JP6985097B2 - 混合ガスおよびそれを用いた溶射皮膜の形成方法 - Google Patents
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Description
本実施の形態に係る混合ガスは、基材上に溶射皮膜を形成するためのプラズマ溶射におけるプラズマ形成用ガスとして用いられる混合ガスであって、1体積%以上5.5体積%以下の水素を含有し、残部が窒素および不可避的不純物からなる。
次に、上記混合ガスを用いた溶射皮膜の形成方法について、図面に基づいて説明する。図1はプラズマ溶射の手順の概略を示すフローチャートである。図2は基材上に形成された溶射皮膜の一例を示す図である。図3はプラズマ溶射装置の一例を示す概略図である。
まずプラズマ溶射装置100の構造について説明する。プラズマ溶射装置100は、主トーチ(カソードトーチ)20と、2つの副トーチ(アノードトーチ)40Aおよび40Bとを有する。主トーチ20は、主陰極支持部23と、第1主外套24と、第2主外套26とを備える。主陰極支持部23は中心軸周辺に主陰極22を保持するための貫通穴を有する。また第1主外套24および第2主外套26は、それぞれ中心軸周辺に貫通穴を有する円盤状の形状を有する。主陰極支持部23、第1主外套24、および第2主外套26は導体からなる。主陰極支持部23と、第1主外套24との間には絶縁体からなる第1絶縁層33を備える。第1主外套24と第2主外套26との間には絶縁体からなる第2絶縁層35を備える。主陰極支持部23と、第1絶縁層33と、第1主外套24と、第2絶縁層35と、第2主外套26とは、それぞれの中心軸が一致するように、溶射されるべき基材10に向かってこの順に配置されている。
次にプラズマ溶射装置100を用いて溶射皮膜12を形成する手順について説明する。まず、プラズマ溶射装置100内で初期のプラズマを形成して(以降、初期のプラズマを形成することを「点火」と呼ぶ)、プラズマ溶射装置100を起動させる。点火は、点火用の補助ガスとしてアルゴンガスなどの不活性ガスを流しながら、主陰極22と、点火用補助電極として作用する第1主外套24との間に電圧を印加することにより行う。具体的には、図3を参照して、まず副ガス導入ライン32から副ガス(アルゴン(Ar)などの不活性ガス)を第1チャンバ28内に導入する。副ガスを流したまま、スイッチ76とスイッチ78Aを開き、スイッチ74を閉じて、第1主電源70Aから主トーチ20の主陰極22と第1主外套24との間に電圧を印加する。そうすると、主陰極22の先端から第1主外套24の放出口に向かって起動アークが形成される。これによって第1チャンバ28内に導入された副ガスが加熱され、プラズマとなって第1主外套24の放出口から放出される。
[1.組織の緻密性]
表1および図4〜図15の写真を参照して、主ガスとして5.0体積%の水素を含有し、残部が窒素および不可避的不純物からなる混合ガスを使用した実施例では溶射皮膜12a(図4)の気孔率が4.0%と、実施例および比較例の中で最も低く、組織が最も緻密な皮膜が得られた。これは、例えば一般的なプラズマ形成用ガスとして広く使用されている比較例3のアルゴンガスの溶射皮膜12c(13.0%、図8)と比較しても顕著に気孔率が低く、組織が緻密であった。
表1に示すように、5.0体積%の水素を含有し、残部が窒素および不可避的不純物からなる混合ガスを主ガスとして使用した実施例においては、溶射中にアノード‐カソード間に印加される電圧の振れ幅(V)が比較例に比べて顕著に低かった。これはプラズマ溶射装置100においてプラズマを形成するためのアーク60が安定していることを示している。これにより安定的な溶射が達成されていることがわかる。
Claims (3)
- 基材を準備する工程と、
主ガスを流しながら、前記主ガスに含まれる原子を電離させてプラズマを順次形成することによりプラズマ流を形成する工程と、
前記プラズマ流により溶射材料を溶融しながら前記基材まで搬送し、溶融した前記溶射材料を前記基材上に堆積させ凝固させることにより、前記基材上に溶射皮膜を形成する工程と、
を含み、
前記主ガスは1体積%以上5.5体積%以下の水素を含有し、残部が窒素および不可避的不純物からなる混合ガスであり、
不活性ガスからなる副ガスに電圧を印加し前駆放電することによりプラズマを発生させる工程をさらに含み、
前記プラズマ流を形成する工程において、前記プラズマ流を、前記プラズマを発生させる工程において発生した前記プラズマに接触するように前記主ガスを流しながら前記主ガスに電圧を印加することにより形成する、溶射皮膜の形成方法。 - 前記溶射材料がアルミナ粉末材料である、請求項1に記載の溶射皮膜の形成方法。
- 前記副ガスはアルゴンガスである、請求項1または請求項2に記載の溶射皮膜の形成方法。
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