WO2016158818A1

WO2016158818A1 - 赤外線カットフィルタ、キット、および固体撮像素子

Info

Publication number: WO2016158818A1
Application number: PCT/JP2016/059811
Authority: WO
Inventors: 啓佑有村; 嶋田　和人; 佐々木　大輔; 友樹平井; 季彦松村
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2015-03-31
Filing date: 2016-03-28
Publication date: 2016-10-06
Also published as: US20180017720A1; JPWO2016158818A1; TW201641459A

Abstract

視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタ、赤外線カットフィルタを製造するためのキット、および固体撮像素子を提供する。銅を含有する透明層１を有し、銅を含有する透明層１が更に赤外線吸収剤を含有するか、あるいは、赤外線吸収剤を含有する層２を更に有する、赤外線カットフィルタ。

Description

赤外線カットフィルタ、キット、および固体撮像素子

　本発明は、赤外線カットフィルタ、赤外線カットフィルタを製造するためのキット、および、赤外線カットフィルタを有する固体撮像素子に関する。

　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などにはカラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、視感度補正を行うことが必要であり、赤外線カットフィルタを用いることが多い。

　赤外線カットフィルタとして、ガラスなどの透明部材の表面に、赤外線反射膜を形成した赤外線カットフィルタがある。赤外線反射膜は、可視波長の光の透過率が高いことが要求され、このような観点から、赤外線反射膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを複数層積層した誘電体多層膜が用いられる（特許文献１～５参照）。
　また、赤外線カットフィルタとして、赤外線吸収性を有する組成系からなる赤外線吸収ガラスで構成する場合がある。赤外線吸収ガラスは、燐酸塩系ガラスや弗燐酸系ガラスにＣｕＯを添加してなるものが知られている（特許文献６参照）。
　また、特許文献７には、透明部材の表面に、透明樹脂と有機色素とを含む赤外線吸収層を形成した赤外線カットフィルタが記載されている。透明樹脂としてポリエステル樹脂を用いている。

特開２０００－２２１３２２号公報特開昭５７－５８１０９号公報特開平０８－２４９９１４号公報特開２００６－３６５６０号公報特開２００６－７１８５１号公報特開平０１－２１９０３７号公報国際公開第２０１４／１６８１８９号

　しかしながら、特許文献１～５に開示された赤外線カットフィルタの場合、垂直入射光と斜め入射光に対して、それぞれ光学特性が異なる問題があり、視野角が狭くなり易かった。
　また、特許文献６、７に開示された赤外線カットフィルタは、赤外線遮蔽性が十分ではなかった。

　よって、本発明の目的は、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタ、赤外線カットフィルタを製造するためのキット、および固体撮像素子を提供することにある。

　本発明者らは上記目的を達成するため、種々検討したところ、後述する構成とすることで上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞　銅を含有する透明層を有し、銅を含有する透明層が更に赤外線吸収剤を含有するか、あるいは、赤外線吸収剤を含有する層を更に有する、赤外線カットフィルタ。
＜２＞　赤外線カットフィルタは、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有し、
　赤外線カットフィルタを、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、
　赤外線カットフィルタを、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上である、＜１＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜３＞　赤外線吸収剤を含有する層は、樹脂を含む、＜１＞または＜２＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜４＞　赤外線吸収剤を含有する層は、三次元架橋物を含む、＜１＞～＜３＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜５＞　三次元架橋物は、２個以上の重合性基を有する重合性化合物を硬化してなるものである、＜４＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜６＞　赤外線吸収剤を含有する層は、ゼラチンを含む、＜１＞～＜５＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜７＞　赤外線吸収剤は、波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物である、＜１＞～＜６＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜８＞　赤外線吸収剤は、有機色素を含む、＜１＞～＜７＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜９＞　赤外線吸収剤は、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、および、ナフタロシアニン化合物から選択される少なくとも１種を含有する、＜１＞～＜８＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１０＞　赤外線吸収剤は、下記一般式１～３で表される化合物から選択される少なくとも１種である、＜１＞～＜９＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ；
一般式１

　一般式１中、環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表し、
　Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
　Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、
　ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
　Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い；
一般式２

　一般式２中、Ｒ^1aおよびＲ^1bは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ²～Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ⁶およびＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ^AＲ^B、または金属原子を表し、Ｒ^AおよびＲ^Bは、各々独立に、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ⁶は、Ｒ^1aまたはＲ³と、共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ⁷は、Ｒ^1bまたはＲ⁵と、共有結合もしくは配位結合していてもよい；
一般式３

　一般式３中、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
＜１１＞　赤外線吸収剤は、２５℃の水に１質量％以上溶解する化合物である、＜１＞～＜１０＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１２＞　銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層とを有し、
　銅を含有する透明層の両面に、赤外線吸収剤を含有する層を有する、＜１＞～＜１１＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１３＞　更に、誘電体多層膜を有する、＜１＞～＜１２＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１４＞　銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層と、誘電体多層膜とを有し、
　銅を含有する透明層と誘電体多層膜との間に、赤外線吸収剤を含有する層を有し、赤外線吸収剤を含有する層と誘電体多層膜とが接している、＜１３＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜１５＞　銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層とを有する赤外線カットフィルタを製造するためのキットであって、銅を含有する透明部材と、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収組成物、とを有するキット。
＜１６＞　＜１＞～＜１４＞のいずれかに記載の赤外線カットフィルタを有する、固体撮像素子。

　本発明は、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタを提供可能になった。また、赤外線カットフィルタを製造するためのキット、および、固体撮像素子を提供することが可能になった。

本発明の赤外線カットフィルタの一実施形態の概略図である。

　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記に於いて、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレートおよびメタクリレートを表し、“（メタ）アクリル”はアクリルおよびメタクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイルおよびメタクリロイルを表す。
　また、本明細書中において、モノマーは、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。
　本明細書中において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基をいう。
　本発明で用いられる化合物の重量平均分子量および数平均分子量の測定方法は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定でき、ＧＰＣの測定によるポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、赤外線とは、極大吸収波長領域が７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。本発明における固形分は、２５℃における固形分である。

＜赤外線カットフィルタ＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、銅を含有する透明層を有し、銅を含有する透明層が更に赤外線吸収剤を含有するか、あるいは、赤外線吸収剤を含有する層を更に有する。
　発明の赤外線カットフィルタは、銅を含有する透明層が更に赤外線吸収剤を含有するか、あるいは、銅を含有する透明層の他に、赤外線吸収剤を含有する層を更に有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタとすることができる。

　本発明の赤外線カットフィルタの第１の実施形態は、銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層とを有する態様である。この態様において、銅を含有する透明層は、さらに赤外線吸収剤を含有することもでき、赤外線吸収剤を含有しない態様とすることもできる。すなわち、第１の態様における銅を含有する透明層は、銅と赤外線吸収剤とを含んでいてもよい。
　銅を含有する透明層は、後述する銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。また、銅を含有する透明層として、銅錯体含有層を用いる場合、銅錯体含有層を単独で用いてもよく、銅錯体含有層と支持体とを組み合わせて用いてもよい。
　本発明の赤外線カットフィルタの第１の実施形態は、銅を含有する透明層（銅錯体含有層）と、赤外線吸収剤を含有する層と少なくとも有する態様であってもよいし、支持体と、銅を含有する透明層（銅錯体含有層）と、赤外線吸収剤を含有する層とを少なくとも有する態様であってもよい。また、後述する誘電体多層膜を更に有してもよい。

　また、本発明の赤外線カットフィルタの第２の実施形態は、銅と、赤外線吸収剤とを含有する透明層を有する態様である。
　銅と赤外線吸収剤とを含有する透明層は単独で用いることもでき、支持体と組み合わせて用いることもできる。また、後述する誘電体多層膜を更に有してもよい。

　本発明の赤外線カットフィルタは、波長４２０～５５０ｎｍの光に対する、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。また、波長７００ｎｍの光に対する、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した透過率が５％以下であることが好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下が更に好ましい。また、波長７００～１０００ｎｍの光に対する、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した透過率の平均が５％未満であることが好ましく、３％未満がより好ましく、１％未満が更に好ましい。

　また、本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した、可視から近赤外領域における分光透過率の低下によるスロープの透過率が５０％となる波長が６００～７００ｎｍの範囲に有する事が好ましく、６１０～６６０ｎｍの範囲に有する事がより好ましく、６２０～６５０ｎｍの範囲に有するが更に好ましい。また、赤外線カットフィルタに対して垂直方向（角度０度）と角度４０度から測定した場合の透過率５０％の波長の差が３０ｎｍ未満である事が好ましく、１０ｎｍ未満がより好ましく、５ｎｍ未満が更に好ましい。

　本発明の赤外線カットフィルタは、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有し、
　赤外線カットフィルタを、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、赤外線カットフィルタを、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上であることが好ましい。上記吸光度の比率Ｂ／Ａを０．９以上としたことにより、有機溶剤による洗浄などによる欠陥の発生を抑制することができる。
　また、本発明の赤外線カットフィルタが、銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層とを有する場合、赤外線吸収剤を含有する層は、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有することが好ましい。また、赤外線吸収剤を含有する層は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、赤外線吸収剤を含有する層を、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上であることが好ましい。

　以下、本発明の赤外線カットフィルタについて詳細に説明する。

＜＜銅を含有する透明層＞＞
　銅を含有する透明層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）などが挙げられる。
　銅を含有する透明層（以下、透明層ともいう）は、波長４２０～５５０ｎｍの光に対する、透明層に対して垂直方向から測定した透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。
　銅を含有する透明層は、更に赤外線吸収剤を含有することもできる。この場合、赤外線カットフィルタは、後述する赤外線吸収層は有していてもよく、省略することもできる。赤外線吸収剤については、後述する。

＜＜＜銅含有ガラス基材＞＞＞
　銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。

　銅を含有するガラスの具体例としては、以下が挙げられる。
　（１）質量％で、Ｐ₂Ｏ₅　４６～７０％、ＡｌＦ₃　０．２～２０％、ΣＲＦ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）０～２５％、ΣＲ’Ｆ₂（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ）　１～５０％からなり、Ｆ　０．５～３２％、Ｏ　２６～５４％を含む基礎ガラス１００質量部に対し、外掛け表示でＣｕＯ　０．５～７質量部を含むガラス。
　（２）質量％で、Ｐ₂Ｏ₅　２５～６０％、Ａｌ₂Ｏ₃　１～１３％、ＭｇＯ　１～１０％、ＣａＯ　１～１６％、ＢａＯ　１～２６％、ＳｒＯ　０～１６％、ＺｎＯ　０～１６％、Ｌｉ₂Ｏ　０～１３％、Ｎａ₂Ｏ　０～１０％、Ｋ₂Ｏ　０～１１％、ＣｕＯ　１～７％、ΣＲＯ（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）　１５～４０％、ΣＲ’₂Ｏ（Ｒ’＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　３～１８％（ただし、３９％モル量までのＯ^2-イオンがＦで置換されている）からなるガラス。
　（３）質量％で、Ｐ₂Ｏ₅　５～４５％、ＡｌＦ₃　１～３５％、ΣＲＦ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　０～４０％、ΣＲ’Ｆ₂（Ｒ’＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｚｎ）　１０～７５％、Ｒ”Ｆ_m（Ｒ”＝Ｌａ、Ｙ、Ｃｄ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔａ、ｍはＲ”の原子価に相当する数）　０～１５％（ただし、弗化物総合計量の７０％までを酸化物に置換可能）、およびＣｕＯ　０．２～１５％を含むガラス。
　（４）カチオン％で、Ｐ⁵⁺　１１～４３％、Ａｌ³⁺　１～２９％、ΣＲカチオン（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｚｎ）　１４～５０％、ΣＲ’カチオン（Ｒ’＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　０～４３％、ΣＲ”カチオン（Ｒ”＝Ｌａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚｒ、Ｔａ）　０～８％、およびＣｕ²⁺　０．５～１３％を含み、さらにアニオン％でＦ^-　１７～８０％含有するガラス。
　（５）カチオン％で、Ｐ⁵⁺　２３～４１％、Ａｌ³⁺　４～１６％、Ｌｉ⁺　１１～４０％、Ｎａ⁺　３～１３％、ΣＲカチオン（Ｒ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）　１２～５３％、およびＣｕ²⁺　２．６～４．７％を含み、さらにアニオン％でＦ^-　２５～４８％、およびＯ^2-　５２～７５％を含むガラス。
　（６）質量％で、Ｐ₂Ｏ₅　７０～８５％、Ａｌ₂Ｏ₃　８～１７％、Ｂ₂Ｏ₃　１～１０％、Ｌｉ₂Ｏ　０～３％、Ｎａ₂Ｏ　０～５％、Ｋ₂Ｏ　０～５％、ただし、ΣＲ₂Ｏ（Ｒ＝Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）　０．１～５％、ＳｉＯ₂　０～３％からなる基礎ガラス１００質量部に対し、外割でＣｕＯを０．１～５質量部含むガラス。

　上記した銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製　商品名）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製　商品名）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製　商品名）等が挙げられる。

　また、上記した銅含有ガラスに、所定の金属酸化物、例えば、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＭｏＯ₃、ＷＯ₃、ＣｅＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｖ₂Ｏ₅等の１種または２種以上を含有させることによって、紫外線吸収特性を付与したガラスも使用できる。具体的には、上記銅含有ガラス１００質量部に対して、Ｆｅ₂Ｏ₃、ＭｏＯ₃、ＷＯ₃およびＣｅＯ₂からなる群から選択される少なくとも１種を、Ｆｅ₂Ｏ₃　０．６～５質量部、ＭｏＯ₃　０．５～５質量部、ＷＯ₃　１～６質量部、ＣｅＯ₂　２．５～６質量部、またはＦｅ₂Ｏ₃とＳｂ₂Ｏ₃の２種をＦｅ₂Ｏ₃　０．６～５質量部＋Ｓｂ₂Ｏ₃　０．１～５質量部、もしくはＶ₂Ｏ₅とＣｅＯ₂の２種をＶ₂Ｏ₅　０．０１～０．５質量部＋ＣｅＯ₂　１～６質量部を含有させたものが使用される。

　銅を含有する透明層として、銅含有ガラス基材を用いる場合、銅含有ガラス基材の厚みは、０．０５～１．０ｍｍが好ましい。下限は、０．０５ｍｍ以上が好ましく、０．１ｍｍ以上が更に好ましい。上限は、０．３ｍｍ以下が好ましく、０．２ｍｍ以下が更に好ましい。

＜＜銅錯体含有層＞＞
　銅錯体含有層としては、銅錯体を含む銅錯体含有組成物を用いて形成してなる層が挙げられる。

＜＜＜銅錯体＞＞＞
　銅錯体は、７００～１２００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。銅錯体の極大吸収波長は、７２０～１２００ｎｍの波長領域に有することがより好ましく、８００～１１００ｎｍの波長領域に有することがさらに好ましい。極大吸収波長は、例えば、Ｃａｒｙ　５０００　ＵＶ－Ｖｉｓ－ＮＩＲ（分光光度計　アジレント・テクノロジー株式会社製）を用いて測定することができる。
　銅錯体の上述した波長領域における極大吸収波長でのモル吸光係数は、１２０（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上が好ましく、１５０（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上がより好ましく、２００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上がさらに好ましく、３００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上がよりさらに好ましく、４００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上が特に好ましい。上限は、特に限定はないが、例えば、３００００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以下とすることができる。銅錯体の上記モル吸光係数が、１００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上であれば、薄膜であっても、赤外線遮蔽性に優れた硬化膜を形成することができる。
　銅錯体の８００ｎｍでのグラム吸光係数は、０．１１（Ｌ／ｇ・ｃｍ）以上が好ましく、０．１５（Ｌ／ｇ・ｃｍ）以上がより好ましく、０．２４（Ｌ／ｇ・ｃｍ）以上がさらに好ましい。
　なお、本発明において、銅錯体のモル吸光係数およびグラム吸光係数は、銅錯体を溶媒に溶解させて１ｇ／Ｌの濃度の溶液を調製し、銅錯体を溶解させた溶液の吸収スペクトルを測定して求めることができる。測定装置としては、島津製作所製ＵＶ－１８００（波長領域２００～１１００ｎｍ）、Ａｇｉｌｅｎｔ製Ｃａｒｙ　５０００（波長領域２００～１３００ｎｍ）などを用いることができる。測定溶媒としては、水、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル、１，２，４－トリクロロベンゼン、アセトンが挙げられる。本発明では、上述した測定溶媒のうち、測定対象の銅錯体を溶解できるものを選択して用いる。なかでも、プロピレングリコールモノメチルエーテルで溶解する銅錯体の場合は、測定溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルを用いることが好ましい。なお、溶解するとは、２５℃の溶媒に対する、銅錯体の溶解度が０．０１ｇ／１００ｇＳｏｌｖｅｎｔを超える状態を意味する。
　本発明において、銅錯体のモル吸光係数およびグラム吸光係数は、上述した測定溶媒のいずれか１つを用いて測定した値であることが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルでの値であることがより好ましい。

　銅錯体のモル吸光係数を１００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上にする方法としては、例えば、５配位の銅錯体を用いる方法、π供与性の高い配位子を用いる方法、対称性の低い銅錯体を用いる方法などが挙げられる。
　５配位の銅錯体を用いることで、モル吸光係数が１００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上を達成できるメカニズムとしては、以下によるものが推測される。すなわち、５座配位、好ましくは、５配位三方両錐構造、または、５配位四角錐構造をとることにより、錯体の対称性が低下する。これにより、配位子と銅の相互作用において、ｄ軌道にｐ軌道が混ざりやすくなる。このとき、ｄ－ｄ遷移（近赤外領域の吸収）は、純粋なｄ－ｄ遷移ではなくなり、許容遷移であるｐ－ｄ遷移の寄与が混ざる。これにより吸光係数が向上し、１００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上を達成することができると考えられる。
　５配位の銅錯体は、例えば、銅イオンに対して、２つの２座配位子（同一でも異なっていても良い）と１つの単座配位子を反応させること、１つの３座配位子と２つの２座配位子（同一でも異なっていても良い）を反応させること、１つの３座配位子を１つの２座配位子を反応させること、１つの４座配位子と１つの単座配位子を反応させること、１つの５座配位子を反応させることにより調製することができる。このとき、非共有電子対で配位する単座配位子は、反応溶媒として用いられることもある。たとえば、銅イオンに対して、水を含む溶媒中で２つの２座配位子を反応させると、この２つの２座配位子と、単座配位子として水が配位した５配位錯体が得られる。
　また、π供与性の高い配位子を用いることで、モル吸光係数が１００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上を達成できるメカニズムとしては、以下によるものが推測される。すなわち、π供与性が高い配位子（配位子のπ軌道あるいはｐ軌道がエネルギー的に浅いところにある配位子）を用いることにより、金属のｐ軌道と配位子のｐ軌道（またはπ軌道）が混ざりやすくなる。このとき、ｄ－ｄ遷移は、純粋なｄ－ｄ遷移ではなくなり、許容遷移であるＬＭＣＴ（Ｌｉｇａｎｄ　ｔｏ　Ｍｅｔａｌ　Ｃｈａｒｇｅ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ）遷移の寄与が混ざる。これにより吸光係数が向上し、１００（Ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）以上を達成することができると考えられる。
　π供与性の高い配位子としては、例えば、ハロゲン配位子、酸素アニオン配位子、硫黄アニオン配位子などが挙げられる。π供与性の高い配位子を用いた銅錯体としては、例えば、単座配位子としてＣｌ配位子を有する銅錯体などが挙げられる。
　また、対称性の低い銅錯体は、対称性の低い配位子を用いること、あるいは、銅イオンに対して配位子を非対称に導入することで得ることができる。具体的には、たとえば、次のようなことである。
　例えば、３座配位子Ｌ¹－Ｌ²－Ｌ³と、２つの単座配位子Ｌ⁴、Ｌ⁵を用いる場合、下式（１）に示すように、対称性の低い配位子、例えば、Ｌ¹とＬ³が異なっている配位子を用いることで対称性の低い銅錯体が得られる。また、銅イオンに対して配位子を非対称に導入する、例えば、Ｌ⁴とＬ⁵が同じよりも異なっているほうが対称性の低い銅錯体が得られる。

　また、四角錐錯体において、Ｌ⁴とＬ⁵が同じとき、下式（２）のようにＬ⁴とＬ⁵が四角錐の底面上の対角線上にあるよりも、下式（３）のように底面上で隣接しているか、下式（４）のように一方の単座配位子が四角錐の頭頂位にあるほうが、対称性の低い錯体が得られる。

　また、２つの２座配位子Ｌ⁶－Ｌ⁷、Ｌ⁸－Ｌ⁹と、単座配位子Ｌ¹⁰を用いる場合、下式（５）に示すように、対称性の低い配位子を用いる、例えば、Ｌ⁶とＬ⁷が異なっている配位子、および／または、Ｌ⁸とＬ⁹が異なっている配位子を用いることで対称性の低い銅錯体が得られる。
また、銅イオンに対して配位子を非対称に導入する、例えば、Ｌ⁶－Ｌ⁷と、Ｌ⁸－Ｌ⁹が同じよりも異なっているほうが対称性の低い銅錯体が得られる。また、Ｌ⁶－Ｌ⁷と、Ｌ⁸－Ｌ⁹が同じ場合、Ｌ⁶＝Ｌ⁸でＬ⁷＝Ｌ⁹であるよりも、Ｌ⁶＝Ｌ⁹でＬ⁷＝Ｌ⁸であるほうが対称性の低い銅錯体が得られる。

　本発明において、銅錯体は、少なくとも２つの配位部位を有する化合物（以下、化合物（Ａ）ともいう）を配位子として有することが好ましい。化合物（Ａ）は、配位部位をすくなくとも３つ有することがより好ましく、３～５個有することが更に好ましい。化合物（Ａ）は、銅成分に対し、キレート配位子として働く。すなわち、化合物（Ａ）が有する少なくとも２つの配位原子が、銅とキレート配位することにより、銅錯体の構造が歪んで、可視光領域の高い透過性が得られ、赤外線の吸光能力を向上でき、色価も向上すると考えられる。これにより、赤外線カットフィルタを長期間使用しても、その特性が損なわれず、またカメラモジュールを安定的に製造することも可能となる。
　本発明に用いられる銅錯体は、化合物（Ａ）を２つ以上有していてもよい。化合物（Ａ）を２つ以上有する場合は、それぞれの化合物（Ａ）は同一であってもよく、異なっていてもよい。
　化合物（Ａ）が有する配位部位としては、アニオンで配位する配位部位、非共有電子対で配位する配位部位が挙げられる。
　本発明に用いられる銅錯体は、４配位、５配位および６配位が例示され、４配位および５配位がより好ましく、５配位がさらに好ましい。
　また、銅錯体は、銅と配位子によって、５員環および／または６員環が形成されていることが好ましい。このような銅錯体は、形状が安定であり、錯体安定性に優れる。

　本発明に用いられる銅錯体における銅は、例えば銅成分（銅または銅を含む化合物）に対して、化合物（Ａ）を混合・反応等させて得ることができる。
　銅成分は、２価の銅を含む化合物が好ましい。銅成分は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。
　銅成分としては、例えば、酸化銅や銅塩を用いることができる。銅塩は、例えば、カルボン酸銅（例えば、酢酸銅、エチルアセト酢酸銅、ギ酸銅、安息香酸銅、ステアリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅、２－エチルヘキサン酸銅など）、スルホン酸銅（例えば、メタンスルホン酸銅など）、リン酸銅、リン酸エステル銅、ホスホン酸銅、ホスホン酸エステル銅、ホスフィン酸銅、アミド銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、メチド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、硫酸銅、硝酸銅、過塩素酸銅、フッ化銅、塩化銅、臭化銅が好ましく、カルボン酸銅、スルホン酸銅、スルホンアミド銅、イミド銅、アシルスルホンイミド銅、ビススルホンイミド銅、アルコキシ銅、フェノキシ銅、水酸化銅、炭酸銅、フッ化銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅がより好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、フェノキシ銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅が更に好ましく、カルボン酸銅、アシルスルホンイミド銅、塩化銅、硫酸銅が特に好ましい。
　化合物（Ａ）と反応させる銅成分の量は、モル比率（化合物（Ａ）：銅成分）で１：０．５～１：８とすることが好ましく、１：０．５～１：４とすることがより好ましい。
　また、銅成分と化合物（Ａ）とを反応させる際の反応条件は、例えば、２０～１００℃で、０．５時間以上とすることが好ましい。

　本発明に用いられる銅錯体は、化合物（Ａ）以外の配位子を有していても良い。化合物（Ａ）以外の配位子としては、アニオンまたは非共有電子対で配位する単座配位子が挙げられる。アニオンで配位する配位子としては、ハライドアニオン、ヒドロキシドアニオン、アルコキシドアニオン、フェノキシドアニオン、アミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、イミドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたイミドを含む）、アニリドアニオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアニリドを含む）、チオラートアニオン、炭酸水素アニオン、カルボン酸アニオン、チオカルボン酸アニオン、ジチオカルボン酸アニオン、硫酸水素アニオン、スルホン酸アニオン、リン酸二水素アニオン、リン酸ジエステルアニオン、ホスホン酸モノエステルアニオン、ホスホン酸水素アニオン、ホスフィン酸アニオン、含窒素へテロ環アニオン、硝酸アニオン、次亜塩素酸アニオン、シアニドアニオン、シアナートアニオン、イソシアナートアニオン、チオシアナートアニオン、イソチオシアナートアニオン、アジドアニオンなどが挙げられる。非共有電子対で配位する単座配位子としては、水、アルコール、フェノール、エーテル、アミン、アニリン、アミド、イミド、イミン、ニトリル、イソニトリル、チオール、チオエーテル、カルボニル化合物、チオカルボニル化合物、スルホキシド、へテロ環、あるいは、炭酸、カルボン酸、硫酸、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、ホスフィン酸、硝酸、または、そのエステルが挙げられる。
　単座配位子の種類および数は、銅錯体に配位する化合物（Ａ）に応じて適宜選択することができる。
　化合物（Ａ）以外の配位子として用いる単座配位子の具体例としては、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。以下において、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｍｅはメチル基を表す。

　本発明に用いられる銅錯体は、配位子をなす化合物（Ａ）が、アニオンで配位する配位部位を有する場合、アニオンで配位する配位部位の数に応じて、電荷を持たない中性錯体のほか、カチオン錯体、アニオン錯体になることもある。この場合、銅錯体の電荷を中和するよう、必要に応じて対イオンが存在する。
　対イオンが負の対イオンの場合、例えば、無機陰イオンでも有機陰イオンでもよい。具体例としては、水酸化物イオン、ハロゲン陰イオン（例えば、フッ化物イオン、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン等）、置換または無置換のアルキルカルボン酸イオン（酢酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン等）、置換または無置換のアリールカルボン酸イオン（安息香酸イオン等）、置換もしくは無置換のアルキルスルホン酸イオン（メタンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン等）、置換もしくは無置換のアリールスルホン酸イオン（例えばｐ－トルエンスルホン酸イオン、ｐ－クロロベンゼンスルホン酸イオン等）、アリールジスルホン酸イオン（例えば１，３－ベンゼンジスルホン酸イオン、１，５－ナフタレンジスルホン酸イオン、２，６－ナフタレンジスルホン酸イオン等）、アルキル硫酸イオン（例えばメチル硫酸イオン等）、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、硝酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、ピクリン酸イオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドイオンを含む）、イミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたイミドイオンを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドイオンを含む）が挙げられ、ハロゲン陰イオン、置換もしくは無置換のアルキルカルボン酸イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、テトラアリールホウ酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、アミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたアミドを含む）、イミドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたイミドイオンを含む）、メチドイオン（アシル基やスルホニル基で置換されたメチドを含む）が好ましい。
　対イオンが正の対イオンの場合、例えば、無機もしくは有機のアンモニウムイオン（例えば、テトラブチルアンモニウムイオンなどのテトラアルキルアンモニウムイオン、トリエチルベンジルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等）、ホスホニウムイオン（例えば、テトラブチルホスホニウムイオンなどのテトラアルキルホスホニウムイオン、アルキルトリフェニルホスホニウムイオン、トリエチルフェニルホスホニウムイオン等）、アルカリ金属イオンまたはプロトンが挙げられる。
　また、対イオンは金属錯体イオンであってもよく、特に対イオンが銅錯体、すなわち、カチオン性銅錯体とアニオン性銅錯体の塩であっても良い。

　本発明で用いる銅錯体は、例えば、以下の（１）～（５）の態様が好ましい一例として挙げられ、（２）～（５）がより好ましく、（３）～（５）が更に好ましく、（４）が一層好ましい。
　（１）２つの配位部位を有する化合物の１つまたは２つを配位子として有する銅錯体
　（２）３つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体
　（３）３つの配位部位を有する化合物と２つの配位部位を有する化合物とを配位子として有する銅錯体
　（４）４つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体
　（５）５つの配位部位を有する化合物を配位子として有する銅錯体

　上記（１）の態様において、２つの配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位部位を２つ有する化合物、または、アニオンで配位する配位部位と非共有電子対で配位する配位部位とを有する化合物が好ましい。また、２つの配位部位を有する化合物の２つを配位子として有する場合、配位子の化合物は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
　また、（１）の態様において、銅錯体は、上述した単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１～３個とすることもできる。単座配位子の種類としては、アニオンで配位する単座配位子、非共有電子対で配位する単座配位子のいずれも好ましく、２つの配位部位を有する化合物が非共有電子対で配位する配位部位を２つ有する化合物の場合は配位力が強いという理由からアニオンで配位する単座配位子がより好ましく、２つの配位部位を有する化合物がアニオンで配位する配位部位と非共有電子対で配位する配位部位とを有する化合物の場合には錯体全体が電荷を持たないという理由から非共有電子対で配位する単座配位子がより好ましい。

　上記（２）の態様において、３つの配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位部位を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位部位を３つ有する化合物が更に好ましい。
　また、（２）の態様において、銅錯体は、上述した単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもできる。また、１個以上とすることもでき、１～３個がより好ましく、１～２個がさらに好ましく、２個が一層好ましい。単座配位子の種類としては、アニオンで配位する単座配位子、非共有電子対で配位する単座配位子のいずれも好ましく、上述した理由によりアニオンで配位する単座配位子がより好ましい。

　上記（３）の態様において、３つの配位部位を有する化合物は、アニオンで配位する配位部位と、非共有電子対で配位する配位部位とを有する化合物が好ましく、アニオンで配位する配位部位を２つ、および、非共有電子対で配位する配位部位を１つ有する化合物が更に好ましい。さらに、この２つのアニオンで配位する配位部位が異なっていることが特に好ましい。また、２つの配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位部位を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位部位を２つ有する化合物が更に好ましい。なかでも、３つの配位部位を有する化合物が、アニオンで配位する配位部位を２つ、および、非共有電子対で配位する配位部位を１つ有する化合物であり、２つの配位部位を有する化合物が、非共有電子対で配位する配位部位を２つ有する化合物である組み合わせが、特に好ましい。
　また、（３）の態様において、銅錯体は、上述した単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１個以上とすることもできる。０個がより好ましい。

　上記（４）の態様において、４つの配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位部位を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位部位を２以上有する化合物がより好ましく、非共有電子対で配位する配位部位を４つ有する化合物が更に好ましい。
　また、（４）の態様において、銅錯体は、上述した単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１個以上とすることもでき、２個以上とすることもできる。単座配位子の数は、１個が好ましい。単座配位子の種類としては、アニオンで配位する単座配位子、非共有電子対で配位する単座配位子のいずれも好ましい。

　上記（５）の態様において、５つの配位部位を有する化合物は、非共有電子対で配位する配位部位を有する化合物が好ましく、非共有電子対で配位する配位部位を２以上有する化合物がより好ましく、非共有電子対で配位する配位部位を５つ有する化合物が更に好ましい。
　また、（５）の態様において、銅錯体は、上述した単座配位子を更に有することもできる。単座配位子の数は、０個とすることもでき、１個以上とすることもできる。単座配位子の数は０個が好ましい。

　銅錯体の具体例としては、例えば、以下が挙げられる。

　銅錯体の含有量は、組成物の全固形分に対して、１５質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、２５質量％以上がさらに好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下がさらに好ましい。

＜＜＜樹脂＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、樹脂を含有することが好ましい。
　樹脂は、（メタ）アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリパラフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。これらの詳細については、後述する赤外線吸収組成物で説明する。
　上記樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００～２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
　また、エポキシ樹脂の場合、エポキシ樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００以上が好ましく、２００～２，０００，０００がより好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましい。
　上記樹脂は、２５℃から、２０℃／分で昇温した５％熱質量減少温度が、２００℃以上であることが好ましく、２６０℃以上であることがより好ましい。

　また、樹脂は、下記（ＭＸ２－１）で表される繰り返し単位、下記（ＭＸ２－２）で表される繰り返し単位および下記（ＭＸ２－３）で表される繰り返し単位から選ばれる１種を有するポリマーを用いることもできる。

　Ｍは、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒおよびＡｌから選択される原子を表し、Ｘ²は置換基または配位子を表し、ｎ個のＸ²のうち、少なくとも１つが、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ホスホリルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、オキシム基およびＯ＝Ｃ（Ｒ^a）（Ｒ^b）から選択される１種であり、Ｘ²同士は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、Ｒ¹は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ¹は単結合または２価の連結基を表し、ｎは、ＭのＸ²との結合手の数を表す。

　Ｍは、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒおよびＡｌから選択される原子であり、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒが好ましく、Ｓｉがより好ましい。

　Ｘ²は置換基または配位子を表し、ｎ個のＸ²のうち、少なくとも１つが、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ホスホリルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、オキシム基およびＯ＝Ｃ（Ｒ^a）（Ｒ^b）から選択される１種であり、Ｘ²同士は、それぞれ結合して環を形成していてもよい。
　ｎ個のＸ²のうち、少なくとも１つが、アルコキシ基、アシルオキシ基およびオキシム基から選択される１種であることが好ましく、ｎ個のＸ²のうち、少なくとも１つがアルコキシ基であることが更に好ましく、Ｘ²の全てが、アルコキシ基であることがより好ましい。なお、Ｘ²が、Ｏ＝Ｃ（Ｒ^a）（Ｒ^b）である場合、カルボニル基（－ＣＯ－）の酸素原子の非共有電子対でＭと結合する。Ｒ^aおよびＲ^bは、それぞれ独立に１価の有機基を表す。

　Ｘ²が表すアルコキシ基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５がさらに好ましく、１～２が特に好ましい。アルコキシ基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルコキシ基は、無置換であってもよく、置換基を有してもよいが、無置換が好ましい。置換基としては、ハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）、重合性基（例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、エポキシ基、オキセタン基など）、アミノ基、イソアネート基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
　Ｘ²が表すアシルオキシ基としては、例えば、炭素数２～３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基等が挙げられる。例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ基、ｐ－メトキシフェニルカルボニルオキシ基などが挙げられる。置換基としては上述したものが挙げられる。
　Ｘ²が表すオキシム基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５がさらに好ましい。例えば、エチルメチルケトオキシム基などが挙げられる。
　Ｘ²が表すアミノ基としては、アミノ基、炭素数１～３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６～３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０～３０のヘテロ環アミノ基等が挙げられる。例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ－メチル－アニリノ、ジフェニルアミノ、Ｎ－１，３，５－トリアジン－２－イルアミノ等が挙げられる。置換基としては上述したものが挙げられる。
　Ｒ^aおよびＲ^bが表す１価の有機基としては、アルキル基、アリール基、－Ｒ¹⁰¹－ＣＯＲ¹⁰²で表される基等が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキル基は、無置換であってもよく、上述した置換基を有していてもよい。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基は、無置換であってもよく、上述した置換基を有していてもよい。
　－Ｒ¹⁰¹－ＣＯＲ¹⁰²で表される基において、Ｒ¹⁰¹は、アリーレン基を表し、Ｒ¹⁰²はアルキル基またはアリール基を表す。
　Ｒ¹⁰¹が表すアリーレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。アリーレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アリーレン基は、無置換であってもよく、上述した置換基を有していてもよい。
　Ｒ¹⁰²が表すアルキル基およびアリール基は、Ｒ^a、Ｒ^bで説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。

　Ｘ²が表す置換基および配位子のうち、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ホスホリルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、オキシム基以外の置換基としては、炭化水素基が好ましい。炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基などが挙げられる。
　アルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれであってもよい。直鎖状のアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がより好ましく、１～８がさらに好ましい。分岐状のアルキル基の炭素数は、３～２０が好ましく、３～１２がより好ましく、３～８がさらに好ましい。環状のアルキル基は、単環、多環のいずれであってもよい。環状のアルキル基の炭素数は、３～２０が好ましく、４～１０がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましく、２～４がさらに好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　炭化水素基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）、重合性基（例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、エポキシ基、オキセタン基など）、アミノ基、イソアネート基、イソシアヌレート基、ウレイド基、メルカプト基、スルフィド基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基等が挙げられる。

　Ｒ¹は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がさらに好ましく、１が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれも好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は、水素原子の一部または全部がハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）で置換されていてもよい。

　Ｌ¹は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ₂－、－ＮＲ¹⁰－（Ｒ¹⁰は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられ、アルキレン基、アリーレン基およびアルキレン基の少なくとも１つと－Ｏ－との組み合わせからなる基が好ましい。
　アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。
　アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましく、フェニレン基が特に好ましい。

　上記ポリマーは、式（ＭＸ２－１）、（ＭＸ２－２）、（ＭＸ２－３）で表される繰り返し単位の他に、他の繰り返し単位を含有していてもよい。
　他の繰り返し単位を構成する成分としては、特開２０１０－１０６２６８号公報の段落番号００６８～００７５（対応する米国特許出願公開第２０１１／０１２４８２４号明細書の[０１１２]～[０１１８]）に開示の共重合成分の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　好ましい他の繰り返し単位としては、下記式（ＭＸ３－１）～（ＭＸ３－４）で表される繰り返し単位が挙げられる。

　式（ＭＸ３－１）～（ＭＸ３－４）中、Ｒ⁵は水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ⁴は単結合または２価の連結基を表し、Ｒ¹⁰は、アルキル基またはアリール基を表す。Ｒ¹¹およびＲ¹²は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
　Ｒ⁵は、式（ＭＸ２－１）～（ＭＸ２－３）のＲ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｌ⁴は、式（ＭＸ２－１）～（ＭＸ２－３）のＬ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｒ¹⁰で表されるアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよく、環状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、上述したものが挙げられる。
　Ｒ¹⁰で表されるアリール基は、単環であっても多環であってもよいが単環が好ましい。アリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。
　Ｒ¹⁰は、環状のアルキル基またはアリール基が好ましい。
　Ｒ¹¹およびＲ¹²は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。アルキル基およびアリール基は、Ｒ¹⁰と同様のものが挙げられる。アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～５が一層好ましい。
　上記ポリマーが、他の繰り返し単位（好ましくは式（ＭＸ３－１）～（ＭＸ３－４）で表される繰り返し単位）を含む場合、式（ＭＸ２－１）～（ＭＸ２－３）で表される繰り返し単位の合計と、他の繰り返し単位の合計とのモル比は、９５：５～２０：８０であることが好ましく、９０：１０～３０：７０であることがより好ましい。式（ＭＸ２－１）～（ＭＸ２－３）で表される繰り返し単位の含有率を、上記範囲内で高めることで耐湿性および耐溶剤性がより向上する傾向にある。また、式（ＭＸ２－１）～（ＭＸ２－３）で表される繰り返し単位の含有率を上記範囲内で低くすることで、耐熱性がより向上する傾向にある。

　上記ポリマーの具体例としては、以下が挙げられる。

　上記ポリマーの重量平均分子量は、５００～３０００００が好ましい。下限は、１０００以上が好ましく、２０００以上がより好ましい。上限は、２５００００以下が好ましく、２０００００以下がより好ましい。

　樹脂の含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分に対して、１５質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、２５質量％以上がさらに好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下がさらに好ましい。

＜＜＜赤外線吸収剤＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、赤外線吸収剤を含有してもよい。赤外線吸収剤の詳細については、後述する赤外線吸収組成物で説明するものが挙げられる。なお、本発明における赤外線吸収剤は、上述した銅錯体以外の化合物である。
　銅錯体含有組成物が赤外線吸収剤を含有する場合、赤外線吸収剤の含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分に対して、０．０１質量％以上が好ましく、０．０５質量％以上がより好ましく、０．１質量％以上がさらに好ましい。上限は、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましく、１質量％以下がさらに好ましい。
　また、銅錯体１００質量部に対し、赤外線吸収剤を１０～９０質量部含有することが好ましい。下限は、２０質量部以上が好ましく、３０質量部以上がより好ましい。上限は、７０質量部以下が好ましく、５０質量部以下がより好ましい。

＜＜＜熱安定性付与剤＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、熱安定性付与剤としてオキシム化合物を含有することもできる。
　オキシム化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司社製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（ＡＤＥＫＡ社製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）等を用いることができる。
　熱安定性付与剤の含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分に対して、０．０１～３０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。

＜＜＜重合性化合物＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物の詳細については、後述する赤外線吸収組成物で説明するものが挙げられる。
　重合性化合物の含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分に対して、１５質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、２５質量％以上がさらに好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、４５質量％以下がさらに好ましい。

＜＜＜光重合開始剤＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤の詳細については、後述する赤外線吸収組成物で説明するものが挙げられる。
　光重合開始剤の含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分に対して、０．０１～３０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。

＜＜＜ゼラチン＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、ゼラチンを含有することが好ましい。ゼラチンの詳細については、後述する赤外線吸収組成物で説明するものが挙げられる。
　ゼラチンを含有することで、耐熱性に優れた膜を形成しやすい。
　ゼラチンの含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分に対して、１～９９質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。

＜＜＜溶剤＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、水、有機溶剤を用いることができる。また、水と有機溶剤とを併用することもできる。有機溶剤の詳細については、後述する赤外線吸収組成物で説明するものが挙げられる。
　溶剤の含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分が５～６０質量％となる量が好ましく、１０～４０質量％となる量がより好ましい。

＜＜＜触媒＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、触媒を含有することが好ましい。触媒を含有することで、耐溶剤性や耐熱性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。触媒としては、有機金属系触媒、酸系触媒、アミン系触媒が挙げられ、有機金属系触媒が好ましい。有機金属系触媒としては、トリス（２，４－ペンタンジオナト）アルミニウムなどが挙げられる。
　触媒の含有量は、銅錯体含有組成物の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましい。下限は、０．０５質量％以上が好ましい。上限は、３質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。

＜＜＜他の成分＞＞＞
　銅錯体含有組成物は、例えば、紫外線吸収剤、分散剤、増感剤、架橋剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、密着促進剤およびその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）をさらに含有することができる。
　これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の[０２３７]以降）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　銅を含有する透明層として、銅錯体含有層を用いる場合、銅錯体含有層を単独で用いてもよく、銅錯体含有層と支持体とを組み合わせて用いてもよい。支持体の材質としては、少なくとも可視波長域の光を透過できるものであれば特に限定されず、例えば、ガラス、結晶、樹脂などが挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラスなどが挙げられる。結晶としては、例えば、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。
　また、銅錯体含有層を、支持体と組み合わせて用いる場合、銅錯体含有層と、支持体との間に他の層が介在してもよい。すなわち、銅錯体含有層と、支持体との間に後述する赤外線吸収層や、誘電体多層膜が介在していてもよい。
　銅錯体含有層を、支持体と組み合わせて用いる場合、支持体の片面のみに赤外線吸収層を形成してもよく、支持体の両面に赤外線吸収層を形成してもよい。また、支持体の外周を、銅錯体含有層で被覆してもよい。
　なお、銅錯体含有層と支持体とを組み合わせて使用する場合、銅錯体含有層と支持体とが接している場合は、銅錯体含有層と支持体との積層体が、本発明における「銅を含有する透明層」に相当する。また、銅錯体含有層と支持体とが接しておらず、銅錯体含有層と支持体との間に他の層が介在している場合は、銅錯体含有層のみが、本発明における「銅を含有する透明層」に相当する。

　銅錯体含有層を単独で用いる場合、銅錯体含有層の厚みは、０．０５～１．０ｍｍが好ましい。下限は、０．０５ｍｍ以上が好ましく、０．１ｍｍ以上が更に好ましい。上限は、０．３ｍｍ以下が好ましく、０．２ｍｍ以下が更に好ましい。
　銅錯体含有層を、支持体と組み合わせて用いる場合、銅錯体含有層の厚みは、０．１～１．０ｍｍが好ましい。下限は、０．１ｍｍ以上が好ましく、０．１５ｍｍ以上が更に好ましい。上限は、０．３ｍｍ以下が好ましく、０．２ｍｍ以下が更に好ましい。

＜＜赤外線吸収層＞＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線吸収剤を含有する層（以下、赤外線吸収層ともいう）を有することが好ましい。なお、本発明における赤外線吸収剤は、銅錯体含有層で説明した銅錯体以外の化合物である。
　赤外線吸収層は、銅を含有する透明層の片面のみに有していてもよく、両面に有してもよい。反り抑制などの観点から、銅を含有する透明層の両面に、赤外線吸収層を有することが好ましい。また、赤外線吸収層は、銅を含有する透明層と接していてもよく、接していなくてもよい。すなわち、赤外線吸収層が銅を含有する透明層の表面に形成されていてもよく、赤外線吸収層と銅を含有する透明層との間に他の層（後述する誘電体多層膜など）が介在していてもよい。
　なお、上述したように、銅を含有する透明層が、更に赤外線吸収剤を含有する場合は、本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線吸収層は、有していてもよく、省略することもできる。すなわち、本発明において、銅と赤外線吸収剤とを含有する層は、「銅を含有する透明層」に該当するものとする。
　一方、銅を含有する透明層が、赤外線吸収剤を含有しない場合は、本発明の赤外線カットフィルタは、銅を含有する透明層の他に、赤外線吸収層を有する。

　本発明において、赤外線吸収層は、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有することが好ましく、７００～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有することがより好ましい。
　赤外線吸収層は、波長７００ｎｍの光に対する、赤外線吸収層に対して垂直方向から測定した透過率が１０％以下であることが好ましく、５％以下がより好ましく、１％以下が更に好ましい。波長８００ｎｍの光に対する、赤外線吸収層に対して垂直方向から測定した透過率が１０％以下であることが好ましく、５％以下がより好ましく、１％以下が更に好ましい。
　赤外線吸収層は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、赤外線吸収層を、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上であることが好ましい。
　上記吸光度の比率Ｂ／Ａは、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる２種以上の有機溶剤に対する値であることが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールの各有機溶剤に対する値であることが特に好ましい。
　上記吸光度の比率Ｂ／Ａは、０．９～１．０がより好ましく、０．９５～１．０が更に好ましい。
　赤外線吸収剤の含有量は、赤外線吸収層の質量に対して１～８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。

　赤外線吸収層は、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収組成物を用いて形成できる。以下、赤外線吸収組成物について説明する。

＜＜＜赤外線吸収組成物＞＞＞
＜＜＜＜赤外線吸収剤＞＞＞＞
　本発明において、赤外線吸収剤は、近赤外領域（好ましくは、波長６５０～１３００ｎｍ）の波長領域に吸収を有する化合物を意味する。
　赤外線吸収剤は、波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。

　本発明において、赤外線吸収剤は、有機色素が好ましい。本発明において、有機色素とは、有機化合物からなる色素を意味する。
　また、赤外線吸収剤は、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物およびナフタロシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　また、本発明において、赤外線吸収剤は、２５℃の水に１質量％以上溶解する化合物であることが好ましく、２５℃の水に１０質量％以上溶解する化合物がより好ましい。このような化合物を用いることで、耐溶剤性が良化する。

　本発明において、赤外線吸収剤は、下記一般式１～３で表される化合物から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
一般式１

　一般式３中、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。

＜＜＜＜一般式１で表される化合物（スクアリリウム化合物）＞＞＞＞
　一般式１において、Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表す。
　置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、－ＮＲ^a1Ｒ^a2、－ＣＯＲ^a3、－ＣＯＯＲ^a4、－ＯＣＯＲ^a5、－ＮＨＣＯＲ^a6、－ＣＯＮＲ^a7Ｒ^a8、－ＮＨＣＯＮＲ^a9Ｒ^a10、－ＮＨＣＯＯＲ^a11、－ＳＯ₂Ｒ^a12、－ＳＯ₂ＯＲ^a13、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^a14または－ＳＯ₂ＮＲ^a15Ｒ^a16が挙げられる。Ｒ^a1～Ｒ^a16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表す。

　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　アルキル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　アリーロキシ基およびアリールチオ基が有するアリール基は、上述したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５が更に好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。
　ヘテロアリーロキシ基およびヘテロアリールチオ基が有するヘテロアリール基は、上述したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。

　一般式１において、Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に置換基を表す。置換基は、活性水素を有する基が好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ₃Ｈ、－ＮＲ^G1Ｒ^G2、－ＮＨＣＯＲ^G1、－ＣＯＮＲ^G1Ｒ^G2、－ＮＨＣＯＮＲ^G1Ｒ^G2、－ＮＨＣＯＯＲ^G1、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^G1、－Ｂ（ＯＨ）₂および－ＰＯ（ＯＨ）₂がより好ましく、－ＯＨ、－ＳＨおよび－ＮＲ^G1Ｒ^G2が更に好ましく、－ＮＲ^G1Ｒ^G2が特に好ましい。
　Ｒ^G1およびＲ^G1は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、および、ヘテロアリール基の詳細については、Ｇ^AおよびＧ^Bで説明した範囲と同義である。

　一般式１において、環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表す。
　芳香族環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環は、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよい。
　芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インデセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、および、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環またはナフタレン環が好ましく、ナフタレン環がより好ましい。
　芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、Ｇ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

　一般式１において、Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い。
　環としては、５員環または６員環が好ましい。環は単環であってもよく、複環であってもよい。
　Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^B、Ｇ^A同士またはＧ^B同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＢＲ－およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^B、Ｇ^A同士またはＧ^B同士が、－ＢＲ－を介して結合して環を形成することが好ましい。
　Ｒは、水素原子または置換基を表す。

　一般式１において、ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。
　ｋＡおよびｋＢは、それぞれ独立に０～４が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が特に好ましい。

　一般式１で表される化合物は、下記一般式１－１で表される化合物が好ましい。この化合物は、耐熱性に優れている。
一般式１－１

　式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基または、下式（Ｗ）で表される基を表し、
　Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、または、アルキル基を表し、
　Ｘ¹およびＸ²は、それぞれ独立に、酸素原子、または、－Ｎ（Ｒ⁵）－を表し、
　Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｙ¹とＹ²、および、Ｙ³とＹ⁴は、互いに結合して環を形成していてもよく、
　Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ複数有する場合は、互いに結合して環を形成していてもよく、
　ｐおよびｓは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、
　ｑおよびｒは、それぞれ独立に０～２の整数を表す；
　－Ｓ¹－Ｌ¹－Ｔ¹　　　・・・（Ｗ）
　式（Ｗ）において、Ｓ¹は、単結合、アリーレン基またはヘテロアリーレン基を表し、
　Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＮＲ^L1ＣＯ－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－、または、これらを組み合わせてなる基を表し、Ｒ^L1は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^L2は、アルキレン基を表し、
　Ｔ¹は、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基、スルホ基、ホスホリル基、ボリル基、ビニル基、エチニル基、アリール基、ヘテロアリール基、トリアルキルシリル基またはトリアルコキシシリル基を表す。

　一般式１－１において、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基または、式（Ｗ）で表される基を表し、Ｒ¹およびＲ²の少なくとも一方は、式（Ｗ）で表される基を表すことが好ましい。
　一般式１－１において、Ｒ¹とＲ²は、同一であってもよく、異なる基であってもよい。Ｒ¹とＲ²が同じ基であることがより好ましい。
　なお、本明細書において、アリール基は、芳香族炭化水素基を意味し、ヘテロアリール基は、芳香族複素環基を意味する。

　Ｒ¹およびＲ²が表すアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましく、１３以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルキル基の分岐数は、例えば、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　Ｒ¹およびＲ²が表すアルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルケニル基の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　Ｒ¹およびＲ²が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒ¹およびＲ²が表すヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。

　（式（Ｗ）で表される基）
　次に、式（Ｗ）で表される基について説明する。
　式（Ｗ）において、Ｓ¹は、単結合、アリーレン基またはヘテロアリーレン基を表し、ホウ素原子との結合の安定性の観点から、アリーレン基またはヘテロアリーレン基が好ましく、アリーレン基がより好ましい。
　アリーレン基は、単環であっても多環であってもよい。単環が好ましい。アリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。単環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子またはセレン原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。
　Ｓ¹が表す、アリーレン基およびヘテロアリーレン基の具体例としては、以下に示す構造が挙げられる。

　式中、波線部分は一般式１－１のホウ素原子との結合位置を表し、＊は、Ｌ¹との結合位置を表し、Ｒ’は置換基を表し、Ｒ^Nは、水素原子またはアルキル基を表し、ｍは０以上の整数を表す。
　Ｒ’が表す置換基としては、上述した一般式１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。
　Ｒ^Nが表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。
　ｍは０以上の整数を表す。ｍの上限は、各基の最大置換数である。ｍは、０が好ましい。

　式（Ｗ）において、Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＮＲ^L1ＣＯ－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基を表し、Ｒ^L1は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^L2は、アルキレン基を表す。
　式（Ｗ）において、Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基が好ましく、柔軟性および溶剤溶解性の観点から、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基がより好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－または－ＯＲ^L2－がさらに好ましく、アルキレン基、－Ｏ－、または－ＯＲ^L2－が特に好ましい。

　Ｌ¹が表すアルキレン基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましく、１３以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキレン基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐数は、例えば、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　Ｌ¹が表すアルケニレン基およびアルキニレン基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニレン基およびアルキニレン基は直鎖、分岐のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。

　Ｒ^L1は、水素原子またはアルキル基を表し、水素原子が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。

　Ｒ^L2は、アルキレン基を表す。Ｒ^L2が表すアルキレン基は、Ｌ¹で説明したアルキレン基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　式（Ｗ）において、Ｔ¹は、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシ基、ホルミル基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基、スルホ基、ホスホリル基、ボリル基、ビニル基、エチニル基、アリール基、ヘテロアリール基、トリアルキルシリル基またはトリアルコキシシリル基を表す。
　アルキル基、トリアルキルシリル基が有するアルキル基およびトリアルコキシシリル基が有するアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましく、１３以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基およびヘテロアリール基は、Ｒ¹およびＲ²で説明したアリール基およびヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　式（Ｗ）において、Ｓ¹が単結合で、Ｌ¹がアルキレン基で、Ｔ¹がアルキル基の場合は、Ｌ¹とＴ¹に含まれる炭素数の総和は、１３以上であることが好ましく、溶剤溶解性の観点から２１以上がより好ましい。上限は、例えば４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。
　また、Ｓ¹がアリーレン基の場合は、Ｌ¹とＴ¹に含まれる炭素数の総和は、５以上が好ましく、溶剤溶解性の観点から９以上が好ましく、１０以上がより好ましい。上限は、例えば４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。

　式（Ｗ）の好ましい態様としては、Ｓ¹がアリーレン基またはヘテロアリーレン基であり、Ｌ¹がアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基であり、Ｔ¹がアルキル基またはトリアルキルシリル基である組み合わせが挙げられる。Ｓ¹は、アリーレン基がより好ましい。Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基がより好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－または－ＯＲ^L2－がさらに好ましく、アルキレン基、－Ｏ－、または－ＯＲ^L2－が特に好ましい。Ｔ¹はアルキル基がより好ましい。

　式（Ｗ）において、－Ｌ¹－Ｔ¹部分は、分岐アルキル構造を含むことが好ましい。具体的には、－Ｌ¹－Ｔ¹部分は、分岐のアルキル基または分岐のアルコキシ基であることが特に好ましい。－Ｌ¹－Ｔ¹部分の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。－Ｌ¹－Ｔ¹部分の炭素数は、５以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。上限は、例えば４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。

　式（Ｗ）において、－Ｌ¹－Ｔ¹部分は、不斉炭素を含むことが好ましい。この態様によれば、一般式１－１で表される化合物が複数の光学異性体を含むことができ、その結果、化合物の溶剤溶解性をさらに向上できる。不斉炭素の数は１個以上が好ましい。不斉炭素の上限は特に限定はないが、例えば４以下が好ましい。

　式（Ｗ）で表される基の具体例としては、例えば以下が挙げられる。以下の式中、Ａは、式（１）のホウ素原子との連結部である。以下の構造式において、＊は不斉炭素を表し、波状結合はラセミ体を表す。

　一般式１－１において、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、または、アルキル基を表す。Ｒ³とＲ⁴は、同一であってもよく、異なる基であってもよい。Ｒ³とＲ⁴が同じ基であることがより好ましい。
　Ｒ³およびＲ⁴が表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
　Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基またはエチル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。

　一般式１－１において、Ｘ¹およびＸ²は、それぞれ独立に、酸素原子（－Ｏ－）、または、－Ｎ（Ｒ⁵）－を表す。Ｘ¹とＸ²は同一であってもよく、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
　Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
　Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましい。Ｒ⁵が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した一般式１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。

　Ｘ¹およびＸ²は、それぞれ独立に、酸素原子、または、下記のいずれかで表されることが好ましい。

　式中、Ｒ^5aはアルキル基を表し、Ｒ⁶～Ｒ⁸は、それぞれ独立に、置換基を表し、ａは０～５の整数を表し、ｂおよびｃはそれぞれ０～７の整数を表し、＊は連結部を表す。
　Ｒ⁶～Ｒ⁸が表す、置換基としては、上述した一般式１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

　一般式１－１において、Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ独立に、置換基を表す。
　置換基としては、上述した一般式１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

　一般式１－１において、Ｙ¹とＹ²、および、Ｙ³とＹ⁴は、互いに結合して環を形成していてもよい。例えば、Ｙ¹とＹ²とが互いに結合して、Ｙ¹及びＹ²に直結しているナフタレン環と併せて、例えば、アセナフテン環、アセナフチレン環等の３環等となっていてもよい。
　Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ複数有する場合は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。例えば、Ｙ¹が複数有する場合、Ｙ¹同士が互いに結合し、Ｙ¹およびＹ²に直結しているナフタレン環と併せて、例えば、アントラセン環、フェナントレン環等の３環等となっていてもよい。なお、Ｙ¹同士が互いに結合して環構造を形成する場合、Ｙ¹以外の置換基であるＹ²～Ｙ⁴は必ずしも複数有する必要はない。また、Ｙ²～Ｙ⁴は存在しなくてもよい。Ｙ²同士、Ｙ³同士およびＹ⁴同士が結合して環構造を形成する場合も同様である。
　ｐおよびｓは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、好ましくはそれぞれ０～１であり、特に好ましくは０である。
　ｑおよびｒは、それぞれ独立に０～２の整数を表し、好ましくはそれぞれ０～１であり、特に好ましくは０である。

　なお、一般式（１）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。

　一般式１で表されるスクアリリウム化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。
　なお、以下に示す具体例において、以下の式中、波状結合はラセミ体を表す。

＜＜＜＜一般式２で表される化合物（ピロロピロール化合物）＞＞＞＞
　一般式２中、Ｒ^1aおよびＲ^1bは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。
　Ｒ^1aおよびＲ^1bが表すアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。
　Ｒ^1aおよびＲ^1bが表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は、フェニルが好ましい。
　Ｒ^1aおよびＲ^1bが表すヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がさらに好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～１０が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。

　上述したアリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。溶媒に対する溶解性を向上できるという観点から置換基を有していることが好ましい。
　置換基としては、酸素原子を含んでもよい炭化水素基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。

　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基などが挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルキル基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルキル基の分岐数は、例えば、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　アルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルケニル基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルケニル基の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　酸素原子を含む炭化水素基としては、－Ｌ－Ｒ^x1で表される基が挙げられる。
　Ｌは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－（ＯＲ^x2）_m－または－（Ｒ^x2Ｏ）_m－を表す。Ｒ^x1は、アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表す。Ｒ^x2は、アルキレン基またはアリーレン基を表す。ｍは２以上の整数を表し、ｍ個のＲ^x2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
　Ｌは、－Ｏ－、－（ＯＲ^x2）_m－または－（Ｒ^x2Ｏ）_m－が好ましく、－Ｏ－がより好ましい。
　Ｒ^x1が表すアルキル基、アルケニル基、アリール基は上述したものと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ^x1は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
　Ｒ^x2が表すアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５が更に好ましい。アルキレン基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。Ｒ^x2が表すアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。Ｒ^x2はアルキレン基が好ましい。
　ｍは２以上の整数を表し、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましい。

　アリール基およびヘテロアリール基が有してもよい置換基は、分岐アルキル構造を有する基が好ましい。この態様によれば、溶剤溶解性がより向上する。また、置換基は、酸素原子を含んでもよい炭化水素基が好ましく、酸素原子を含む炭化水素基がより好ましい。酸素原子を含む炭化水素基は、－Ｏ－Ｒ^x1で表される基が好ましい。Ｒ^x1は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましく、分岐のアルキル基が特に好ましい。すなわち、置換基は、アルコキシ基がより好ましく、分岐のアルコキシ基が特に好ましい。置換基が、アルコキシ基であることにより、耐熱性および耐光性にすぐれた赤外線吸収剤とすることができる。そして、分岐のアルコキシ基であることにより、溶剤溶解性が良好である。
　アルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルコキシ基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルコキシ基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルコキシ基の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。

　Ｒ²～Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む）、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基などが挙げられる。

　Ｒ²およびＲ³のいずれか一方と、Ｒ⁴およびＲ⁵のいずれか一方は、電子吸引性基であることが好ましい。
　Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値（シグマパラ値）が正の置換基は、電子吸引性基として作用する。
　本発明においては、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値が０．２以上の置換基を電子吸引性基として例示することができる。σｐ値として好ましくは０．２５以上であり、より好ましくは０．３以上であり、特に好ましくは０．３５以上である。上限は特に制限はないが、好ましくは０．８０である。
　電子吸引性基の具体例としては、シアノ基（σｐ値＝０．６６）、カルボキシル基（例えば－ＣＯＯＨ：σｐ値＝０．４５）、アルコキシカルボニル基（例えば－ＣＯＯＭｅ：σｐ値＝０．４５）、アリールオキシカルボニル基（例えば－ＣＯＯＰｈ：σｐ値＝０．４４）、カルバモイル基（例えば－ＣＯＮＨ₂：σｐ値＝０．３６）、アルキルカルボニル基（例えば－ＣＯＭｅ：σｐ値＝０．５０）、アリールカルボニル基（例えば－ＣＯＰｈ：σｐ値＝０．４３）、アルキルスルホニル基（例えば－ＳＯ₂Ｍｅ：σｐ値＝０．７２）、アリールスルホニル基（例えば－ＳＯ₂Ｐｈ：σｐ値＝０．６８）などが挙げられる。特に好ましくは、シアノ基である。ここで、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。
　Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値については、例えば、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００２４～００２５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　Ｒ²およびＲ³のいずれか一方と、Ｒ⁴およびＲ⁵のいずれか一方は、ヘテロアリール基が好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環、または、縮合環が好ましく、単環、または、縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環、または、縮合数が２～４の縮合環がさらに好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～１０が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の具体例としては、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、トリアジル基、キノリル基、キノキサリル基、イソキノリル基、インドレニル基、フリル基、チエニル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ナフトチアゾリル基、ベンズオキサゾリ基、ｍ－カルバゾリル基、アゼピニル基、およびこれらの基のベンゾ縮環基もしくはナフト縮環基などが挙げられる。
　ヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。
　アルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。

　一般式２において、Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵は、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵が互いに結合して環を形成する場合は、５～７員環（好ましくは５または６員環）を形成することが好ましい。形成される環としてはメロシアニン色素で酸性核として用いられるものが好ましい。具体例としては、例えば、特開２０１０－２２２５５７号公報の段落番号００２６に記載の構造が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。
　Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵が互いに結合して形成する環は、好ましくは１，３－ジカルボニル核、ピラゾリノン核、２，４，６－トリケトヘキサヒドロピリミジン核（チオケトン体も含む）、２－チオ－２，４－チアゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－オキサゾリジンジオン核、２－チオ－２，５－チアゾリジンジオン核、２，４－チアゾリジンジオン核、２，４－イミダゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－イミダゾリジンジオン核、２－イミダゾリン－５－オン核、３，５－ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン－３－オン核、またはインダノン核であり、更に好ましくは１，３－ジカルボニル核、２，４，６－トリケトヘキサヒドロピリミジン核（チオケトン体も含む）、３，５－ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン－３－オン核、またはインダノン核である。

　Ｒ⁶およびＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ^AＲ^B、または金属原子を表し、－ＢＲ^AＲ^Bがより好ましい。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表すアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表すヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～５が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表す金属原子としては、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、スズ、バナジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、パラジウム、イリジウム、白金が好ましく、アルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、白金が特に好ましい。

　－ＢＲ^AＲ^Bで表される基において、Ｒ^AおよびＲ^Bは、各々独立に、水素原子または置換基を表す。
　Ｒ^AおよびＲ^Bが表す置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基およびヘテロアリール基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
　アルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～５が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。

　一般式２において、Ｒ⁶は、Ｒ^1aまたはＲ³と、共有結合もしくは配位結合していてもよい。また、Ｒ⁷は、Ｒ^1bまたはＲ⁵と、共有結合もしくは配位結合していてもよい。

　一般式２で表されるピロロピロール化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１０－２２２５５７号公報の段落番号００４９～００６２に記載の化合物Ｄ－１～Ｄ－１６２が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。以下の式中Ｐｈはフェニル基を表す。

＜＜＜＜一般式３で表される化合物（シアニン化合物）＞＞＞＞
　一般式３において、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員又は６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団を表す。
　含窒素複素環には、他の複素環、芳香族環または脂肪族環が縮合してもよい。含窒素複素環は、５員環が好ましい。５員の含窒素複素環に、ベンゼン環又はナフタレン環が縮合している構造がさらに好ましい。含窒素複素環の具体例としては、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、オキサゾロカルバゾール環、オキサゾロジベンゾフラン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロロピリジン環、フロピロール環、インドリジン環、イミダゾキノキサリン環、キノキサリン環等が挙げられ、キノリン環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が好ましく、インドレニン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が特に好ましい。

　含窒素複素環及びそれに縮合している環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ^c1、－ＣＯＲ^c2、－ＣＯＯＲ^c3、－ＯＣＯＲ^c4、－ＮＲ^c5Ｒ^c6、－ＮＨＣＯＲ^c7、－ＣＯＮＲ^c8Ｒ^c9、－ＮＨＣＯＮＲ^c10Ｒ^c11、－ＮＨＣＯＯＲ^c12、－ＳＲ^c13、－ＳＯ₂Ｒ^c14、－ＳＯ₂ＯＲ^c15、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^c16または－ＳＯ₂ＮＲ^c17Ｒ^c18が挙げられる。Ｒ^c1～Ｒ^c18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。なお、－ＣＯＯＲ^c3のＲ^c3が水素原子の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ₂ＯＲ^c15のＲ^c15が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。

　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がさらに好ましく、１～８が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。
　アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルケニル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アルキニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルキニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキニル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１０が最も好ましい。アリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５が更に好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。ヘテロアリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

　一般式３において、Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表す。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基は、上記の置換基で説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。

　式３において、Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表す。Ｌ¹は、３、５または７のメチン基からなるメチン鎖が好ましい。
　メチン基は置換基を有していてもよい。置換基を有するメチン基は、中央の（メソ位の）メチン基であることが好ましい。置換基の具体例としては、Ｚ¹およびＺ²の含窒素複素環が有してもよい置換基、および、下式（ａ）で表される基が挙げられる。また、メチン鎖の二つの置換基が結合して５または６員環を形成しても良い。

　式（ａ）中、＊は、メチン鎖との連結部を表し、Ａ¹は、酸素原子または硫黄原子を表す。

　一般式３において、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１である。ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合する。ａおよびｂはともに０であることが好ましい。なお、ａおよびｂがともに０の場合は、一般式３は以下のように表される。

　一般式３において、式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-）、ｐ－トルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-またはＣｌＯ₄ ^-、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₃Ｃ^-）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ^-）、テトラシアノボレートアニオンなどが挙げられる。
　一般式３において、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。カチオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺など）、アルカリ土類金属イオン（Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｂａ²⁺、Ｓｒ²⁺など）、遷移金属イオン（Ａｇ⁺、Ｆｅ²⁺、Ｃｏ²⁺、Ｎｉ²⁺、Ｃｕ²⁺、Ｚｎ²⁺など）、その他の金属イオン（Ａｌ³⁺など）、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムなどが挙げられる。カチオンとしては、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺、ジアザビシクロウンデセニウムが好ましい。
　一般式３において、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ¹は存在しない。すなわち、ｃは０である。

　一般式３で表される化合物は、下記（３－１）または（３－２）で表される化合物であることも好ましい。この化合物は、耐熱性に優れている。

　式（３－１）および（３－２）中、Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bは、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ^1AおよびＬ^1Bは、それぞれ独立に奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　Ｙ¹およびＹ²は、各々独立に－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ^X1－または－ＣＲ^X2Ｒ^X3－を表し、
　Ｒ^X1、Ｒ^X2およびＲ^X3は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、
　Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ^c1、－ＣＯＲ^c2、－ＣＯＯＲ^c3、－ＯＣＯＲ^c4、－ＮＲ^c5Ｒ^c6、－ＮＨＣＯＲ^c7、－ＣＯＮＲ^c8Ｒ^c9、－ＮＨＣＯＮＲ^c10Ｒ^c11、－ＮＨＣＯＯＲ^c12、－ＳＲ^c13、－ＳＯ₂Ｒ^c14、－ＳＯ₂ＯＲ^c15、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^c16または－ＳＯ₂ＮＲ^c17Ｒ^c18を表し、Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bは、縮合環を形成していてもよく、
　Ｒ^c1～Ｒ^c18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　－ＣＯＯＲ^c3のＲ^c3が水素原子の場合および－ＳＯ₂ＯＲ^c15のＲ^c15が水素原子の場合は、水素原子が解離しても、塩の状態であってもよく、
　ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０～４を表し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ¹は存在しない。

　Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bが表す基は、一般式３のＲ¹⁰¹およびＲ¹⁰²で説明したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。これらの基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。
　Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bがアルキル基を表す場合は、直鎖のアルキル基であることがより好ましい。
　Ｙ¹およびＹ²は、各々独立に－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ^X1－または－ＣＲ^X2Ｒ^X3－を表し、－ＮＲ^X1－が好ましい。
　Ｒ^X1、Ｒ^X2およびＲ^X3は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基は、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
　Ｌ^1AおよびＬ^1Bは、一般式３のＬ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bが表す基は、一般式３のＺ¹およびＺ²の含窒素複素環が有してもよい置換基で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０～４を表し、０～２が好ましい。
　Ｘ¹が表すアニオンおよびカチオンは、一般式３のＸ¹で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　一般式３で表される化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２００９－１０８２６７公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。なお、以下の表中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、ＰＲＳはＣ₃Ｈ₆ＳＯ^3-を表し、ＢＵＳはＣ₄Ｈ₉ＳＯ^3-を表す。

　一般式３で表される化合物は、エフ・エム・ハーマー（Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ）著「ヘテロサイクリック・コンパウンズーシアニンダイズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ　Ｃｙａｎｉｎｅ　Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　Ｒｅｌａｔｅｄ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）」、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ）社－ニューヨーク、ロンドン、１９６４年刊、およびデー・エム・スターマー（Ｄ．Ｍ．Ｓｔｕｒｍｅｒ）著「ヘテロサイクリック・コンパウンズースペシャル・トッピクス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ－Ｓｐｅｃｉａｌｔｏｐｉｃｓ　ｉｎ　ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　ｃｈｍｉｓｔｒｙ）」、第１８章、第１４節、４８２～５１５頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ）社－ニューヨーク、ロンドン、１９７７年刊、「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ（Ｒｏｄｄ’ｓ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｃａｒｂｏｎ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）」２ｎｄ．Ｅｄ．ｖｏｌ．ＩＶ，ｐａｒｔＢ，１９７７年刊、第１５章、３６９～４２２頁、エルセビア・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　Ｃｏｍｐａｎｙ　Ｉｎｃ．）社刊、ニューヨーク、特開平６－３１３９３９号公報および特開平５－８８２９３号公報等を参考にして容易に合成できる。

＜＜＜＜樹脂、ゼラチン、重合性化合物＞＞＞＞
　赤外線吸収組成物は、樹脂、ゼラチンおよび重合性化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましく、ゼラチンおよび重合性化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することが特に好ましい。この態様によれば、耐熱性および耐溶剤性に優れた赤外線吸収層を製造しやすい。また、重合性化合物を用いる場合、重合性化合物と光重合開始剤と併用することが好ましい。

（樹脂）
　樹脂は、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００～２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
　また、エポキシ樹脂の場合、エポキシ樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００以上が好ましく、２００～２，０００，０００がより好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましい。
　樹脂は、２５℃から、２０℃／分で昇温した５％熱質量減少温度が、２００℃以上であることが好ましく、２６０℃以上であることがより好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸および／またはそのエステルに由来する繰り返し単位を含む重合体が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミドおよび（メタ）アクリロニトリルから選ばれる少なくとも１種を重合して得られる重合体が挙げられる。

　ポリエステル樹脂としては、ポリオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）と、多塩基酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸及びこれらの芳香環の水素原子がメチル基、エチル基、フェニル基等で置換された芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数２～２０の脂肪族ジカルボン酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカルボン酸など）との反応により得られるポリマーや、カプロラクトンモノマー等の環状エステル化合物の開環重合により得られるポリマー（例えばポリカプロラクトン）が挙げられる。

　エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。市販品としては、例えば、以下のものが挙げられる。
　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８２７、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ８３４、ＪＥＲ１００１、ＪＥＲ１００２、ＪＥＲ１００３、ＪＥＲ１０５５、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１００９、ＪＥＲ１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
　ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８０７、ＪＥＲ４００４、ＪＥＲ４００５、ＪＥＲ４００７、ＪＥＲ４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
　フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
　クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ－１０２０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
　脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、同ＰＢ　４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等が挙げられる。
　その他にも、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）等が挙げられる。

　また、樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシル基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものが挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また、他のモノマーとして、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーとして、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。

　酸基を有する樹脂は、下記一般式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマー（ａ）を含むことも好ましい。

　一般式（ＥＤ１）中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

　一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

　一般式（ＥＤ１）中、Ｒ¹およびＲ²で表される置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｔｅｒｔ－アミル、ステアリル、ラウリル、２－エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２－メチル－２－アダマンチル等の脂環式基；１－メトキシエチル、１－エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。

　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。一般式（ＥＤ）で示される化合物由来の構造体は、その他のモノマーを共重合させてもよい。

　酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。

　式（Ｘ）において、Ｒ₁は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ₂は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ₃は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。

　上記式（Ｘ）において、Ｒ₂のアルキレン基の炭素数は、２～３が好ましい。また、Ｒ₃のアルキル基の炭素数は１～２０であるが、より好ましくは１～１０であり、Ｒ₃のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。Ｒ₃で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、２－フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。

　酸基を有する樹脂の具体例としては、例えば以下に示す構造が挙げられる。

　酸基を有する樹脂としては、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６８５]～[０７００]）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

　また、樹脂は、重合性基を有していてもよい。樹脂が重合性基を有することで、硬度のある膜を形成できる。
　重合性基としては、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。重合性基を含有する樹脂としては、ダイヤナ－ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業株式会社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、アクリキュアーＲＤ－Ｆ８(日本触媒社製)などが挙げられる。また、上述したエポキシ樹脂なども挙げられる。

　赤外線吸収組成物において、樹脂の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、１～８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。

（ゼラチン）
　赤外線吸収組成物は、ゼラチンを含有することが好ましい。ゼラチンを含有することにより、耐熱性に優れた赤外線吸収層を形成しやすい。詳細なメカニズムは不明であるが、赤外線吸収剤とゼラチンとで会合体を形成しやすいためであると推測する。特に、赤外線吸収剤としてシアニン化合物を用いた場合、耐熱性に優れた赤外線吸収層を形成しやすい。

　本発明において、ゼラチンとしては、その合成方法によって、酸処理ゼラチンおよびアルカリ処理ゼラチン（石灰処理など）があり、いずれも好ましく用いることができる。ゼラチンの分子量は、１０，０００～１，０００，０００であることが好ましい。また、ゼラチンのアミノ基やカルボキシル基を利用して変性処理した変性ゼラチンも用いることができる（例えば、フタル化ゼラチンなど）。ゼラチンとしては、イナートゼラチン（例えば、新田ゼラチン７５０）、フタル化ゼラチン（例えば、新田ゼラチン８０１）などを用いることができる。

　赤外線吸収層の耐水性及び機械的強度を高めるため、種々の化合物を用いてゼラチンを硬化させる事が好ましい。硬化剤は従来公知のものを使用することができ、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物類、米国特許第３，２８８．７７５号その他に記載されている反応性のハロゲンを有する化合物類、米国特許第３，６４２．４８６号、特公昭４９－１３５６３号その他に記載されている反応性のエチレン性不飽和結合を持つ化合物類、米国特許第３，０１７，２８０号等に記載されているアジリジン系化合物類、米国特許第３，０９１，５３７号等に記載されているエホ士シ系化合物類、ムコクロル酸のようなハロゲンカルボキシルアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサン、ジクロロジオキサン等ジオキサン類、あるいは又無機硬膜剤としてクロム明ばん、硫酸ジルコニウム等が挙げられる。

　赤外線吸収組成物において、ゼラチンの含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、１～９９質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。

（重合性化合物）
　赤外線吸収組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル（エポキシ、オキセタン）基、メチロール基等を有する化合物が挙げられ、エチレン性不飽和結合を有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。
　重合性化合物は、単官能であっても多官能であってもよいが、好ましくは、多官能（重合性基を２個以上有する重合性化合物）である。多官能化合物を含むことにより、三次元架橋物を有する赤外線吸収層を形成できる。そして、赤外線吸収層が三次元架橋物を有することにより、耐熱性や耐溶剤性を向上させることができる。重合性化合物の官能基の数は特に限定されないが、２～８官能が好ましく、３～６官能がさらに好ましい。
　重合性化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー、オリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。
　重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。
　重合性化合物の分子量は、２０００未満が好ましく、１００以上２０００未満がより好ましく、２００以上２０００未満がさらに好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物であることが好ましい。
　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の例としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３３～００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　具体例としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬株式会社製）ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　；日本化薬株式会社製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。
　また、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８の重合性化合物の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　また、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の［０５８５］）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては　Ｍ－４６０；東亞合成株式会社製）が好ましい。ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬株式会社製）などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物としては、さらに、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。
　酸基を有する化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。
　酸基を有する化合物の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

　重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物も好ましい態様である。
　カプロラクトン構造を有する化合物としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬株式会社製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ－６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０などが挙げられる。

　また、重合性化合物は、フッ素原子を有する重合性化合物（含フッ素重合性化合物）を用いることができる。含フッ素重合性化合物は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレートポリマーであることがより好ましい。
　含フッ素重合性化合物は、フッ素原子で置換されたアルキレン基、フッ素原子で置換されたアルキル基、及び、フッ素原子で置換されたアリール基からなる群から選択される少なくとも１つを有することが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基であることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキル基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基及びフッ素原子で置換されたアルキル基中の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましく、１～５であることがさらに好ましい。
　フッ素原子で置換されたアリール基は、アリール基がフッ素原子で直接に置換されているか、トリフルオロメチル基で置換されていることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基、フッ素原子で置換されたアルキル基、及び、フッ素原子で置換されたアリール基は、フッ素原子以外の置換基をさらに有していてもよい。
　フッ素原子で置換されたアルキル基及びフッ素原子で置換されたアリール基の例としては、例えば、特開２０１１－１０００８９号公報の段落番号０２６６～０２７２を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　含フッ素重合性化合物は、フッ素原子で置換されたアルキレン基と酸素原子とが連結した基Ｘ（式（Ｘ）で表される基（繰り返し単位））を含むことが好ましく、パーフルオロアルキレンエーテル基を含むことがより好ましい。
　式（Ｘ）　　－（Ｌ_A－Ｏ）－
　上記Ｌ_Aは、フッ素原子で置換されたアルキレン基を表す。なお、アルキレン基中の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましく、１～５であることがさらに好ましい。なお、上記フッ素原子で置換されたアルキレン基中には、酸素原子が含まれていてもよい。
　また、フッ素原子で置換されたアルキレン基は直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
　パーフルオロアルキレンエーテル基とは、上記Ｌ_Aがパーフルオロアルキレン基であることを意図する。パーフルオロアルキレン基とは、アルキレン基中の水素原子がすべてフッ素原子で置換された基を意図する。
　式（Ｘ）で表される基（繰り返し単位）は繰り返して連結していてもよく、その繰り返し単位数は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１～５０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　つまり、式（Ｘ－１）で表される基であることが好ましい。
　式（Ｘ－１）　　－（Ｌ_A－Ｏ）_r－
　式（Ｘ－１）中、Ｌ_Aは上記の通りであり、ｒは繰り返し単位数を表し、その好適範囲は上述の通りである。
　なお、複数の－（Ｌ_A－Ｏ）－中のＬ_Aは同一であっても異なっていてもよい。

　含フッ素重合性化合物がモノマーである場合、１分子中における、フッ素原子、珪素原子、炭素数８以上の直鎖アルキル基、及び、炭素数３以上の分鎖アルキル基からなる群から選択される１種以上の基の数が１～２０であることが好ましく、３～１５であることがより好ましい。

　含フッ素重合性化合物がポリマーである場合、ポリマーは、下記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位と、下記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の少なくとも一方とを有することが好ましい。

　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｒ¹～Ｒ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、ハロゲン原子を表す。Ｌ¹～Ｌ⁴は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｘ¹は、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、又はオキセタニル基を表し、Ｘ²はフッ素原子で置換されたアルキル基またはフッ素原子で置換されたアリール基を表し、Ｘ³は式（Ｘ－１）で表される繰り返し単位を表す。

　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｒ¹～Ｒ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましい。Ｒ¹～Ｒ¹¹がアルキル基を表す場合、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。Ｒ¹～Ｒ¹¹がハロゲン原子を表す場合、フッ素原子が好ましい。
　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｌ¹～Ｌ⁴が２価の連結基を表す場合、２価の連結基としては、ハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基、ハロゲン原子が置換していてもよいアリーレン基、－ＮＲ¹²－、－ＣＯＮＲ¹²－、－ＣＯ－、－ＣＯ₂－、ＳＯ₂ＮＲ¹²－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ₂－、又は、これらの組み合わせが挙げられる。なかでも、炭素数２～１０のハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基及び炭素数６～１２のハロゲン原子が置換していてもよいアリーレン基からなる群から選択される少なくとも１種、又は、これらの基と－ＮＲ¹²－、－ＣＯＮＲ¹²－、－ＣＯ－、－ＣＯ₂－、ＳＯ₂ＮＲ¹²－、－Ｏ－、－Ｓ－、及びＳＯ₂－からなる群から選択される少なくとも１種の基との組み合わせからなる基が好ましく、炭素数２～１０のハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基、－ＣＯ₂－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ¹²－、又は、これらの基の組み合わせからなる基がより好ましい。ここで、上記Ｒ¹²は、水素原子又はメチル基を表す。

　上記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、３０～９５モル％であることが好ましく、４５～９０モル％であることがより好ましい。式（Ｂ１）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、３０モル％以上が好ましく、４５モル％以上がより好ましい。
　上記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の合計含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、５～７０モル％であることが好ましく、１０～６０モル％であることがより好ましい。上記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の合計含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、５モル％以上が好ましく、１０モル％以上がより好ましい。
　なお、式（Ｂ２）で表される繰り返し単位が含まれず、式（Ｂ３）で表される繰り返し単位が含まれる場合は、式（Ｂ２）で表される繰り返し単位の含有量は０モル％として、式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の含有量が上記範囲であることが好ましい。

　また、含フッ素重合性化合物は、上記式（Ｂ１）～（Ｂ３）で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。他の繰り返し単位の含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、１０モル％以下であることが好ましく、１モル％以下であることがより好ましい。

　含フッ素重合性化合物がポリマーである場合、重量平均分子量（Ｍｗ：ポリスチレン換算）が５，０００～１００，０００であることが好ましく、７，０００～５０，０００であることがより好ましい。硬化性化合物Ａがポリマーである場合、重量平均分子量は、５，０００以上が好ましく、７，０００以上がより好ましい。
　また、含フッ素重合性化合物がポリマーである場合、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．８０～３．００であることが好ましく、２．００～２．９０であることがより好ましい。
　ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）法は、ＨＬＣ－８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる方法に基づく。

　含フッ素重合性化合物の市販品としては、例えば、ＤＩＣ社製のメガファックＲＳ－７２－Ｋ、メガファックＲＳ－７５、メガファックＲＳ－７６－Ｅ、メガファックＲＳ－７６－ＮＳ、メガファックＲＳ－７７等を利用することができる。

　重合性化合物の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、１～５０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。

＜＜光重合開始剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、光重合開始剤を含有してもよい。
　光重合開始剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、０．０１～３０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。
　光重合開始剤は、１種のみでも、２種以上でもよく、２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
　光重合開始剤としては、光により硬化性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。

　光重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン系化合物、α－アミノケトン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物、チオール化合物などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号０２１７～０２２８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　オキシム化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司社製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（ＡＤＥＫＡ社製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）等を用いることができる。
　アセトフェノン系化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。またアシルホスフィン化合物としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９やＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。
　本発明は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。

＜＜溶剤＞＞
　赤外線吸収組成物は溶剤を含有してもよい。溶剤は、特に制限はなく、赤外線吸収組成物の各成分を均一に溶解或いは分散しうるものであれば、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、水、有機溶剤を用いることができ、有機溶剤が好ましい。
　有機溶剤としては、例えば、アルコール類（例えばメタノール）、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、およびジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン等が好適に挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶剤を併用する場合、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液が好ましい。
　アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類の具体例としては、特開２０１２－１９４５３４号公報の段落番号０１３６等に記載のものが挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、エステル類、ケトン類、エーテル類の具体例としては、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４９７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６０９]）に記載のものが挙げられ、さらに、酢酸－ｎ－アミル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、硫酸メチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
　赤外線吸収組成物中における溶剤の量は、固形分が１０～９０質量％となる量が好ましい。下限は、２０質量％以上が好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせてもよい。界面活性剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０００１～５質量％が好ましい。下限は、０．００５質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましい。上限は、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。赤外線吸収組成物は、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤の少なくとも一方を含有することが好ましい。被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善される。このため、組成物の液特性（特に、流動性）が向上し、塗布厚の均一性や省液性がより改善する。その結果、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成を行える。

　フッ素系界面活性剤のフッ素含有率は、３～４０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下が更に好ましい。フッ素含有率が上述した範囲内である場合は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開ＷＯ２０１４／１７６６９号パンフレットの段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック　Ｆ－１７１、同Ｆ－１７２、同Ｆ－１７３、同Ｆ－１７６、同Ｆ－１７７、同Ｆ－１４１、同Ｆ－１４２、同Ｆ－１４３、同Ｆ－１４４、同Ｒ３０、同Ｆ－４３７、同Ｆ－４７５、同Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－５５４、同Ｆ－７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）等が挙げられる。
　また、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

　上記の化合物の重量平均分子量は、例えば、１４，０００である。
　ノニオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５３（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６７９]）等に記載のノニオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　カチオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５４（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６８０]）に記載のカチオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５６（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６８２]）等に記載のシリコーン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜＜重合禁止剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。
　重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。
　重合禁止剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましい。

＜＜紫外線吸収剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。
　紫外線吸収剤は、公知の化合物を用いることができる。市販品としては、例えば、ＵＶ５０３（大東化学株式会社）などが挙げられる。
　紫外線吸収剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．０１～５質量％であることがより好ましい。

＜＜＜＜他の成分＞＞＞＞
　赤外線吸収組成物は、例えば、分散剤、増感剤、架橋剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、密着促進剤およびその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）をさらに含有することができる。
　これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３～０２２８（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の[０２３７]～[０３０９]）、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０２、段落番号０１０３～０１０４、段落番号０１０７～０１０９、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号０１５９～０１８４等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜赤外線吸収組成物の調製方法＞
　赤外線吸収組成物は、上記各成分を混合して調製できる。
　赤外線吸収組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。フィルタは、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン－６、ナイロン－６，６等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）が好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～２．５μｍがより好ましく、０．０１～１．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径を上記範囲とすることにより、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせても良い。その際、第１のフィルタでのフィルタリングは、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。異なるフィルターを組み合わせて２回以上フィルタリングを行う場合は、１回目のフィルタリングの孔径より２回目以降の孔径が大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
　第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第２のフィルタの孔径は、０．５～７．０μｍが好ましく、２．５～７．０μｍがより好ましく、４．５～６．０μｍが更に好ましい。フィルタの孔径を上記範囲とすることにより、組成物混合液に含有されている成分粒子を残存させたまま、後工程でおいて均一及び平滑な遮光性組成物の調製を阻害する異物を除去することができる。
　例えば、第１のフィルタでのフィルタリングの後に、他の成分を追加し、第２のフィルタリングを行ってもよい。
　赤外線吸収組成物の粘度は、例えば、塗布により赤外線吸収層を形成する場合、１～３０００ｍＰａ・ｓの範囲にあることが好ましい。下限は、１０ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００ｍＰａ・ｓ以上がより好ましい。上限は、２０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１５００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。

＜赤外線吸収層の形成方法＞
　赤外線吸収層は、上記赤外線吸収組成物を、銅を含有する透明層、支持体、後述する誘電体多層膜等に適用し、乾燥して形成できる。膜厚は、目的に応じて適宜選択することができる。

　赤外線吸収組成物の適用方法としては、滴下法（ドロップキャスト）、スピンコーター、スリットスピンコーター、スリットコーター、スクリーン印刷、アプリケータ塗布等の方法により実施できる。
　乾燥条件としては、各成分、溶剤の種類、使用割合等によっても異なるが、６０℃～１５０℃の温度で３０秒間～１５分間程度である。
　赤外線吸収層の形成方法において、その他の工程を含んでいても良い。その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前加熱工程（プリベーク工程）、硬化処理工程、後加熱工程（ポストベーク工程）などが挙げられる。

＜＜前加熱工程・後加熱工程＞＞
　前加熱工程および後加熱工程における加熱温度は、通常、８０℃～２００℃であり、９０℃～１５０℃であることが好ましい。前加熱工程および後加熱工程における加熱時間は、通常、３０秒～２４０秒であり、６０秒～１８０秒であることが好ましい。
＜＜硬化処理工程＞＞
　硬化処理工程は、必要に応じ、形成された上記膜に対して硬化処理を行う工程であり、この処理を行うことにより、赤外線吸収層の機械的強度が向上する。重合性化合物を含む赤外線吸収組成物を用いた場合、硬化処理工程を行うことが好ましい。
　上記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。ここで、本発明において「露光」とは、各種波長の光のみならず、電子線、Ｘ線などの放射線照射をも包含する意味で用いられる。
　露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、電子線、ＫｒＦ、ＡｒＦ、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線や可視光が好ましく用いられる。
　露光方式としては、ステッパー露光や、高圧水銀灯による露光などが挙げられる。
　露光量は５～３０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、１０～２０００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ²が特に好ましい。
　全面露光処理の方法としては、例えば、形成された上記膜の全面を露光する方法が挙げられる。赤外線吸収性組成が重合性化合物を含有する場合、全面露光により、膜中の重合成分の硬化が促進され、上記膜の硬化が更に進行し、赤外線吸収層の耐溶剤性や耐熱性が向上する。
　上記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機が好適に挙げられる。
　また、全面加熱処理の方法としては、形成された上記膜の全面を加熱する方法が挙げられる。全面加熱により、赤外線吸収層の耐溶剤性や耐熱性が向上する。
　全面加熱における加熱温度は、１２０℃～２５０℃が好ましく、１６０℃～２２０℃がより好ましい。加熱温度が１２０℃以上であれば、加熱処理によって膜強度が向上し、２５０℃以下であれば、膜成分の分解を抑制できる。
　全面加熱における加熱時間は、３分～１８０分が好ましく、５分～１２０分がより好ましい。
　全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、ＩＲヒーターなどが挙げられる。

＜＜誘電体多層膜＞＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、誘電体多層膜を有することが好ましい。誘電体多層膜を有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。
　なお、本発明において、誘電体多層膜は、光の干渉の効果を利用して赤外線を遮光する膜である。すなわち、誘電体多層膜は、赤外線を反射する能力を有する膜を意味する。具体的には、屈折率の異なる誘電体層（高屈折率材料層と低屈折率材料層）を、交互に２層以上積層してなる膜である。
　また、赤外線を吸収して赤外線を遮光する膜（赤外線吸収剤を含有する膜）は、赤外線吸収膜に該当し、誘電体多層膜とは異なる。

　本発明において、誘電体多層膜は、銅を含有する透明層の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合には、製造コストや製造容易性に優れる。両面に設ける場合には、高い強度を有し、反りの生じにくい赤外線カットフィルタを得ることができる。また、誘電体多層膜は、銅を含有する透明層と接していてもよく、接していなくてもよい。
　本発明の赤外線カットフィルタは、銅を含有する透明層と誘電体多層膜との間に、赤外線吸収層を有し、赤外線吸収層と誘電体多層膜とが接していることが好ましい。このような構成とすることにより、赤外線吸収層が、誘電体多層膜により酸素や湿度から遮断され、赤外線カットフィルタの耐光性や耐湿性が良化する。更には、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。

　誘電体多層膜の材料としては、例えばセラミックを用いることができる。光の干渉の効果を利用した赤外線カットフィルタを形成するためには、屈折率の異なるセラミックを２種以上用いることが好ましい。誘電体多層膜としては具体的には、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した構成を好適に用いることができる。

　高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．７～２．５の材料が選択される。この材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウムを主成分とし酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量含有させたものが挙げられる。

　低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．２～１．６の材料が選択される。この材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。

　誘電体多層膜を形成する方法としては、特に制限はないが、例えば、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成し、これを、銅を含有する透明層および／または赤外線吸収層と接着剤で張り合わせる方法、
銅を含有する透明層および／または赤外線吸収層の表面に、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層して誘電体多層膜を形成する方法を挙げることができる。

　高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、遮断しようとする赤外線波長λ（ｎｍ）の０．１λ～０．５λの厚みであることが好ましい。厚みが上記範囲とすることにより、特定波長の遮断・透過をコントロールしやすい。

　また、誘電体多層膜における積層数は、２～１００層が好ましく、２～６０層がより好ましく、２～４０層が更に好ましい。誘電体多層膜を蒸着した際に基板に反りが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面へ誘電体多層膜を蒸着する、基板の誘電多層膜を蒸着した面に紫外線等の放射線を照射する等の方法をとる事ができる。なお、放射線を照射する場合、誘電体多層膜の蒸着を行いながら照射してもよいし、蒸着後別途照射してもよい。

＜赤外線カットフィルタの層構成＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、銅を含有する透明層と、赤外線吸収層とを有する構造であればよい。一例として、図１に示す積層構造が挙げられる。図１において、１は銅を含有する透明層であり、２は赤外線吸収層である。
　本発明の赤外線カットフィルタの層構成の一例を以下に示す。以下において、銅を含有し、かつ、赤外線吸収剤を含有しない層を層Ａ、銅と赤外線吸収剤とを含有する層を層Ａ１、赤外線吸収剤を含有する層を層Ｂ、誘電体多層膜を層Ｃと記載する。
　以下に示す層構成のうち、層Ａの両面に層Ｂを有する層構成である（９）、（１０）、（２５）、（２６）、（３２）が好ましい。なかでも、（９）、（１０）が好ましい。
　また、層Ａ１を有する（３８）～（５０）も好ましく、（３８）がより好ましい。
（１）層Ａ／層Ｂ
（２）層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（３）層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（４）支持体／層Ｂ／層Ａ
（５）支持体／層Ｂ／層Ａ／層Ｃ
（６）支持体／層Ｂ／層Ｃ／層Ａ
（７）支持体／層Ｃ／層Ａ／層Ｂ
（８）支持体／層Ｃ／層Ｂ／層Ａ
（９）層Ｂ／層Ａ／層Ｂ
（１０）層Ｂ／層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（１１）層Ｂ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（１２）層Ｂ／支持体／層Ｂ／層Ａ
（１３）層Ｂ／支持体／層Ｂ／層Ａ／層Ｃ
（１４）層Ｂ／支持体／層Ｂ／層Ｃ／層Ａ
（１５）層Ｂ／支持体／層Ｃ／層Ａ／層Ｂ
（１６）層Ｂ／支持体／層Ｃ／層Ｂ／層Ａ
（１７）層Ｃ／層Ａ／層Ｂ
（１８）層Ｃ／層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（１９）層Ｃ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（２０）層Ｃ／支持体／層Ｂ／層Ａ
（２１）層Ｃ／支持体／層Ｂ／層Ａ／層Ｃ
（２２）層Ｃ／支持体／層Ｂ／層Ｃ／層Ａ
（２３）層Ｃ／支持体／層Ｃ／層Ａ／層Ｂ
（２４）層Ｃ／支持体／層Ｃ／層Ｂ／層Ａ
（２５）層Ｃ／層Ｂ／層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（２６）層Ｃ／層Ｂ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（２７）層Ｃ／層Ｂ／支持体／層Ｂ／層Ａ
（２８）層Ｃ／層Ｂ／支持体／層Ｂ／層Ａ／層Ｃ
（２９）層Ｃ／層Ｂ／支持体／層Ｂ／層Ｃ／層Ａ
（３０）層Ｃ／層Ｂ／支持体／層Ｃ／層Ａ／層Ｂ
（３１）層Ｃ／層Ｂ／支持体／層Ｃ／層Ｂ／層Ａ
（３２）層Ｂ／層Ｃ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（３３）層Ｂ／層Ｃ／支持体／層Ｂ／層Ａ
（３４）層Ｂ／層Ｃ／支持体／層Ｂ／層Ａ／層Ｃ
（３５）層Ｂ／層Ｃ／支持体／層Ｂ／層Ｃ／層Ａ
（３６）層Ｂ／層Ｃ／支持体／層Ｃ／層Ａ／層Ｂ
（３７）層Ｂ／層Ｃ／支持体／層Ｃ／層Ｂ／層Ａ
（３８）層Ａ１
（３９）層Ａ１／層Ｃ
（４０）層Ｃ／層Ａ１／層Ｃ
（４１）支持体／層Ａ１／層Ｃ
（４２）支持体／層Ｃ／層Ａ１
（４３）層Ａ１／支持体／層Ａ１／層Ｃ
（４４）層Ｃ／支持体／層Ａ１／層Ｃ
（４５）層Ａ１／支持体／層Ｃ／層Ａ１
（４６）層Ｃ／支持体／層Ｃ／層Ａ１
（４７）層Ｃ／層Ａ１／支持体／層Ａ１／層Ｃ
（４８）層Ａ１／層Ｃ／支持体／層Ａ１／層Ｃ
（４９）層Ｃ／層Ａ１／支持体／層Ｃ／層Ａ１
（５０）層Ａ１／層Ｃ／支持体／層Ｃ／層Ａ１

＜赤外線カットフィルタの用途＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線を吸収・カットする機能を有するレンズ（デジタルカメラや携帯電話や車載カメラ等のカメラ用レンズ、ｆ－θレンズ、ピックアップレンズ等の光学レンズ）および半導体受光素子用の光学フィルタなどに用いられる。またＣＣＤカメラ用ノイズカットフィルタ、ＣＭＯＳイメージセンサ用フィルタとしても有用である。
　また、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子や太陽電池素子等にも好ましく用いることができる。

＜キット＞
　本発明のキットは、銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層とを有する赤外線カットフィルタを製造するためのキットであって、
　銅を含有する透明部材と、
　赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収組成物、とを有する。
　赤外線吸収組成物としては、赤外線カットフィルタの赤外線吸収層で説明した赤外線吸収組成物と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　銅を含有する透明部材は、赤外線カットフィルタの銅を含有する透明層で説明した材料を用いることができ、好ましい範囲も同様である。

＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、本発明の赤外線カットフィルタを含む。赤外線カットフィルタを含む固体撮像素子の詳細については、特開２０１５－０４４１８８号公報の段落番号０１０６～０１０７の記載、特開２０１４－１３２３３３号公報の段落番号００１０～００１２の記載を参酌でき、この内容は本明細書に含まれる事とする。

　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。また、以下において、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをＰＧＭＥＡと記す。また、ＮＭＲは核磁気共鳴の略称である。また、以下の化学式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。

＜赤外線カットフィルタ＞
＜＜銅を含有する透明層＞＞
・銅を含有する透明層１（銅含有ガラス基材）：フツリン酸塩ガラス(旭テクノグラス社製、ＮＦ－５０、厚さ０．５ｍｍ)を用いた。

・銅を含有する透明層２：以下に示す銅錯体を４５質量部と、以下に示す樹脂を４９．９質量部と、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）を５質量部と、トリス(2,4-ペンタンジオナト)アルミニウム(III)（東京化成工業（株）製）を０．１質量部と、シクロヘキサノンを６６．７質量部と、水を０．５質量部、を混合して銅錯体含有組成物を調製した。得られた銅錯体含有組成物を、ガラスウェハ上に乾燥後の膜厚が１００μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、１５０℃のホットプレートを用いて３時間加熱処理を行って、銅を含有する透明層２を作製した。銅を含有する透明層２は、ガラスウエハと、銅錯体含有組成物からなる銅錯体含有層との積層体である。
銅錯体：下記構造

樹脂：下記構造

・銅を含有する透明層３：銅を含有する透明層２の銅錯体のうち、２２．５質量部を以下に示す化合物の置き換えた以外は同様にして銅を含有する透明層３を得た。

・銅を含有する透明層４：銅を含有する透明層３に下記赤外線吸収剤（下記化合物Ａ－５２）０．１４質量部を添加した以外は同様にして銅を含有する透明層４（銅と赤外線吸収剤とを有する層）を得た。

・銅を含有する透明層５：銅を含有する透明層１の片面に、高屈折率誘電膜であるＴｉＯ₂膜と、低屈折率誘電膜であるＳｉＯ₂膜を蒸着により、交互に２１層ずつ積層して誘電体多層膜（ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜との合計積層４２層、合計膜厚４３００．８２ｎｍ）を形成し、銅を含有する透明層５（誘電体多層膜付き銅含有ガラス基材）を得た。
　誘電体多層膜の各膜厚を下記表に示す。以下の表において、左蘭の数字は積層順番である。１番が銅含有ガラス基材側であり、４２番が最表面である。すなわち、銅含有ガラス基材上に、１番から順に各層を積層して誘電体多層膜を形成した。

＜＜赤外線吸収層＞＞
＜＜赤外線吸収組成物の調製＞＞
（赤外線吸収組成物１）
　以下に示す樹脂Ａを８．０４質量部と、以下に示す化合物ＳＱ－２３を０．１質量部と、重合性化合物としてＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）社製）を０．０７質量部と、メガファックＲＳ－７２Ｋ（ＤＩＣ（株）社製）を０．２６５質量部と、光重合開始剤として下記化合物を０．３８質量部と、溶剤としてＰＧＭＥＡを８２．５１質量部とを混合し、撹拌した後、孔径０．５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）社製）でろ過して、赤外線吸収組成物を調製した。

樹脂Ａ：下記化合物（Ｍｗ：４１０００）

化合物ＳＱ－２３：下記構造

光重合開始剤：下記構造

　メガファックＲＳ－７２Ｋには、フッ素原子を有するアルキレン基、及び、アクリロイルオキシ基が含まれていた。

（赤外線吸収組成物２）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物Ａ－５２を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２を調製した。

（赤外線吸収組成物３）
　イオン交換水６９．５質量部に下記化合物Ｃ－１５を０．５質量部溶解させ、更にゼラチンの１０質量％水溶液３０．０質量部を加え、更に硬膜剤として１，３－ジビニルスルホニル－２－プロパノールを０．３質量部加え攪拌することで、赤外線吸収組成物３を調製した。

（赤外線吸収組成物４）
　化合物Ｃ－１５のかわりに、下記化合物３１用いた以外は、赤外線吸収組成物３と同様にして、赤外線吸収組成物４を調製した。

＜赤外線カットフィルタの作製＞
　上記で調製した各赤外線吸収組成物を、銅を含有する透明層の表面に、スピンコーター（ミカサ（株）社製）を用いて塗布し、塗膜を形成し、１００℃，１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で全面露光を行った。次いで、２２０℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚０．８μｍの赤外線吸収層を形成し、赤外線カットフィルタを得た。

＜Ｂ／Ａ比＞
　赤外線カットフィルタを、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、３－メトキシプロピオン酸メチル（ＭＭＰ）、乳酸エチル（ＥＬ）、アセトンおよびエタノールのそれぞれに２５℃で２分間浸漬し、各有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、各有機溶剤に２５℃で２分間浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率を測定し、下記基準に従って評価した。
　５：Ｂ／Ａ≧０．９５
　４：０．９５＞Ｂ／Ａ≧０．９０
　３：０．９０＞Ｂ／Ａ≧０．８０
　２：０．８０＞Ｂ／Ａ≧０．７０
　１：０．７０＞Ｂ／Ａ

＜耐光性＞
　赤外線カットフィルタに対し、キセノンランプを５万ルクスで２０時間照射した後、耐光テスト前後の色差のΔＥａｂ値を測定した。ΔＥａｂ値の小さい方が耐光性が良好であることを示す。
　なお、ΔＥａｂ値は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥａｂ＝｛（ΔＬ＊）²＋（Δａ＊）²＋（Δｂ＊）²｝^1/2
　＜＜判定基準＞＞
　５：ΔＥａｂ値＜３
　４：３≦ΔＥａｂ値＜５
　３：５≦ΔＥａｂ値＜１０
　２：１０≦ΔＥａｂ値＜２０
　１：２０≦ΔＥａｂ値

＜耐熱性＞
　赤外線カットフィルタを、ホットプレートにより２６０℃で３０分加熱した後、色度計ＭＣＰＤ－１０００（大塚電子製）にて、耐熱テスト前後の色差のΔＥａｂ値を測定して、下記基準に従って評価した。ΔＥａｂ値の小さい方が耐熱性が良好であることを示す。
　＜＜判定基準＞＞
　５：ΔＥａｂ値＜３
　４：３≦ΔＥａｂ値＜５
　３：５≦ΔＥａｂ値＜１０
　２：１０≦ΔＥａｂ値＜２０
　１：２０≦ΔＥａｂ値

＜赤外線遮蔽性＞
　赤外線カットフィルタ面に対し垂直から測定した７００～１０００ｎｍの平均透過率を以下の基準に従って評価した。
　５：１％未満
　４：１％以上３％未満
　３：３％以上５％未満
　２：５％以上１０％未満
　１：１０％以上

＜視野角依存性＞
　入射角を赤外線カットフィルタ面に対し垂直（角度０度）及び４０度に変化させ、波長６００ｎｍ以上の可視から近赤外線領域における、分光透過率の低下によるスロープの透過率が５０％となる波長のシフト量を、下記基準に従って評価した。
　５：５ｎｍ未満
　４：５ｎｍ以上１０ｎｍ未満
　３：１０ｎｍ以上２０ｎｍ未満
　２：２０ｎｍ以上３０ｎｍ未満
　１：３０ｎｍ以上

　上記結果より、実施例１～１４は、赤外線遮蔽性および視野角依存性に優れていた。また、Ｂ／Ａが０．９以上であった。この赤外線カットフィルタは、各有機溶剤に浸漬後も欠陥がなかった。

　赤外線吸収組成物１において、「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ」を、同量のエチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬株式会社製）、または、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬株式会社製）に変更しても同様の効果が得られる。

　赤外線吸収組成物１において、樹脂Ａを、同量の下記樹脂に変更しても同様の効果が得られる。

　赤外線吸収組成物１において、本明細書の段落番号０１６７に記載の界面活性剤を、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０００１～５質量％の範囲でさらに添加しても、同様の効果が得られる。

　赤外線吸収組成物１において、ＰＧＭＥＡを、本明細書の段落番号０１６５に記載の溶剤に置き換えても同様の効果が得られる。

１：銅を含有する透明層
２：赤外線吸収層

Claims

　銅を含有する透明層を有し、
　前記銅を含有する透明層が更に赤外線吸収剤を含有するか、あるいは、赤外線吸収剤を含有する層を更に有する、赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線カットフィルタは、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有し、
　前記赤外線カットフィルタを、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、
　前記赤外線カットフィルタを、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上である、請求項１に記載の赤外線カットフィルタ。
　赤外線吸収剤を含有する層は、樹脂を含む、請求項１または２に記載の赤外線カットフィルタ。
　赤外線吸収剤を含有する層は、三次元架橋物を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記三次元架橋物は、２個以上の重合性基を有する重合性化合物を硬化してなるものである、請求項４に記載の赤外線カットフィルタ。
　赤外線吸収剤を含有する層は、ゼラチンを含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物である、請求項１～６のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、有機色素を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、および、ナフタロシアニン化合物から選択される少なくとも１種を含有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、下記一般式１～３で表される化合物から選択される少なくとも１種である、請求項１～９のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ；
一般式１

　一般式１中、環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表し、
　Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
　Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、
　ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
　Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い；
一般式２

　一般式２中、Ｒ^1aおよびＲ^1bは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ²～Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ⁶およびＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ^AＲ^B、または金属原子を表し、Ｒ^AおよびＲ^Bは、各々独立に、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ⁶は、Ｒ^1aまたはＲ³と、共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ⁷は、Ｒ^1bまたはＲ⁵と、共有結合もしくは配位結合していてもよい；
一般式３

　一般式３中、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
　前記赤外線吸収剤は、２５℃の水に１質量％以上溶解する化合物である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層とを有し、
　前記銅を含有する透明層の両面に、前記赤外線吸収剤を含有する層を有する、請求項１～１１のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　更に、誘電体多層膜を有する、請求項１～１２のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層と、誘電体多層膜とを有し、
　前記銅を含有する透明層と前記誘電体多層膜との間に、前記赤外線吸収剤を含有する層を有し、前記赤外線吸収剤を含有する層と前記誘電体多層膜とが接している、請求項１３に記載の赤外線カットフィルタ。
　銅を含有する透明層と、赤外線吸収剤を含有する層とを有する赤外線カットフィルタを製造するためのキットであって、
　銅を含有する透明部材と、
　赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収組成物と、を有するキット。
　請求項１～１４のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタを有する、固体撮像素子。