JP2017519628A5

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Publication number: JP2017519628A5
Application number: JP2016574116A
Authority: JP
Filing date: 2015-06-19
Publication date: 2018-03-22
Anticipated expiration: 2035-06-19

Claims

流体を分離する方法であり、
第１の流体成分と第２の流体成分とを含む入力流体流を、結晶質のゼオライトＩＴＱ−５５の粒子を含む膜に暴露するステップであって、浸透生成物流体流および除去生成物流体流を形成し、前記浸透生成物流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分のモル比が、前記入力流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分の比よりも高く、前記除去生成物流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分のモル比が、前記入力流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分の比未満である、ステップを含み、
前記ゼオライトＩＴＱ−５５が、架橋原子によって連結された四面体（Ｔ）原子のフレーム構造を有し、前記四面体原子が、以下の表：

に記載される様式で最も近いＴ原子を連結することによって定義される、方法。
前記ゼオライトＩＴＱ−５５が、焼成状態であって、シラノールの存在によって示される結晶マトリックス中の欠陥がない状態で、実験式：
ｘ（Ｍ_１／ｎＸＯ_２）：ｙＹＯ_２：ｇＧｅＯ_２：（１−ｇ）ＳｉＯ_２
［式中、
Ｍは、Ｈ^＋、電荷＋ｎの少なくとも１種の無機カチオンおよび両方の組合せから選択され、
Ｘは、酸化状態＋３の少なくとも１種の化学元素であり、
Ｙは、Ｓｉとは異なる酸化状態＋４の少なくとも１種の化学元素であり、
ｘは、０〜０．２（０および０．２を含む）の値をとり、
ｙは、０〜０．１（０および０．１を含む）の値をとり、
ｇは、０〜０．５（０および０．５を含む）の値をとる］
を有する、請求項１に記載の方法。
ｘが本質的にゼロの値をとり、ｙが本質的にゼロの値をとり、かつｇが本質的にゼロの値をとる、請求項２に記載の方法。
ａ）ｘが０より高い値をとるか、ｂ）ｙが本質的に０の値をとるか、ｃ）ｇが本質的に０の値をとるか、またはｄ）それらの組合せである、請求項２に記載の方法。
前記膜が、約２０ｎｍ〜約１ミクロンの平均粒径を有する結晶質のゼオライトＩＴＱ−５５の粒子を含む、請求項１に記載の方法。
前記結晶質のモレキュラーシーブのゼオライトＩＴＱ−５５の粒子が、粒子の連続層を含む、請求項１に記載の方法。
前記結晶質のゼオライトＩＴＱ−５５の粒子が、支持体上で結晶質のゼオライトＩＴＱ−５５の粒子の層を含む、請求項１に記載の方法。
前記支持体が、ガラス、溶融石英、シリカ、ケイ素、粘土、金属、多孔性ガラス、焼結多孔性金属、チタニア、コーディエライトまたはそれらの組合せを含む、請求項７に記載の方法。
前記結晶質のゼオライトＩＴＱ−５５の粒子の支持層が、粒子マトリックス中の結晶質のゼオライトＩＴＱ−５５の粒子を含み、細孔構造が、前記粒子間、前記結晶間、および前記粒子と前記結晶との間の間隙によって規定される、請求項８に記載の方法。
前記膜が、ハイブリッド層および複合層の少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
前記膜の浸透側をスイープ流に暴露するステップをさらに含む、請求項１に記載の方法。
前記第２の流体成分が、メタン、エタン、メタノール、ジメチルエーテル、３個以上の重原子を含有する有機化合物またはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分が、ＣＯ、ＣＯ_２、Ｈ_２、Ｈ_２Ｏまたはそれらの組合せである、請求項１２に記載の方法。
前記第１の流体成分がＣＯ_２であり、前記第２の流体成分がＣＨ_４である、請求項１３に記載の方法。
前記入力流体流が天然ガスを含む、請求項１４に記載の方法。
前記第１の流体成分が、エチレン、アセチレン、ホルムアルデヒドまたはそれらの組合せである、請求項１２に記載の方法。
前記第１の流体成分が、Ｈ_２Ｓ、ＮＨ_３もしくはそれらの組合せである、請求項１２に記載の方法。
前記第１の流体成分が、ＳＯ _２、Ｎ _２Ｏ、ＮＯ、ＮＯ _２、硫黄酸化物もしくはそれらの組合せである、請求項１２に記載の方法。
前記第１の流体成分がＮ_２である、請求項１２に記載の方法。
前記入力流体流が約２２３Ｋ〜約５２３Ｋの温度で吸着剤に暴露される、請求項１９に記載の方法。
前記第１の流体成分が、希ガス、分子ハロゲン、水素化ハロゲンもしくはそれらの組合せである、請求項１２に記載の方法。
前記第１の流体成分が、メタン、エチレン、エタン、メタノール、ジメチルエーテルまたはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第２の流体成分が窒素であり、前記第１の流体成分が、水素、希ガス、酸素、窒素酸化物、ＣＯ_２、ＣＯ、分子ハロゲン、水素化ハロゲンまたはそれら組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分がＣＯ_２である、請求項２３に記載の方法。
前記入力流体流が排ガスを含む、請求項２４に記載の方法。
前記第１の流体成分がＯ _２である、請求項２３に記載の方法。
前記入力流体流が空気を含む、請求項２６に記載の方法。
前記分子ハロゲンまたはハロゲン化ハロゲンが、前記ハロゲンとして、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒまたはそれらの組合せを含む、請求項２３に記載の方法。
前記第１の流体成分がＣＯ_２であり、前記第２の流体成分が１種以上の炭化水素を含む、請求項１項に記載の方法。
前記１種以上の炭化水素がメタン、エタン、エチレンまたはそれらの組合せである、請求項２９項に記載の方法。
前記第１の流体成分がエチレンであり、前記第２の流体成分がエタン、メタンまたはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分が窒素酸化物であり、前記第２の流体成分が硫黄酸化物である、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分がＨ_２であり、前記第２の流体成分が、窒素酸化物、硫黄酸化物、炭化水素、炭素酸化物またはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分がＨ _２であり、前記第２の流体成分が、Ｈ _２Ｓ、ＮＨ _３またはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分がＨ_２Ｏであり、前記第２の流体成分がＨ_２である、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分が、Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒまたはそれらの組合せであり、前記第２の流体成分が、Ｎ _２、Ｈ _２Ｏ、ＣＯ、ＣＯ _２、炭化水素またはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分が、メタノール、ジメチルエーテルもしくはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第２の流体成分が、メタノール、ジメチルエーテルもしくはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
前記第１の流体成分がアセチレンであり、前記第２の流体成分が、エチレン、メタン、エタンまたはそれらの組合せである、請求項１に記載の方法。
流体を分離する方法であり、
第１の流体成分と第２の流体成分とを含む入力流体流を、結晶質のゼオライトＩＴＱ−５５の粒子を含む膜に暴露するステップであって、浸透生成物流体流および除去生成物流体流を形成し、前記浸透生成物流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分のモル比が、前記入力流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分の比よりも高く、前記除去生成物流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分のモル比が、前記入力流体流中の前記第１の流体成分：前記第２の流体成分の比未満である、ステップを含み、
合成された状態で、前記ゼオライトＩＴＱ−５５が、少なくとも角度の値２θ（度）および相対強度（Ｉ／Ｉ _０）：

［表中、
Ｉ _０は、１００の値が割り当てられる最も強いピークからの強度であり、
ｗは、０〜２０％の弱い相対強度であり、
ｍは、２０〜４０％の中間の相対強度であり、
ｆは、４０〜６０％の強い相対強度であり、
ｍｆは、６０〜１００％の非常に強い相対強度である］
を有するＸ線回折パターンを有する、方法。