WO2016158819A1

WO2016158819A1 - 赤外線カットフィルタ、および固体撮像素子

Info

Publication number: WO2016158819A1
Application number: PCT/JP2016/059812
Authority: WO
Inventors: 啓佑有村; 嶋田　和人; 佐々木　大輔; 友樹平井; 季彦松村; 昴広大河原
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2015-03-31
Filing date: 2016-03-28
Publication date: 2016-10-06
Also published as: US20180017722A1; TW201706636A; JPWO2016158819A1

Abstract

視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れ、欠陥が抑制された赤外線カットフィルタ、および固体撮像素子を提供する。透明基材１と、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜２と、誘電体多層膜３とを有し、赤外線吸収膜２は、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有し、赤外線吸収膜２を、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、赤外線吸収膜２を、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上である、赤外線カットフィルタ。

Description

赤外線カットフィルタ、および固体撮像素子

　本発明は、赤外線カットフィルタ、および、赤外線カットフィルタを有する固体撮像素子に関する。

　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などにはカラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用しているために、視感度補正を行うことが必要であり、赤外線カットフィルタを用いることが多い。

　赤外線カットフィルタとして、ガラスなどの透明基材の表面に、赤外線反射膜を形成した赤外線カットフィルタがある。赤外線反射膜は、可視光の透過率が高いことが要求され、このような観点から、赤外線反射膜としては、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを複数層積層した誘電体多層膜が用いられる（特許文献１参照）。

　また、特許文献２には、ガラス基板の少なくとも片面に、赤外線吸収剤を含有する樹脂層を有する赤外線カットフィルタが開示されている。

特開２００５－３３８３９５号公報特開２０１２－１０３３４０号公報

　しかしながら、特許文献１の赤外線カットフィルタの場合、垂直入射光と斜め入射光に対して、それぞれ光学特性が異なる問題があり、視野角が狭くなり易かった。
　また、本発明者らが特許文献２に開示された赤外線カットフィルタについて検討したところ、この赤外線カットフィルタは、赤外線カットフィルタに欠陥が生じ易いことが分かった。

　よって、本発明の目的は、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れ、欠陥が抑制された赤外線カットフィルタ、および固体撮像素子を提供することにある。

　本発明者らは上記目的を達成するため、種々検討したところ、後述する構成とすることで上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞　透明基材と、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜と、誘電体多層膜とを有し、
　赤外線吸収膜は、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有し、
　赤外線吸収膜を、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、
　赤外線吸収膜を、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上である、赤外線カットフィルタ。
＜２＞　赤外線吸収膜は、樹脂を含む、＜１＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜３＞　赤外線吸収膜は、三次元架橋物を含む、＜１＞または＜２＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜４＞　三次元架橋物は、２個以上の重合性基を有する重合性化合物を硬化してなるものである、＜３＞に記載の赤外線カットフィルタ。
＜５＞　赤外線吸収剤は、波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ。
＜６＞　赤外線吸収剤は、有機色素を含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ。
＜７＞　赤外線吸収剤は、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、および、ナフタロシアニン化合物から選択される少なくとも１種を含有する、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ。
＜８＞　赤外線吸収剤は、下記一般式１～３で表される化合物から選択される少なくとも１種である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ；
一般式１

　一般式１中、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または下記一般式１－Ａで表される基を表す；
一般式１－Ａ

　一般式１－Ａ、Ｚ^1Aは、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ^2Aは、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、ｄは、０または１を表し、波線は連結手を表す；
一般式２

　一般式２中、Ｒ^1aおよびＲ^1bは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ²～Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ⁶およびＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ^AＲ^B、または金属原子を表し、Ｒ^AおよびＲ^Bは、各々独立に、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ⁶は、Ｒ^1aまたはＲ³と、共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ⁷は、Ｒ^1bまたはＲ⁵と、共有結合もしくは配位結合していてもよい；
一般式３

　一般式３中、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
＜９＞　赤外線吸収剤は、２５℃の水に１質量％以上溶解する化合物である、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１０＞　赤外線吸収膜は、ゼラチンを含む、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１１＞　透明基材の両面に、赤外線吸収膜を有する、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１２＞　透明基材と誘電体多層膜との間に、赤外線吸収膜を有し、赤外線吸収膜と誘電体多層膜とが接している、＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタ。
＜１３＞　＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の赤外線カットフィルタを有する、固体撮像素子。

　本発明は、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れ、欠陥が抑制された赤外線カットフィルタを提供可能になった。また、固体撮像素子を提供することが可能になった。

本発明の赤外線カットフィルタの一実施形態の概略図である。本発明の赤外線カットフィルタの他の実施形態の概略図である。

　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
　本明細書中において、“（メタ）アクリレート”はアクリレートおよびメタクリレートを表し、“（メタ）アクリル”はアクリルおよびメタクリルを表し、“（メタ）アクリロイル”はアクリロイルおよびメタクリロイルを表す。
　また、本明細書中において、モノマーは、オリゴマーおよびポリマーと区別され、重量平均分子量が２，０００以下の化合物をいう。
　本明細書中において、重合性化合物とは、重合性官能基を有する化合物のことをいい、単量体であっても、ポリマーであってもよい。重合性官能基とは、重合反応に関与する基をいう。
　本発明で用いられる化合物の重量平均分子量および数平均分子量の測定方法は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定でき、ＧＰＣの測定によるポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、赤外線とは、極大吸収波長領域が７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。本発明における固形分は、２５℃における固形分である。

＜赤外線カットフィルタ＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、透明基材と、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜と、誘電体多層膜とを有し、
　赤外線吸収膜は、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有し、
　赤外線吸収膜を、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、上記極大吸収波長における吸光度Ａと、
　赤外線吸収膜を、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上である。
　本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜と、誘電体多層膜とを有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタとすることができる。また、赤外線吸収膜の上記吸光度の比率Ｂ／Ａを０．９以上としたことにより、有機溶剤による洗浄などによる欠陥の発生を抑制することができる。
　なお、本発明において、吸光度Ａは、有機溶剤に浸漬前の赤外線吸収膜が有する極大吸収波長における吸光度である。

　本発明の赤外線カットフィルタは、波長４２０～５５０ｎｍの光に対する、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。また、波長７００ｎｍの光に対する、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した透過率が５％以下であることが好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下が更に好ましい。また、波長７００～１０００ｎｍの光に対する、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した透過率の平均が５％未満であることが好ましく、３％未満がより好ましく、１％未満が更に好ましい。

　また、本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線カットフィルタに対して垂直方向から測定した、可視から近赤外線領域における分光透過率の低下によるスロープの透過率が５０％となる波長が６００～７００ｎｍの範囲に有する事が好ましく、６１０～６６０ｎｍの範囲に有する事がより好ましく、６２０～６５０ｎｍの範囲に有するが更に好ましい。また、赤外線カットフィルタに対して垂直方向（角度０度）と角度４０度から測定した場合の透過率５０％の波長の差が３０ｎｍ未満である事が好ましく、１０ｎｍ未満がより好ましく、５ｎｍ未満が更に好ましい。
　以下、本発明の赤外線カットフィルタについて詳細に説明する。

＜＜透明基材＞＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、透明基材を有する。
　透明基材は、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、結晶、樹脂などが挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラスなどが挙げられる。結晶としては、例えば、水晶、ニオブ酸リチウム、サファイヤ等が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。
　本発明における透明基材は、銅を含有しないものが好ましい。

　透明基材の厚みは、０．０５～１．０ｍｍが好ましい。下限は、０．０５ｍｍ以上が好ましく、０．１ｍｍ以上が更に好ましい。上限は、０．３ｍｍ以下が好ましく、０．２ｍｍ以下が更に好ましい。
　透明基材は、波長４２０～５５０ｎｍの光に対する、透明基材に対して垂直方向から測定した透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。

＜＜赤外線吸収膜＞＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜を有する。赤外線吸収膜は、透明基材の片面のみに有していてもよく、両面に有してもよい。反り抑制などの観点から、透明基材の両面に、赤外線吸収膜を有することが好ましい。
　また、赤外線吸収膜は、透明基材と直接接していてもよく、赤外線吸収膜と透明基材との間に誘電体多層膜が介在していてもよい。すなわち、本発明の赤外線カットフィルタは、図１に示すように、赤外線吸収膜２は、透明基材１と誘電体多層膜３との間に形成されていてもよく（透明基材１、赤外線吸収膜２、誘電体多層膜３の順に積層）、図２に示すように、赤外線吸収膜２は、誘電体多層膜３の表面に形成されていてもよい（透明基材１、誘電体多層膜３、赤外線吸収膜２の順に積層）。

　本発明において、赤外線吸収膜は、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有することが好ましく、７００～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有することがより好ましい。
　赤外線吸収膜は、波長７００ｎｍの光に対する、赤外線吸収膜に対して垂直方向から測定した透過率が１０％以下であることが好ましく、５％以下がより好ましく、１％以下が更に好ましい。波長８００ｎｍの光に対する、赤外線吸収膜に対して垂直方向から測定した透過率が１０％以下であることが好ましく、５％以下がより好ましく、１％以下が更に好ましい。
　赤外線吸収膜は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、赤外線吸収膜を、有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上であることが好ましい。
　上記吸光度の比率Ｂ／Ａは、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる２種以上の有機溶剤に対する値であることが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールの各有機溶剤に対する値であることが特に好ましい。
　上記吸光度の比率Ｂ／Ａは、０．９～１．０がより好ましく、０．９５～１．０が更に好ましい。
　赤外線吸収剤の含有量は、赤外線吸収膜の質量に対して１～８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。

　赤外線吸収膜は、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収組成物を用いて形成できる。以下、赤外線吸収組成物について説明する。

＜＜＜赤外線吸収組成物＞＞＞
＜＜＜＜赤外線吸収剤＞＞＞＞
　赤外線吸収膜は、赤外線吸収剤を含有する。
　本発明において、赤外線吸収剤は、赤外領域（好ましくは、波長６５０～１３００ｎｍ）の波長領域に吸収を有する化合物を意味する。
　赤外線吸収剤は、波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。

　本発明において、赤外線吸収剤は、有機色素が好ましい。本発明において、有機色素とは、有機化合物からなる色素を意味する。
　また、赤外線吸収剤は、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物およびナフタロシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　また、本発明において、赤外線吸収剤は、２５℃の水に１質量％以上溶解する化合物であることが好ましく、２５℃の水に１０質量％以上溶解する化合物がより好ましい。このような化合物を用いることで、耐溶剤性が良化する。
　ピロロピロール化合物は、特開２０１０－２２２５５７号公報の段落番号００４９～００６２を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれることとする。シアニン化合物およびスクアリリウム化合物は、国際公開２０１４／０８８０６３号公報の段落番号００２２～００６３、国際公開２０１４／０３０６２８号公報の段落番号００５３～０１１８、特開２０１４－５９５５０号公報の段落番号００２８～００７４、国際公開２０１２／１６９４４７号公報の段落番号００１３～００９１、特開２０１５－１７６０４６号公報の段落番号００１９～００３３、特開２０１４－６３１４４号公報の段落番号００５３～００９９、特開２０１４－５２４３１号公報の段落番号００８５～０１５０、特開２０１４－４４３０１号公報の段落番号００７６～０１２４、特開２０１２－８５３２号公報の段落番号００４５～００７８、特開２０１５－１７２１０２号公報の段落番号００２７～００６７、特開２０１５－１７２００４号公報の段落番号００２９～００６７、特開２０１５－４０８９５号公報の段落番号００２９～００８５、特開２０１４－１２６６４２号公報の段落番号００２２～００３６、特開２０１４－１４８５６７号公報の段落番号００１１～００１７、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００１０～００２５、特開２０１４－０９５００７号公報の段落番号００１３～００２６、特開２０１４－８０４８７号公報の段落番号００１３～００４７、特開２０１３－２２７４０３号公報の段落番号０００７～００２８を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれることとする。

　本発明において、赤外線吸収剤は、下記一般式１～３で表される化合物から選択される少なくとも１種であることが好ましい。
一般式１

　一般式３中、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。

＜＜＜＜一般式１で表される化合物（スクアリリウム化合物）＞＞＞＞
　一般式１におけるＡ¹およびＡ²は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または一般式１－Ａで表される基を表す。
　Ａ¹およびＡ²が表すアリール基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２４がより好ましく、６～１２が特に好ましい。具体例としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　Ａ¹およびＡ²が表すヘテロアリール基としては、５員環または６員環が好ましい。また、ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がさらに好ましく、単環または縮合数が２または３の縮合環が特に好ましい。ヘテロ環基に含まれるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子が例示され、窒素原子、硫黄原子が好ましい。ヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。具体的には、窒素原子、酸素原子および硫黄原子の少なくとも一つを含有する５員環または６員環等の単環、多環芳香族環から誘導されるヘテロアリール基などが挙げられる。

　アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよい。アリール基およびヘテロアリール基が、置換基を２個以上有する場合、複数の置換基は同一であってもよく、異なっていてもよい。

　置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、－ＯＲ¹⁰、－ＣＯＲ¹¹、－ＣＯＯＲ¹²、－ＯＣＯＲ¹³、－ＮＲ¹⁴Ｒ¹⁵、－ＮＨＣＯＲ¹⁶、－ＣＯＮＲ¹⁷Ｒ¹⁸、－ＮＨＣＯＮＲ¹⁹Ｒ²⁰、－ＮＨＣＯＯＲ²¹、－ＳＲ²²、－ＳＯ₂Ｒ²³、－ＳＯ₂ＯＲ²⁴、－ＮＨＳＯ₂Ｒ²⁵または－ＳＯ₂ＮＲ²⁶Ｒ²⁷が挙げられる。Ｒ¹⁰～Ｒ²⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、またはアラルキル基を表す。なお、－ＣＯＯＲ¹²のＲ¹²が水素の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ₂ＯＲ²⁴のＲ²⁴が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。

　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。

　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５が更に好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がさらに好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。
　アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられる。

　次に、Ａ¹およびＡ²が表す一般式１－Ａで表される基について説明する。

　一般式１－Ａにおいて、Ｒ^2Aは、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、アルキル基が好ましい。
　アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１２が更に好ましく、２～８が特に好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１２が更に好ましい。
　アルキル基およびアルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アラルキル基の炭素数は７～３０が好ましく、７～２０がより好ましい。

　一般式１－Ａにおいて、Ｚ^1Aにより形成される含窒素複素環としては、５員環または６員環が好ましい。また、含窒素複素環は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましく、縮合数が２または３の縮合環がさらに好ましい。含窒素複素環は、窒素原子の他に、硫黄原子を含んでいてもよい。また、含窒素複素環は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基が挙げられる。例えば、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アミノ基、アシルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子およびアルキル基がより好ましい。ハロゲン原子は、塩素原子が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１２が更に好ましい。アルキル基は、直鎖または分岐が好ましい。

一般式１で表される化合物は、下記一般式１－１で表される化合物が好ましい。

　一般式１－１中、環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表し、
　Ｘ^AおよびＸ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
　Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表し、
　ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、
　ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表し、
　Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い；

　一般式１－１において、Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表す。
　置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、ヘテロアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、－ＮＲ^a1Ｒ^a2、－ＣＯＲ^a3、－ＣＯＯＲ^a4、－ＯＣＯＲ^a5、－ＮＨＣＯＲ^a6、－ＣＯＮＲ^a7Ｒ^a8、－ＮＨＣＯＮＲ^a9Ｒ^a10、－ＮＨＣＯＯＲ^a11、－ＳＯ₂Ｒ^a12、－ＳＯ₂ＯＲ^a13、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^a14または－ＳＯ₂ＮＲ^a15Ｒ^a16が挙げられる。Ｒ^a1～Ｒ^a16は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基を表す。

　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルコキシ基およびアルキルチオ基が有するアルキル基は、上述したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が更に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　アリーロキシ基およびアリールチオ基が有するアリール基は、上述したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５が更に好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がさらに好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。
　ヘテロアリーロキシ基およびヘテロアリールチオ基が有するヘテロアリール基は、上述したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。

　一般式１－１において、Ｇ^AおよびＧ^Bはそれぞれ独立に置換基を表す。置換基は、活性水素を有する基が好ましく、－ＯＨ、－ＳＨ、－ＣＯＯＨ、－ＳＯ₃Ｈ、－ＮＲ^G1Ｒ^G2、－ＮＨＣＯＲ^G1、－ＣＯＮＲ^G1Ｒ^G2、－ＮＨＣＯＮＲ^G1Ｒ^G2、－ＮＨＣＯＯＲ^G1、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^G1、－Ｂ（ＯＨ）₂および－ＰＯ（ＯＨ）₂がより好ましく、－ＯＨ、－ＳＨおよび－ＮＲ^G1Ｒ^G2がより好ましく、－ＮＲ^G1Ｒ^G2が更に好ましい。
　Ｒ^G1およびＲ^G1は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、または、ヘテロアリール基が挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、および、ヘテロアリール基の詳細については、Ｇ^AおよびＧ^Bで説明した範囲と同義である。

　一般式１－１において、環Ａおよび環Ｂは、それぞれ独立に、芳香族環を表す。
　芳香族環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。芳香族環は、芳香族炭化水素環であってもよく、芳香族複素環であってもよい。
　芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ペンタレン環、インデン環、アズレン環、ヘプタレン環、インデセン環、ペリレン環、ペンタセン環、アセナフテン環、フェナントレン環、アントラセン環、ナフタセン環、クリセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ビフェニル環、ピロール環、フラン環、チオフェン環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インドリジン環、インドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、イソベンゾフラン環、キノリジン環、キノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キノキサゾリン環、イソキノリン環、カルバゾール環、フェナントリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、チアントレン環、クロメン環、キサンテン環、フェノキサチイン環、フェノチアジン環、および、フェナジン環が挙げられ、ベンゼン環またはナフタレン環が好ましく、ナフタレン環がより好ましい。
　芳香族環は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、Ｇ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

　一般式１－１において、Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^Bは互いに結合して環を形成しても良く、Ｇ^AおよびＧ^Bがそれぞれ複数存在する場合は、互いに結合して環を形成していても良い。
　環としては、５員環または６員環が好ましい。環は単環であってもよく、複環であってもよい。
　Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^B、Ｇ^A同士またはＧ^B同士が結合して環を形成する場合、これらが直接結合して環を形成してもよく、アルキレン基、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、－ＢＲ－およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基を介して結合して環を形成してもよい。Ｘ^AとＧ^A、Ｘ^BとＧ^B、Ｇ^A同士またはＧ^B同士が、－ＢＲ－を介して結合して環を形成することが好ましい。
　Ｒは、水素原子または置換基を表す。

　一般式１－１において、ｋＡは０～ｎＡの整数を表し、ｋＢは０～ｎＢの整数を表し、ｎＡは、環Ａに置換可能な最大の整数を表し、ｎＢは、環Ｂに置換可能な最大の整数を表す。
　ｋＡおよびｋＢは、それぞれ独立に０～４が好ましく、０～２がより好ましく、０～１が特に好ましい。

　一般式１で表される化合物は、下記一般式１－２で表される化合物が好ましい。この化合物は、耐熱性に優れている。
一般式１－２

　式中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基または、下式（Ｗ）で表される基を表し、
　Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、または、アルキル基を表し、
　Ｘ¹およびＸ²は、それぞれ独立に、酸素原子、または、－Ｎ（Ｒ⁵）－を表し、
　Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｙ¹とＹ²、および、Ｙ³とＹ⁴は、互いに結合して環を形成していてもよく、
　Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ複数有する場合は、互いに結合して環を形成していてもよく、
　ｐおよびｓは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、
　ｑおよびｒは、それぞれ独立に０～２の整数を表す；
　－Ｓ¹－Ｌ¹－Ｔ¹　　　・・・（Ｗ）
　式（Ｗ）において、Ｓ¹は、単結合、アリーレン基またはヘテロアリーレン基を表し、
　Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＮＲ^L1ＣＯ－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－、または、これらを組み合わせてなる基を表し、Ｒ^L1は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^L2は、アルキレン基を表し、
　Ｔ¹は、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基、スルホ基、ホスホリル基、ボリル基、ビニル基、エチニル基、アリール基、ヘテロアリール基、トリアルキルシリル基またはトリアルコキシシリル基を表す。

　一般式１－２において、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基または、式（Ｗ）で表される基を表し、Ｒ¹およびＲ²の少なくとも一方は、式（Ｗ）で表される基を表すことが好ましい。
　一般式１－２において、Ｒ¹とＲ²は、同一であってもよく、異なる基であってもよい。Ｒ¹とＲ²が同じ基であることがより好ましい。

　Ｒ¹およびＲ²が表すアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましく、１３以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルキル基の分岐数は、例えば、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　Ｒ¹およびＲ²が表すアルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルケニル基の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　Ｒ¹およびＲ²が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒ¹およびＲ²が表すヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。

　（式（Ｗ）で表される基）
　次に、式（Ｗ）で表される基について説明する。
　式（Ｗ）において、Ｓ¹は、単結合、アリーレン基またはヘテロアリーレン基を表し、ホウ素原子との結合の安定性の観点から、アリーレン基またはヘテロアリーレン基が好ましく、アリーレン基がより好ましい。
　アリーレン基は、単環であっても多環であってもよい。単環が好ましい。アリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。単環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子、硫黄原子またはセレン原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。
　Ｓ¹が表す、アリーレン基およびヘテロアリーレン基の具体例としては、以下に示す構造が挙げられる。

　式中、波線部分は一般式１－２のホウ素原子との結合位置を表し、＊は、Ｌ¹との結合位置を表し、Ｒ’は置換基を表し、Ｒ^Nは、水素原子またはアルキル基を表し、ｍは０以上の整数を表す。
　Ｒ’が表す置換基としては、上述した一般式１－１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。
　Ｒ^Nが表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。
　ｍは０以上の整数を表す。ｍの上限は、各基の最大置換数である。ｍは、０が好ましい。

　式（Ｗ）において、Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＮＲ^L1ＣＯ－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基を表し、Ｒ^L1は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^L2は、アルキレン基を表す。
　式（Ｗ）において、Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基が好ましく、柔軟性および溶剤溶解性の観点から、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基がより好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－または－ＯＲ^L2－がさらに好ましく、アルキレン基、－Ｏ－、または－ＯＲ^L2－が特に好ましい。

　Ｌ¹が表すアルキレン基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましく、１３以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキレン基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐数は、例えば、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　Ｌ¹が表すアルケニレン基およびアルキニレン基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニレン基およびアルキニレン基は直鎖、分岐のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。

　Ｒ^L1は、水素原子またはアルキル基を表し、水素原子が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。

　Ｒ^L2は、アルキレン基を表す。Ｒ^L2が表すアルキレン基は、Ｌ¹で説明したアルキレン基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　式（Ｗ）において、Ｔ¹は、アルキル基、シアノ基、ヒドロキシル基、ホルミル基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基、スルホ基、ホスホリル基、ボリル基、ビニル基、エチニル基、アリール基、ヘテロアリール基、トリアルキルシリル基またはトリアルコキシシリル基を表す。
　アルキル基、トリアルキルシリル基が有するアルキル基およびトリアルコキシシリル基が有するアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましく、１３以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基およびヘテロアリール基は、Ｒ¹およびＲ²で説明したアリール基およびヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　式（Ｗ）において、Ｓ¹が単結合で、Ｌ¹がアルキレン基で、Ｔ¹がアルキル基の場合は、Ｌ¹とＴ¹に含まれる炭素数の総和は、１３以上であることが好ましく、溶剤溶解性の観点から２１以上がより好ましい。上限は、例えば４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。
　また、Ｓ¹がアリーレン基の場合は、Ｌ¹とＴ¹に含まれる炭素数の総和は、５以上が好ましく、溶剤溶解性の観点から９以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。上限は、例えば４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。

　式（Ｗ）の好ましい態様としては、Ｓ¹がアリーレン基またはヘテロアリーレン基であり、Ｌ¹がアルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲ^L1－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ^L1－、－ＳＯ₂－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基であり、Ｔ¹がアルキル基またはトリアルキルシリル基である組み合わせが挙げられる。Ｓ¹は、アリーレン基がより好ましい。Ｌ¹は、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－、－ＯＲ^L2－または、これらを組み合わせてなる基がより好ましく、アルキレン基、アルケニレン基、－Ｏ－または－ＯＲ^L2－がさらに好ましく、アルキレン基、－Ｏ－、または－ＯＲ^L2－が特に好ましい。Ｔ¹はアルキル基がより好ましい。

　式（Ｗ）において、－Ｌ¹－Ｔ¹部分は、分岐アルキル構造を含むことが好ましい。具体的には、－Ｌ¹－Ｔ¹部分は、分岐のアルキル基または分岐のアルコキシ基であることが特に好ましい。－Ｌ¹－Ｔ¹部分の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。－Ｌ¹－Ｔ¹部分の炭素数は、５以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましい。上限は、例えば４０以下が好ましく、３５以下がより好ましい。

　式（Ｗ）において、－Ｌ¹－Ｔ¹部分は、不斉炭素を含むことが好ましい。この態様によれば、一般式１－２で表される化合物が複数の光学異性体を含むことができ、その結果、化合物の溶剤溶解性をさらに向上できる。不斉炭素の数は１個以上が好ましい。不斉炭素の上限は特に限定はないが、例えば４以下が好ましい。

　式（Ｗ）で表される基の具体例としては、例えば以下が挙げられる。以下の式中、Ａは、式（１）のホウ素原子との連結手である。以下の構造式において、＊は不斉炭素を表し、波状結合はラセミ体を表す。

　一般式１－２において、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、または、アルキル基を表す。Ｒ³とＲ⁴は、同一であってもよく、異なる基であってもよい。Ｒ³とＲ⁴が同じ基であることがより好ましい。
　Ｒ³およびＲ⁴が表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
　Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基またはエチル基であることが好ましく、水素原子またはメチル基がより好ましく、水素原子が特に好ましい。

　一般式１－２において、Ｘ¹およびＸ²は、それぞれ独立に、酸素原子（－Ｏ－）、または、－Ｎ（Ｒ⁵）－を表す。Ｘ¹とＸ²は同一であってもよく、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。
　Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。
　Ｒ⁵は、水素原子、アルキル基またはアリール基が好ましい。Ｒ⁵が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した一般式１－１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～４が更に好ましく、１～２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。

　Ｘ¹およびＸ²は、それぞれ独立に、酸素原子、または、下記のいずれかで表されることが好ましい。

　式中、Ｒ^5aはアルキル基を表し、Ｒ⁶～Ｒ⁸は、それぞれ独立に、置換基を表し、ａは０～５の整数を表し、ｂおよびｃはそれぞれ０～７の整数を表し、＊は連結手を表す。
　Ｒ⁶～Ｒ⁸が表す、置換基としては、上述した一般式１－１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

　一般式１－２において、Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ独立に、置換基を表す。
　置換基としては、上述した一般式１－１のＧ^AおよびＧ^Bで説明した置換基が挙げられる。

　一般式１－２において、Ｙ¹とＹ²、および、Ｙ³とＹ⁴は、互いに結合して環を形成していてもよい。例えば、Ｙ¹とＹ²とが互いに結合して、Ｙ¹及びＹ²に直結しているナフタレン環と併せて、例えば、アセナフテン環、アセナフチレン環等の３環等となっていてもよい。
　Ｙ¹～Ｙ⁴は、それぞれ複数有する場合は、互いに結合して環構造を形成していてもよい。例えば、Ｙ¹が複数有する場合、Ｙ¹同士が互いに結合し、Ｙ¹およびＹ²に直結しているナフタレン環と併せて、例えば、アントラセン環、フェナントレン環等の３環等となっていてもよい。なお、Ｙ¹同士が互いに結合して環構造を形成する場合、Ｙ¹以外の置換基であるＹ²～Ｙ⁴は必ずしも複数有する必要はない。また、Ｙ²～Ｙ⁴は存在しなくてもよい。Ｙ²同士、Ｙ³同士およびＹ⁴同士が結合して環構造を形成する場合も同様である。
　ｐおよびｓは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、好ましくはそれぞれ０～１であり、特に好ましくは０である。
　ｑおよびｒは、それぞれ独立に０～２の整数を表し、好ましくはそれぞれ０～１であり、特に好ましくは０である。

　なお、一般式１－２においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。

　一般式１で表されるスクアリリウム化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。
　なお、以下に示す具体例において、以下の式中、波状結合はラセミ体を表す。

＜＜＜＜一般式２で表される化合物（ピロロピロール化合物）＞＞＞＞
　一般式２中、Ｒ^1aおよびＲ^1bは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。
　Ｒ^1aおよびＲ^1bが表すアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。
　Ｒ^1aおよびＲ^1bが表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は、フェニルが好ましい。
　Ｒ^1aおよびＲ^1bが表すヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～１０が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。

　上述したアリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。溶媒に対する溶解性を向上できるという観点から置換基を有していることが好ましい。
　置換基としては、酸素原子を含んでもよい炭化水素基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。

　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基などが挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルキル基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルキル基の分岐数は、例えば、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　アルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルケニル基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルケニル基の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　酸素原子を含む炭化水素基としては、－Ｌ－Ｒ^x1で表される基が挙げられる。
　Ｌは、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－（ＯＲ^x2）_m－または－（Ｒ^x2Ｏ）_m－を表す。Ｒ^x1は、アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表す。Ｒ^x2は、アルキレン基またはアリーレン基を表す。ｍは２以上の整数を表し、ｍ個のＲ^x2は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
　Ｌは、－Ｏ－、－（ＯＲ^x2）_m－または－（Ｒ^x2Ｏ）_m－が好ましく、－Ｏ－がより好ましい。
　Ｒ^x1が表すアルキル基、アルケニル基、アリール基は上述したものと同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒ^x1は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
　Ｒ^x2が表すアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～５が更に好ましい。アルキレン基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。Ｒ^x2が表すアリーレン基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。Ｒ^x2はアルキレン基が好ましい。
　ｍは２以上の整数を表し、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましい。

　アリール基およびヘテロアリール基が有してもよい置換基は、分岐アルキル構造を有する基が好ましい。この態様によれば、溶剤溶解性がより向上する。また、置換基は、酸素原子を含んでもよい炭化水素基が好ましく、酸素原子を含む炭化水素基がより好ましい。酸素原子を含む炭化水素基は、－Ｏ－Ｒ^x1で表される基が好ましい。Ｒ^x1は、アルキル基またはアルケニル基が好ましく、アルキル基がより好ましく、分岐のアルキル基が特に好ましい。すなわち、置換基は、アルコキシ基がより好ましく、分岐のアルコキシ基が特に好ましい。置換基が、アルコキシ基であることにより、耐熱性および耐光性にすぐれた赤外線吸収剤とすることができる。そして、分岐のアルコキシ基であることにより、溶剤溶解性が良好である。
　アルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルコキシ基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルコキシ基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルコキシ基の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。

　Ｒ²～Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含む）、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシル基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基などが挙げられる。

　Ｒ²およびＲ³のいずれか一方と、Ｒ⁴およびＲ⁵のいずれか一方は、電子吸引性基であることが好ましい。
　Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値（シグマパラ値）が正の置換基は、電子吸引性基として作用する。
　本発明においては、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値が０．２以上の置換基を電子吸引性基として例示することができる。σｐ値として好ましくは０．２５以上であり、より好ましくは０．３以上であり、更に好ましくは０．３５以上である。上限は特に制限はないが、好ましくは０．８０以下である。
　電子吸引性基の具体例としては、シアノ基（σｐ値＝０．６６）、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ：σｐ値＝０．４５）、アルコキシカルボニル基（例えば－ＣＯＯＭｅ：σｐ値＝０．４５）、アリールオキシカルボニル基（例えば－ＣＯＯＰｈ：σｐ値＝０．４４）、カルバモイル基（－ＣＯＮＨ₂：σｐ値＝０．３６）、アルキルカルボニル基（例えば－ＣＯＭｅ：σｐ値＝０．５０）、アリールカルボニル基（例えば－ＣＯＰｈ：σｐ値＝０．４３）、アルキルスルホニル基（例えば－ＳＯ₂Ｍｅ：σｐ値＝０．７２）、アリールスルホニル基（例えば－ＳＯ₂Ｐｈ：σｐ値＝０．６８）などが挙げられる。特に好ましくは、シアノ基である。ここで、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。
　Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００２４～００２５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　Ｒ²およびＲ³のいずれか一方と、Ｒ⁴およびＲ⁵のいずれか一方は、ヘテロアリール基が好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環、または、縮合環が好ましく、単環、または、縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環、または、縮合数が２～４の縮合環がさらに好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、窒素原子を１個以上有することが好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～１０が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の具体例としては、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、トリアジル基、キノリル基、キノキサリル基、イソキノリル基、インドレニル基、フリル基、チエニル基、ベンズオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ナフトチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基、ｍ－カルバゾリル基、アゼピニル基、およびこれらの基のベンゾ縮環基もしくはナフト縮環基などが挙げられる。
　ヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、塩素原子が特に好ましい。
　アルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。

　一般式２において、Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵は、それぞれ結合して環を形成していてもよい。Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵が互いに結合して環を形成する場合は、５～７員環（好ましくは５または６員環）を形成することが好ましい。形成される環としてはメロシアニン色素で酸性核として用いられるものが好ましい。具体例としては、例えば、特開２０１０－２２２５５７号公報の段落番号００２６に記載の構造が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。
　Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵が互いに結合して形成する環は、好ましくは１，３－ジカルボニル核、ピラゾリノン核、２，４，６－トリケトヘキサヒドロピリミジン核（チオケトン体も含む）、２－チオ－２，４－チアゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－オキサゾリジンジオン核、２－チオ－２，５－チアゾリジンジオン核、２，４－チアゾリジンジオン核、２，４－イミダゾリジンジオン核、２－チオ－２，４－イミダゾリジンジオン核、２－イミダゾリン－５－オン核、３，５－ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン－３－オン核、またはインダノン核であり、更に好ましくは１，３－ジカルボニル核、２，４，６－トリケトヘキサヒドロピリミジン核（チオケトン体も含む）、３，５－ピラゾリジンジオン核、ベンゾチオフェン－３－オン核、またはインダノン核である。

　Ｒ⁶およびＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ^AＲ^B、または金属原子を表し、－ＢＲ^AＲ^Bがより好ましい。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表すアルキル基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表すヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～５が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。
　Ｒ⁶およびＲ⁷が表す金属原子としては、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、スズ、バナジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、パラジウム、イリジウム、白金が好ましく、アルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、白金が特に好ましい。

　－ＢＲ^AＲ^Bで表される基において、Ｒ^AおよびＲ^Bは、各々独立に、水素原子または置換基を表す。
　Ｒ^AおよびＲ^Bが表す置換基としては、上述したＲ²～Ｒ⁵が表す置換基が挙げられる。ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基およびヘテロアリール基が好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
　アルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２５が特に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましく、３～５が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。

　一般式２において、Ｒ⁶は、Ｒ^1aまたはＲ³と、共有結合もしくは配位結合していてもよい。また、Ｒ⁷は、Ｒ^1bまたはＲ⁵と、共有結合もしくは配位結合していてもよい。

　一般式２で表されるピロロピロール化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２０１０－２２２５５７号公報の段落番号００４９～００６２に記載の化合物Ｄ－１～Ｄ－１６２が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。以下の式中Ｐｈはフェニル基を表す。

＜＜＜＜一般式３で表される化合物（シアニン化合物）＞＞＞＞
　一般式３において、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員又は６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団を表す。
　含窒素複素環には、他の複素環、芳香族環または脂肪族環が縮合してもよい。含窒素複素環は、５員環が好ましい。５員の含窒素複素環に、ベンゼン環又はナフタレン環が縮合している構造がさらに好ましい。含窒素複素環の具体例としては、オキサゾール環、イソオキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、オキサゾロカルバゾール環、オキサゾロジベンゾフラン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ナフトチアゾール環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ナフトイミダゾール環、キノリン環、ピリジン環、ピロロピリジン環、フロロピロール環、インドリジン環、イミダゾキノキサリン環、キノキサリン環等が挙げられ、キノリン環、インドレニン環、ベンゾインドレニン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が好ましく、インドレニン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環が特に好ましい。

　含窒素複素環及びそれに縮合している環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ^c1、－ＣＯＲ^c2、－ＣＯＯＲ^c3、－ＯＣＯＲ^c4、－ＮＲ^c5Ｒ^c6、－ＮＨＣＯＲ^c7、－ＣＯＮＲ^c8Ｒ^c9、－ＮＨＣＯＮＲ^c10Ｒ^c11、－ＮＨＣＯＯＲ^c12、－ＳＲ^c13、－ＳＯ₂Ｒ^c14、－ＳＯ₂ＯＲ^c15、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^c16または－ＳＯ₂ＮＲ^c17Ｒ^c18が挙げられる。Ｒ^c1～Ｒ^c18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。なお、－ＣＯＯＲ^c3のＲ^c3が水素原子の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ₂ＯＲ^c15のＲ^c15が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。

　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１２がさらに好ましく、１～８が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。
　アルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルケニル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アルキニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がさらに好ましく、２～８が特に好ましい。アルキニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキニル基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アリール基の炭素数は、６～２５が好ましく、６～１５がさらに好ましく、６～１０が最も好ましい。アリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　アラルキル基のアルキル部分は、上記アルキル基と同様である。アラルキル基のアリール部分は、上記アリール基と同様である。アラルキル基の炭素数は、７～４０が好ましく、７～３０がより好ましく、７～２５が更に好ましい。
　ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環がより好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がさらに好ましい。ヘテロアリール基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述したアルキル基が有してもよい置換基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。

　一般式３において、Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表す。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基は、上記の置換基で説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。

　式３において、Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表す。Ｌ¹は、３、５または７のメチン基からなるメチン鎖が好ましい。
　メチン基は置換基を有していてもよい。置換基を有するメチン基は、中央の（メソ位の）メチン基であることが好ましい。置換基の具体例としては、Ｚ¹およびＺ²の含窒素複素環が有してもよい置換基、および、下式（ａ）で表される基が挙げられる。また、メチン鎖の二つの置換基が結合して５または６員環を形成しても良い。

　式（ａ）中、＊は、メチン鎖との連結手を表し、Ａ¹は、酸素原子または硫黄原子を表す。

　一般式３において、ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１である。ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合する。ａおよびｂはともに０であることが好ましい。なお、ａおよびｂがともに０の場合は、一般式３は以下のように表される。

　一般式３において、式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。アニオンの例としては、ハライドイオン（Ｃｌ^-、Ｂｒ^-、Ｉ^-）、パラトルエンスルホン酸イオン、エチル硫酸イオン、ＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｆ₅）₄ ^-、Ｂ（Ｃ₆Ｈ₃－３，５－（ＣＦ₂）₂）₄ ^-、ＣｌＯ₄ ^-、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオン（例えば、（ＣＦ₃ＳＯ₂）₃Ｃ^-）、ジ（ハロゲノアルキルスルホニル）イミドアニオン（例えば（ＣＦ₃ＳＯ₂）₂Ｎ^-）、テトラシアノボレートアニオン、下式Ａで表されるアニオンが挙げられる。また、トリス（ハロゲノアルキルスルホニル）メチドアニオンは、特開２００８－８８４２６号公報の段落番号００２４に記載されたアニオンを用いることもできる。
式Ａ

　Ｍ¹は遷移金属を表し、ｎは１～２の整数を表し、Ｒ^A1～Ｒ^A8は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を表す。
　遷移金属としては、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｔｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｚｒなどの遷移金属が挙げられ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、ＰｄおよびＰｔが好ましく、ＣｕおよびＮｉがより好ましい。
　置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ²⁰¹、－ＣＯＲ²⁰²、－ＣＯＯＲ²⁰³、－ＯＣＯＲ²⁰⁴、－ＮＲ²⁰⁵Ｒ²⁰⁶、－ＮＨＣＯＲ²⁰⁷、－ＣＯＮＲ²⁰⁸Ｒ²⁰⁹、－ＮＨＣＯＮＲ²¹⁰Ｒ²¹¹、－ＮＨＣＯＯＲ²¹²、－ＳＲ²¹³、－ＳＯ₂Ｒ²¹⁴、－ＳＯ₂ＯＲ²¹⁵、－ＮＨＳＯ₂Ｒ²¹⁶または－ＳＯ₂ＮＲ²¹⁷Ｒ²¹⁸が挙げられる。Ｒ²⁰¹～Ｒ²¹⁸は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表す。なお、－ＣＯＯＲ²⁰³のＲ²⁰³が水素原子の場合（すなわち、カルボキシル基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。また、－ＳＯ₂ＯＲ²¹⁵のＲ²¹⁵が水素原子の場合（すなわち、スルホ基）は、水素原子が解離してもよく、塩の状態であってもよい。アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基は、上記の置換基で説明したものが挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式Ａの詳細については、特開２０１５－４０８９５号公報の段落番号００３０～００５０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれることとする。

　一般式３において、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表す。カチオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺、Ｋ⁺など）、アルカリ土類金属イオン（Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｂａ²⁺、Ｓｒ²⁺など）、遷移金属イオン（Ａｇ⁺、Ｆｅ²⁺、Ｃｏ²⁺、Ｎｉ²⁺、Ｃｕ²⁺、Ｚｎ²⁺など）、その他の金属イオン（Ａｌ³⁺など）、アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、トリブチルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、テトラブチルアンモニウムイオン、グアニジニウムイオン、テトラメチルグアニジニウムイオン、ジアザビシクロウンデセニウムなどが挙げられる。カチオンとしては、Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺、ジアザビシクロウンデセニウムが好ましい。
　一般式３において、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、Ｘ¹は存在しない。すなわち、ｃは０である。

　一般式３で表される化合物は、下記（３－１）または（３－２）で表される化合物であることも好ましい。この化合物は、耐熱性に優れている。

　式（３－１）および（３－２）中、Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bは、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ^1AおよびＬ^1Bは、それぞれ独立に奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　Ｙ¹およびＹ²は、各々独立に－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ^X1－または－ＣＲ^X2Ｒ^X3－を表し、
　Ｒ^X1、Ｒ^X2およびＲ^X3は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、
　Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bは、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＯＲ^c1、－ＣＯＲ^c2、－ＣＯＯＲ^c3、－ＯＣＯＲ^c4、－ＮＲ^c5Ｒ^c6、－ＮＨＣＯＲ^c7、－ＣＯＮＲ^c8Ｒ^c9、－ＮＨＣＯＮＲ^c10Ｒ^c11、－ＮＨＣＯＯＲ^c12、－ＳＲ^c13、－ＳＯ₂Ｒ^c14、－ＳＯ₂ＯＲ^c15、－ＮＨＳＯ₂Ｒ^c16または－ＳＯ₂ＮＲ^c17Ｒ^c18を表し、Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bは、縮合環を形成していてもよく、
　Ｒ^c1～Ｒ^c18は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　－ＣＯＯＲ^c3のＲ^c3が水素原子の場合および－ＳＯ₂ＯＲ^c15のＲ^c15が水素原子の場合は、水素原子が解離しても、塩の状態であってもよく、
　ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０～４を表し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、
式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。

　Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bが表す基は、一般式３のＲ¹⁰¹およびＲ¹⁰²で説明したアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基およびアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。これらの基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシ基、アミノ基等が挙げられ、カルボキシル基およびスルホ基が好ましく、スルホ基が特に好ましい。カルボキシル基およびスルホ基は、水素原子が解離していてもよく、塩の状態であってもよい。
　Ｒ^1A、Ｒ^2A、Ｒ^1BおよびＲ^2Bがアルキル基を表す場合は、直鎖のアルキル基であることがより好ましい。
　Ｙ¹およびＹ²は、各々独立に－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＲ^X1－または－ＣＲ^X2Ｒ^X3－を表し、－ＮＲ^X1－が好ましい。
　Ｒ^X1、Ｒ^X2およびＲ^X3は、各々独立に水素原子またはアルキル基を表し、アルキル基が好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が特に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アルキル基は、メチル基またはエチル基が特に好ましい。
　Ｌ^1AおよびＬ^1Bは、一般式３のＬ¹と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｖ^1A、Ｖ^2A、Ｖ^1BおよびＶ^2Bが表す基は、一般式３のＺ¹およびＺ²の含窒素複素環が有してもよい置換基で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　ｍ１およびｍ２は、それぞれ独立に０～４を表し、０～２が好ましい。
　Ｘ¹が表すアニオンおよびカチオンは、一般式３のＸ¹で説明した範囲と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　一般式３で表される化合物としては、以下に示す化合物が挙げられる。また、特開２００９－１０８２６７公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれることとする。なお、以下の表中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｂｎはベンジル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表し、ＰＲＳはＣ₃Ｈ₆ＳＯ^3-を表し、ＢＵＳはＣ₄Ｈ₉ＳＯ^3-を表す。

　一般式３で表される化合物は、エフ・エム・ハーマー（Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｅｒ）著「ヘテロサイクリック・コンパウンズーシアニンダイズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ　Ｃｙａｎｉｎｅ　Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　Ｒｅｌａｔｅｄ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）」、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ）社－ニューヨーク、ロンドン、１９６４年刊、およびデー・エム・スターマー（Ｄ．Ｍ．Ｓｔｕｒｍｅｒ）著「ヘテロサイクリック・コンパウンズースペシャル・トッピクス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー（Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ－Ｓｐｅｃｉａｌｔｏｐｉｃｓ　ｉｎ　ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　ｃｈｍｉｓｔｒｙ）」、第１８章、第１４節、４８２～５１５頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ（Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ）社－ニューヨーク、ロンドン、１９７７年刊、「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ（Ｒｏｄｄ’ｓ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｃａｒｂｏｎ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）」２ｎｄ．Ｅｄ．ｖｏｌ．ＩＶ，ｐａｒｔＢ，１９７７年刊、第１５章、３６９～４２２頁、エルセビア・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　Ｃｏｍｐａｎｙ　Ｉｎｃ．）社刊、ニューヨーク、特開平６－３１３９３９号公報および特開平５－８８２９３号公報等を参考にして容易に合成できる。

＜＜＜＜樹脂、ゼラチン、重合性化合物、アルコキシシリル基を有する化合物＞＞＞＞
　赤外線吸収組成物は、樹脂、ゼラチン、重合性化合物およびアルコキシシリル基を有する化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましく、ゼラチンおよび重合性化合物から選ばれる少なくとも１種を含有することが特に好ましい。この態様によれば、耐熱性および耐溶剤性に優れた赤外線吸収膜を製造しやすい。また、重合性化合物を用いる場合、重合性化合物と光重合開始剤と併用することが好ましい。

（樹脂）
　樹脂は、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂が挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２,０００～２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
　また、エポキシ樹脂の場合、エポキシ樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１００以上が好ましく、２００～２，０００，０００がより好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましく、２，０００以上がさらに好ましく、５，０００以上が特に好ましい。
　樹脂は、２５℃から、２０℃／分で昇温した５％熱質量減少温度が、２００℃以上であることが好ましく、２６０℃以上であることがより好ましい。

　（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸および／またはそのエステルに由来する構造単位を含む重合体が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミドおよび（メタ）アクリロニトリルから選ばれる少なくとも１種を重合して得られる重合体が挙げられる。

　ポリエステル樹脂としては、ポリオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）と、多塩基酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸及びこれらの芳香環の水素原子がメチル基、エチル基、フェニル基等で置換された芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数２～２０の脂肪族ジカルボン酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカルボン酸など）との反応により得られるポリマーや、カプロラクトンモノマー等の環状エステル化合物の開環重合により得られるポリマー（例えばポリカプロラクトン）が挙げられる。

　エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。

　フェノール類化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えば２－［４－（２，３－エポキシプロポキシ）フェニル］－２－［４－［１，１－ビス［４－（２，３－ヒドロキシ）フェニル］エチル］フェニル］プロパン、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、４，４’－ビフェノール、テトラメチルビスフェノールＡ、ジメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、ジメチルビスフェノールＦ、テトラメチルビスフェノールＳ、ジメチルビスフェノールＳ、テトラメチル－４，４’－ビフェノール、ジメチル－４，４’－ビフェノール、１－（４－ヒドロキシフェニル）－２－［４－（１，１－ビス－（４－ヒドロキシフェニル）エチル）フェニル］プロパン、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタン、レゾルシノール、ハイドロキノン、ピロガロール、フロログリシノール、ジイソプロピリデン骨格を有するフェノール類；１，１－ジ－４－ヒドロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類；フェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂等が挙げられる。

　ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂としては、例えばフェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ及びビスフェノールＳ等のビスフェノール類、ナフトール類等の各種フェノールを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノボラック樹脂、ビフェニル骨格含有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物等が挙げられる。

　脂環式エポキシ樹脂としては、例えば３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－（３，４－エポキシ）シクロヘキシルカルボキシレート、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート等の脂肪族環骨格を有する脂環式エポキシ樹脂が挙げられる。
　脂肪族系エポキシ樹脂としては、例えば１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ペンタエリスリトール等の多価アルコールのグリシジルエーテル類が挙げられる。
　複素環式エポキシ樹脂としては、例えばイソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環を有する複素環式エポキシ樹脂が挙げられる。
　グリシジルエステル系エポキシ樹脂としては、例えばヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等のカルボン酸エステル類からなるエポキシ樹脂が挙げられる。
　グリシジルアミン系エポキシ樹脂としては、例えばアニリン、トルイジン等のアミン類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。
　ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂としては、例えばブロム化ビスフェノールＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレゾールノボラック、クロル化ビスフェノールＳ、クロル化ビスフェノールＡ等のハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂が挙げられる。

　エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体としては、市場から入手可能な製品では、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８等が挙げられる。エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物としては、例えばアクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、４－ビニル－１－シクロヘキセン－１，２－エポキシド等が挙げられる。また他の重合性不飽和化合物の共重合体としては、例えばメチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルシクロヘキサンなどが挙げられるが、特にメチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、スチレンが好ましい。

　エポキシ樹脂の好ましいエポキシ当量は、３１０～３３００ｇ／ｅｑであり、より好ましくは３１０～１７００ｇ／ｅｑであり、さらに好ましくは３１０～１０００ｇ／ｅｑである。エポキシ樹脂は１種又は２種以上を混合して用いても良い。

　エポキシ樹脂は、市販品を用いることもできる。市販品としては、例えば、以下のものが挙げられる。
　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として、ＪＥＲ８２７、ＪＥＲ８２８、ＪＥＲ８３４、ＪＥＲ１００１、ＪＥＲ１００２、ＪＥＲ１００３、ＪＥＲ１０５５、ＪＥＲ１００７、ＪＥＲ１００９、ＪＥＲ１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
　ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂は、ＪＥＲ８０６、ＪＥＲ８０７、ＪＥＲ４００４、ＪＥＲ４００５、ＪＥＲ４００７、ＪＥＲ４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
　フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、ＪＥＲ１５２、ＪＥＲ１５４、ＪＥＲ１５７Ｓ７０、ＪＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
　クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ－１０２０（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。
　脂肪族系エポキシ樹脂として、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、同ＰＢ　４７００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等が挙げられる。
　その他にも、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）等が挙げられる。

　また、樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基、フェノール性ヒドロキシル基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましく、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック型樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂等、並びに側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有するポリマーに酸無水物を付加させたものが挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマーとして、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等を挙げることができる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。

　酸基を有する樹脂は、下記一般式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記一般式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマー（ａ）を含むことも好ましい。

　一般式（ＥＤ１）中、Ｒ¹およびＲ²は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。

　一般式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。一般式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。

　一般式（ＥＤ１）中、Ｒ¹およびＲ²で表される置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｔｅｒｔ－アミル、ステアリル、ラウリル、２－エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２－メチル－２－アダマンチル等の脂環式基；１－メトキシエチル、１－エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。

　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。

　酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。

　式（Ｘ）において、Ｒ₁は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ₂は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ₃は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。

　上記式（Ｘ）において、Ｒ₂のアルキレン基の炭素数は、２～３が好ましい。また、Ｒ₃のアルキル基の炭素数は１～２０であるが、より好ましくは１～１０であり、Ｒ₃のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。Ｒ₃で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、２－フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。

　酸基を有する樹脂の具体例としては、例えば以下に示す構造が挙げられる。

　酸基を有する樹脂としては、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６８５]～[０７００]）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。

　また、樹脂は、重合性基を有していてもよい。樹脂が重合性基を有することで、硬度のある膜を形成できる。
　重合性基としては、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。重合性基を含有する樹脂としては、ダイヤナ－ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業株式会社製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、アクリキュアＲＤ－Ｆ８(日本触媒社製)などが挙げられる。また、上述したエポキシ樹脂なども挙げられる。

　樹脂は、式（Ａ３－１）～（Ａ３－７）で表される繰り返し単位を有する樹脂であることも好ましい。

　式中、Ｒ⁵は水素原子またはアルキル基を表し、Ｌ⁴～Ｌ⁷はそれぞれ独立に、単結合または２価の連結基を表し、Ｒ¹⁰～Ｒ¹³はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。

　Ｒ⁵は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｒ⁵は、水素原子またはメチル基が好ましい。

　Ｌ⁴～Ｌ⁷は、それぞれ独立して、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ₂－、－ＮＲ¹⁰－（Ｒ¹⁰は水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられ、アルキレン基、アリーレン基およびアルキレン基の少なくとも１つと－Ｏ－との組み合わせからなる基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。

　Ｒ¹⁰が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでもよく、環状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。Ｒ¹⁰が表すアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６がさらに好ましい。Ｒ¹⁰は、環状のアルキル基またはアリール基が好ましい。

　Ｒ¹¹、Ｒ¹²が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでも良く、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は１～１２が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。Ｒ¹¹，Ｒ¹²が表すアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６が更に好ましい。Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましい。

　Ｒ¹³が表すアルキル基は、直鎖状、分岐状または環状のいずれでも良く、直鎖状または分岐状が好ましい。アルキル基は上述した置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。アルキル基の炭素数は１～１２が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。Ｒ¹³が表すアリール基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１２がより好ましく、６が更に好ましい。Ｒ¹³は、直鎖状または分岐状のアルキル基、または、アリール基が好ましい。
ル基が好ましい。

　Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵が表す置換基は、上述した一般式１で説明した基が挙げられる。なかでも、Ｒ¹⁴およびＲ¹⁵の少なくとも一方は、シアノ基または、－ＣＯＯＲａを表すことが好ましい。Ｒａは、水素原子または置換基を表す。上述した置換基が挙げられる。例えば、アルキル基、アリール基が好ましい。

　上記の（Ａ３－７）で表される繰り返し単位を有する樹脂の市販品としては、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

　赤外線吸収組成物において、樹脂の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、１～８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。

（ゼラチン）
　赤外線吸収組成物は、ゼラチンを含有することが好ましい。ゼラチンを含有することにより、耐熱性に優れた赤外線吸収膜を形成しやすい。詳細なメカニズムは不明であるが、赤外線吸収剤とゼラチンとで会合体を形成しやすいためであると推測する。特に、赤外線吸収剤としてシアニン化合物を用いた場合、耐熱性に優れた赤外線吸収膜を形成しやすい。

　本発明において、ゼラチンとしては、その合成方法によって、酸処理ゼラチンおよびアルカリ処理ゼラチン（石灰処理など）があり、いずれも好ましく用いることができる。ゼラチンの分子量は、１０，０００～１，０００，０００であることが好ましい。また、ゼラチンのアミノ基やカルボキシル基を利用して変性処理した変性ゼラチンも用いることができる（例えば、フタル化ゼラチンなど）。ゼラチンとしては、イナートゼラチン（例えば、新田ゼラチン７５０）、フタル化ゼラチン（例えば、新田ゼラチン８０１）などを用いることができる。

　赤外線吸収膜の耐水性及び機械的強度を高めるため、種々の化合物（硬化剤）を用いてゼラチンを硬化させる事が好ましい。硬化剤は従来公知のものを使用することができ、例えばホルムアルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化合物類、米国特許第３，２８８．７７５号その他に記載されている反応性のハロゲンを有する化合物類、米国特許第３，６４２．４８６号、特公昭４９－１３５６３号その他に記載されている反応性のエチレン不飽和結合を持つ化合物類、米国特許第３，０１７，２８０号等に記載されているアジリジン系化合物類、米国特許第３，０９１，５３７号等に記載されているエホ士シ系化合物類、ムコクロル酸のようなハロゲンカルボキシルアルデヒド類、ジヒドロキシジオキサン、ジクロロジオキサン等ジオキサン類、あるいは又無機硬膜剤としてクロム明ばん、硫酸ジルコニウム等が挙げられる。また、１，３－ジビニルスルホニル－２－プロパノールを用いることもできる。

　赤外線吸収組成物において、ゼラチンの含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、１～９９質量％が好ましい。下限は、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。

（重合性化合物）
　赤外線吸収組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和結合を有する基、環状エーテル（エポキシ、オキセタン）基、メチロール基等を有する化合物が挙げられ、エチレン性不飽和結合を有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。
　重合性化合物は、単官能であっても多官能であってもよいが、好ましくは、多官能（重合性基を２個以上有する重合性化合物）である。多官能化合物を含むことにより、三次元架橋物を有する赤外線吸収膜を形成できる。そして、赤外線吸収膜が三次元架橋物を有することにより、耐熱性や耐溶剤性を向上させることができる。重合性化合物の官能基の数は特に限定されないが、２～８官能が好ましく、３～６官能がさらに好ましい。
　重合性化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー、オリゴマー、又はそれらの混合物並びにそれらの多量体などの化学的形態のいずれであってもよい。重合性化合物は、モノマーが好ましい。
　重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。
　重合性化合物の分子量は、２０００未満が好ましく、１００以上２０００未満がより好ましく、２００以上２０００未満がさらに好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物であることが好ましい。
　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物の例としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３３～００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　具体例としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　；日本化薬株式会社製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業社製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール残基、プロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。
　また、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８の重合性化合物の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　また、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の［０５８５］）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としては　Ｍ－４６０；東亞合成株式会社製）が好ましい。ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業社製、Ａ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬株式会社製）などが挙げられる。

　エチレン性不飽和結合を有する基を含む化合物としては、さらに、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。
　酸基を有する化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた多官能モノマーが好ましく、特に好ましくは、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。
　酸基を有する化合物の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。

　重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物も好ましい態様である。
　カプロラクトン構造を有する化合物としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬株式会社製のペンチレンオキシ鎖を６個有する６官能アクリレートであるＤＰＣＡ－６０、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０などが挙げられる。

　また、重合性化合物は、フッ素原子を有する重合性化合物（含フッ素重合性化合物）を用いることができる。含フッ素重合性化合物は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレートポリマーであることがより好ましい。
　含フッ素重合性化合物は、フッ素原子で置換されたアルキレン基、フッ素原子で置換されたアルキル基、及び、フッ素原子で置換されたアリール基からなる群から選択される少なくとも１つを有することが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基であることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキル基は、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基であることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基及びフッ素原子で置換されたアルキル基中の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましく、１～５であることがさらに好ましい。
　フッ素原子で置換されたアリール基は、アリール基がフッ素原子で直接に置換されているか、トリフルオロメチル基で置換されていることが好ましい。
　フッ素原子で置換されたアルキレン基、フッ素原子で置換されたアルキル基、及び、フッ素原子で置換されたアリール基は、フッ素原子以外の置換基をさらに有していてもよい。
　フッ素原子で置換されたアルキル基及びフッ素原子で置換されたアリール基の例としては、例えば、特開２０１１－１０００８９号公報の段落番号０２６６～０２７２を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。

　含フッ素重合性化合物は、フッ素原子で置換されたアルキレン基と酸素原子とが連結した基Ｘ（式（Ｘ）で表される基（繰り返し単位））を含むことが好ましく、パーフルオロアルキレンエーテル基を含むことがより好ましい。
　式（Ｘ）　　－（Ｌ_A－Ｏ）－
　上記Ｌ_Aは、フッ素原子で置換されたアルキレン基を表す。なお、アルキレン基中の炭素数は、１～２０であることが好ましく、１～１０であることがより好ましく、１～５であることがさらに好ましい。なお、上記フッ素原子で置換されたアルキレン基中には、酸素原子が含まれていてもよい。
　また、フッ素原子で置換されたアルキレン基は直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
　パーフルオロアルキレンエーテル基とは、上記Ｌ_Aがパーフルオロアルキレン基であることを意図する。パーフルオロアルキレン基とは、アルキレン基中の水素原子がすべてフッ素原子で置換された基を意図する。
　式（Ｘ）で表される基（繰り返し単位）は繰り返して連結していてもよく、その繰り返し単位数は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、１～５０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　つまり、式（Ｘ－１）で表される基であることが好ましい。
　式（Ｘ－１）　　－（Ｌ_A－Ｏ）_r－
　式（Ｘ－１）中、Ｌ_Aは上記の通りであり、ｒは繰り返し単位数を表し、その好適範囲は上述の通りである。
　なお、複数の－（Ｌ_A－Ｏ）－中のＬ_Aは同一であっても異なっていてもよい。

　含フッ素重合性化合物がモノマーである場合、１分子中における、フッ素原子、珪素原子、炭素数８以上の直鎖アルキル基、及び、炭素数３以上の分鎖アルキル基からなる群から選択される１種以上の基の数が１～２０であることが好ましく、３～１５であることがより好ましい。

　含フッ素重合性化合物がポリマーである場合、ポリマーは、下記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位と、下記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の少なくとも一方とを有することが好ましい。

　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｒ¹～Ｒ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、ハロゲン原子を表す。Ｌ¹～Ｌ⁴は、それぞれ独立に、単結合又は２価の連結基を表す。Ｘ¹は、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、又はオキセタニル基を表し、Ｘ²はフッ素原子で置換されたアルキル基またはフッ素原子で置換されたアリール基を表し、Ｘ³は式（Ｘ－１）で表される繰り返し単位を表す。

　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｒ¹～Ｒ¹¹は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基であることが好ましい。Ｒ¹～Ｒ¹¹がアルキル基を表す場合、炭素数１～３のアルキル基が好ましい。Ｒ¹～Ｒ¹¹がハロゲン原子を表す場合、フッ素原子が好ましい。
　式（Ｂ１）～（Ｂ３）中、Ｌ¹～Ｌ⁴が２価の連結基を表す場合、２価の連結基としては、ハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基、ハロゲン原子が置換していてもよいアリーレン基、－ＮＲ¹²－、－ＣＯＮＲ¹²－、－ＣＯ－、－ＣＯ₂－、ＳＯ₂ＮＲ¹²－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ₂－、又は、これらの組み合わせが挙げられる。なかでも、炭素数２～１０のハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基及び炭素数６～１２のハロゲン原子が置換していてもよいアリーレン基からなる群から選択される少なくとも１種、又は、これらの基と－ＮＲ¹²－、－ＣＯＮＲ¹²－、－ＣＯ－、－ＣＯ₂－、ＳＯ₂ＮＲ¹²－、－Ｏ－、－Ｓ－、及びＳＯ₂－からなる群から選択される少なくとも１種の基との組み合わせからなる基が好ましく、炭素数２～１０のハロゲン原子が置換していてもよいアルキレン基、－ＣＯ₂－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＮＲ¹²－、又は、これらの基の組み合わせからなる基がより好ましい。ここで、上記Ｒ¹²は、水素原子又はメチル基を表す。

　上記式（Ｂ１）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、３０～９５モル％であることが好ましく、４５～９０モル％であることがより好ましい。式（Ｂ１）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、３０モル％以上が好ましく、４５モル％以上がより好ましい。
　上記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の合計含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、５～７０モル％であることが好ましく、１０～６０モル％であることがより好ましい。上記式（Ｂ２）で表される繰り返し単位及び式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の合計含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、５モル％以上が好ましく、１０モル％以上がより好ましい。
　なお、式（Ｂ２）で表される繰り返し単位が含まれず、式（Ｂ３）で表される繰り返し単位が含まれる場合は、式（Ｂ２）で表される繰り返し単位の含有量は０モル％として、式（Ｂ３）で表される繰り返し単位の含有量が上記範囲であることが好ましい。

　また、含フッ素重合性化合物は、上記式（Ｂ１）～（Ｂ３）で表される繰り返し単位以外の他の繰り返し単位を有していてもよい。他の繰り返し単位の含有量は、含フッ素重合性化合物中の全繰り返し単位に対して、１０モル％以下であることが好ましく、１モル％以下であることがより好ましい。

　含フッ素重合性化合物がポリマーである場合、重量平均分子量（Ｍｗ：ポリスチレン換算）が５，０００～１００，０００であることが好ましく、７，０００～５０，０００であることがより好ましい。硬化性化合物Ａがポリマーである場合、重量平均分子量は、５，０００以上が好ましく、７，０００以上がより好ましい。
　また、含フッ素重合性化合物がポリマーである場合、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）は、１．８０～３．００であることが好ましく、２．００～２．９０であることがより好ましい。
　ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）法は、ＨＬＣ－８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる方法に基づく。

　含フッ素重合性化合物の市販品としては、例えば、ＤＩＣ社製のメガファックＲＳ－７２－Ｋ、メガファックＲＳ－７５、メガファックＲＳ－７６－Ｅ、メガファックＲＳ－７６－ＮＳ、メガファックＲＳ－７７等を利用することができる。

　重合性化合物の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、１～５０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。

（アルコキシシリル基を有する化合物）
　赤外線吸収組成物は、アルコキシシリル基を有する化合物を含有することもできる。アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１または２が特に好ましい。アルコキシシリル基を有する化合物は、アルコキシシリル基を一分子中に２個以上有することが好ましく、２～３個有することがさらに好ましい。アルコキシシリル基を有する化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、ｎ－プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、１，６－ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、パラスチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。また、上記以外にアルコキシオリゴマーを用いることができる。また、下記化合物を用いることもできる。

　市販品としては、信越シリコーン社製のＫＢＭ－１３、ＫＢＭ－２２、ＫＢＭ－１０３、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１０３、ＫＢＭ－３０３３、ＫＢＥ－３０３３、ＫＢＭ－３０６３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－３０８６、ＫＢＥ－３０６３、ＫＢＥ－３０８３、ＫＢＭ－３１０３、ＫＢＭ－７１０３、ＳＺ－３１、ＫＰＮ－３５０４、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７、Ｘ－４０－１０５３、Ｘ－４１－１０５９Ａ、Ｘ－４１－１０５６、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１８、Ｘ－４１－１８１０、Ｘ－４０－２６５１、Ｘ－４０－２６５５Ａ、ＫＲ－５１３，ＫＣ－８９Ｓ，ＫＲ－５００、Ｘ－４０－９２２５、Ｘ－４０－９２４６、Ｘ－４０－９２５０、ＫＲ－４０１Ｎ、Ｘ－４０－９２２７、Ｘ－４０－９２４７、ＫＲ－５１０、ＫＲ－９２１８、ＫＲ－２１３、Ｘ－４０－２３０８、Ｘ－４０－９２３８などが挙げられる。
　また、アルコキシシリル基を有する化合物は、アルコキシシリル基を側鎖に有するポリマーを用いることもできる。

　アルコキシシリル基を有する化合物の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、１～５０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。

＜＜光重合開始剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、光重合開始剤を含有してもよい。
　光重合開始剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対し、０．０１～３０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。
　光重合開始剤は、１種のみでも、２種以上でもよく、２種以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
　光重合開始剤としては、光により硬化性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有するものが好ましい。

　光重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン系化合物、α－アミノケトン化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ケタール誘導体化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物、チオール化合物などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号０２１７～０２２８の記載、特開２０１６－２１０１２号公報の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　オキシム化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司社製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）等を用いることができる。
　アセトフェノン系化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、および、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。またアシルホスフィン化合物としては市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９やＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（商品名：いずれもＢＡＳＦ社製）を用いることができる。
　本発明は、オキシム化合物として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれることとする。
　本発明は、オキシム化合物として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。

＜＜溶剤＞＞
　赤外線吸収組成物は溶剤を含有してもよい。溶剤は、特に制限はなく、赤外線吸収組成物の各成分を均一に溶解或いは分散しうるものであれば、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、水、有機溶剤を用いることができ、有機溶剤が好ましい。
　有機溶剤としては、例えば、アルコール類（例えばメタノール）、ケトン類、エステル類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、およびジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホオキサイド、スルホラン等が好適に挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶剤を併用する場合、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、およびプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液が好ましい。
　アルコール類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類の具体例としては、特開２０１２－１９４５３４号公報の段落番号０１３６等に記載のものが挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、エステル類、ケトン類、エーテル類の具体例としては、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４９７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６０９]）に記載のものが挙げられ、さらに、酢酸－ｎ－アミル、プロピオン酸エチル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチル、硫酸メチル、アセトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
　ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ以下、１０質量ｐｐｍ以下、あるいは１質量ｐｐｍ以下とすることができる）。

　本発明において、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔレベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。

　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留(分子蒸留や薄膜蒸留等)やフィルタを用いた濾過を挙げることができる。フィルタを用いたろ過におけるフィルタ孔径としては、ポアサイズ１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質としては、ポリテトラフロロエチレン製、ポリエチレン製、ナイロン製のフィルタが好ましい。

　溶剤は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。

　赤外線吸収組成物中における溶剤の量は、固形分が１０～９０質量％となる量が好ましい。下限は、２０質量％以上が好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましい。

＜＜界面活性剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、界面活性剤を含有してもよい。界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を組み合わせてもよい。界面活性剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０００１～５質量％が好ましい。下限は、０．００５質量％以上が好ましく、０．０１質量％以上がより好ましい。上限は、２質量％以下が好ましく、１質量％以下がより好ましい。
　界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。赤外線吸収組成物は、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤の少なくとも一方を含有することが好ましい。被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善される。このため、組成物の液特性（特に、流動性）が向上し、塗布厚の均一性や省液性がより改善する。その結果、少量の液量で数μｍ程度の薄膜を形成した場合であっても、厚みムラの小さい均一厚の膜形成を行える。

　フッ素系界面活性剤のフッ素含有率は、３～４０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２５質量％以下が更に好ましい。フッ素含有率が上述した範囲内である場合は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開ＷＯ２０１４／１７６６９号パンフレットの段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック　Ｆ－１７１、同Ｆ－１７２、同Ｆ－１７３、同Ｆ－１７６、同Ｆ－１７７、同Ｆ－１４１、同Ｆ－１４２、同Ｆ－１４３、同Ｆ－１４４、同Ｒ３０、同Ｆ－４３７、同Ｆ－４７５、同Ｆ－４７９、同Ｆ－４８２、同Ｆ－５５４、同Ｆ－７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ３９３、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　また、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。

　上記の化合物の重量平均分子量は、例えば、１４，０００である。
　ノニオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５３（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６７９]）等に記載のノニオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　カチオン系界面活性剤として具体的には、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５４（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６８０]）に記載のカチオン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　アニオン系界面活性剤として具体的には、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）社製）等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５６（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の[０６８２]）等に記載のシリコーン系界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜＜重合禁止剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、例えばフェノール系水酸基含有化合物類、Ｎ－オキシド化合物類、ピペリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン１－オキシルフリーラジカル化合物類、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、ジアゾニウム化合物類、カチオン染料類、スルフィド基含有化合物類、ニトロ基含有化合物類、リン系化合物類、ラクトン系化合物類、遷移金属化合物類（ＦｅＣｌ₃、ＣｕＣｌ₂等）が挙げられる。また、これらの化合物類は、フェノール骨格やリン含有骨格などの重合禁止機能を発現する構造が同一分子内に複数存在する複合系化合物であってもよい。例えば特開平１０－４６０３５号公報に記載の化合物なども好適に用いられる。重合禁止剤の具体例としては、ハイドロキノン、パラメトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－パラクレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられ、パラメトキシフェノールが好ましい。
　重合禁止剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましい。

＜＜紫外線吸収剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。
　紫外線吸収剤は、公知の化合物を用いることができる。市販品としては、例えば、ＵＶ５０３（大東化学株式会社）などが挙げられる。また、紫外線吸収剤は、アミノジエン系、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、トリアジン系等の紫外線吸収剤を用いることができる。具体例としては特開２０１３－６８８１４号に記載の化合物が挙げられる。ベンゾトリアゾール系としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
　紫外線吸収剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０１～１０質量％であることが好ましく、０．０１～５質量％であることがより好ましい。

＜＜エポキシ樹脂硬化剤＞＞
　赤外線吸収組成物がエポキシ樹脂を含む場合、エポキシ樹脂硬化剤をさらに含むことが好ましい。エポキシ樹脂硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物、多価カルボン酸などが挙げられる。エポキシ樹脂硬化剤としては耐熱性、硬化物の透明性という観点から多価カルボン酸が好ましく、分子内に二つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物が最も好ましい。

　酸無水物としては具体的には無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸、２，４－ジエチル無水グルタル酸、３，３－ジメチル無水グルタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ［２，２，１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン－１，３，４－トリカルボン酸－３，４－無水物、等の酸無水物が挙げられる。特にメチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、２，４－ジエチル無水グルタル酸、ブタンテトラカルボン酸無水物、ビシクロ［２，２，１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、メチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン－２，３－ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン－１，３，４－トリカルボン酸－３，４－無水物等が、耐光性、透明性、作業性の観点から好ましい。

　多価カルボン酸は少なくとも２つのカルボキシル基を有する化合物である。なお、以下の化合物に幾何異性体又は光学異性体が存在する場合は特に制限されない。多価カルボン酸としては、２～６官能のカルボン酸が好ましく、例えば、１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸、１，２，３－プロパントリカルボン酸、１，３，５－ペンタントリカルボン酸、クエン酸等のアルキルトリカルボン酸類；フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、シクロヘキサントリカルボン酸、ナジック酸、メチルナジック酸等の脂肪族環状多価カルボン酸類；リノレン酸やオレイン酸などの不飽和脂肪酸の多量体およびそれらの還元物であるダイマー酸類；リンゴ酸等の直鎖アルキル二酸類等が好ましく、さらにはヘキサン二酸、ペンタン二酸、ヘプタン二酸、オクタン二酸、ノナン二酸、デカン二酸が好ましく、特にブタン二酸が、耐熱性、硬化物の透明性の観点からより好ましい。

　エポキシ樹脂硬化剤の含有量は、エポキシ樹脂１００質量部に対し、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０１～１０質量部がより好ましく、０．１～６．０質量部がさらに好ましい。

＜＜他の成分＞＞
　赤外線吸収組成物は、例えば、分散剤、増感剤、架橋剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、密着促進剤およびその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）をさらに含有することができる。
　これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３～０２２８（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の[０２３７]～[０３０９]）、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０２、段落番号０１０３～０１０４、段落番号０１０７～０１０９、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号０１５９～０１８４等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

＜赤外線吸収組成物の調製方法＞
　赤外線吸収組成物は、上記各成分を混合して調製できる。
　赤外線吸収組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。フィルタは、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン－６、ナイロン－６，６等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量を含む）等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）が好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～２．５μｍがより好ましく、０．０１～１．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径を上記範囲とすることにより、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせても良い。その際、第１のフィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。異なるフィルタを組み合わせて２回以上ろ過を行う場合は、１回目のろ過の孔径より２回目以降の孔径が大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第１のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
　第２のフィルタは、上述した第１のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第２のフィルタの孔径は、０．５～７．０μｍが好ましく、２．５～７．０μｍがより好ましく、４．５～６．０μｍが更に好ましい。フィルタの孔径を上記範囲とすることにより、組成物混合液に含有されている成分粒子を残存させたまま、異物を除去することができる。
　例えば、第１のフィルタでのろ過の後に、他の成分を追加し、第２のろ過を行ってもよい。

　赤外線吸収組成物の粘度は、例えば、塗布により赤外線吸収膜を形成する場合、１～３０００ｍＰａ・ｓの範囲にあることが好ましい。下限は、１０ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００ｍＰａ・ｓ以上がより好ましい。上限は、２０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１５００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。

＜赤外線吸収膜の形成方法＞
　赤外線吸収膜は、上記赤外線吸収組成物を、透明基材または誘電体多層膜に適用し、乾燥して形成できる。膜厚については、目的に応じて適宜選択することができる。

　赤外線吸収組成物の適用方法としては、例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。
　乾燥条件としては、各成分、溶剤の種類、使用割合等によっても異なるが、６０℃～１５０℃の温度で３０秒間～１５分間程度である。
　赤外線吸収膜の形成方法において、その他の工程を含んでいても良い。その他の工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、前加熱工程（プリベーク工程）、硬化処理工程、後加熱工程（ポストベーク工程）などが挙げられる。

＜＜前加熱工程・後加熱工程＞＞
　前加熱工程および後加熱工程における加熱温度は、通常、８０℃～２００℃であり、９０℃～１５０℃であることが好ましい。前加熱工程および後加熱工程における加熱時間は、通常、３０秒～２４０秒であり、６０秒～１８０秒であることが好ましい。
＜＜硬化処理工程＞＞
　硬化処理工程は、必要に応じ、形成された上記膜に対して硬化処理を行う工程であり、この処理を行うことにより、赤外線吸収膜の機械的強度が向上する。重合性化合物を含む赤外線吸収組成物を用いた場合、硬化処理工程を行うことが好ましい。
　上記硬化処理工程としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、全面露光処理、全面加熱処理などが好適に挙げられる。ここで、本発明において「露光」とは、各種波長の光のみならず、電子線、Ｘ線などの放射線照射をも包含する意味で用いられる。
　露光は放射線の照射により行うことが好ましく、露光に際して用いることができる放射線としては、特に、電子線、ＫｒＦ、ＡｒＦ、ｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線や可視光が好ましく用いられる。
　露光方式としては、ステッパー露光や、高圧水銀灯による露光などが挙げられる。
　露光量は５～３０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、１０～２０００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましく、５０～１０００ｍＪ／ｃｍ²が特に好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％以下、好ましくは５体積％以下、より好ましくは実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％以上、好ましくは３０体積％以上、より好ましくは５０体積％以上）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ²～１０００００Ｗ／ｍ²（例えば、５０００Ｗ／ｍ²以上、好ましくは１５０００Ｗ／ｍ²以上、より好ましくは３５０００Ｗ／ｍ²以上）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ²、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ²などとすることができる。
　全面露光処理の方法としては、例えば、形成された上記膜の全面を露光する方法が挙げられる。赤外線吸収組成物が重合性化合物を含有する場合、全面露光により、膜中の重合成分の硬化が促進され、上記膜の硬化が更に進行し、赤外線吸収膜の耐溶剤性や耐熱性が向上する。
　上記全面露光を行う装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、超高圧水銀灯などのＵＶ露光機が好適に挙げられる。
　また、全面加熱処理の方法としては、形成された上記膜の全面を加熱する方法が挙げられる。全面加熱により、赤外線吸収膜の耐溶剤性や耐熱性が向上する。
　全面加熱における加熱温度は、１２０℃～２５０℃が好ましく、１６０℃～２２０℃がより好ましい。加熱温度が１２０℃以上であれば、加熱処理によって膜強度が向上し、２５０℃以下であれば、膜成分の分解を抑制できる。
　全面加熱における加熱時間は、３分～１８０分が好ましく、５分～１２０分がより好ましい。
　全面加熱を行う装置としては、特に制限はなく、公知の装置の中から、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドライオーブン、ホットプレート、赤外線（ＩＲ）ヒーターなどが挙げられる。

＜＜誘電体多層膜＞＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、誘電体多層膜を有する。誘電体多層膜を有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られる。

　本発明において、誘電体多層膜は、透明基材の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合には、製造コストや製造容易性に優れる。両面に設ける場合には、高い強度を有し、反りの生じにくい赤外線カットフィルタを得ることができる。また、誘電体多層膜は、透明基材と接していてもよく、接していなくてもよい。すなわち、誘電体多層膜は、透明基材の表面に形成されていてもよく、赤外線吸収膜の表面に形成されていてもよい。
　本発明の赤外線カットフィルタは、透明基材と誘電体多層膜との間に、赤外線吸収膜を有し、赤外線吸収膜と誘電体多層膜とが接していることが好ましい。このような構成とすることにより、赤外線吸収膜が、誘電体多層膜により酸素や湿度から遮断され、赤外線カットフィルタの耐光性や耐湿性が良化する。更には、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタが得られ易い。

　なお、本発明において、誘電体多層膜は、光の干渉の効果を利用して赤外線を遮光する膜である。すなわち、誘電体多層膜は、赤外線を反射する能力を有する膜を意味する。具体的には、屈折率の異なる誘電体層（高屈折率材料層と低屈折率材料層）を、交互に２層以上積層してなる膜である。
　また、赤外線を吸収して赤外線を遮光する膜（赤外線吸収剤を含有する膜）は、赤外線吸収膜に該当し、誘電体多層膜とは異なる。

　誘電体多層膜の材料としては、例えばセラミックを用いることができる。光の干渉の効果を利用した赤外線カットフィルタを形成するためには、屈折率の異なるセラミックを２種以上用いることが好ましい。誘電体多層膜としては具体的には、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した構成を好適に用いることができる。

　高屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．７以上の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．７～２．５の材料が選択される。この材料としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛または酸化インジウムを主成分とし酸化チタン、酸化錫および／または酸化セリウムなどを少量含有させたものが挙げられる。

　低屈折率材料層を構成する材料としては、屈折率が１．６以下の材料を用いることができ、屈折率の範囲が通常は１．２～１．６の材料が選択される。この材料としては、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウムおよび六フッ化アルミニウムナトリウムが挙げられる。

　誘電体多層膜を形成する方法としては、特に制限はないが、例えば、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層した誘電体多層膜を形成し、これを、透明基材および／または赤外線吸収膜と接着剤で張り合わせる方法、透明基材および／または赤外線吸収膜の表面に、ＣＶＤ法、スパッタ法、真空蒸着法などにより、高屈折率材料層と低屈折率材料層とを交互に積層して誘電体多層膜を形成する方法を挙げることができる。

　高屈折率材料層および低屈折率材料層の各層の厚みは、遮断しようとする赤外線波長λ（ｎｍ）の０．１λ～０．５λの厚みであることが好ましい。厚みが上記範囲とすることにより、特定波長の遮断・透過をコントロールしやすい。

　また、誘電体多層膜における積層数は、２～１００層が好ましく、２～６０層がより好ましく、２～４０層が更に好ましい。また、透明基材および／または赤外線吸収膜の両面に誘電体多層膜を有する場合は、両面の合計積層数が上記範囲であることが好ましい。
　誘電体多層膜を蒸着した際に基板に反りが生じてしまう場合には、これを解消するために、基板両面へ誘電体多層膜を蒸着する、基板の誘電体多層膜を蒸着した面に紫外線等の放射線を照射する等の方法をとる事ができる。なお、放射線を照射する場合、誘電体多層膜の蒸着を行いながら照射してもよいし、蒸着後別途照射してもよい。

　本発明の赤外線カットフィルタは、更に紫外線吸収膜を有していてもよい。紫外線吸収膜を有することで、紫外線遮蔽性に優れた赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収膜が含む紫外線吸収剤としては、赤外線吸収組成物で説明した材料などが挙げられる。

＜赤外線カットフィルタの層構成＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、透明基材と、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜と、誘電体多層膜とを有する層構成であればよい。例えば、図１、２に示す構造が挙げられる。図１、２において、１は透明基材であり、２は赤外線吸収膜であり、３は、誘電体多層膜である。
　本発明の赤外線カットフィルタの層構成の一例を以下に示す。以下において、透明基材を層Ａ、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜を層Ｂ、誘電体多層膜を層Ｃと記載する。
　以下に示す層構成のうち、層Ａの両面に層Ｂを有する層構成である（４）、（６）、（８）～（１０）が好ましい。なかでも、（４）が好ましい。
（１）層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（２）層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（３）層Ｃ／層Ａ／層Ｂ
（４）層Ｂ／層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（５）層Ｃ／層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（６）層Ｂ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（７）層Ｃ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（８）層Ｃ／層Ｂ／層Ａ／層Ｂ／層Ｃ
（９）層Ｃ／層Ｂ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ
（１０）層Ｂ／層Ｃ／層Ａ／層Ｃ／層Ｂ

＜赤外線カットフィルタの用途＞
　本発明の赤外線カットフィルタは、赤外線を吸収・カットする機能を有するレンズ（デジタルカメラや携帯電話や車載カメラ等のカメラ用レンズ、ｆ－θレンズ、ピックアップレンズ等の光学レンズ）および半導体受光素子用の光学フィルタなどに用いられる。またＣＣＤカメラ用ノイズカットフィルター、ＣＭＯＳイメージセンサ用フィルタとしても有用である。また、有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子や太陽電池素子等にも好ましく用いることができる。また、熱線遮断フィルタとして用いることもできる。

＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、本発明の赤外線カットフィルタを含む。赤外線カットフィルタを含む固体撮像素子の詳細については、特開２０１５－０４４１８８号公報の段落番号０１０６～０１０７の記載、特開２０１４－１３２３３３号公報の段落番号００１０～００１２の記載を参酌でき、この内容は本明細書に含まれる事とする。

　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」および「部」は質量基準である。また、以下において、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをＰＧＭＥＡと記す。また、以下の化学式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。

＜誘電体多層膜付きガラス基板の作製＞
　ガラス基板の片面に高屈折率材料層であるＴｉＯ₂膜と、低屈折率材料層であるＳｉＯ₂膜を蒸着により、交互に２１層ずつ積層して誘電体多層膜（ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜との合計積層４２層、合計膜厚４３００．８２ｎｍ）を形成し、誘電体多層膜付きガラス基板を作製した。
　誘電体多層膜の各膜厚を下記表に示す。以下の表において、左蘭の数字は積層順番である。１番がガラス基板側であり、４２番が最表面である。すなわち、ガラス基板上に、１番から順に各層を積層して誘電体多層膜を形成した。

＜赤外線吸収組成物の調製＞
（赤外線吸収組成物１）
　以下に示す樹脂Ａを８．０４質量部と、以下に示す化合物ＳＱ－２３を０．１質量部と、重合性化合物としてＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）社製）を０．０７質量部と、メガファックＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）社製）を０．２６５質量部と、光重合開始剤として下記化合物を０．３８質量部と、溶剤としてＰＧＭＥＡを８２．５１質量部とを混合し、撹拌した後、孔径０．５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）社製）でろ過して、赤外線吸収組成物を調製した。

樹脂Ａ：下記化合物（Ｍｗ：４１０００）

化合物ＳＱ－２３：下記構造

光重合開始剤：下記構造

（赤外線吸収組成物２）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物Ａ－５２を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２を調製した。

（赤外線吸収組成物３）
　イオン交換水６９．５質量部に下記化合物Ｃ－１５を０．５質量部溶解させ、更にゼラチンの１０質量％水溶液３０．０質量部を加え、更に硬膜剤として１，３－ジビニルスルホニル－２－プロパノールを０．３質量部加え攪拌することで、赤外線吸収組成物３を調製した。

（赤外線吸収組成物４）
　化合物Ｃ－１５のかわりに、下記化合物３１用いた以外は、赤外線吸収組成物３と同様にして、赤外線吸収組成物４を調製した。

（赤外線吸収組成物５）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、化合物１０１を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物５を調製した。

（赤外線吸収組成物６）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１０２を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物６を調製した。

（赤外線吸収組成物７）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１０３を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物７を調製した。

（赤外線吸収組成物８）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１０４を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物８を調製した。

（赤外線吸収組成物９）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１０５を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物９を調製した。

（赤外線吸収組成物１０）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１０６を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１０を調製した。

（赤外線吸収組成物１１）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１０８を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１１を調製した。

（赤外線吸収組成物１２）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１０９を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１２を調製した。

（赤外線吸収組成物１３）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１０を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１３を調製した。

（赤外線吸収組成物１４）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１１を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１４を調製した。

（赤外線吸収組成物１５）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１２を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１５を調製した。

（赤外線吸収組成物１６）
　化合物Ｃ－１５のかわりに、下記化合物１１３を用いた以外は、赤外線吸収組成物３と同様にして、赤外線吸収組成物１６を調製した。

（赤外線吸収組成物１７）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１４を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１７を調製した。

（赤外線吸収組成物１８）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１５を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１８を調製した。

（赤外線吸収組成物１９）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１６を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物１９を調製した。

（赤外線吸収組成物２０）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１７を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２０を調製した。

（赤外線吸収組成物２１）
　化合物ＳＱ－２３のかわりに、下記化合物１１８を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２１を調製した。

（赤外線吸収組成物２２）
　樹脂Ａのかわりに、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２２を調製した。

（赤外線吸収組成物２３）
　樹脂Ａを７．２４質量部に減らし、アルコキシシリル基を有する化合物（ＫＢＭ－３０６６、信越シリコーン社製）を０．８０質量部加えた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２３を調製した。

（赤外線吸収組成物２４）
　樹脂Ａを７．２４質量部に減らし、アルコキシシリル基を有する化合物（ＫＢＭ－９６５９、信越シリコーン社製）を０．８０質量部加えた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２４を調製した。

（赤外線吸収組成物２５）
　樹脂Ａを７．２４質量部に減らし、メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを０．８０質量部加えた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２５を調製した。

（赤外線吸収組成物２６）
　樹脂Ａのかわりに、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製）を用い、化合物ＳＱ－２３のかわりに、化合物１０６を用いた以外は、赤外線吸収組成物１と同様にして、赤外線吸収組成物２６を調製した。

（赤外線吸収組成物２７）
　エポキシ樹脂としてメタクリル酸グリシジル骨格ランダムポリマー（日油（株）製、マープルーフＧ－０１５０Ｍ　重量平均分子量１００００）５０．０質量部、メチルエチルケトン１００質量部を入れ、２０～３５℃で２時間撹拌し溶解した。次いで、赤外線吸収剤として、化合物１１９（クロロホルム中の極大吸収波長＝８３１ｎｍ、特開２００８－８８４２６号公報を参照。）を０．５００質量部と、化合物１２０（クロロホルム中の極大吸収波長＝７５８ｎｍ、特開２００８－８８４２６号公報を参照。）を０．２５０質量部添加し、２０～３５℃で均一になるまで撹拌した。さらにエポキシ樹脂硬化剤としてブタン二酸を０．５００質量部（エポキシ樹脂１００質量部に対し１質量部）を添加し、２０～３５℃で１時間撹拌して赤外線吸収組成物２７を調製した。

＜赤外線カットフィルタの作製＞
（実施例１～２６）
　上記で調製した各赤外線吸収組成物を、誘電体多層膜付きガラス基板の誘電体多層膜の表面（片面）に、スピンコーター（ミカサ（株）社製）を用いて塗布し、塗膜を形成し、１００℃、１２０秒間の前加熱（プリベーク）を行った後、ｉ線ステッパーを用い、１０００ｍＪ／ｃｍ²で全面露光を行った。次いで、２２０℃、３００秒間の後加熱（ポストベーク）を行い、膜厚０．８μｍの赤外線吸収膜を形成し、赤外線カットフィルタを得た。

（実施例２７）
　赤外線吸収組成物２７を、誘電体多層膜付きガラス基板の誘電体多層膜の表面（片面）に、スピンコーター（ミカサ（株）社製）を用いて塗布し、塗膜を形成し、８０℃、１０分間の前加熱（プリベーク）を行った後、１５０℃で３時間熱硬化して赤外線吸収膜を形成し、赤外線カットフィルタを得た。

（実施例２８～５３）
　ガラス基板の表面（片面）に、実施例１～２６と同様の方法で各赤外線吸収組成物を塗布し、膜厚０．８μｍの赤外線吸収膜を形成した。次に、赤外線吸収膜の表面に、高屈折率材料層であるＴｉＯ₂膜と、低屈折率材料層であるＳｉＯ₂膜を蒸着により、交互に２１層ずつ積層して誘電体多層膜（ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜との合計積層４２層、合計膜厚４３００．８２ｎｍ）を形成し、赤外線カットフィルタを得た。誘電体多層膜の各膜厚は上記表の通りとした。

（実施例５４）
　ガラス基板の表面（片面）に、赤外線吸収組成物２７を、スピンコーター（ミカサ（株）社製）を用いて塗布し、塗膜を形成し、８０℃、１０分間の前加熱（プリベーク）を行った後、１５０℃で３時間熱硬化して赤外線吸収膜を形成した。次に、赤外線吸収膜の表面に、高屈折率材料層であるＴｉＯ₂膜と、低屈折率材料層であるＳｉＯ₂膜を蒸着により、交互に２１層ずつ積層して誘電体多層膜（ＴｉＯ₂膜とＳｉＯ₂膜との合計積層４２層、合計膜厚４３００．８２ｎｍ）を形成し、赤外線カットフィルタを得た。誘電体多層膜の各膜厚は上記表の通りとした。

（比較例１）
　誘電体多層膜付きガラス基板を赤外線カットフィルタとして用いた。

＜Ｂ／Ａ比＞
　赤外線吸収膜を、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、３－メトキシプロピオン酸メチル（ＭＭＰ）、乳酸エチル（ＥＬ）、アセトン、エタノール、それぞれに２５℃で２分間浸漬し、各有機溶剤に浸漬する前の、極大吸収波長における吸光度Ａと、各有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率を測定し、下記基準に従って評価した。なお、比較例１は、誘電体多層膜付きガラス基板での評価である。
　５：Ｂ／Ａ≧０．９５
　４：０．９５＞Ｂ／Ａ≧０．９０
　３：０．９０＞Ｂ／Ａ≧０．８０
　２：０．８０＞Ｂ／Ａ≧０．７０
　１：０．７０＞Ｂ／Ａ

＜耐光性＞
　赤外線カットフィルタに対し、キセノンランプを５万ルクスで２０時間照射した後、耐光テスト前後の色差のΔＥａｂ値を測定した。ΔＥａｂ値の小さい方が耐光性が良好であることを示す。
　なお、ΔＥａｂ値は、ＣＩＥ１９７６（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）空間表色系による以下の色差公式から求められる値である（日本色彩学会編新編色彩科学ハンドブック（昭和６０年）ｐ．２６６）。
ΔＥａｂ＝｛（ΔＬ＊）²＋（Δａ＊）²＋（Δｂ＊）²｝^1/2
　＜＜判定基準＞＞
　５：ΔＥａｂ値＜３
　４：３≦ΔＥａｂ値＜５
　３：５≦ΔＥａｂ値＜１０
　２：１０≦ΔＥａｂ値＜２０
　１：２０≦ΔＥａｂ値

＜耐熱性＞
　赤外線カットフィルタを、ホットプレートを用いて２６０℃で３０分加熱した後、色度計ＭＣＰＤ－１０００（大塚電子製）にて、耐熱テスト前後の色差のΔＥａｂ値を測定して、下記基準に従って評価した。ΔＥａｂ値の小さい方が耐熱性が良好であることを示す。
　＜＜判定基準＞＞
　５：ΔＥａｂ値＜３
　４：３≦ΔＥａｂ値＜５
　３：５≦ΔＥａｂ値＜１０
　２：１０≦ΔＥａｂ値＜２０
　１：２０≦ΔＥａｂ値

＜赤外線遮蔽性＞
　赤外線カットフィルタ面に対し垂直から測定した７００～１０００ｎｍの平均透過率を以下の基準に従って評価した。
　５：１％未満
　４：１％以上３％未満
　３：３％以上５％未満
　２：５％以上１０％未満
　１：１０％以上

＜視野角依存性＞
　入射角を赤外線カットフィルタ面に対し垂直（角度０度）及び４０度に変化させ、波長６００ｎｍ以上の可視から近赤外線領域における、分光透過率の低下によるスロープの透過率が５０％となる波長のシフト量を、下記基準に従って評価した。
　５：５ｎｍ未満
　４：５～１０ｎｍ未満
　３：１０～２０ｎｍ未満
　２：２０～３０ｎｍ未満
　１：３０ｎｍ以上

　上記結果より、実施例は、赤外線遮蔽性および視野角依存性に優れていた。また、赤外線吸収膜はＢ／Ａが０．９以上であった。この赤外線吸収膜は、各有機溶剤に浸漬後も欠陥がなかった。

　赤外線吸収組成物１において、「ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ」を、同量のエチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業社製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬株式会社製）、または、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬株式会社製）に変更しても同様の効果が得られる。

　赤外線吸収組成物１において、樹脂Ａを、同量の下記樹脂に変更しても同様の効果が得られる。

　赤外線吸収組成物１において、本明細書の赤外線吸収組成物で説明した界面活性剤を、赤外線吸収組成物の全固形分に対して、０．０００１～５質量％の範囲でさらに添加しても、同様の効果が得られる。

　赤外線吸収組成物１において、ＰＧＭＥＡを、本明細書の赤外線吸収組成物で説明した溶剤に置き換えても同様の効果が得られる。

１：透明基材
２：赤外線吸収膜
３：誘電体多層膜

Claims

　透明基材と、赤外線吸収剤を含有する赤外線吸収膜と、誘電体多層膜とを有し、
　前記赤外線吸収膜は、６００ｎｍ以上の波長領域に極大吸収波長を有し、
　前記赤外線吸収膜を、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピオン酸メチル、乳酸エチル、アセトンおよびエタノールから選ばれる少なくとも１種の有機溶剤に浸漬する前の、前記極大吸収波長における吸光度Ａと、
　前記赤外線吸収膜を、前記有機溶剤に２５℃で２分浸漬した後の、前記吸光度Ａを測定した波長での吸光度Ｂとの比率であるＢ／Ａが０．９以上である、赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収膜は、樹脂を含む、請求項１に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収膜は、三次元架橋物を含む、請求項１または２に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記三次元架橋物は、２個以上の重合性基を有する重合性化合物を硬化してなるものである、請求項３に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物である、請求項１～４のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、有機色素を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、および、ナフタロシアニン化合物から選択される少なくとも１種を含有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収剤は、下記一般式１～３で表される化合物から選択される少なくとも１種である、請求項１～７のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ；
一般式１

　一般式１中、Ａ¹およびＡ²は、それぞれ独立に、アリール基、ヘテロアリール基または下記一般式１－Ａで表される基を表す；
一般式１－Ａ

　一般式１－Ａ、Ｚ^1Aは、含窒素複素環を形成する非金属原子団を表し、Ｒ^2Aは、アルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を表し、ｄは、０または１を表し、波線は連結手を表す；
一般式２

　一般式２中、Ｒ^1aおよびＲ^1bは、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ²～Ｒ⁵は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ²とＲ³、Ｒ⁴とＲ⁵は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ⁶およびＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ^AＲ^B、または金属原子を表し、Ｒ^AおよびＲ^Bは、各々独立に、水素原子または置換基を表し、
　Ｒ⁶は、Ｒ^1aまたはＲ³と、共有結合もしくは配位結合していてもよく、Ｒ⁷は、Ｒ^1bまたはＲ⁵と、共有結合もしくは配位結合していてもよい；
一般式３

　一般式３中、Ｚ¹およびＺ²は、それぞれ独立に、縮環してもよい５員または６員の含窒素複素環を形成する非金属原子団であり、
　Ｒ¹⁰¹およびＲ¹⁰²は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基またはアリール基を表し、
　Ｌ¹は、奇数個のメチンからなるメチン鎖を表し、
　ａおよびｂは、それぞれ独立に、０または１であり、
　ａが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが二重結合で結合し、ｂが０の場合は、炭素原子と窒素原子とが単結合で結合し、
　式中のＣｙで表される部位がカチオン部である場合、Ｘ¹はアニオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位がアニオン部である場合、Ｘ¹はカチオンを表し、ｃは電荷のバランスを取るために必要な数を表し、式中のＣｙで表される部位の電荷が分子内で中和されている場合、ｃは０である。
　前記赤外線吸収剤は、２５℃の水に１質量％以上溶解する化合物である、請求項１～８のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記赤外線吸収膜は、ゼラチンを含む、請求項１～９のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記透明基材の両面に、前記赤外線吸収膜を有する、請求項１～１０のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　前記透明基材と前記誘電体多層膜との間に、前記赤外線吸収膜を有し、前記赤外線吸収膜と前記誘電体多層膜とが接している、請求項１～１１のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタ。
　請求項１～１２のいずれか１項に記載の赤外線カットフィルタを有する、固体撮像素子。