JP2942867B2 - 多層複合膜 - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/1216—Three or more layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/1218—Layers having the same chemical composition, but different properties, e.g. pore size, molecular weight or porosity
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ガス分離や溶液分離等に用いられる多層複
合膜に関するものである。
合膜に関するものである。
物質を分離精製する技術は昔から数多くの方法が開発
され改良が重ねられてきた。膜分離技術もその一つであ
るがその改良の経過を見ると優れた膜素材の開発及び効
率を高めるための薄膜化技術の開発が大きな技術の流れ
である。薄膜化技術の一つの方向として多孔質の基板の
上にコート法や蒸気法によつて薄膜を形成させる方法も
盛んに行われているが、多孔質基板上にコートするため
に基板の細孔に薄膜材料が侵入して実質的な薄膜が得ら
れない点が問題である。
され改良が重ねられてきた。膜分離技術もその一つであ
るがその改良の経過を見ると優れた膜素材の開発及び効
率を高めるための薄膜化技術の開発が大きな技術の流れ
である。薄膜化技術の一つの方向として多孔質の基板の
上にコート法や蒸気法によつて薄膜を形成させる方法も
盛んに行われているが、多孔質基板上にコートするため
に基板の細孔に薄膜材料が侵入して実質的な薄膜が得ら
れない点が問題である。
また、この現象を避けるために多孔質基板を予め溶解
性物質で細孔を埋めておいて表面に薄膜層を形成したあ
とに多孔質基板内の溶解性物質を溶出する方法もある
が、均質な薄膜層が得られ難くまた傷つきやすいという
問題を有している。
性物質で細孔を埋めておいて表面に薄膜層を形成したあ
とに多孔質基板内の溶解性物質を溶出する方法もある
が、均質な薄膜層が得られ難くまた傷つきやすいという
問題を有している。
このようにピンホールの発生、膜厚の不均一さ、耐久
性がないなどの問題からなかなか実用化が難しい状況に
ある。
性がないなどの問題からなかなか実用化が難しい状況に
ある。
分離膜層を薄層化した工業的に製造できる膜構造の製
造法として溶融紡糸、延伸法による多層複合中空糸膜が
知られているが（特開昭62−1404号公報）、このように
多層複合膜においては分離膜層の透過速度を高くするめ
には分離膜層を薄膜化すると共に、分離膜層への透過を
妨げる多孔質層の孔径、空孔率、膜厚を適当に設定する
ことが重要である。
造法として溶融紡糸、延伸法による多層複合中空糸膜が
知られているが（特開昭62−1404号公報）、このように
多層複合膜においては分離膜層の透過速度を高くするめ
には分離膜層を薄膜化すると共に、分離膜層への透過を
妨げる多孔質層の孔径、空孔率、膜厚を適当に設定する
ことが重要である。
しかしながら、特開昭62−1404号公報には多孔質層の
孔径、膜厚、及び空孔率の最適条件については具体的に
開示されていない。
孔径、膜厚、及び空孔率の最適条件については具体的に
開示されていない。
即ち、分離膜層の機能を充分発現するためには多孔質
層の空孔の孔径は小さく、空孔率は大きく、膜厚は薄く
することが好ましく、また分離膜層の欠陥発生を防ぐた
めにも多孔質層の孔径は小さくすることが好ましい。と
ころが孔径を小さくすると空孔率は低下するという問題
があり、適度な孔径と空孔率を有する多孔質構造を設定
することは非常に難しい状況にある。
層の空孔の孔径は小さく、空孔率は大きく、膜厚は薄く
することが好ましく、また分離膜層の欠陥発生を防ぐた
めにも多孔質層の孔径は小さくすることが好ましい。と
ころが孔径を小さくすると空孔率は低下するという問題
があり、適度な孔径と空孔率を有する多孔質構造を設定
することは非常に難しい状況にある。
本発明は上記問題点を解決すべくなされたものであ
り、分離膜層の機能を充分発現させるため特に透過速度
を向上させるための多孔質層の構造を提供するものであ
る。
り、分離膜層の機能を充分発現させるため特に透過速度
を向上させるための多孔質層の構造を提供するものであ
る。
本発明の要旨は、分離機能を有する分離層Ａ、分離層
Ａの両側に配置された結晶性重合体Ｂ′からなる多孔質
層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より大きい孔径の空孔を有
する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側に配置された結
晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃからなり、多孔質層
Ｂの空孔の孔空が0.005〜0.005〜0.1μｍ、空孔率が20
〜70％、膜厚が1.0〜10μｍであり、多孔質層Ｃの空孔
の孔径が0.1〜2.0μｍ、空孔率が30〜90％、膜厚が５〜
100μｍであることを特徴とする多層複合膜にある。
Ａの両側に配置された結晶性重合体Ｂ′からなる多孔質
層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より大きい孔径の空孔を有
する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側に配置された結
晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃからなり、多孔質層
Ｂの空孔の孔空が0.005〜0.005〜0.1μｍ、空孔率が20
〜70％、膜厚が1.0〜10μｍであり、多孔質層Ｃの空孔
の孔径が0.1〜2.0μｍ、空孔率が30〜90％、膜厚が５〜
100μｍであることを特徴とする多層複合膜にある。
また、本発明の要旨は、分離機能を有する分離層Ａ、
分離層Ａの両側に配置された結晶性重合体Ｂ′からなる
多孔質層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より大きい孔径の空
孔を有する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側に配置さ
れた結晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃからなり、結
晶性重合体Ｂ′及びＣ′が同種であって、結晶性重合体
Ｂ′の分子量が結晶性重合体Ｃ′の分子量より大きいこ
とを特徴とする多層複合膜にある。
分離層Ａの両側に配置された結晶性重合体Ｂ′からなる
多孔質層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より大きい孔径の空
孔を有する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側に配置さ
れた結晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃからなり、結
晶性重合体Ｂ′及びＣ′が同種であって、結晶性重合体
Ｂ′の分子量が結晶性重合体Ｃ′の分子量より大きいこ
とを特徴とする多層複合膜にある。
分離機能を有する分離層Ａの重合体Ａ′としてはシリ
コンゴム、シリコンとポリカーボネートの共重合体等の
シリコン系重合体、ポリ４−メチルペンテン−１、リニ
アローデンシテイポリエチレン等のポリオレフイン系重
合体、パーフロロアルキル系フッ素含有重合体、ポリウ
レタン系重合体、エチルセルロース等のセルロース系重
合体、ポリフエニレンオキサイド、ポリ４−ビニルピリ
ジン及びこれら重合体素材からなる共重合体あるいはブ
レンド体があげられる。
コンゴム、シリコンとポリカーボネートの共重合体等の
シリコン系重合体、ポリ４−メチルペンテン−１、リニ
アローデンシテイポリエチレン等のポリオレフイン系重
合体、パーフロロアルキル系フッ素含有重合体、ポリウ
レタン系重合体、エチルセルロース等のセルロース系重
合体、ポリフエニレンオキサイド、ポリ４−ビニルピリ
ジン及びこれら重合体素材からなる共重合体あるいはブ
レンド体があげられる。
多孔質層Ｂ及びＣを構成する結晶性重合体Ｂ′及び
Ｃ′としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−
メチルペンテン−１等ポリオレフイン系、及びポリフツ
化ビニリデン、テトラフロロエチレン等の結晶性重合体
を挙げることができる。
Ｃ′としてはポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−
メチルペンテン−１等ポリオレフイン系、及びポリフツ
化ビニリデン、テトラフロロエチレン等の結晶性重合体
を挙げることができる。
結晶性重合体Ｂ′及びＣ′は、同種のものを用いる
と、多孔質層Ｂと多孔質層Ｃの密着性が向上し、機械的
強度の高い多層複合膜とすることができる。
と、多孔質層Ｂと多孔質層Ｃの密着性が向上し、機械的
強度の高い多層複合膜とすることができる。
本発明の多層複合膜において多孔質層Ｂは分離層Ａを
薄膜状物としてかつ多孔質層Ｃの空孔のサイズと空孔率
を大きいものとして提供することを可能とするものであ
り、重要な役割を有している。
薄膜状物としてかつ多孔質層Ｃの空孔のサイズと空孔率
を大きいものとして提供することを可能とするものであ
り、重要な役割を有している。
分離層Ａは分離機能を有する部分であり、透過速度を
高い値に維持するには薄膜であることが好ましく、その
厚みは1.0μｍ以下であることが好ましい。一方、その
層の厚みの下限値は特に限定されないが、およそ0.005
μｍ程度以上であることが好ましく、0.01μｍ程度以上
であることがより好ましい。
高い値に維持するには薄膜であることが好ましく、その
厚みは1.0μｍ以下であることが好ましい。一方、その
層の厚みの下限値は特に限定されないが、およそ0.005
μｍ程度以上であることが好ましく、0.01μｍ程度以上
であることがより好ましい。
分離層Ａの分離機能を膜欠陥の発生がない状態で充分
発現でき、更に分離層Ａの分離機能発現のために抵抗に
ならないような多孔質構造とするためには多孔質層Ｂの
空孔の孔径は0.005〜0.1μｍ、好ましくは0.01〜0.1μ
ｍ、空孔率は20〜70％、好ましくは30〜60％、膜厚は1.
0〜10μｍ、好ましくは1.0〜5.0μｍである。多孔質層
Ｂの空孔の孔径が0.005μｍ未満では分離対象物質の透
過抵抗が大きく、又、0.1μｍを超えると分離層Ａに欠
陥が多いものとなりやすい。空孔率が20％未満では分離
層Ａの有効膜面積が著しく小さくなり、70％を超えると
孔径0.1μｍ以下のものが得られ難い。膜厚が1.0μｍ未
満のものは実質的に製造が難しく、10μｍを超えるもの
は分離対象物質の透過抵抗が大きくなる。
発現でき、更に分離層Ａの分離機能発現のために抵抗に
ならないような多孔質構造とするためには多孔質層Ｂの
空孔の孔径は0.005〜0.1μｍ、好ましくは0.01〜0.1μ
ｍ、空孔率は20〜70％、好ましくは30〜60％、膜厚は1.
0〜10μｍ、好ましくは1.0〜5.0μｍである。多孔質層
Ｂの空孔の孔径が0.005μｍ未満では分離対象物質の透
過抵抗が大きく、又、0.1μｍを超えると分離層Ａに欠
陥が多いものとなりやすい。空孔率が20％未満では分離
層Ａの有効膜面積が著しく小さくなり、70％を超えると
孔径0.1μｍ以下のものが得られ難い。膜厚が1.0μｍ未
満のものは実質的に製造が難しく、10μｍを超えるもの
は分離対象物質の透過抵抗が大きくなる。
多孔質層Ｃは分離層Ａと多孔質層Ｂの両者をまとめて
補強し強度を持たせる役割を有している。分離層Ａは透
過速度を高くするための非常に薄い層であり、又、多孔
質層Ｂは分離層Ａに欠陥発生を起こさせないためと分離
層Ａの機能発現のための抵抗にならないように、あるい
は分離対象物質の透過の抵抗にならないように薄く形成
されるため強度的に弱いものである。したがつて複合膜
全体の強度を増すために多孔質層Ｃが必要となる。
補強し強度を持たせる役割を有している。分離層Ａは透
過速度を高くするための非常に薄い層であり、又、多孔
質層Ｂは分離層Ａに欠陥発生を起こさせないためと分離
層Ａの機能発現のための抵抗にならないように、あるい
は分離対象物質の透過の抵抗にならないように薄く形成
されるため強度的に弱いものである。したがつて複合膜
全体の強度を増すために多孔質層Ｃが必要となる。
多孔質層Ｃの空孔の孔径は0.1〜2.0μｍ、好ましくは
0.1〜1.0μｍ、空孔率は30〜90％、好ましくは40〜80
％、膜厚は５〜100μｍ、好ましくは10〜50μｍであ
る。孔径が0.1μｍ未満では分離対象物質の透過抵抗が
増大し、2.0μｍを超えると強度的に弱くなる。空孔率
が30％未満では分離対象物質の透過抵抗が増大し、90％
を超えると複合膜の強度保持が難しくなる。膜厚が５μ
ｍ未満では強度的に弱くなり、100μｍを超えると分離
対象物質の透過抵抗が増大する。
0.1〜1.0μｍ、空孔率は30〜90％、好ましくは40〜80
％、膜厚は５〜100μｍ、好ましくは10〜50μｍであ
る。孔径が0.1μｍ未満では分離対象物質の透過抵抗が
増大し、2.0μｍを超えると強度的に弱くなる。空孔率
が30％未満では分離対象物質の透過抵抗が増大し、90％
を超えると複合膜の強度保持が難しくなる。膜厚が５μ
ｍ未満では強度的に弱くなり、100μｍを超えると分離
対象物質の透過抵抗が増大する。
次に本発明の多層複合膜の製造法について説明する。
本発明においては五層の積層構造が形成可能は同心円状
に配置された吐出口を有する多重円筒型紡糸ノズルが使
用される。
本発明においては五層の積層構造が形成可能は同心円状
に配置された吐出口を有する多重円筒型紡糸ノズルが使
用される。
ノズルの最外層及び最内層には結晶性重合体Ｃ′を供
給し、中間層の部分には重合体Ａ′とその両側を挟むよ
うに結晶性重合体Ｂ′を供給し、溶融紡糸して多層の末
延伸中空糸を製造する。
給し、中間層の部分には重合体Ａ′とその両側を挟むよ
うに結晶性重合体Ｂ′を供給し、溶融紡糸して多層の末
延伸中空糸を製造する。
紡糸条件は特に限定されず各層を構成する重合体の種
類に応じて最適条件を設定しうるが、例えば重合体Ｂ′
及びＣ′にポリエチレンを用いる場合には、紡糸温度15
0〜200℃程度、紡糸ドラフト比は100〜9000程度、紡糸
時のクエンチ温度は常温程度の条件が採用される。
類に応じて最適条件を設定しうるが、例えば重合体Ｂ′
及びＣ′にポリエチレンを用いる場合には、紡糸温度15
0〜200℃程度、紡糸ドラフト比は100〜9000程度、紡糸
時のクエンチ温度は常温程度の条件が採用される。
紡糸された末延伸中空糸は、続いてアニール処理され
た後延伸多孔化されるが、延伸による多孔化はポリオレ
フインで行われている公知の方法が採用さる。即ち、常
温付近での小量の延伸によつて重合体Ｂ′及びＣ′の層
に微少空孔を発生させて白化させ、続いて加熱延伸によ
つて孔径の拡大と孔形状の安定化を図ることができる。
この間、重合体Ａ′の層は多孔質化されないので延伸倍
率の増加に比例して薄層化される。
た後延伸多孔化されるが、延伸による多孔化はポリオレ
フインで行われている公知の方法が採用さる。即ち、常
温付近での小量の延伸によつて重合体Ｂ′及びＣ′の層
に微少空孔を発生させて白化させ、続いて加熱延伸によ
つて孔径の拡大と孔形状の安定化を図ることができる。
この間、重合体Ａ′の層は多孔質化されないので延伸倍
率の増加に比例して薄層化される。
延伸条件も特に限定されず、重合体の種類に応じて最
適条件を設定しうるが、例えば重合体Ｂ′及びＣ′とし
てポリエチレンを用いる場合には、冷延伸条件としては
常温下で延伸倍率を1.4〜3.0倍程度とし、熱延伸条件と
しては、80〜125℃程度の条件を採用し、全延伸倍率を
2.0〜4.0倍程度とする条件が採用される。
適条件を設定しうるが、例えば重合体Ｂ′及びＣ′とし
てポリエチレンを用いる場合には、冷延伸条件としては
常温下で延伸倍率を1.4〜3.0倍程度とし、熱延伸条件と
しては、80〜125℃程度の条件を採用し、全延伸倍率を
2.0〜4.0倍程度とする条件が採用される。
多孔質層Ｂ及びＣに用いられる結晶性重合体が同種で
ある場合、一度の溶融賦形で多孔質層Ｂ及びＣの空孔に
孔径差をつけるためには分子量の異なる結晶性重合体を
用いる。この場合、多孔質層Ｂの空孔の孔径を多孔質層
Ｃのものより小さくするために重合体Ｂ′としては重合
体Ｃ′の分子量より高いものを用いる。結晶性重合体が
同一の溶融温度の下に置かれたとき、その粘度は分子量
が高い程高くなり、せん断速度が同一であれば大きなせ
ん断応力が加えられることになり、高分子量である程、
成型時に重合体融液は高配向するために結晶サイズが小
さくなる。そのため延伸によつて開孔して孔の孔径が小
さくなる。
ある場合、一度の溶融賦形で多孔質層Ｂ及びＣの空孔に
孔径差をつけるためには分子量の異なる結晶性重合体を
用いる。この場合、多孔質層Ｂの空孔の孔径を多孔質層
Ｃのものより小さくするために重合体Ｂ′としては重合
体Ｃ′の分子量より高いものを用いる。結晶性重合体が
同一の溶融温度の下に置かれたとき、その粘度は分子量
が高い程高くなり、せん断速度が同一であれば大きなせ
ん断応力が加えられることになり、高分子量である程、
成型時に重合体融液は高配向するために結晶サイズが小
さくなる。そのため延伸によつて開孔して孔の孔径が小
さくなる。
以下、実施例により説明する。
実施例１ 五層構造を形成可能な同心円状に配置された吐出口を
有する中空糸製造ノズルを用い、最外層と最内層（多孔
質層Ｃ）の部分に密度0.968g/cc、MI値5.5のポリエチレ
ン（三井石油化学（株）製、ハイゼツクス2200J）、中
間層の部分には分離層Ａ用の重合体Ａ′としてセグメン
ト化ポリウレタン（サーメデツクス社製、テコフレツク
スEG−80A）及び多孔質層Ｂ用の重合体Ｂ′として密度
0.960g/cc、MI値0.9のポリエチレン（日産丸善（株）
製、ニツサン2010）を用い、吐出温度175℃、吐出線速
度8.0cm/min、巻取り速度160m/min、ドラフト比2000で
紡糸した。得られた末延伸中空糸は内径が250μｍであ
り、内側から各々30μｍ、３μｍ、0.3μｍ、３μｍ及
び30μｍの厚さを有する層が同心円状に配されていた。
有する中空糸製造ノズルを用い、最外層と最内層（多孔
質層Ｃ）の部分に密度0.968g/cc、MI値5.5のポリエチレ
ン（三井石油化学（株）製、ハイゼツクス2200J）、中
間層の部分には分離層Ａ用の重合体Ａ′としてセグメン
ト化ポリウレタン（サーメデツクス社製、テコフレツク
スEG−80A）及び多孔質層Ｂ用の重合体Ｂ′として密度
0.960g/cc、MI値0.9のポリエチレン（日産丸善（株）
製、ニツサン2010）を用い、吐出温度175℃、吐出線速
度8.0cm/min、巻取り速度160m/min、ドラフト比2000で
紡糸した。得られた末延伸中空糸は内径が250μｍであ
り、内側から各々30μｍ、３μｍ、0.3μｍ、３μｍ及
び30μｍの厚さを有する層が同心円状に配されていた。
該末延伸中空糸を115℃で１時間アニール処理をし
た。更に該アニール糸を室温下で1.8倍延伸し、引続き1
05℃の加熱炉中で総延伸倍率が3.5倍になるまで熱延伸
を行い、更に、120℃の加熱炉で熱セツトを行い多層複
合中空糸膜を得た。
た。更に該アニール糸を室温下で1.8倍延伸し、引続き1
05℃の加熱炉中で総延伸倍率が3.5倍になるまで熱延伸
を行い、更に、120℃の加熱炉で熱セツトを行い多層複
合中空糸膜を得た。
この多層複合中空糸膜は、内径は200μｍで内側から
各々25μｍ、２μｍ、0.2μｍ、２μｍ及び25μｍの厚
さを有する層が同心円状に配されていた。電子顕微鏡で
観察したところ、最外層と最内層には繊維軸方向に伸び
たスリツト状の三次元的に連通した空孔が確認された。
又、水銀ポロシメーターで測定したところ多孔質層Ｃ′
の孔径は0.6μｍであり、空孔率は65％であつた。多孔
質層Ｂ′の孔径は0.05μｍであり、空孔率は40％であつ
た。又、酸素富化能を測定したところ酸素透過速度は3.
0×10-5〔cm3（STP）/cm2・sec・cmHg〕、窒素透過速度
は1.1×10-5〔cm3（STP）/cm2・sec・cmHg〕であり、酸
素選択性は2.7であつた。
各々25μｍ、２μｍ、0.2μｍ、２μｍ及び25μｍの厚
さを有する層が同心円状に配されていた。電子顕微鏡で
観察したところ、最外層と最内層には繊維軸方向に伸び
たスリツト状の三次元的に連通した空孔が確認された。
又、水銀ポロシメーターで測定したところ多孔質層Ｃ′
の孔径は0.6μｍであり、空孔率は65％であつた。多孔
質層Ｂ′の孔径は0.05μｍであり、空孔率は40％であつ
た。又、酸素富化能を測定したところ酸素透過速度は3.
0×10-5〔cm3（STP）/cm2・sec・cmHg〕、窒素透過速度
は1.1×10-5〔cm3（STP）/cm2・sec・cmHg〕であり、酸
素選択性は2.7であつた。
本発明請求項１の多層複合膜は、分離機能を有する分
離層Ａ、分離層Ａの両側に配置された結晶性重合体Ｂ′
からなる多孔質層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より大きい
孔径の空孔を有する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側
に配置された結晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃから
なり、多孔質層Ｂの空孔の孔径が0.005〜0.1μｍ、空孔
率が20〜70％、膜厚が1.0〜10μｍであり、多孔質層Ｃ
の空孔の孔径が0.1〜2.0μｍ、空孔率が30〜90％、膜厚
が５〜100μｍであるので、気体の透過抵抗が少なく、
高い透過速度で、ガス分離等の処理を行うことができ
る。
離層Ａ、分離層Ａの両側に配置された結晶性重合体Ｂ′
からなる多孔質層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より大きい
孔径の空孔を有する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側
に配置された結晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃから
なり、多孔質層Ｂの空孔の孔径が0.005〜0.1μｍ、空孔
率が20〜70％、膜厚が1.0〜10μｍであり、多孔質層Ｃ
の空孔の孔径が0.1〜2.0μｍ、空孔率が30〜90％、膜厚
が５〜100μｍであるので、気体の透過抵抗が少なく、
高い透過速度で、ガス分離等の処理を行うことができ
る。
また、本発明請求項２の多層複合膜は、分離機能を有
する分離層Ａ、分離層Ａの両側に配置された結晶性重合
体Ｂ′からなる多孔質層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より
大きい孔径を有する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側
に配置された結晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃから
なり、結晶性重合体Ｂ′及びＣ′が同種であって、結晶
性重合体Ｂ′の分子量が結晶性重合体Ｃ′の分子量より
大きいので、透過速度に優れるだけでなく、多層質層Ｂ
と多孔質層Ｃとが強固に接着されており、特に機械的強
度に優れた膜となる。
する分離層Ａ、分離層Ａの両側に配置された結晶性重合
体Ｂ′からなる多孔質層Ｂ、及び多孔質層Ｂの空孔より
大きい孔径を有する多孔質層であって多孔質層Ｂの両側
に配置された結晶性重合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃから
なり、結晶性重合体Ｂ′及びＣ′が同種であって、結晶
性重合体Ｂ′の分子量が結晶性重合体Ｃ′の分子量より
大きいので、透過速度に優れるだけでなく、多層質層Ｂ
と多孔質層Ｃとが強固に接着されており、特に機械的強
度に優れた膜となる。
第１図は五層構造の多層複合中空糸膜の模式図であり、
第２図は第１図のAA′断面の拡大模式断面図である。 １……分離層Ａ、２……多孔質層Ｂ ３……多孔質層Ｃ、４……空孔
第２図は第１図のAA′断面の拡大模式断面図である。 １……分離層Ａ、２……多孔質層Ｂ ３……多孔質層Ｃ、４……空孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 69/12 B01D 71/54 B01D 53/22
Claims (2)
- 【請求項１】分離機能を有する分離層Ａ、分離層Ａの両
側に配置された結晶性重合体Ｂ′からなる多孔質層Ｂ、
及び多孔質層Ｂの空孔より大きい孔径の空孔を有する多
孔質層であって多孔質層Ｂの両側に配置された結晶性重
合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃからなり、多孔質層Ｂの空
孔の孔径が0.005〜0.1μｍ、空孔率が20〜70％、膜厚が
1.0〜10μｍであり、多孔質層Ｃの空孔の孔径が0.1〜2.
0μｍ、空孔率が30〜90％、膜厚が５〜100μｍであるこ
とを特徴とする多層複合膜。 - 【請求項２】分離機能を有する分離層Ａ、分離層Ａの両
側に配置された結晶性重合体Ｂ′からなる多孔質層Ｂ、
及び多孔質層Ｂの空孔より大きい孔径の空孔を有する多
孔質層であって多孔質層Ｂの両側に配置された結晶性重
合体Ｃ′からなる多孔質層Ｃからなり、結晶性重合体
Ｂ′及びＣ′が同種であって、結晶性重合体Ｂ′の分子
量が結晶性重合体Ｃ′の分子量より大きいことを特徴と
する多層複合膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2099999A JP2942867B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 多層複合膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2099999A JP2942867B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 多層複合膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03296424A JPH03296424A (ja) | 1991-12-27 |
| JP2942867B2 true JP2942867B2 (ja) | 1999-08-30 |
Family
ID=14262306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2099999A Expired - Fee Related JP2942867B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 多層複合膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2942867B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015138723A1 (en) * | 2014-03-13 | 2015-09-17 | Celgard, Llc | Asymmetric membranes and related methods |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11253768A (ja) * | 1998-03-13 | 1999-09-21 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 複合化中空糸膜およびその製造方法 |
| EP1520874B1 (en) | 2002-06-14 | 2011-12-28 | Toray Industries, Inc. | Porous membrane and method of manufacturing the porous membrane |
-
1990
- 1990-04-16 JP JP2099999A patent/JP2942867B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015138723A1 (en) * | 2014-03-13 | 2015-09-17 | Celgard, Llc | Asymmetric membranes and related methods |
| US10010835B2 (en) | 2014-03-13 | 2018-07-03 | 3M Innovative Properties Company | Asymmetric membranes and related methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03296424A (ja) | 1991-12-27 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |