JP2017510967A - 金属ガス拡散層と微細多孔質層とを組み合わせた燃料電池mea - Google Patents
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Abstract
Description
金属GDLを使用する様々な先行技術の試みでは、3次元金属GDL細孔構造が利用された。これらには、米国特許出願公開第2014/004441A1号、米国特許出願公開第2005/250002A1号、国際公開第2013/172174号及び中国特許出願公開第102082277A1号が挙げられる。
屈曲度=(孔の中心線に沿ったガス流路の長さ)/金属GDLの厚さ)
WH≧2×WB (1)
2×(WH+WB)=LC+LR (2)
LC≧LR (3)
(式中、WH及びWBは、金属GDLの孔の幅及びブリッジの幅を表し、一方、LC及びLRはそれぞれ、チャネルの幅及びリブの幅を表す)
に従って、電極のバイポーラプレートのチャネル及びリブの幅に対して決定される、多孔質金属ガス拡散層を含む。
まず、白金40wt%担持炭素触媒(HySA-V40、Mintek、South Africa) Nafion solution(5wt%イオノマー、Ion Power、United States)、イソプロパノール(Sigma-Aldrich)、及び超純水を混合することによって、触媒インクを準備した。インク中のイオノマーに対する炭素の比率は0.65であり、インクの固形分は20wt%であった。USI Prism 300超音波スプレコータを使用して、125ミクロンのテフロン(登録商標)シートに混合インクをスプレコーティングした。次いで、コーティングしたテフロン(登録商標)シートをオーブン内で、80℃で3時間乾燥させた。コーティングした基材上のPt担持量は0.4mg/cm2であった。乾燥ステップに続いて、コーティングした2枚のテフロン(登録商標)シートをNafion-XL膜(Ion Power、United States)の両側に、手動Carverホットプレスを使用して135℃、10MPaで10分間、加熱圧縮した。次いで、活性領域が15cm2(3cm×5cm)の得られたCCMを、以下の様々な実施例で説明するような異なるGDL−MPL例と結合した。各GDL−MPL例に対し、新しいCCMを使用した。
MEAは、バイポーラプレート及びエンドプレートから組み立てられた単一燃料電池で評価した。バイポーラプレートは、長さ50mm、深さ0.1mm及び幅0.2mmのチャネル、並びに長さ50mm、高さ0.1mm及び幅0.1mmのリブを有していた。バイポーラプレートの活性領域は金メッキし、バイポーラプレート上に1μm厚の金層を得た。燃料電池は、セル温度80℃、周囲気圧、水素/空気の一定流量それぞれ0.5NL/min及び1.0NL/min、相対湿度100%で運転した。FuelCon試験場を使用して、分極曲線及び1kHzでの高周波抵抗(HFR)実測値を測定した。表1は、以下の異なる実施例についての1Acm−2のセル電圧及びHFRの概要である。
MPLを備えた市販GDL(TGP−H60、東レ、日本)とCCMを結合した。GDLは炭素繊維系紙材であり、MPLはカーボンブラック及びPTFEからなる。
金属GDLの表面上にCB MPLを備えた金属GDLとCCMとを結合した。金属GDLは、株式会社メルテック(日本)製であり、直径70μmの円形孔及び幅30μmの孔間ブリッジから構成されていた。30μm厚のステンレス鋼(SS316L)箔上に孔を化学エッチングし、金メッキして、ステンレス鋼の表面に1μm厚の金層を残した。低粘性MPLインクを使用して、ドクタブレード法によって金属GDLの表面にCB MPLをコーティングした。低粘度であることにより、MPLは確実に、金属GDLの孔内ではなく表面上にのみ存在する。MPLインクは、CB粉末(Sigma-Aldrich製アセチレンブラック)、PTFEエマルジョン(Fuel Cell Earth)、界面活性剤(Sigma-Aldrich製TRITON X-114)、及び超純水を重量比4:1:8:80で使用して準備した。MPLのコーティングに続いて、MPLを備えた金属GDLを350℃で1時間焼結した。
金属GDLの表面上及び孔内にCB MPLを備えた金属GDLとCCMとを結合した。粘性MPLインクを用いてドクタブレード法を使用し、ドクタブレードに20kgの荷重をかけることによって、CB MPLを金属GDLの表面にコーティングし、金属GDLの孔に押し込んだ。MPLインクは、CB粉末(Sigma-Aldrich製アセチレンブラック)、PTFEエマルジョン(Fuel Cell Earth)、界面活性剤(Sigma-Aldrich製TRITON X-114)、PVP(Sigma-Aldrich)、及び超純水を重量比4:1:8:4:4で使用して準備した。MPLのコーティングに続いて、MPLを備えた金属GDLを420℃で1時間焼結した。
金属GDLの表面上及び孔内のフレーク系MPLと、フレーク系MPL表面上のCB MPLとを備えた金属GDLとCCMとを結合した。フレーク材料は銀であり、粘性MPLインクを用いてドクタブレード法を使用し、ドクタブレードに20kgの荷重をかけることによって、フレークMPLを金属GDLの表面にコーティングし、金属GDLの孔に押し込んだ。MPLインクは、銀フレーク(Sigma-Aldrich製で直径10μm、厚さ1μm)、PTFEエマルジョン(Fuel Cell Earth)、PVP(Sigma-Aldrich)、及び超純水を重量比20:1:8:4で使用して準備した。銀フレークは粒径が大きいため、界面活性剤は必要なかった。MPLのコーティングに続いて、MPLを備えた金属GDLを420℃で1時間焼結した。
新たな寸法の、実施例4によるMPL設計を備えた金属GDLとCCMとを結合した。金属GDLは株式会社メルテック(日本)製であり、寸法が100μm×50μmの矩形状孔、及び幅50μmの孔間ブリッジから構成されていた。孔の配置を図5に示す。30μm厚のステンレス鋼(SS316L)箔上に孔を化学エッチングし、金メッキして、ステンレス鋼の表面に1μm厚の金層を残した。実施例4の通り、銀フレークMPL及びCB MPLを付け加えた。
隆起部を付け加え、実施例4によるMPL設計を備えた実施例5による金属GDLとCCMとを結合した。金メッキステップ前に拡散接合法を使用して、金属GDLに50μm厚の別のステンレス鋼(SS316L)箔を溶接する以外は実施例5と同様に金属GDLを製造した。次いで、結合したステンレス鋼板を平らな側面から化学エッチングして、高さ50μm及び幅25μmの隆起部を残した。次いで、実施例2〜実施例5の通り、隆起部を備えた金属GDLを金メッキした。実施例4の通り、銀フレークMPL及びCB MPLを付け加えた。バイポーラプレートのリブの表面も、この実施例を試験するために化学エッチングした。エッチングによって、バイポーラプレートに深さ50μmの溝を得た。次いで、図6に示すように、バイポーラプレートの溝を金属GDLの隆起部に位置合わせした。
結果を表1にまとめる。実施例1では、物質移動制限及びフラッディングは示さなかったが(1Acm−2で比較的高電圧)、高いHFRを示した。バイポーラプレート上の狭いリブは、物質移動制限を低減するリブの下のガス拡散を高めた。しかしながら、狭いリブではまた、バイポーラプレートのカーボンGDLとの接触が少なくなり、接触抵抗が増加する。
Claims (23)
- 多孔質金属ガス拡散層(GDL)及び触媒層を含み、それらの間に微細多孔質層(MPL)が介在する膜電極接合体であって、前記GDLの(充填されていない)細孔の屈曲度が1.5未満であり、及び、前記MPLが前記GDLの前記細孔を充填し、かつ前記GDLの表面をコーティングするように構築されることを特徴とする、膜電極接合体。
- 前記MPLが多層構造を含むことを特徴とする、請求項1に記載の膜電極接合体。
- 前記MPLが、異方性フレーク系MPLであって、その上に従来のカーボンブラックMPLがコーティングされた異方性フレーク系MPLを含むことを特徴とする、請求項2に記載の膜電極接合体。
- 前記フレーク系MPL内のフレークが、炭素、チタン又は銀のうちの1つを含むことを特徴とする、請求項3に記載の膜電極接合体。
- 前記フレーク系MPLが2層構造を含み、前記2層構造において、第1層内の前記フレークが不均一に配向され、第2層内の前記フレークが実質的に水平方向に層状の構造内で配向されることを特徴とする、請求項2〜4のいずれか1項に記載の膜電極接合体。
- 前記多層MPLの各層の前記細孔が不均一であることを特徴とする、請求項2〜5のいずれか1項に記載の膜電極接合体。
- 細孔寸法が比較的より大きいMPLが前記金属GDLの前記細孔に塗布されることを特徴とする、請求項6に記載の膜電極接合体。
- 前記MPLの各層における前記細孔の相対細孔寸法が、CB MPL<フレークMPL<より大きい粒子MPLであることを特徴とする、請求項6に記載の膜電極接合体。
- 前記金属GDLの前記細孔に塗布された前記MPLの前記細孔寸法が1μm〜10μmの範囲であることを特徴とする、請求項7又は8に記載の膜電極接合体。
- 前記より大きい細孔寸法MPLの前記フレークが、炭素、チタン又は銀を含むことを特徴とする、請求項9に記載の膜電極接合体。
- 前記多孔質金属ガス拡散層が、孔及びブリッジの繰り返しパターンを含み、前記孔及びブリッジの幅が電極のバイポーラプレートのチャネル及びリブの幅に対して決定されることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載の膜電極接合体。
- 前記孔及びブリッジの前記幅が、以下の式(1)〜(3):
WH≧2×WB (1)
2×(WH+WB)=LC+LR (2)
LC≧LR (3)
に従って決定され、式中、WH及びWBは、前記金属GDLの前記孔の前記幅及び前記ブリッジの前記幅を表し、一方、LC及びLRはそれぞれ、前記チャネルの幅及び前記リブの前記幅を表すことを特徴とする、請求項11に記載の膜電極接合体。 - 前記金属GDL及び前記バイポーラプレートが、位置合わせの際、前記金属GDL及び前記バイポーラプレートを確実に正しく位置合わせする1つ又は複数の相互係合形成物の形態の位置合わせ補助具を含むことを特徴とする、請求項12に記載の膜電極接合体。
- 前記相互係合形成物が、ピン及び穴を含むことを特徴とする、請求項13に記載の膜電極接合体。
- 前記位置合わせ補助具が前記膜電極接合体の活性領域内に位置することを特徴とする、請求項13又は14に記載の膜電極接合体。
- 前記金属ガス拡散層の前記ブリッジ及び前記ブリッジに当接する前記バイポーラプレートがコンプリメンタリ係合形成物を含むことを特徴とする、請求項1〜15のいずれか一項に記載の膜電極接合体。
- 前記形成物が隆起部及びコンプリメンタリ溝を含み、前記金属ガス拡散層の前記形成物が、前記バイポーラプレートの前記チャネルに対して直角に配向されることを特徴とする、請求項16に記載の膜電極接合体。
- 水、カーボンブラック及びポリテトラフルオロエチレン(PTFE)を含むMPLインク、並びに、粘性剤を標準金属GDL上に形成するステップと、このように形成された前記粘性MPLを、ドクタブレード法を使用して、かつ塗布工程中に圧力をかけて、前記金属の片面にコーティングするステップと、次いで、その上に、カーボンブラックMPLを塗布するステップとを含むことを特徴とする、請求項1に記載の微細多孔質層(MPL)を塗布する方法。
- 前記粘性剤が水溶性であり、摂氏400度未満の分解温度を有し、かつ、1000cP〜10000cPの範囲のMPLインク粘度をもたらすことを特徴とする、請求項18に記載のMPLを塗布する方法。
- 前記MPLがフレークMPLであり、前記方法が、高粘性インクとしての前記フレークMPLを塗布する第1ステップと、低粘性インクとしての前記フレークMPLを塗布し、及び、最後にその上にカーボンブラックMPLを塗布する第2ステップと、を含むことを特徴とする、請求項18又は19に記載のフレークMPLを塗布する方法。
- 前記低粘性インクの粘度が10cP〜1000cPの範囲であることを特徴とする、請求項20に記載のフレークMPLを塗布する方法。
- 前記MPLを塗布する前に、前記金属GDLに1μm金層が塗布されることを特徴とする、請求項18〜21のいずれか1項に記載のMPLを塗布する方法。
- 請求項1〜17のいずれか1項に記載の膜電極接合体を含むことを特徴とする、高分子電解質型燃料電池。
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