JP2017516652A - 非対称膜及び関連方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2014年3月13日出願の米国仮特許出願第61/952,180号の優先権及び利益を主張するものであり、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
少なくとも選択された実施形態、態様又は目的によれば、非対称膜及び/又は関連する製造方法及び/又は使用方法が提供される。少なくとも特定の実施形態、態様又は目的によれば、微多孔ポリマー膜及び関連する製造方法が提供される。例示的な非対称微多孔膜の実施形態は、限定するものではないが、複数の微小孔を画定する熱可塑性ポリマー基体であって、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)、及びそれらの組合せのうちの1つ又は複数を含む、熱可塑性ポリマー基体と、熱可塑性ポリマー基体上に配置されたポリメチルペンテン(PMP)ポリマースキンと、を含み、熱可塑性ポリマー基体がPMPを含む場合、PMPポリマースキンは、ポリマー基体中のPMPの結晶化度とは異なる結晶化度を有する。場合によって好ましい例示的非対称微多孔膜の実施形態は、中空繊維非対称微多孔膜である。
微多孔膜は、湿式法、乾式延伸法(CELGARD法としても知られている)、及び粒子延伸法等の様々な製造技法に従って製造することができる。一般的に、湿式法(位相反転法、抽出法、又はTIPS法としても知られている)では、ポリマー原料を、油、加工油、溶媒、及び/又は別の材料と混合し、この混合物を押出すものであり、次に、そのような油、加工油、溶媒、及び/又は他の材料を除去すると孔が形成される。これらのフィルムは、油、溶媒、及び/又は別の材料を除去する前又は後に延伸させることができる。一般に、粒子延伸法では、ポリマー原料を微粒子と混合し、この混合物を押出すものであり、孔は、延伸中、延伸力によりポリマーと微粒子との間の界面が壊れると形成される。乾式法は、典型的には、加工油、油、溶媒、可塑剤等、又は微粒子材料を添加せずに多孔膜を製造する点で、湿式法及び粒子延伸法とは異なる。一般に、乾式延伸法は、孔の形成が非多孔前駆体の延伸から得られる方法を指す。
微多孔膜は、一般に、膜の少なくとも一部分を通る複数の孔を有する、薄い、柔軟なポリマーシート、フォイル又はフィルムとして記述することができ、この膜は、中空繊維、平坦シート、多層(又は多重)シート等として形成することができる。膜は、限定するものではないが、ポリオレフィン等の熱可塑性ポリマーを含む様々な材料から構成することができる。例示的実現形態では、微多孔膜は、多孔基体上に配置されたポリメチルペンテン(PMP)スキンを含む。例示的多孔基体の画像は、図1A及び図1Bに提示され、それぞれ、20,000xの指定倍率で示されている。
本明細書に記載の微多孔膜は、所望の膜構造(例えば、中空繊維、平坦シート、多層(又は多重)シート等)及び所望の膜組成に応じて、様々な製造方法から製造することができる。一般に、微多孔膜は、「押出、焼鈍、延伸」法又は「乾式延伸」法とも呼ばれるCELGARD法により形成され、これにより、半結晶性ポリマーを押出して膜前駆体をもたらし、押出前駆体を延伸させることによって微多孔基体内に多孔性を生じさせる。しかし、本明細書に記載の様々な実現形態では、低結晶化度の材料を使用してPMPスキン層を作製するために、多孔性は、PMPスキン層に生じない。CELGARD法では、膜の形成に溶媒も位相反転も使用しない。微多孔膜の例示的作製方法は、ポリメチルペンテン(PMP)樹脂及び基体樹脂を準備する工程と、PMP樹脂及び基体樹脂を共押出して、膜前駆体を形成する工程と、膜前駆体を延伸させて、基体上にPMPスキンを有する膜を形成する工程と、を含む。基体樹脂は、PMPスキンの結晶化度とは異なる結晶化度を有するPMP、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、又はそれらの組合せのうちの1つ又は複数を含むことができる。様々な実現形態では、ポリプロピレンを使用するが、このポリプロピレンは、ポリプロピレンホモポリマー及び/又はアイソタクチックポリプロピレンとすることができる。そのようなポリプロピレンは、場合によっては、0.8g/cc超、又は0.85g/cc超、又は0.9g/cc超の密度を有することができる。様々な実現形態では、ポリエチレンを使用するが、このポリエチレンは、ポリエチレンホモポリマー及び/又は高密度ポリエチレンとすることができる。そのようなポリエチレンは、場合によっては、0.9g/cc超、又は0.93g/cc超、又は0.94g/cc超、又は0.95g/cc超の密度を有することができる。
様々な押出プロセス条件:270〜315℃のスピン温度、1〜5インチ(2.5〜13センチメートル)のクエンチ高さ、200〜500のドローダウン、100〜300m/分の押出速度、0〜20インチ(0〜51センチメートル)のクエンチチャンバ、非加熱から120℃までの受動クエンチ加熱クエンチチャンバ、スピナレットから1.5〜20インチ(3.8〜51センチメートル)にてクエンチリングを有する能動クエンチ加熱クエンチチャンバ、を使用して、微多孔膜を製造した。以下の押出条件:310℃のスピン温度、500のドローダウン、3インチ(8センチメートル)のクエンチ高さ、100m/分の押出速度を有する特定の例示的膜を製造した。非焼鈍から220℃までの範囲の温度、及び10分から6時間の時間範囲で微多孔膜のための焼鈍条件を調べた。例示的実現形態では、焼鈍条件は、10分間、150℃の温度を含んだ。
Claims (35)
- 非対称微多孔膜であって、
複数の孔を画定する熱可塑性ポリマー基体であって、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)、及びそれらの組合せのうちの1つ又は複数を含む、熱可塑性ポリマー基体と、
前記熱可塑性ポリマー基体上に配置されたポリメチルペンテン(PMP)ポリマースキンと、を含み、
前記熱可塑性ポリマー基体がPMPを含む場合、前記PMPポリマースキンは、前記熱可塑性ポリマー基体のPMPの結晶化度とは異なる結晶化度を有する、非対称微多孔膜。 - 前記熱可塑性ポリマー基体は、複数の微小孔を画定する、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記PMPポリマースキンは、前記熱可塑性ポリマー基体ほど多孔性ではない、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記PMPポリマースキンは、非多孔PMPポリマースキンである、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記熱可塑性ポリマー基体は、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)、及びそれらの組合せからなる群から選択される、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記PMPポリマースキンの前記結晶化度は、約40%、又は約40%未満である、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記熱可塑性ポリマー基体は、ポリメチルペンテン(PMP)を含む、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記PMPポリマースキンの前記結晶化度は、約40%未満であり、前記熱可塑性ポリマー基体のPMPの前記結晶化度は、約40%超である、請求項7に記載の非対称微多孔膜。
- 前記熱可塑性ポリマー基体のPMPの前記結晶化度は、約60%、又は約60%超である、請求項8に記載の非対称微多孔膜。
- 前記PMPポリマースキンは、約2マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記PMPポリマースキンは、約0.5マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記熱可塑性ポリマー基体は、約10マイクロメートル〜150マイクロメートルの厚さを有する、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記熱可塑性ポリマー基体は、約30マイクロメートル〜75マイクロメートルの厚さを有する、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記熱可塑性ポリマー基体は、約40マイクロメートル〜60マイクロメートルの厚さを有する、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記熱可塑性ポリマー基体は、約5マイクロメートル〜10マイクロメートルの厚さを有する、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記非対称微多孔膜は、非均質膜である、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 前記PMPスキンは、前記熱可塑性ポリマー基体を完全に覆う、請求項1に記載の非対称微多孔膜。
- 請求項1に記載の非対称微多孔膜を含む多層膜であって、前記PMPスキンは、前記多層膜の外側層及び/又は内側層を構成する、多層膜。
- 非対称微多孔膜を作製する方法であって、
ポリメチルペンテン(PMP)ポリマースキン樹脂及び基体樹脂を準備する工程であって、前記基体樹脂は、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)、及びそれらの組合せのうちの1つ又は複数を含む、工程と、
前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を共押出して、膜前駆体を形成する工程と、
前記膜前駆体を延伸させて、熱可塑性ポリマー基体上にPMPポリマースキンを有する非対称微多孔膜を形成する工程と、
を含む、方法。 - ポリメチルペンテン(PMP)ポリマースキン樹脂及び基体樹脂を準備する工程は、後続の除去のために任意の油を除いて前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を準備して、孔形成を促進するように孔又は任意の孔形成微粒子を形成することを含む、請求項19に記載の方法。
- 前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を共押出して、膜前駆体を形成する工程は、共押出ダイにより前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を共押出して、前記膜前駆体を形成することを含む、請求項19に記載の方法。
- 前記基体樹脂は、ポリメチルペンテン(PMP)を含む、請求項19に記載の方法。
- PMPポリマースキンは、前記基体樹脂のPMPの結晶化度よりも小さい結晶化度を有する、請求項22に記載の方法。
- 前記PMPポリマースキン樹脂の前記結晶化度は、約40%未満であり、前記基体樹脂のPMPの前記結晶化度は、約40%超である、請求項23に記載の方法。
- 前記基体樹脂のPMPの前記結晶化度は、約60%超である、請求項23に記載の方法。
- 前記PMPポリマースキンは、約2マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項19に記載の方法。
- 前記熱可塑性ポリマー基体は、約150マイクロメートル未満の厚さを有する、請求項19に記載の方法。
- 前記非対称微多孔膜は、非均質膜である、請求項19に記載の方法。
- 前記膜前駆体を焼鈍する工程を更に含む、請求項19に記載の方法。
- 前記膜前駆体を焼鈍する工程は、前記膜前駆体を延伸させる前に前記膜前駆体を焼鈍することを含む、請求項29に記載の方法。
- 請求項19に記載の非対称微多孔膜を作製する方法を含む、多層膜の作製方法であって、前記PMPポリマースキンは、前記多層膜の外側層及び/又は内側層を構成する、方法。
- 非対称微多孔中空繊維膜を作製する方法であって、
ポリメチルペンテン(PMP)ポリマースキン樹脂及び基体樹脂を準備する工程であって、前記基体樹脂は、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリメチルペンテン(PMP)、及びそれらの組合せのうちの1つ又は複数を含み、前記基体樹脂がPMPを含む場合、前記PMPポリマースキン樹脂は、前記基体樹脂のPMPの結晶化度とは異なる結晶化度を有する、工程と、
前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を共押出して、中空繊維膜前駆体を形成する工程と、
前記中空繊維膜前駆体を延伸させて、熱可塑性ポリマー基体上にPMPポリマースキンを有する非対称微多孔中空繊維膜を形成する工程と、
を含む、方法。 - ポリメチルペンテン(PMP)ポリマースキン樹脂及び基体樹脂を準備する工程は、後続の除去のために任意の油を除いて前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を準備して、孔形成を促進するように孔又は任意の孔形成微粒子を形成することを含む、請求項32に記載の方法。
- 前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を共押出して、中空繊維膜前駆体を形成する工程は、共押出ダイにより前記PMPポリマースキン樹脂及び前記基体樹脂を共押出して、前記中空繊維膜前駆体を形成することを含む、請求項32に記載の方法。
- 請求項34に記載の非対称微多孔中空繊維膜を含む多層中空繊維膜を作製する方法であって、前記PMPポリマースキンは、前記多層中空繊維膜の外側層及び/又は内側層を構成する、方法。
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