JP2017531734A - 熱電活性材料のニッケルおよびスズによるプラズマ被覆 - Google Patents
熱電活性材料のニッケルおよびスズによるプラズマ被覆 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017531734A JP2017531734A JP2017517330A JP2017517330A JP2017531734A JP 2017531734 A JP2017531734 A JP 2017531734A JP 2017517330 A JP2017517330 A JP 2017517330A JP 2017517330 A JP2017517330 A JP 2017517330A JP 2017531734 A JP2017531734 A JP 2017531734A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma flame
- carrier gas
- particles
- nozzle
- nickel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/06—Metallic material
- C23C4/08—Metallic material containing only metal elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
- C23C4/134—Plasma spraying
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/01—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/80—Constructional details
- H10N10/81—Structural details of the junction
- H10N10/817—Structural details of the junction the junction being non-separable, e.g. being cemented, sintered or soldered
Abstract
Description
・Thermoelectrics Goes Automotive、D.Jaensch(ed.)、expert verlag GmbH、2011、ISBN 978−3−8169−3064−8、
・特開2006−032850号公報(JP2006032850A)、
・欧州特許出願公開第0773592号明細書(EP0773592A2)、
・米国特許第6872879号明細書(US6872879B1)、
・米国特許出願公開第2005/0112872号明細書(US20050112872A1)、
・特開2004−265988号公報(JP2004265988A)。
・好適な均質性、密度および層厚を有する、効果的な、かつここで可能な限り薄い拡散バリアの作製、
・設けられた1つ以上の層の高い電気的体積抵抗、ならびに異なる層のすべての接触帯域において低い電気的接触抵抗、
・熱電素子の製造費用を低く抑えるために、被覆のための少ない投資費用および運転費用、それというのは、そのようにしてしか経済的効果がないからである、
・被覆法は、大量生産に適しており、良好に拡張可能かつ簡単にコントロール可能であり、一定の品質および高い処理能力を提供し、かつ変更された形状および/または材料に適合可能でなければならない、
・被覆法は、一様な、かつ良好に操作可能な層構造を提供しなければならない、
・被覆法は、異なるTE活性材料への一様かつ良好な接着性を提供しなければならない、
・被覆剤の損失は、ほんのわずかしか生じてはならない、
・微細に分散する金属(特にニッケル)の毒性は、コントロールされなければならない、
・方法は、局所的に定義可能な層構造を、すなわち活性材料の被覆される表面にのみ、一般的に導体への後々の接触箇所の領域において提供しなければならない。不所望または不必要な箇所での堆積は回避され、隣接するTE脚部の間での不所望な電気接続の形成も望ましくない、
・方法は、使用される被覆材料ならびに被覆される活性材料の品質変化に対して安定しているのが望ましい、
・方法は、物質結合の接続を可能にすることが望ましい、
・最後に、方法は、慣用の導電材料、例えば銅、銀、アルミニウム、スズ、または金への良好な機械的および電気的なボンディング性を保証するのが望ましい。
ニッケルスパッタリングは、高真空および高純度のニッケルターゲットを必要とする、費用のかかる高価な方法である。ニッケルスパッタリングは、高真空チャンバー、およびターゲットの限られたニッケル除去率のため、低い処理能力を提供するにすぎない。さらに、ここで、効率が悪いため、ニッケル消費量が高いことが難点である、それというのは、堆積が、真空チャンバーのほぼすべての表面で行われるからである。最後に、エネルギー消費量は計り知れない。同じことが、原則として、CVD/PVD技術にも当てはまる。ガルバニック被覆は、半導体への接着性を制限されてしか達成しない。さらに、ガルバニック被覆は、活性面の清浄および清潔さに対する要求が高い。侵食性のガルバニ浴は、半導体およびTE素子のその他の素子または対向電極にも作用することがあり、さらに、ガルバニ浴は、毒性が非常に高く、かつ環境的に危険である。
D50は、0.6μmから25μmまでであり、ここで、4μmから7μmまでが好ましい
を有するニッケル粒子を使用することを企図する。
プラズマ被覆設備は、市販されている。その中心をなすのは、ノズルであり、ノズル内に、イオン化可能なガスのキャリアガス流が流入する。ノズルには、金属粉末も送給され、ノズル内で、キャリアガス流中に分散される。キャリアガスは、高電圧が放電されるイオン化帯域を通される。具体的には、そのために、ノズルは、陽極および陰極を有しており、これらの間で、電圧が、火花放電によって放電される。キャリアガスは、放電の領域を流れ、ここで、イオン化される、つまり、同じ向きに(gleichsinnig)イオン的に帯電される。分散された粒子を有するイオン化されたキャリアガスは、ノズルをプラズマ流として離れ、熱電活性材料の被覆される表面に当たる。ニッケル粒子は、そのようにして活性材料上に堆積する。
a)キャリアガスを、10Nl/minから60Nl/minまでの体積流量でノズルに送給し、ここで、30Nl/minが好ましい、
b)キャリアガスを、電圧によって引き起こされた放電を通過させることによって、ノズル内でイオン化し、
c)ニッケル粒子を、1g/minから10g/minまでの送給速度でノズルに送給し、ここで、3.5g/minが好ましい、
d)ニッケル粒子を、キャリアガス流中に分散させ、ここで、これは、キャリアガスのイオン化の前、またはその後、またはその間に行われる、
e)プラズマ火炎をノズルから熱電活性材料の方向に出させ、
f)ノズルおよび熱電活性材料を、一定の距離で、80mm/sから250mm/sまでの送り込み速度で相互に相対的に動かし、ここで、200mm/sの送り込み速度が好ましい、
そのようにして、
g)プラズマ火炎によって、ノズルに供給されたニッケル粒子を熱電活性材料上に堆積させ、その結果、3μmから100μmまでの層厚を有する拡散バリアが熱電活性材料上で成長し、ここで、10μmから20μmまでの層厚が好ましい。
以下の仕様を満たす粒度分布を有するスズ粒子が使用されるのが望ましい:
D50は、1μmから40μmまでであり、ここで、18μmから22μmまでが好ましい。
a)ここで、窒素、水素、またはそれらの混合物から選択されるキャリアガスを使用する、ここで、空気がキャリアガスとして好ましい、
b)ここで、キャリアガスを、電圧を用いて、特に、15kHzから25kHzの間のパルス周波数で、10kVから50kVの間のパルス直流電圧でイオン化する、
c)ここで、プラズマ火炎の温度は、3000K未満である。
a)キャリアガスを、10Nl/minから60Nl/minまでの体積流量でノズルに送給し、ここで、30Nl/minが好ましい、
b)キャリアガスを、電圧によって引き起こされた放電を通過させることによって、ノズル内でイオン化し、
c)スズ粒子を、1g/minから10g/minまでの送給速度でノズルに送給し、ここで、3.5g/minが好ましい、
d)スズ粒子をキャリアガス流中に分散させ、ここで、これは、キャリアガスのイオン化の前、またはその後、またはその間に行われる、
e)プラズマ火炎をノズルから拡散バリアの方向に出させて、
f)ノズルおよび拡散バリアを、一定の距離で、80mm/sから250mm/sまでの送り込み速度で相互に相対的に動かす、ここで、200mm/sの送り込み速度が好ましい、
ことによって生成させ、
そのようにして、
g)プラズマ火炎によって、ノズルに供給されたスズ粒子を拡散バリア上に堆積させ、その結果、20μmから200μmまでの層厚を有する接触促進層が拡散バリア上で成長し、ここで、50μmから100μmまでの層厚が好ましい。
金属粉末、ならびにプラズマ火炎によってならされる(bestreichen)被覆される工作物の表面への、局所的にきわめて制限されたエネルギー入力は、工作物の加熱を減少させ、それどころか、温度感受性の材料、例えば、熱電脚部を取り囲むまたはおおう、特に多数のTE半導体または熱電受動基板の被覆を可能にする。
2 陰極
3 陽極
4 キャリアガス
5 被覆材料(粉末状)
6 被覆ガス流
7 熱電活性材料
8 プラズマ
9 第一層Ni(拡散バリア)
10 第二層Sb(接触促進)
11 熱電脚部
12 基板
13 保護層
Claims (13)
- プラズマ火炎を用いて、熱電活性材料上にニッケルの拡散バリアを設ける、熱電素子のための熱電脚部を製造するための方法において、
プラズマ火炎に、0.74超の平均球形度を有するニッケル粒子を供給することを特徴とする、前記方法。 - ニッケル粒子は、その粒度分布に関して、以下の仕様:
D50は、0.6μmから25μmまでであり、ここで、4μmから7μmまでが好ましい
を満たすことを特徴とする、請求項1に記載の方法。 - スプレードライされ、ふるい分けられたニッケル粒子を使用することを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- プラズマ火炎は、ニッケル粒子が分散されているイオン化されたキャリアガス流であるという条件で、
a)窒素、水素、またはそれらの混合物から選択されるキャリアガスを使用すること、ここで、95体積%の窒素と5体積%の水素からなる混合物がキャリアガスとして好ましい、
b)キャリアガスを、電圧を用いて、特に、15kHzから25kHzの間のパルス周波数で、10kVから50kVの間のパルス直流電圧でイオン化すること、
c)プラズマ火炎の温度は、3000K未満であること
を特徴とする、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。 - プラズマ火炎をノズル内で生成させるという条件で、
a)キャリアガスを、10Nl/minから60Nl/minまでの体積流量でノズルに送給し、ここで、30Nl/minが好ましい、
b)キャリアガスを、電圧によって引き起こされた放電を通過させることによって、ノズル内でイオン化し、
c)ニッケル粒子を、1g/minから10g/minまでの送給速度でノズルに送給し、ここで、3.5g/minが好ましい、
d)ニッケル粒子をキャリアガス流中に分散させ、ここで、これは、キャリアガスのイオン化の前、またはその後、またはその間に行われる、
e)プラズマ火炎をノズルから熱電活性材料の方向に出させて、
f)ノズルおよび熱電活性材料を、一定の距離で、80mm/sから250mm/sまでの送り込み速度で相互に相対的に動かし、ここで、200mm/sの送り込み速度が好ましい、
そのようにして、
g)プラズマ火炎によって、ノズルに供給されたニッケル粒子を熱電活性材料上に堆積させ、その結果、3μmから100μmまでの層厚を有する拡散バリアが熱電活性材料上で成長し、ここで、10μmから20μmまでの層厚が好ましい、
ことを特徴とする、請求項4に記載の方法。 - 拡散バリアを設ける前に、熱電活性材料を、後々の拡散バリアの領域において、粒子が分散されていないプラズマ火炎で処理し、ここで、分散された粒子を含まないプラズマ火炎を、ニッケル粒子が分散されているプラズマ火炎と同じように生成させるが、分散された粒子を含まないプラズマ火炎に、ニッケル粒子を供給しないことが異なることを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- プラズマ火炎を用いて、ニッケルの拡散バリア上に接触促進層を設ける、特に請求項1から6までのいずれか1項に記載の、熱電素子のための熱電脚部を製造するための方法において、
接触促進層は、スズからなること、およびプラズマ火炎に、0.72超の平均球形度を有するスズ粒子を供給することを特徴とする、前記方法。 - スズ粒子は、その粒度分布に関して、以下の仕様:
D50は、1μmから40μmまでであり、ここで、18μmから22μmまでが好ましい
を満たすことを特徴とする、請求項7に記載の方法。 - スプレードライされ、ふるい分けられたスズ粒子を使用することを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- プラズマ火炎は、スズ粒子が分散されているイオン化されたキャリアガス流であるという条件で、
a)窒素、水素、またはそれらの混合物から選択されるキャリアガスを使用すること、ここで、空気がキャリアガスとして好ましい、
b)キャリアガスを、電圧を用いて、特に、15kHzから25kHzの間のパルス周波数で、10kVから50kVの間のパルス直流電圧でイオン化すること、
c)プラズマ火炎の温度は、3000K未満であること
を特徴とする、請求項7から9までのいずれか1項に記載の方法。 - プラズマ火炎をノズル内で生成させるという条件で、
a)キャリアガスを、10Nl/minから60Nl/minまでの体積流量でノズルに送給し、ここで、30Nl/minが好ましい、
b)キャリアガスを、電圧によって引き起こされた放電を通過させることによって、ノズル内でイオン化し、
c)スズ粒子を、1g/minから10g/minまでの送給速度でノズルに送給し、ここで、3.5g/minが好ましい、
d)スズ粒子を、キャリアガス流中に分散させ、ここで、これは、キャリアガスのイオン化の前、またはその後、またはその間に行われる、
e)プラズマ火炎をノズルから拡散バリアの方向に出させて、
f)ノズルおよび拡散バリアを、一定の距離で、80mm/sから250mm/sまでの送り込み速度で相互に相対的に動かし、ここで、200mm/sの送り込み速度が好ましい、
そのようにして、
g)プラズマ火炎によって、ノズルに供給されたスズ粒子を拡散バリア上に堆積させ、その結果、20μmから200μmまでの層厚を有する接触促進層が拡散バリア上で成長し、ここで、50μmから100μmまでの層厚が好ましい、
ことを特徴とする、請求項10に記載の方法。 - ニッケル粒子および/またはスズ粒子を、空気圧による送給を用いてプラズマ火炎に供給することを特徴とする、請求項1から11までのいずれか1項に記載の方法。
- 接点ブリッジによって相互に導電接続されて熱電対にされる、熱電活性材料からなる少なくとも2つの熱電脚部を含み、ここで、該熱電脚部の少なくとも1つは、請求項1から12までのいずれか1項に記載の方法によって得ることが可能であるか、または得られる熱電素子。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102014219756.2 | 2014-09-30 | ||
DE102014219756.2A DE102014219756A1 (de) | 2014-09-30 | 2014-09-30 | Plasma-Beschichten von thermoelektrischem Aktivmaterial mit Nickel und Zinn |
PCT/EP2015/072427 WO2016050770A1 (de) | 2014-09-30 | 2015-09-29 | Plasma-beschichten von thermoelektrischem aktivmaterial mit nickel und zinn |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017531734A true JP2017531734A (ja) | 2017-10-26 |
Family
ID=54330729
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017517330A Pending JP2017531734A (ja) | 2014-09-30 | 2015-09-29 | 熱電活性材料のニッケルおよびスズによるプラズマ被覆 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20170218494A1 (ja) |
EP (1) | EP3201373B1 (ja) |
JP (1) | JP2017531734A (ja) |
KR (1) | KR20170066372A (ja) |
CN (1) | CN106795616A (ja) |
CA (1) | CA2962507C (ja) |
DE (1) | DE102014219756A1 (ja) |
DK (1) | DK3201373T3 (ja) |
IL (1) | IL251220B (ja) |
TW (1) | TWI576464B (ja) |
WO (1) | WO2016050770A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3196951B1 (de) | 2016-01-21 | 2018-11-14 | Evonik Degussa GmbH | Rationelles verfahren zur pulvermetallurgischen herstellung thermoelektrischer bauelemente |
US11225708B2 (en) * | 2016-12-08 | 2022-01-18 | Tokyo Electron Limited | Plasma spraying device and method for manufacturing battery electrode |
JP6985097B2 (ja) * | 2017-10-17 | 2021-12-22 | 岩谷産業株式会社 | 混合ガスおよびそれを用いた溶射皮膜の形成方法 |
US20190300999A1 (en) * | 2018-04-02 | 2019-10-03 | Tokyo Electron Limited | Method of forming metallic film |
CN112899607A (zh) * | 2021-01-21 | 2021-06-04 | 清华大学 | 一种在氧化铝陶瓷表面敷镍或敷镍合金的方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04249385A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-04 | Komatsu Electron Kk | 熱電装置 |
JP2001102645A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Aisin Seiki Co Ltd | 熱電素子及び熱電装置 |
JP2005019783A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 熱電変換材料と電極の接合方法及び熱電変換モジュール |
JP2005281761A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Toyota Motor Corp | 溶射用粉末および溶射用粉末の製造方法 |
JP2007008730A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 球状アルミナ粉末、その製造方法および用途 |
JP2009074145A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Daido Metal Co Ltd | 摺動部材 |
US20120160293A1 (en) * | 2010-12-24 | 2012-06-28 | Hitachi Powdered Metals Co., Ltd. | Thermoelectric conversion module and production method therefor |
JP2013070044A (ja) * | 2011-09-08 | 2013-04-18 | Hitachi Chemical Co Ltd | 熱電変換モジュールおよびその製造方法 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3208835A (en) * | 1961-04-27 | 1965-09-28 | Westinghouse Electric Corp | Thermoelectric members |
US3909241A (en) * | 1973-12-17 | 1975-09-30 | Gte Sylvania Inc | Process for producing free flowing powder and product |
US4320251A (en) * | 1980-07-28 | 1982-03-16 | Solamat Inc. | Ohmic contacts for solar cells by arc plasma spraying |
US4395279A (en) * | 1981-11-27 | 1983-07-26 | Gte Products Corporation | Plasma spray powder |
US4654224A (en) * | 1985-02-19 | 1987-03-31 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method of manufacturing a thermoelectric element |
US5304329A (en) * | 1992-11-23 | 1994-04-19 | The B. F. Goodrich Company | Method of recovering recyclable unsintered powder from the part bed of a selective laser-sintering machine |
JPH09139526A (ja) | 1995-11-13 | 1997-05-27 | Ngk Insulators Ltd | 熱電気変換モジュールおよびその製造方法 |
FR2822295B1 (fr) | 2001-03-16 | 2004-06-25 | Edouard Serras | Generateur thermoelectrique a semi-conducteurs et ses procedes de fabrication |
JP2004265988A (ja) | 2003-02-28 | 2004-09-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 熱電体およびその製造方法 |
CH696811A5 (de) * | 2003-09-26 | 2007-12-14 | Michael Dvorak Dr Ing Dipl Phy | Verfahren zur Beschichtung einer Substratoberfläche unter Verwendung eines Plasmastrahles. |
US6969679B2 (en) | 2003-11-25 | 2005-11-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Fabrication of nanoscale thermoelectric devices |
JP2006032850A (ja) | 2004-07-21 | 2006-02-02 | Tohoku Okano Electronics:Kk | 熱電変換モジュール |
DE102006061435A1 (de) | 2006-12-23 | 2008-06-26 | Leoni Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Aufspritzen insbesondere einer Leiterbahn, elektrisches Bauteil mit einer Leiterbahn sowie Dosiervorrichtung |
CN101847686A (zh) * | 2009-03-26 | 2010-09-29 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 热电器件、电极材料及其制作方法 |
EP2633562B1 (en) * | 2010-10-27 | 2015-01-14 | Basf Se | Thermoelectric module and process for production thereof |
DE102011005246A1 (de) * | 2011-03-08 | 2012-09-13 | Behr Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung eines thermoelektrischen Moduls |
DE102012205098B4 (de) * | 2012-03-29 | 2020-04-02 | Evonik Operations Gmbh | Thermoelektrische Bauelemente auf Basis trocken verpresster Pulvervorstufen |
DE102012205087A1 (de) | 2012-03-29 | 2013-10-02 | Evonik Industries Ag | Pulvermetallurgische Herstellung eines thermoelektrischen Bauelements |
DE102012018387B4 (de) * | 2012-09-18 | 2023-12-28 | Evonik Operations Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines textilen thermoelektrischen Generators |
-
2014
- 2014-09-30 DE DE102014219756.2A patent/DE102014219756A1/de not_active Withdrawn
-
2015
- 2015-09-24 TW TW104131632A patent/TWI576464B/zh active
- 2015-09-29 JP JP2017517330A patent/JP2017531734A/ja active Pending
- 2015-09-29 US US15/515,172 patent/US20170218494A1/en not_active Abandoned
- 2015-09-29 CA CA2962507A patent/CA2962507C/en active Active
- 2015-09-29 CN CN201580053302.8A patent/CN106795616A/zh active Pending
- 2015-09-29 EP EP15781597.8A patent/EP3201373B1/de active Active
- 2015-09-29 WO PCT/EP2015/072427 patent/WO2016050770A1/de active Application Filing
- 2015-09-29 KR KR1020177008565A patent/KR20170066372A/ko not_active Application Discontinuation
- 2015-09-29 DK DK15781597.8T patent/DK3201373T3/en active
-
2017
- 2017-03-16 IL IL251220A patent/IL251220B/en active IP Right Grant
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04249385A (ja) * | 1991-02-06 | 1992-09-04 | Komatsu Electron Kk | 熱電装置 |
JP2001102645A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Aisin Seiki Co Ltd | 熱電素子及び熱電装置 |
JP2005019783A (ja) * | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 熱電変換材料と電極の接合方法及び熱電変換モジュール |
JP2005281761A (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Toyota Motor Corp | 溶射用粉末および溶射用粉末の製造方法 |
JP2007008730A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 球状アルミナ粉末、その製造方法および用途 |
JP2009074145A (ja) * | 2007-09-21 | 2009-04-09 | Daido Metal Co Ltd | 摺動部材 |
US20120160293A1 (en) * | 2010-12-24 | 2012-06-28 | Hitachi Powdered Metals Co., Ltd. | Thermoelectric conversion module and production method therefor |
JP2012134410A (ja) * | 2010-12-24 | 2012-07-12 | Hitachi Powdered Metals Co Ltd | 熱電変換モジュールおよびその製造方法 |
JP2013070044A (ja) * | 2011-09-08 | 2013-04-18 | Hitachi Chemical Co Ltd | 熱電変換モジュールおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106795616A (zh) | 2017-05-31 |
TW201632643A (zh) | 2016-09-16 |
TWI576464B (zh) | 2017-04-01 |
US20170218494A1 (en) | 2017-08-03 |
CA2962507C (en) | 2022-10-04 |
EP3201373B1 (de) | 2018-09-12 |
CA2962507A1 (en) | 2016-04-07 |
IL251220A0 (en) | 2017-05-29 |
KR20170066372A (ko) | 2017-06-14 |
EP3201373A1 (de) | 2017-08-09 |
DE102014219756A1 (de) | 2016-03-31 |
IL251220B (en) | 2021-03-25 |
DK3201373T3 (en) | 2019-01-14 |
WO2016050770A1 (de) | 2016-04-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2017531734A (ja) | 熱電活性材料のニッケルおよびスズによるプラズマ被覆 | |
US9461227B2 (en) | Thermoelectric material including nano-inclusions, thermoelectric module and thermoelectric apparatus including the same | |
US10147859B2 (en) | Thermoelectric power module | |
US11572275B2 (en) | Aluminum nitride film, method of manufacturing aluminum nitride film, and high withstand voltage component | |
US10800092B1 (en) | Low temperature atmospheric pressure plasma for cleaning and activating metals | |
Tsai et al. | Electrostatic-directed deposition of nanoparticles on a field generating substrate | |
KR20130107248A (ko) | 도전성 미분말, 도전성 페이스트 및 전자부품 | |
JP5787902B2 (ja) | 絶縁層付きセラミック構造体、金属体付きセラミック構造体、荷電粒子線出射装置、および絶縁層付きセラミック構造体の製造方法 | |
JPH05505909A (ja) | シリコンのエアゾール蒸着および膜の形成 | |
JP4201502B2 (ja) | 静電チャックおよびその製造方法 | |
JP5702964B2 (ja) | アース電極の接点及びその製造方法 | |
JP4565136B2 (ja) | 静電チャック | |
RU2570429C1 (ru) | Термоэлектрический модуль | |
JP2009302518A (ja) | 静電チャック | |
JP5562578B2 (ja) | オゾン発生装置用放電セル | |
JP4643371B2 (ja) | 熱電モジュール | |
CN113488399A (zh) | 一种超细节距半导体互连结构及其成型方法 | |
JP4292574B2 (ja) | 静電チャックとその製造方法 | |
Saiki et al. | Electrical property of laser-sintered nanopastes with reduced metal nanoparticles prepared by laser ablation in liquids | |
JP2013144833A (ja) | セラミック溶射材料、セラミック溶射被膜の形成方法および機能性セラミック溶射被膜 | |
JP2016157830A (ja) | 熱電素子及びそれを用いた熱電モジュール並びに熱電素子の製造方法 | |
CN105793467B (zh) | 等离子体装置用部件及其制造方法 | |
Puschmann et al. | Technological approach for a full thermally sprayed thermoelectric generator | |
KR20190070735A (ko) | 용사법을 이용한 전기 접점재료의 제조방법 및 이로부터 제조된 전기 접점재료 | |
Huang et al. | Fabrication of large scale FeSi/sub 2/thermoelectric device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180626 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190527 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20190813 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20191219 |