JP2019174798A - 近赤外線吸収フィルム及び光学フィルタ並びに電子装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】厚さが薄く光学的歪みを効果的に減らしたり防止したりすることができる近赤外線吸収フィルムを提供する。【解決手段】近赤外線吸収フィルムは、高分子フィルムと、高分子フィルム上に配置され、近赤外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収する第１近赤外線吸光層と、前記第１近赤外線吸光層の一面に配置される第２近赤外線吸光層とを有し、赤外線吸光層は、化学式１で表される染料を含み、前記第２近赤外線吸光層は、銅錯化合物を含む。【選択図】なし

Description

本発明は、近赤外線吸収フィルム、これを含む光学フィルタ及びこの光学フィルタを含む電子装置に関し、特に、厚さが薄く光学的歪みを効果的に減らしたり防止したりすることができる近赤外線吸収フィルム、これを含む光学フィルタ及びその光学フィルタを含む電子装置に関する。
近来、画像（映像）を電気的信号として貯蔵する撮像素子を含むデジタルカメラ、カムコーダ、及びカメラが内蔵された携帯電話のような電子装置が幅広く使用されている。
このような電子装置は、可視光線領域以外の光によって光学的歪みが発生することを減らしたり防止したりするために近赤外線吸収フィルムを含む光学フィルタを含むことができる。
近赤外線吸収フィルムは、カメラモジュールのイメージセンサの前部分に装着されて、外部から入ってくる近赤外線を効果的に吸収して光学的歪み現象を解消させる役割を果たす。
一方、近赤外線吸収フィルムは、組成物をコーティング及び乾燥させて製造するが、従来は、銅スルホン塩を含む組成物を使用した。
しかし、銅スルホン塩は、近赤外線吸収能力（ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）が非常に低いために過剰に使用しなければならないが、高濃度銅塩溶液の製造時、粘度の上昇によって薄膜への製造に不利であるという短所がある。
また、銅スルホン塩の代わりに有機染料を活用しようとする試みもあるが、有機染料は近赤外線吸収領域の範囲が相対的に狭いという短所がある。
本発明は、上記従来の近赤外線吸収フィルムにおける問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、厚さが薄く光学的歪みを効果的に減らしたり防止したりすることができる近赤外線吸収フィルムを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、近赤外線吸収フィルムを含む光学フィルタを提供すること、その光学フィルタを含む電子装置を提供することにある。
上記目的を達成するためになされた本発明による近赤外線吸収フィルムは、高分子フィルムと、前記高分子フィルム上に配置され、可視光線領域の光を透過して近赤外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収する第１近赤外線吸光層と、前記第１近赤外線吸光層の一面に配置される第２近赤外線吸光層とを、有し前記第１近赤外線吸光層は、下記に示す化学式１で表される染料を含み、前記第２近赤外線吸光層は、銅錯化合物を含むことを特徴とする。
Figure 2019174798
 上記化学式１において、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立的に水素原子、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基又は置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基であり、
Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立的に置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基である。
前記Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立的にＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基であることが好ましい。
前記化学式１で表される染料は、７１５ｎｍ〜７２５ｎｍの波長領域で最大吸収波長（λｍａｘ）を有することが好ましい。
前記銅錯化合物は、銅燐酸塩であることが好ましい。
前記銅燐酸塩は、下記に示す化学式２−１〜化学式２−３のいずれか一つで表されることが好ましい。
Figure 2019174798
Figure 2019174798
Figure 2019174798
 上記化学式２−１〜化学式２−３において、
Ｒａ〜Ｒｈは、それぞれ独立的に水素原子又は置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基である。
前記近赤外線吸収フィルムは、６３０ｎｍ〜６４０ｎｍの波長領域で５０％の平均光透過率を有することが好ましい。
前記第１近赤外線吸光層は、有機バインダーをさらに含むことが好ましい。
前記有機バインダーは、熱硬化性バインダー、光硬化性バインダー、又はこれらの組み合わせを含むことが好ましい。
前記第１近赤外線吸光層は、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ）系染料、フタロシアニン（ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）系染料、ジチオレン金属錯体（ｄｉｔｈｉｏｌｅｎｅ ｍｅｔａｌ ｃｏｍｐｌｅｘ）染料、ジインモニウム（ｄｉｉｍｍｏｎｉｕｍ）系染料、又はこれらの組み合わせをさらに含むことが好ましい。
前記高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリ（メタ）アクリレート、ポリイミド、又はこれらの組み合わせを含むことが好ましい。
前記高分子フィルムは、紫外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収することが好ましい。
前記第１近赤外線吸収層は、前記高分子フィルムと前記第２近赤外線吸収層との間に配置されることが好ましい。
前記第２近赤外線吸収層は、前記高分子フィルムと前記第１近赤外線吸収層との間に配置されることが好ましい。
前記近赤外線吸収フィルムは、７００〜７４０ｎｍの波長領域で２．５％以下の平均光透過率を有することが好ましい。
上記目的を達成するためになされた本発明による光学フィルタは、本発明の近赤外線吸収フィルムと前記近赤外線吸収フィルムの一面または両面に配置される赤外線遮断層と、を有することを特徴とする。
前記赤外線遮断層は、屈折率が異なる物質からなる第１層と第２層とを含み、前記第１層及び前記第２層は、交互に繰り返し積層されることが好ましい。
前記赤外線遮断層は、７００ｎｍ〜１２００ｎｍの波長領域の光を遮断することが好ましい。
前記近赤外線吸収フィルムは、５０μｍ〜２５０μｍの厚さを有することが好ましい。
上記目的を達成するためになされた本発明による電子装置は、本発明の光学フィルタを含むことを特徴とする。
前記電子装置はレンズ、イメージセンサ、及び前記レンズと前記イメージセンサの間に配置される前記光学フィルタを含むことが好ましい。
本発明に係る近赤外線吸収フィルム及び光学フィルタ並びに電子装置によれば、多層構造を有し、近赤外線吸光層を構成する二つの層がそれぞれ化学式１で表される化合物及び銅錯化合物を含むことによって、近赤外線吸収領域の範囲が狭い従来の有機染料の問題点を解決することにより、厚さが薄く、かつ近赤外線領域の光を効果的に遮断できる近赤外線吸収フィルムを通して光学的歪みを効果的に減らしたり防止したりすることができる。
本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムを概略的に示す断面図である。 本発明の他の実施形態による近赤外線吸収フィルムを概略的に示す断面図である。 本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムの横断面図である。 本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムの横断面図である。 本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムの横断面図である。 本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムの横断面図である。 本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムを含むカメラモジュールの構成を概略的に示す分解斜視図である。 イメージセンサの一例である有機ＣＭＯＳイメージセンサを示す平面図である。 図８の有機ＣＭＯＳイメージセンサの一例の概略構成を断面図である。 それぞれ独立的に実施例及び比較例による近赤外線吸収フィルム含有光学フィルタの波長に応じた光透過度を示すグラフである。 それぞれ独立的に実施例及び比較例による近赤外線吸収フィルム含有光学フィルタの波長に応じた光透過度を示すグラフである。 それぞれ独立的に実施例及び比較例による近赤外線吸収フィルム含有光学フィルタの波長に応じた光透過度を示すグラフである。 それぞれ独立的に実施例及び比較例による近赤外線吸収フィルム含有光学フィルタの波長に応じた光透過度を示すグラフである。
次に、本発明に係る近赤外線吸収フィルム及び光学フィルタ並びに電子装置を実施するための形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
本明細書で特別な言及がない限り、‘アルキル基’とは、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基を意味し、‘アリール基’とは、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基を意味する。
本明細書で特別な言及がない限り、‘置換’とは、少なくとも一つの水素原子がハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシ基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミン基、イミノ基、アジド基、アミジノ基、ヒドラジノ基、ヒドラゾノ基、カルボニル基、カルバモイル基、チオール基、エステル基、エーテル基、カルボキシル基又はその塩、スルホン酸基又はその塩、燐酸やその塩、Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０アルキニル基、Ｃ６〜Ｃ２０アリール基、Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルキル基、Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルケニル基、Ｃ３〜Ｃ２０シクロアルキニル基、Ｃ２〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキル基、Ｃ２〜Ｃ２０ヘテロシクロアルケニル基、Ｃ２〜Ｃ２０ヘテロシクロアルキニル基、Ｃ３〜Ｃ２０ヘテロアリール基又はこれらの組み合わせの置換基で置換されたものを意味する。
本明細書の化学式において別途定義されない限り、化学結合を描く位置に化学結合が描かれていない場合、前記位置に水素原子が結合していることを意味する。
本明細書で平均光透過率は、光学フィルタの垂直方向（正面方向）から入射光照射時に測定された光透過率の平均値であり得る。
以下、本発明の実施形態について本技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。
しかし、権利範囲は様々な相異な形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限定されない。
図面において、様々な層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。
明細書全体にわたって類似した部分には、同一な図面符号を付けた。
層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」あるとするとき、これは、他の部分の「直上に」ある場合だけではなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。
反対に、ある部分が他の部分の「直上に」あるとするときには、中間に他の部分がないことを意味する。
以下、本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムについて説明する。
本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムは、高分子フィルムと、高分子フィルム上に配置され可視光線領域の光を透過して近赤外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収する第１近赤外線吸光層と、第１近赤外線吸光層の一面に配置される第２近赤外線吸光層とを含み、第１近赤外線吸光層は、下記に示す化学式１で表される染料を含み、第２近赤外線吸光層は、銅錯化合物を含む。
Figure 2019174798
 化学式１において、
Ｒ１、Ｒ２及びＲ５〜Ｒ１２はそれぞれ独立的に水素原子、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基又は置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基であり、
Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立的に置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基である。
例えば、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立的にＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基でありうる。
例えば、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立的に非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基であるか、又はＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換されたＣ６〜Ｃ２０アリール基でありうる。
Ｒ３及びＲ４が上記のような置換基を有する場合、７１５ｎｍ以上、例えば７１５ｎｍ〜７２５ｎｍの最大吸収波長を確保できるため、近赤外線領域で低い透過度を有する単一吸収材料として使用可能である。
有機染料は、その特性上、近赤外線吸収領域の範囲が相対的に狭くて単一有機染料だけで近赤外線全領域の光を吸収するのに限界がある（色を発現するが、近赤外線吸収領域の範囲が小さい有機染料の特性を利用して、単一の有機染料は抗がん診断などの医療用指標物質又は衣服の着色物質などに有用に使用されている）。
本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムは、単一層構造でない多層構造（高分子フィルム、第１近赤外線吸光層及び第２近赤外線吸光層からなる３層構造）を有し、近赤外線吸光層を構成する二つの層がそれぞれ化学式１で表される化合物（染料）及び銅錯化合物を含むことによって、近赤外線吸収領域の範囲が狭い従来の有機染料の問題点を解決すると同時に、近赤外線領域、例えば７００ｎｍ〜７７０ｎｍ領域、例えば７００ｎｍ〜７４０ｎｍ領域での光透過率を３％以下、例えば２．５％以下に下げることができ、光学フィルタに用いるのに非常に適合する。
また、化学式１で表される染料を第１近赤外線吸光層に含めて、銅錯化合物を第２近赤外線吸光層に含むことによって、可視光線領域、例えば４３０ｎｍ〜５６５ｎｍ領域での光透過率を８０％以上に維持すると同時に、７１５ｎｍ〜７２５ｎｍで最大吸収波長を有するようにすることができ、本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムを含む光学フィルタは、カメライメージセンサの赤外線領域認識による光学的歪み問題及びフレア現象（カメラレンズの内部に入ってきた光が反射と分散を起こしてイメージセンサに結ばれる現象）を改善させることができる。
さらには、本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムは、光透過率が５０％である波長領域が６３０ｎｍ〜６４０ｎｍであるため、本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムを含むカメラモジュールなどの商用化への最適化した条件を持っている。
第１近赤外線吸光層は、バインダー、例えば、有機バインダー、無機バインダー、有機−無機バインダー又はこれらの組み合わせを含むことができる。
バインダーは、化学式１で表される染料と混合したり、化学式１で表される染料を分散させることができ、化学式１で表される染料を後述する高分子フィルムによく付着できる物質であれば特に限定されない。
例えば、第１近赤外線吸光層は、有機バインダーをさらに含むことができる。
有機バインダーは、アクリルバインダーであってもよい。
例えば、アクリルバインダーは、硬化性バインダーであってもよく、例えば熱硬化性バインダー、光硬化性バインダー又はこれらの組み合わせを含んでもよい。
バインダーは、例えばメチルセルロース（ｍｅｔｈｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）、エチルセルロース（ｅｔｈｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ ｍｅｔｈｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ、ＨＰＭＣ）、ヒドロキシプロピルセルロース（ｈｙｄｒｏｘｙｌｐｒｏｐｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ、ＨＰＣ）、キサンタンガム（ｘａｎｔｈａｎ ｇｕｍ）、ポリビニルアルコール（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ、ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ、ＰＶＰ）、カルボキシメチルセルロース（ｃａｒｂｏｘｙ ｍｅｔｈｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）、ヒドロキシエチルセルロース（ｈｙｄｒｏｘｙｌ ｅｔｈｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ）、又はこれらの組み合わせであることができるが、これに限定されるものではない。
化学式１で表される染料は、バインダー１００重量部に対して１０重量部以下で含まれることが好ましい。
化学式１で表される染料が必要以上含まれる場合、光透過率が５０％の波長が６３０ｎｍ未満で現れて好ましくない。
光透過率が５０％の波長が６３０ｎｍより低い波長の場合、赤色光に対する透過量が小さくなり、全体可視光線領域の透過に対する調節を必要とすることになる。
例えば、化学式１で表される染料は、バインダー１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部で含まれ得る。
化学式１で表される染料が、バインダー１００重量部に対して０．１重量部未満で含まれる場合、近赤外線領域、例えば７００ｎｍ〜７４０ｎｍ領域での光透過率が９％以上、例えば４％を超えることになり、好ましくない。
一方、図６に示すように化学式１で表される染料は、近赤外線領域（７００ｎｍ〜７４０ｎｍ領域）での平均吸光度が可視光線領域（４３０ｎｍ〜５６５ｎｍ領域）での平均吸光度の２３倍以上、例えば３０倍以上であるため、可視光線領域での光透過率を８５％以上、例えば８８％以上透過するようにしながら、近赤外線領域での光透過率を９％以下、例えば４％以下に低くすることができる。
近赤外線領域での平均吸光度が可視光線領域での平均吸光度の２３倍未満の場合、可視光線領域で光透過率の低下を起こして、上記のような性質を有することができないため、近赤外線吸収フィルムとして使用するのに好ましくない。
第１近赤外線吸光層は、化学式１と異なる構造を有する染料をさらに含むことができる。
この場合、７４０ｎｍ〜１２００ｎｍの波長領域での光透過率がより優れることになる。
化学式１と異なる構造を有する染料は、例えば、ポリメチン（ｐｏｌｙｍｅｔｈｉｎｅ）化合物（染料）、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ）化合物（染料）、フタロシアニン（ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）化合物（染料）、メロシアニン（ｍｅｒｏｃｙａｎｉｎｅ）化合物（染料）、ナフタロシアニン（ｎａｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）化合物（染料）、インモニウム（ｉｍｍｏｎｉｕｍ）化合物（染料）、ジインモニウム（ｄｉｉｍｍｏｎｉｕｍ）化合物（染料）、トリアリールメタン（ｔｒｉａｒｙｌｍｅｔｈａｎｅ）化合物（染料）、ジピロメテン（ｄｉｐｙｒｒｏｍｅｔｈｅｎｅ）化合物（染料）、アントラキノン（ａｎｔｈｒａｑｕｉｎｏｎｅ）化合物（染料）、ナフトキノン（ｎａｐｈｔｈｏｑｕｉｎｏｎｅ）化合物（染料）、ジキノン（ｄｉｑｕｉｎｏｎｅ）化合物（染料）、リレン（ｒｙｌｅｎｅ）化合物（染料）、パリレン（ｐａｒｙｌｅｎｅ）化合物（染料）、スクアレイン（ｓｑｕａｒａｉｎｅ）化合物（染料）、ピリリウム（ｐｙｒｙｌｉｕｍ）化合物（染料）、チオピリリウム（ｔｈｉｏｐｙｒｙｌｉｕｍ）化合物（染料）、ジケトピロロピロール（ｄｉｋｅｔｏｐｙｒｒｏｌｏｐｙｒｒｏｌｅ）化合物（染料）、ジチオレン金属錯体（ｄｉｔｈｉｏｌｅｎｅ ｍｅｔａｌ ｃｏｍｐｌｅｘ）化合物（染料）、これらの誘導体、又はこれらの組み合わせを含むことができるが、これに限定されるものではない。
例えば、化学式１と異なる構造を有する染料は、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ）系染料、フタロシアニン（ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）系染料、ジチオレン金属錯体（ｄｉｔｈｉｏｌｅｎｅ ｍｅｔａｌ ｃｏｍｐｌｅｘ）染料、ジインモニウム（ｄｉｉｍｍｏｎｉｕｍ）系染料、又はこれらの組み合わせでありうる。
化学式１で表される染料の平均光透過率が５０％である波長領域は、６３０ｎｍ〜６４０ｎｍでありうる。
化学式１で表される染料は、７００ｎｍ〜７４０ｎｍの波長領域（近赤外線領域）で９％以下、例えば４％以下の平均光透過率を有することができる。
化学式１で表される染料は、４３０ｎｍ〜５６５ｎｍの波長領域（可視光線領域）で８５％以上、例えば８８％以上の平均光透過率を有することができる。
第２近赤外線吸光層は、後述する（図１、２参照）高分子フィルム１１の上部又は第１近赤外線吸光層１２の上部／下部に配置され得る。
第２近赤外線吸光層１３は、銅錯化合物、例えば銅燐酸塩を含み得る。
第２近赤外線吸光層が銅燐酸塩を含むことで、近赤外線波長領域の光を追加的に吸収させることによって近赤外線波長領域の光による光学的歪みを効果的に減らしたり防止したりすることができる。
銅燐酸塩は、下記に示す化学式２−１〜化学式２−３のいずれか一つで表されるが、銅燐酸塩の構造は、必ずしもこれに限定されるものではない。
Figure 2019174798
Figure 2019174798
Figure 2019174798
 化学式２−１〜化学式２−３において、
Ｒａ〜Ｒｈは、それぞれ独立的に水素原子又は置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基である。
例えば、Ｒａ〜Ｒｈは、それぞれ独立的に水素原子、非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基又は（メト）アクリレート基で置換されたＣ１〜Ｃ２０アルキル基でありうる。
本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルム１０は、高分子フィルム１１と第１近赤外線吸光層１２を含むことによって、可視光線領域の光を効果的に透過させて近赤外線領域の光を効果的に遮断させることができる。
また、本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルム１０は、第２近赤外線吸光層１３をさらに含むことによって、近赤外線領域の光を追加的に吸収し電子装置に適用されて近赤外線領域の光によって可視光線領域の光学的信号が歪むことを減らしたり防止したりすることができる。
図１及び図２、並びに図３〜図６は、それぞれ独立的に本発明の実施形態による近赤外線吸収フィルムを概略的に示す断面図である。
図１及び図２を参照すると、本発明の実施形態による近赤外線吸収フィルム１０は、高分子フィルム１１、第１近赤外線吸光層１２、及び第２近赤外線吸光層１３を含む。
第１近赤外線吸光層１２は、高分子フィルム１１と第２近赤外線吸光層１３との間に配置することもでき、あるいは、第２近赤外線吸光層１３は高分子フィルム１１と第１近赤外線吸光層１２との間に配置することもできる。
高分子フィルム１１は、透明高分子フィルムであり得、例えば可視光線領域で約８０％以上の平均光透過率を有することができ、
好ましくは、上記範囲内で約８５％以上の平均光透過率を有することができる。
ここで可視光線領域は、例えば約３８０ｎｍ超過７００ｎｍ未満、例えば４３０ｎｍ〜５６５ｎｍの波長領域でありうる。
高分子フィルム１１は、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリ（メタ）アクリレート、ポリイミド、又はこれらの組み合わせを含むことができるが、これに限定されるものではない。
高分子フィルム１１は、紫外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収する。
ここで紫外線領域は、例えば約３８０ｎｍ以下の波長領域でありうる。
高分子フィルム１１は、少なくとも約３５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長領域の光の大部分を吸収することができ、そのために約３５０ｎｍ〜３８０ｎｍの波長領域で近赤外線吸収フィルム１０の平均光透過率は約１％以下であり得、前記範囲内で約０．８％以下であり得、前記範囲内で約０．５％以下であり得る。
高分子フィルム１１は、近赤外線吸収フィルム１０に必要な物性によって各種添加剤を含むことができる。
高分子フィルム１１は、約２５μｍ〜１０５μｍの厚さを有することができる。
第１近赤外線吸光層１２及び第２近赤外線吸光層１３は、それぞれ独立的に可視光線領域の光を透過して近赤外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収する。
ここで可視光線領域は、例えば、約３８０ｎｍ超過７００ｎｍ未満、例えば４３０ｎｍ〜５６５ｎｍの波長領域であり得、近赤外線領域は、例えば約７８０ｎｍ〜１２００ｎｍ、例えば約７００ｎｍ〜１２００ｎｍの波長領域、例えば約７００ｎｍ〜７４０ｎｍの波長領域であり得る。
第１近赤外線吸光層１２は、前述した染料、前述したバインダー、及び溶媒を含む溶液で形成することができ、第２近赤外線吸光層１３は、前述した銅錯化合物、前述したバインダー、及び溶媒を含む溶液で形成することができる。
溶媒は、前述した染料、前述した銅錯化合物、及び前述したバインダーを、溶解及び／又は分散させることができれば特に限定されず、例えば、水、
メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、プロピレングリコール、プロピレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールなどのアルコール系溶媒、
ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒、
トルエン、ピリジン、キノリン、アニソール、メシチレン（ｍｅｓｉｔｙｌｅｎｅ）、キシレンなどの芳香族系炭化水素溶媒、
メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン（ＮＭＰ）、シクロヘキサンオン、アセトンなどのケトン系溶媒、
テトラヒドロフラン、イソプロピルエーテルなどのエーテル系溶媒、
エチルアセテート、ブチルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどのアセテート系溶媒、
ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）などのアミド系溶媒、
アセトニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル系溶媒、
及び上記溶媒の混合物から選択される１種以上を用いることができるが、これに限定されるものではない。
溶液は、高分子フィルム１１又は他の近赤外線吸光層上にコーティング及び乾燥させ、選択的に熱及び／又は光によって硬化させる。
コーティングは、例えばスピンコーティング（ｓｐｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）、スリットコーティング（ｓｌｉｔ ｃｏａｔｉｎｇ）、バーコーティング（ｂａｒ ｃｏａｔｉｎｇ）、ブレードコーティング（ｂｌａｄｅ ｃｏａｔｉｎｇ）、スロットダイコーティング（ｓｌｏｔ ｄｉｅ ｃｏａｔｉｎｇ）及び／又はインクジェットコーティング（ｉｎｋｊｅｔ ｃｏａｔｉｎｇ）でありうる。
乾燥は、例えば、自然乾燥、熱風乾燥、又は上述した溶媒の沸点以上の温度で熱処理して行うことができる。
第１近赤外線吸光層１２及び第２近赤外線吸光層１３は、それぞれ独立的に例えば約１μｍ〜２００μｍの厚さを有し得る。
近赤外線吸収フィルム１０は、前述のように高分子フィルム１１、第１近赤外線吸光層１２及び第２近赤外線吸光層１３が順次積層された構造（第１近赤外線吸光層及び第２近赤外線吸光層は積層順序が互いに異なってもよい）を有することによって、可視光線領域の光を効果的に透過させて近赤外線領域の光を効果的に遮断することができる。
また、高分子フィルム１１に紫外線領域の光を吸収する機能を付与することによって、紫外線領域の光も効果的に遮断することができる。
したがって、近赤外線吸収フィルム１０は、すべての波長領域の光のうち可視光線領域の光の透過率の純度を高めることによって、例えばイメージセンサのように光をセンシングするセンサで可視光線領域の光を効果的にセンシングすることができ、そのため、可視光線領域以外の光によって光学的歪みが発生することを減らしたり防止したりすることができる。
近赤外線吸収フィルム１０は、前述した高分子フィルム１１、第１近赤外線吸光層１２及び第２近赤外線吸光層１３の組み合わせによって可視光線領域の光を効果的に透過し、近赤外線領域の光を選択的に遮断することができる。
一例として、近赤外線吸収フィルム１０は、例えば約３８０ｎｍ超過７００ｎｍ未満の可視光線領域で約７０％以上の平均光透過率を有し、前記範囲内で約４３０ｎｍ〜５６５ｎｍの波長領域で約８５％以上の平均光透過率を有し得る。
また、他の一例として、近赤外線吸収フィルム１０は、例えば約７４０ｎｍ〜１０００ｎｍの波長領域の近赤外線領域で約２０％以下の平均光透過率を有し、約７００ｎｍ〜７４０ｎｍの波長領域の近赤外線領域で約３％以下の平均光透過率を有し得る。
また、さらに他の一例として、近赤外線吸収フィルム１０は、約７００ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域で最大吸収波長（λｍａｘ）を有し、前記範囲内で約７００ｎｍ〜７６０ｎｍの波長領域で最大吸収波長（λｍａｘ）を有し得、前記範囲内で約７１５ｎｍ〜７２５ｎｍの波長領域で最大吸収波長（λｍａｘ）を有し得る。
近赤外線吸収フィルム１０は、例えば約５０μｍ〜２５０μｍの厚さを有し得る。
上記範囲の厚さを有することによって、薄型光学フィルタを実現することができる。
例えば、薄型光学フィルタは、近赤外線吸収フィルム１０を含むことができる。
このように近赤外線吸収フィルム１０は、すべての波長領域の光の内、可視光線領域と赤外線領域の境界に該当する近赤外線波長領域の光を選択的に吸収して遮断することによって、可視光線領域の光による信号と非可視光線領域の光による信号が交差したり混入したりすることを減らしたり防止したりして、クロストーク（ｃｒｏｓｓｔａｌｋ）のような光学的歪みを減らしたり防止したりすることができる。
また、近赤外線吸収フィルム１０は、入射方向に関係なく近赤外線領域の光を効果的に吸収できるため、側面方向から入射する近赤外線領域の光を効果的に吸収して遮断することによって、側面から入射する近赤外線領域の光によって可視光線領域の光による信号が歪むことを減らしたり防止したりすることができる。
近赤外線吸収フィルム１０は、近赤外線領域の光をフィルタするためのすべての用途に適用され、例えばカメラモジュール及びこれを含む電子装置に有用に適用される。
電子装置は、デジタルカメラ、カムコーダ、ＣＣＴＶのような監視用カメラ、自動車用カメラ、医療機器用カメラ、カメラが内装又は外装される携帯電話、カメラが内装又は外装されるコンピュータ、カメラが内装又は外装されるラップトップコンピュータなどであることができるが、これに限定されない。
例えば、本発明の他の実施形態（図３〜６）によれば、近赤外線吸収フィルムとその一面または両面に位置する赤外線遮断層１４とを含む光学フィルタを提供し、また、本発明の他の実施形態によれば、光学フィルタを含む電子装置を提供する。
赤外線遮断層１４は、近赤外線波長領域の光を効果的に反射させることによって、近赤外線波長領域の光による光学的歪みを効果的に減らしたり防止したりすることができる。
赤外線遮断層１４は、近赤外線波長領域の光を反射できれば、特に限定されず、例えば高屈折率反射膜、高屈折率ナノ粒子を含む反射膜又は屈折率が異なる複数の層を含む多層膜であることができるが、これに限定されない。
一例として、赤外線遮断層１４は、屈折率が異なる物質からなる第１層と第２層とを含み、第１層と第２層が交互に繰り返し積層されている多層膜を含むことができる。
第１層及び第２層は、例えば、それぞれ酸化層、窒化層、酸窒化層、硫化層、又はこれらの組み合わせを含む誘電層であり得、例えば第１層は、約１．７未満の屈折率を有し、第２層は例えば約１．７以上の屈折率を有し得る。
上記範囲内で、例えば第１層は、約１．１以上１．７未満の屈折率を有し、第２層は、約１．７〜２．７の屈折率を有し得、上記範囲内で、例えば第１層は、１．２〜１．６の屈折率を有し、第２層は、約１．８〜２．５の屈折率を有し得る。
第１層及び第２層は、上記屈折率を有する物質であれば特に限定されず、例えば第１層は、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、又はこれらの組み合わせを含むことができ、第２層は、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、又はこれらの組み合わせでありうる。
第１層及び第２層は、例えば５層〜８０層であってもよく、上記範囲内で、例えば５層〜５０層であってもよい。
第１層及び第２層の厚さは、各層の屈折率及び反射波長によって決定され、例えば第１層それぞれは、約１０ｎｍ〜７００ｎｍの厚さを有し得、第２層それぞれは、約３０ｎｍ〜６００ｎｍの厚さを有し得る。
第１層と第２層の厚さは、同一でもよく、異なってもよい。
赤外線遮断層１４の厚さは、例えば約１μｍ〜１０μｍであり得る。
図７は、本発明の一実施形態による近赤外線吸収フィルムを含むカメラモジュールの構成を概略的に示す分解斜視図である。
図７を参照すると、カメラモジュール２０は、レンズバレル２１と、ハウジング２２と、近赤外線吸収フィルム１０と、イメージセンサ２３とを含む。
例えば、カメラモジュールは、レンズ（レンズバレル）、イメージセンサ、及びレンズ（レンズバレル）とイメージセンサとの間に位置する光学フィルタを含む電子装置である。
レンズバレル２１は、被写体を撮像する一つ以上のレンズを含み、レンズは光軸方向に沿って配置されている。
ここで光軸方向は、レンズバレル２１の上下方向である。
レンズバレル２１は、ハウジング２２の内部に収容されており、ハウジング２２と結合されている。
レンズバレル２１は、ハウジング２２内でオートフォーカシングのために光軸方向に移動できる。
ハウジング２２は、レンズバレル２１を支持し収容するものであり、ハウジング２２は光軸方向に開放された形状でありうる。
したがって、ハウジング２２の一面から入射した光は、レンズバレル２１及び近赤外線吸収フィルム１０を通過してイメージセンサ２３に到達する。
ハウジング２２は、レンズバレル２１を光軸方向に移動させるためのアクチュエータを備えることができる。
アクチュエータは、マグネットとコイルを含むボイスコイルモータ（ＶＣＭ）を含み得る。
また、アクチュエータ以外に機械的駆動方式や圧電素子を用いた圧電駆動方式など多様な方式を採用することもできる。
近赤外線吸収フィルム１０は、前述の通りである。
イメージセンサ２３は、被写体のイメージを集光しデータとして貯蔵することができ、貯蔵されたデータは、ディスプレイ媒体を通じて映像（画像）で表示される。
イメージセンサ２３は、基板（図示せず）に実装されており、基板と電気的に接続されている。
基板は、例えば印刷回路基板（ＰＣＢ）であるか又は印刷回路基板に電気的に接続されており、印刷回路基板は、例えばフレキシブルプリント回路基板（ＦＰＣＢ）でありうる。
イメージセンサ２３は、レンズバレル２１及び近赤外線吸収フィルム１０を通過した光を集光して映像信号を生成する、相補性金属酸化物半導体（ｃｏｍｐｌｅｔｅｍｅｎｔａｒｙ ｍｅｔａｌ−ｏｘｉｄｅ ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ：ＣＭＯＳ）イメージセンサ及び／又は電荷結合素子（ｃｈａｒｇｅ ｃｏｕｐｌｅｄ ｄｅｖｉｃｅ：ＣＣＤ）イメージセンサでありうる。
図８は、イメージセンサの一例である有機ＣＭＯＳイメージセンサを示す平面図であり、図９は、図８の有機ＣＭＯＳイメージセンサの一例の概略構成を示す断面図である。
図８及び図９を参照すると、一例による有機ＣＭＯＳイメージセンサ２３Ａは、光感知素子（５０ａ、５０ｂ）、伝送トランジスタ（図示せず）、及び電荷貯蔵所５５が集積されている半導体基板１１０、下部絶縁層６０、色フィルタ層７０、上部絶縁層８０、及び有機光電素子２００とを含む。
半導体基板１１０は、シリコン基板であり、光感知素子（５０ａ、５０ｂ）、伝送トランジスタ（図示せず）、及び電荷貯蔵所５５が集積される。
光感知素子（５０ａ、５０ｂ）は、光ダイオード（ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ）である。
光感知素子（５０ａ、５０ｂ）、伝送トランジスタ及び／又は電荷貯蔵所５５は、各画素ごとに集積され、一例として、図に示すように、光感知素子（５０ａ、５０ｂ）は、青色画素及び赤色画素にそれぞれ含まれ、電荷貯蔵所５５は緑色画素に含まれる。
光感知素子（５０ａ、５０ｂ）は、光をセンシングし、センシングされた情報は、伝送トランジスタにより伝達され、電荷貯蔵所５５は後述する有機光電素子１００と電気的に接続されており、電荷貯蔵所５５の情報は、伝送トランジスタにより伝送される。
半導体基板１１０の上には、さらに金属配線（図示せず）及びパッド（図示せず）が形成される。
金属配線及びパッドは、信号遅延を減らすために低い比抵抗を有する金属、例えばアルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）及びこれらの合金で作られるが、これに限定されない。
しかし、上記構造に限定されず、金属配線及びパッドが光感知素子（５０ａ、５０ｂ）の下部に位置することもできる。
金属配線及びパッドの上には下部絶縁層６０が形成されている。
下部絶縁層６０は、酸化ケイ素及び／又は窒化ケイ素のような無機絶縁物質又はＳｉＣ、ＳｉＣＯＨ、ＳｉＣＯ及びＳｉＯＦのような低誘電率（ｌｏｗ Ｋ）物質で作られる。
下部絶縁層６０は、電荷貯蔵所５５を露出するトレンチを有する。
トレンチは充填材で満たされる。
下部絶縁層６０の上には、色フィルタ層７０が形成される。
色フィルタ層７０は、青色画素に形成される青色フィルタ７０ａと赤色画素に形成される赤色フィルタ７０ｂとを含む。
本実施形態では緑色フィルタを備えていない例を説明するが、場合によって緑色フィルタを備えることもできる。
色フィルタ層７０の上には上部絶縁層８０が形成される。
上部絶縁層８０は、色フィルタ層７０による段差を除去して平坦化する。
上部絶縁層８０及び下部絶縁層６０は、パッドを露出する接触口（図示せず）と緑色画素の電荷貯蔵所５５を露出する貫通口８５とを有する。
上部絶縁層８０の上には有機光電素子２００が形成される。
有機光電素子２００は、互いに向き合う下部電極２１０及び上部電極２２０、そして下部電極２１０と上部電極２２０との間に位置する吸光層２３０を含む。
下部電極２１０及び上部電極２２０はいずれも透明電極であり、吸光層２３０は、緑色波長領域の光を選択的に吸収し、緑色画素の色フィルタを代替する。
このように半導体基板１１０と緑色波長領域の光を選択的に吸収する有機光電素子２００とが積層された構造を有することによって、イメージセンサの大きさを減らして小型イメージセンサを具現することができる。
有機光電素子２００の上には集光レンズ（図示せず）が配置される。
集光レンズは、入射光の方向を制御して光を一つの地点に集める。
集光レンズは、例えばシリンダー状又は半球状であるが、これに限定されない。
図８及び図９では、半導体基板１１０の上に緑色波長領域の光を選択的に吸収する有機光電素子が積層された構造を例として説明したが、これに限定されず、半導体基板１１０の上に青色波長領域の光を選択的に吸収する有機光電素子が積層されて緑色光感知素子及び赤色光感知素子が半導体基板１１０内に集積された構造を有することができ、半導体基板１１０の上に赤色波長領域の光を選択的に吸収する有機光電素子が積層されて緑色光感知素子及び青色光感知素子が半導体基板１１０内に集積された構造を有することもできる。
上述したレンズバレル２１及び近赤外線吸収フィルム１０を通過した可視光線領域の光のうち、緑色波長領域の光は吸光層３０で主に吸収されて光電変換され、青色波長領域及び赤色波長領域の光は、下部電極２１０を通過して光感知素子（５０ａ、５０ｂ）によりセンシングされる。
上述のように、近赤外線吸収フィルム１０は、可視光線領域の光を効果的に透過させて近赤外線領域の光を効果的に吸収及び遮断することによって、イメージセンサに純粋な可視光線領域の光が伝送され、そのため、可視光線領域の光による信号と非可視光線領域の光による信号とが交差するか又は混入して発生するクロストークを減らしたり防止したりすることができる。
以下、実施例を通じて上述した本発明の実施形態をより詳細に説明する。
ただし、下記の実施例は、単に説明の目的のためのものに過ぎず、本発明の権利範囲を制限するものではない。
≪近赤外線吸収フィルム含有光学フィルタの製造≫
＜実施例１＞
染料１及びアクリルバインダー（ＨＴ１３３５、Ｓａｍｈｗａ社製）を溶媒（Ｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）に分散させて組成物１を製造する。
銅燐酸塩１及びエポキシバインダー（ＥＨＰＥ３１５０、ＤＡＩＣＥＬ社製）を溶媒（Ｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）に分散させて組成物２を製造する。
組成物２をトリアセチルセルロースフィルムの上にバーコーティングでコーティングし、８５℃で１分間乾燥後、８５℃で４分間熱硬化して第２近赤外線吸光層を形成し、次いで第２近赤外線吸光層上に組成物１を組成物２と同様の方法でコーティング、乾燥及び熱硬化を経て第１近赤外線吸光層を形成することによって、光学フィルタ（トリアセチルセルロースフィルム／第２近赤外線吸光層／第１近赤外線吸光層）を製造する。
＜実施例２＞
第１近赤外線吸光層及び第２近赤外線吸光層の積層順序を変更したことを除いては、実施例１と同様の方法で光学フィルタを製造する。
＜実施例３＞
染料１の代わりに染料２を使用したことを除いては、実施例１と同様の方法で光学フィルタを製造する。
＜実施例４＞
銅燐酸塩１の代わりに銅燐酸塩２を使用したことを除いては、実施例１と同様の方法で光学フィルタを製造する。
＜比較例１＞
染料１の代わりに染料３を使用したことを除いては、実施例１と同様の方法で光学フィルタを製造する。
＜比較例２＞
染料１の代わりに染料４を使用したことを除いては、実施例１と同様の方法で光学フィルタを製造する。
＜比較例３＞
第２近赤外線吸光層を積層しないことを除いては、実施例１と同様の方法で光学フィルタを製造する。
＜比較例４＞
第２近赤外線吸光層を積層しないことを除いては、実施例３と同様な方法で光学フィルタを製造する。
＜比較例５＞
第２近赤外線吸光層を積層しないことを除いては、比較例１と同様の方法で光学フィルタを製造する。
＜比較例６＞
第２近赤外線吸光層を積層しないことを除いては、比較例２と同様の方法で光学フィルタを製造する。
染料１〜染料４、銅燐酸塩１及び銅燐酸塩２の構造は、それぞれ下記に示すとおりである。
Figure 2019174798
 （λｍａｘ＝７１６ｎｍ）
Figure 2019174798
 （λｍａｘ＝７１６ｎｍ）
Figure 2019174798
 （λｍａｘ＝７０９ｎｍ）
Figure 2019174798
 （λｍａｘ＝７０８ｎｍ）
Figure 2019174798
Figure 2019174798
≪評価１≫
実施例と比較例による組成物の波長領域による吸光特性を評価する。
吸光特性は、ＵＶ−Ｖｉｓ ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（ＳｏｌｄｉＳｐｅｃ−３７００、Ｓｈｉｍａｄｚｕ社製）を用いて測定する。
その結果は、下記に示す表１及び図１０〜図１３のとおりである。
Figure 2019174798
表１及び図１０〜図１３を参照すると、実施例１〜実施例４による光学フィルタは、比較例１〜比較例２による光学フィルタと比較して可視光線領域での光透過率は８６％以上に高い反面、近赤外線領域での光透過率、例えば７００ｎｍ〜７４０ｎｍの平均透過率は３％以下、具体的には２．５％以下に低いことを確認できる。
特に、染料を含む近赤外線吸光層と銅錯化合物を含む近赤外線吸光層を積層する場合、光透過率が５０％である波長が６３０ｎｍ〜６４０ｎｍに現れることを確認できる。
尚、本発明は、上述の実施形態に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
１０ 近赤外線吸収フィルム
１１ 高分子フィルム
１２ 第１近赤外線吸光層
１３ 第２近赤外線吸光層
１４ 赤外線遮断層
２０ カメラモジュール
２１ レンズバレル
２２ ハウジング
２３ イメージセンサ
２３Ａ 有機ＣＭＯＳイメージセンサ
３０、２３０ 吸光層
５０ａ、５０ｂ 光感知素子
５５ 電荷貯蔵所
６０ 下部絶縁層
７０ 色フィルタ層
８０ 上部絶縁層
１００、２００ 有機光電素子
１１０ 半導体基板
２１０ 下部電極
２２０ 上部電極

Claims (20)

  1. 近赤外線吸収フィルムであって、
    高分子フィルムと、
    前記高分子フィルム上に配置され、可視光線領域の光を透過して近赤外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収する第１近赤外線吸光層と、
    前記第１近赤外線吸光層の一面に配置される第２近赤外線吸光層と、を有し、
    前記第１近赤外線吸光層は、下記に示す化学式１で表される染料を含み、
    前記第２近赤外線吸光層は、銅錯化合物を含むことを特徴とする近赤外線吸収フィルム。
    Figure 2019174798
     上記化学式１において、
    Ｒ１、Ｒ２及びＲ５〜Ｒ１２は、それぞれ独立的に水素原子、置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基又は置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基であり、
    Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立的に置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基である。
  2. 前記Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立的にＣ１〜Ｃ１０アルキル基で置換もしくは非置換のＣ６〜Ｃ２０アリール基であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  3. 前記化学式１で表される染料は、７１５ｎｍ〜７２５ｎｍの波長領域で最大吸収波長（λｍａｘ）を有することを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  4. 前記銅錯化合物は、銅燐酸塩であることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  5. 前記銅燐酸塩は、下記に示す化学式２−１〜化学式２−３のいずれか一つで表されることを特徴とする請求項４に記載の近赤外線吸収フィルム。
    Figure 2019174798
    Figure 2019174798
    Figure 2019174798
     上記化学式２−１〜化学式２−３において、
    Ｒａ〜Ｒｈは、それぞれ独立的に水素原子又は置換もしくは非置換のＣ１〜Ｃ２０アルキル基である。
  6. 前記近赤外線吸収フィルムは、６３０ｎｍ〜６４０ｎｍの波長領域で５０％の平均光透過率を有することを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  7. 前記第１近赤外線吸光層は、有機バインダーをさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  8. 前記有機バインダーは、熱硬化性バインダー、光硬化性バインダー、又はこれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項７に記載の近赤外線吸収フィルム。
  9. 前記第１近赤外線吸光層は、シアニン（ｃｙａｎｉｎｅ）系染料、フタロシアニン（ｐｈｔｈａｌｏｃｙａｎｉｎｅ）系染料、ジチオレン金属錯体（ｄｉｔｈｉｏｌｅｎｅ ｍｅｔａｌ ｃｏｍｐｌｅｘ）染料、ジインモニウム（ｄｉｉｍｍｏｎｉｕｍ）系染料、又はこれらの組み合わせをさらに含むことを特徴とする請求項８に記載の近赤外線吸収フィルム。
  10. 前記高分子フィルムは、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリ（メタ）アクリレート、ポリイミド、又はこれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  11. 前記高分子フィルムは、紫外線領域の光の少なくとも一部を選択的に吸収することを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  12. 前記第１近赤外線吸収層は、前記高分子フィルムと前記第２近赤外線吸収層との間に配置されることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  13. 前記第２近赤外線吸収層は、前記高分子フィルムと前記第１近赤外線吸収層との間に配置されることを特徴とする請求項１に記載の近赤外線吸収フィルム。
  14. 前記近赤外線吸収フィルムは、７００〜７４０ｎｍの波長領域で２．５％以下の平均光透過率を有することを特徴とする請求項１３に記載の近赤外線吸収フィルム。
  15. 請求項１乃至１４のいずれか一項に記載の近赤外線吸収フィルムと、
    前記近赤外線吸収フィルムの一面または両面に配置される赤外線遮断層と、を有することを特徴とする光学フィルタ。
  16. 前記赤外線遮断層は、屈折率が異なる物質からなる第１層と第２層とを含み、
    前記第１層と前記第２層は、交互に繰り返し積層されることを特徴とする請求項１５に記載の光学フィルタ。
  17. 前記赤外線遮断層は、７００ｎｍ〜１２００ｎｍの波長領域の光を遮断することを特徴とする請求項１５に記載の光学フィルタ。
  18. 前記近赤外線吸収フィルムは、５０μｍ〜２５０μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１５に記載の光学フィルタ。
  19. 電子装置であって、
    前記電子装置は、請求項１５に記載の光学フィルタを含むことを特徴とする電子装置。
  20. 前記電子装置は、レンズと、
    イメージセンサと、
    前記レンズと前記イメージセンサとの間に配置される前記光学フィルタと、を含むことを特徴とする請求項１９に記載の電子装置。
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