール |
JP2019055889A (ja) * | 2017-09-20 | 2019-04-11 | 日本電気硝子株式会社 | 赤外線吸収ガラス板及びその製造方法、並びに固体撮像素子デバイス |
JP6273064B1 (ja) | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
JP6273063B1 (ja) | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
JP6259155B1 (ja) | 2017-10-03 | 2018-01-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
KR20200095518A (ko) | 2017-12-06 | 2020-08-10 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
WO2019111965A1 (ja) | 2017-12-07 | 2019-06-13 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
JP6982636B2 (ja) * | 2018-02-01 | 2021-12-17 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、近赤外線吸収剤、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
KR20200128009A (ko) | 2018-03-02 | 2020-11-11 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터, 카메라 모듈 및 전자 기기 |
JP7016403B2 (ja) | 2018-03-13 | 2022-02-04 | 富士フイルム株式会社 | 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法 |
CN112204109B (zh) * | 2018-05-30 | 2022-04-01 | Agc株式会社 | 近红外线吸收色素、滤光片和成像装置 |
CN110554450B (zh) * | 2018-06-04 | 2023-05-19 | Hoya株式会社 | 滤光片及摄像装置 |
JP7466275B2 (ja) * | 2018-06-04 | 2024-04-12 | Hoya株式会社 | 光学フィルターおよび撮像装置 |
EP3598105A1 (en) * | 2018-07-20 | 2020-01-22 | Omya International AG | Method for detecting phosphate and/or sulphate salts on the surface of a substrate or within a substrate, use of a lwir detecting device and a lwir imaging system |
TWI685681B (zh) * | 2018-08-27 | 2020-02-21 | 白金科技股份有限公司 | 紅外光濾光片 |
US11346775B2 (en) | 2018-08-29 | 2022-05-31 | Asahi Kasei Microdevices Corporation | NDIR gas sensor and optical device |
EP3848627A4 (en) | 2018-09-07 | 2021-10-27 | FUJIFILM Corporation | VEHICLE HEADLIGHT UNIT, HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM AND PROCESS FOR THE PRODUCTION OF HEADLIGHT LIGHT PROTECTION FILM |
JP2019069893A (ja) * | 2018-11-22 | 2019-05-09 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス積層体及び固体撮像素子デバイス |
WO2020129909A1 (ja) * | 2018-12-19 | 2020-06-25 | Agc株式会社 | 光学フィルタ、撮像装置および光学センサー |
JP7459483B2 (ja) * | 2018-12-28 | 2024-04-02 | Agc株式会社 | 光学フィルタ、近赤外線カットフィルタ、および撮像装置 |
DE102019120668A1 (de) * | 2019-07-31 | 2021-02-04 | Leica Camera Aktiengesellschaft | Sensoreinheit |
WO2021049441A1 (ja) * | 2019-09-11 | 2021-03-18 | Agc株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
JP7348826B2 (ja) * | 2019-12-05 | 2023-09-21 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | Ndirガスセンサ及び光学デバイス |
CN115023475A (zh) * | 2020-01-30 | 2022-09-06 | 富士胶片株式会社 | α射线屏蔽膜形成用组合物、α射线屏蔽膜、层叠体、半导体装置 |
JP7468036B2 (ja) | 2020-03-23 | 2024-04-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 熱線遮蔽合わせ透明基材 |
TWI752677B (zh) | 2020-11-12 | 2022-01-11 | 晶瑞光電股份有限公司 | 紅外截止濾光片結構 |
KR20230099430A (ko) | 2021-12-27 | 2023-07-04 | 주식회사 엘엠에스 | 적층체, 광 흡수 적층체, 광학 필터 및 촬상 장치 |
WO2023248908A1 (ja) * | 2022-06-24 | 2023-12-28 | Agc株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
WO2023248900A1 (ja) * | 2022-06-24 | 2023-12-28 | Agc株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
WO2023248903A1 (ja) * | 2022-06-24 | 2023-12-28 | Agc株式会社 | 光学フィルタ、及び撮像装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5543086A (en) * | 1987-08-12 | 1996-08-06 | Gentex Corporation | Squarylium dyestuffs and compostions containing same |
JP2008303130A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Asahi Glass Co Ltd | 撮像装置用近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
JP2009267396A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Asahi Glass Co Ltd | 固体撮像素子パッケージ用窓ガラス |
JP2011118255A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置・表示装置 |
WO2011071052A1 (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | 旭硝子株式会社 | 光学部材、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズ、およびそれらを用いた撮像・表示装置 |
JP2012103340A (ja) * | 2010-11-08 | 2012-05-31 | Jsr Corp | 近赤外線カットフィルター、およびそれを備える固体撮像素子ならびに固体撮像装置 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60169453A (ja) * | 1984-02-13 | 1985-09-02 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 2,4−ビス(2′−モノ置換アミノ−4′−ジ置換アミノフエニル)シクロブテンジイリウム−1,3−ジオレ−ト類 |
JPH01228960A (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウムの化合物 |
JPH07209510A (ja) * | 1994-01-21 | 1995-08-11 | Hoya Corp | 着色フィルター及びその製造方法 |
US5695907A (en) * | 1996-03-14 | 1997-12-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Laser addressable thermal transfer imaging element and method |
JPH11209144A (ja) * | 1998-01-21 | 1999-08-03 | Hoya Corp | 近赤外吸収フィルター用ガラスおよびそれを用いた近赤外吸収フィルター |
KR100444332B1 (ko) * | 1999-12-20 | 2004-08-16 | 도요 보세키 가부시키가이샤 | 적외선 흡수필터 |
JP2003004939A (ja) * | 2001-06-25 | 2003-01-08 | Asahi Glass Co Ltd | 光学フィルム |
JP4169545B2 (ja) | 2002-07-05 | 2008-10-22 | Hoya株式会社 | 近赤外光吸収ガラス、近赤外光吸収素子、近赤外光吸収フィルターおよび近赤外光吸収ガラス成形体の製造方法 |
US7192897B2 (en) | 2002-07-05 | 2007-03-20 | Hoya Corporation | Near-infrared light-absorbing glass, near-infrared light-absorbing element, near-infrared light-absorbing filter, and method of manufacturing near-infrared light-absorbing formed glass article, and copper-containing glass |
JP3809835B2 (ja) | 2003-12-26 | 2006-08-16 | 東洋紡績株式会社 | 近赤外線吸収フィルムの製造方法 |
JP5078225B2 (ja) | 2004-10-27 | 2012-11-21 | 東レ株式会社 | 光学フィルター |
KR100666525B1 (ko) * | 2005-06-01 | 2007-01-09 | 에스케이씨 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 판넬용 전면필터의 제조방법 |
JP2007047531A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-02-22 | Seiko Epson Corp | 光学多層膜フィルタ及び光学多層膜フィルタの製造方法 |
JP2008051985A (ja) | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Nidec Copal Corp | 近赤外線吸収フィルタ |
KR100791931B1 (ko) * | 2006-09-06 | 2008-01-04 | 에스케이케미칼주식회사 | 디이모늄염 및 이를 포함하는 근적외선 흡수필름 |
JP2008070827A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Agc Techno Glass Co Ltd | 赤外線遮蔽フィルタ |
JP2008070825A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Agc Techno Glass Co Ltd | 赤外線遮蔽膜 |
JP2008105958A (ja) * | 2006-10-23 | 2008-05-08 | Fujifilm Corp | ベンゾトリアゾール系化合物、色素微粒子、色素微粒子分散物および該色素微粒子を含有する近赤外線吸収材料 |
JP5168917B2 (ja) | 2007-01-26 | 2013-03-27 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法 |
JP2008298820A (ja) * | 2007-05-29 | 2008-12-11 | Konica Minolta Holdings Inc | 光学フィルター用組成物、これを用いた光学フィルターおよびディスプレイ用前面フィルター |
KR101474351B1 (ko) * | 2008-11-28 | 2014-12-18 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 근적외선 컷 필터 및, 이를 구비하는 고체 촬상 장치 및 카메라 모듈 |
JP5672300B2 (ja) | 2010-03-26 | 2015-02-18 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタガラスの製造方法 |
JP5810604B2 (ja) * | 2010-05-26 | 2015-11-11 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
WO2012017848A1 (ja) | 2010-08-03 | 2012-02-09 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびそれを含む撮像装置 |
JP5741283B2 (ja) * | 2010-12-10 | 2015-07-01 | 旭硝子株式会社 | 赤外光透過フィルタ及びこれを用いた撮像装置 |
JP6036689B2 (ja) * | 2011-06-06 | 2016-11-30 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズおよび撮像装置 |
KR20140068982A (ko) * | 2011-09-21 | 2014-06-09 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 근적외선 커트 필터 |
JP6183041B2 (ja) * | 2012-08-23 | 2017-08-23 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
-
2013
- 2013-08-20 KR KR1020157002818A patent/KR102056613B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-20 CN CN201810436692.2A patent/CN108761612B/zh active Active
- 2013-08-20 WO PCT/JP2013/072139 patent/WO2014030628A1/ja active Application Filing
- 2013-08-20 JP JP2014531628A patent/JP6233308B2/ja active Active
- 2013-08-20 CN CN201380043955.9A patent/CN104755969B/zh active Active
-
2015
- 2015-02-03 US US14/613,057 patent/US9445017B2/en active Active
-
2017
- 2017-10-16 JP JP2017200169A patent/JP6504226B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5543086A (en) * | 1987-08-12 | 1996-08-06 | Gentex Corporation | Squarylium dyestuffs and compostions containing same |
JP2008303130A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Asahi Glass Co Ltd | 撮像装置用近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
JP2009267396A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Asahi Glass Co Ltd | 固体撮像素子パッケージ用窓ガラス |
JP2011118255A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Asahi Glass Co Ltd | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置・表示装置 |
WO2011071052A1 (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | 旭硝子株式会社 | 光学部材、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズ、およびそれらを用いた撮像・表示装置 |
JP2012103340A (ja) * | 2010-11-08 | 2012-05-31 | Jsr Corp | 近赤外線カットフィルター、およびそれを備える固体撮像素子ならびに固体撮像装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210030526A (ko) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | 킹레이 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 적외선 협대역 통과 필터링 구조 및 이를 이용한 적외선 협대역 통과 여파기 |
KR102288217B1 (ko) | 2019-09-09 | 2021-08-10 | 킹레이 테크놀로지 컴퍼니 리미티드 | 적외선 협대역 통과 필터링 구조 및 이를 이용한 적외선 협대역 통과 여파기 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2014030628A1 (ja) | 2016-07-28 |
JP6504226B2 (ja) | 2019-04-24 |
US9445017B2 (en) | 2016-09-13 |
CN104755969B (zh) | 2018-06-08 |
US20150146057A1 (en) | 2015-05-28 |
JP6233308B2 (ja) | 2017-11-22 |
CN108761612B (zh) | 2021-04-06 |
KR102056613B1 (ko) | 2019-12-17 |
WO2014030628A1 (ja) | 2014-02-27 |
KR20150046016A (ko) | 2015-04-29 |
CN108761612A (zh) | 2018-11-06 |
CN104755969A (zh) | 2015-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6233308B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 | |
JP6103152B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 | |
JP6332403B2 (ja) | 光学フィルタおよび固体撮像素子 | |
JP6168252B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 | |
JP6183048B2 (ja) | 光学フィルタおよび固体撮像装置 | |
JP6183041B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
JP6248945B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
JP6183255B2 (ja) | 近赤外線カットフィルタ | |
JP5849906B2 (ja) | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 | |
WO2019049884A1 (ja) | 光学フィルタおよび撮像装置 | |
JP5849899B2 (ja) | 近赤外線吸収フィルタおよび固体撮像装置 | |
JP2017090687A (ja) | 近赤外線吸収型ガラスウェハおよび半導体ウェハ積層体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171016 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180911 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180918 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181001 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190311 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6504226 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |